进口射频地下器

德国原装进口射频热凝器套管针。一次性使用产品。射频热凝套管针与北琪射频热凝电极完美结合，实现温度的准确控制，锋利的针尖带给患者极小的穿刺痛感，射频热凝套管针裸露端与绝缘层之间零厚度过渡带给穿刺带来的润滑感的手感，令穿刺更加快畅准确，减小病人的不适感，提高手术的准确性和安全性。　　【产品参数】　　德国原装进口射频热凝套管针。　　规格多样，直径0.7-0.9mm，长度50-120mm，裸露端长度4-10mm。　　配套使用：　　可与北琪射频控温热凝器配套使用。

过滤型射频电子水处理器工作原理 过滤型射频电子水处理器是为了解决电子式水处理器与自动排污过滤器功能上的局限性，将二者有机的结合在一起的水处理设备。主要由控制电路、不锈钢滤筒、水流导向阀、排污装置所构成。当水体吸收高频电磁能量后，在不改变原有化学成分的情况下，使腐蚀、结垢、菌藻滋生问题加以综合和分别解决。由于排污过滤器的功能又具备了一定精度的过滤作用，成为一种简便经济的物理法水处理设备。过滤型射频电子水处理器技术指标 1． 输入电源：220V50Hz2． 适应水质：总硬度≤700mg/L（以CaCO3计）水温：≤95℃公称压力：1.0MPa、1.6MPa流速：≤2.8m/s3．使用性能：阻垢率≥95% 杀菌率≥95% 灭藻率≥95%4．有效期：水经处理后保持的有效时间为2小时，半衰期为1小时5.过滤精度：1000-3000μm 过滤型射频电子水处理器产品特点1． 技术先进：共鸣场电子水处理技术即高频电磁场水处理技术，国内首创，代表电子水处理技术新潮流；2． 适应性强：能适应不同的水质，且适应水质的硬度可达700mg/L（以CaCO3计）；3． 机内采用屏蔽技术可提高工作效率30%以上；4． 采用高屏输出端直接插入电极内部，减少功率损耗并使维修更方便；5． 电极材料采用特殊合金材料，寿命长达20年；6． 变压器采用目前国际特制R型变压器,具有磁干扰小,空载电流极低,适应温度、湿度能力均大大优于普通变压器,关键元期间进口；7． 指示灯的设计根据电极释放能量是否充分达到设计标准衡量指示灯的亮与灭；8． 加装排污口，解决用户排污困难；过滤型射频电子水处理器产品适用范围●工业冷却循环水系统 ●空调系统●热交换系统、热采暖系统 ●生产和生活用水供应系统过滤型射频电子水处理器产品参数型号出入口径ABCDE重量功率流量排污口inchmmKgWT/HCLDC-3P38036039379017038048505025CLDC-4P410036039379017038058508040CLDC-5P5125360393950220470668012540CLDC-6P61503864581125270530828018050CLDC-8P8200415458123028058011510032050CLDC-10P10250438488134028064013817549050CLDC-12P12300463488160030080018422571065CLDC-14P14350489488173037088022225097065CLDC-16P164005155701890380980334350140065CLDC-18P1845051566321204001080387425159080 注：1、过滤型射频电子水处理器过滤精度为2mm，若客户有特殊精度，请在定货时特别说明，以便特殊定制。2、安装时水流方向应与设备方向标志一致，不可装反。在立管上安装时，水流应自上而下。3、过滤型射频电子水处理器设置有反冲控制阀，只需在排污口安装排污阀及排污管，无需再接旁通，可实现不停机反冲排污。。

CESAR 射频发生器强大而多功能的 Cesar 平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现优化，从而使您的投资和制程生产力得到较好的利用。一个全面而灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了很好的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本最小化。优点功能更长的制程正常运行时间更高的操作简易性和灵活性无需定制组件提前期的定制化性能长期的使用简易性，节省成本优质的服务和支持 精簡的流线型设计标准的平台包装高效率——低发热量200和400 VAC 的输入选择两个模拟用户端口选择RS-232、以太网、和 Profibus 通讯多功能前面板便利、全面的操作菜单CEX（相位同步）操作模式遵循 SEMI™ （符合或超过标准）

RF 3000射频(RF)发生器用于软组织的热凝固，其电极经美国FDA批准。发生器向电极输送高达200瓦的隔离射频输出。在恒定的RF电压下，在25ω至100ω的阻抗范围内可获得全功率；在此范围之外，可以使用更低的功率。功率可以手动调节；但是，负载阻抗的变化会改变实际输送的功率(这是一个安全特性，在“无源功率限制”中有更详细的描述)。打开电源时，会显示实际传输的射频功率和阻抗。操作和维修手册仅作为指导性指南。 LeVeen针电极系列预期用途/使用适应症LeVeen针电极系列旨在与RF 3000治疗仪配合使用，用于软组织热凝固坏死，包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。这些程序只能由熟悉相关设备和技术的医生和工作人员执行。Soloist单针电极预期用途/使用适应症Soloist单针电极旨在与RF 3000治疗仪配合使用，用于软组织的热凝固坏死，包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。

1.产品概述：Keysight 53200 系列包括 53210A、53220A 和 53230A 等型号，是新一代 350MHz 射频 / 通用频率计数器 / 计时器，可选 6GHz 或 15GHz 输入。该系列具备强大的分辨功能，在一秒选通的基础上，单次频率分辨率高达 12 位 / 秒，其中 53230A 型号的单次时间间隔测量的分辨率达到 20ps。所有型号都提供了内置分析和图形显示功能，且配备直观的用户界面和大型彩色图形显示屏。多种连通性任由选择，包括 LXI-C / 以太网、USB、GPIB，部分型号还可选配电池，从而提高便携性并保持时基准确度 。仪器现在内置 BenchVue 软件许可证（BV0011B），使连接和控制仪器以及自动执行测试序列变得更加简单。2.设备应用：汽车电子：用于汽车电子系统的研发和测试，如汽车电子控制单元（ECU）、传通信领域：在无线通信系统的研发、生产和维护中，用于测量射频信号的频率、周期、脉冲宽度等参数，以确保通信信号的准确性和稳定性。例如，对基站发射机和接收机的射频信号进行监测和分析，保证通信质量。雷达系统：可精确测量雷达发射信号的频率和脉冲参数，帮助优化雷达系统的性能。同时，在雷达信号处理和目标检测算法的研究中，提供准确的时间和频率数据支持。电子电路设计与测试：在电子电路的设计验证和性能测试中，可测量时钟信号的频率和周期，以及数字电路中脉冲信号的各种参数，帮助工程师分析电路的工作状态和性能指标。科研实验：为高校和科研机构的物理、电子等科研实验提供高精度的频率和时间测量工具，满足各种复杂实验对精确测量的需求，如原子钟的频率校准、量子物理实验中的时间测量等。 3.设备特点高分辨率与高精度：具有高频率分辨率和高精度的测量能力，能满足对频率和时间参数精确测量的要求。例如，53230A 型号的 12 位 / 秒分辨率和 20ps 时间间隔分辨率，可准确捕捉细微的频率和时间变化。内置分析和图形显示功能：提供直方图、趋势图等图形显示功能，以及数据记录和统计分析功能，帮助用户更直观地了解测量数据的分布和变化趋势，提升测量和分析速度 346。多种测量功能：支持频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、脉冲宽度、占空比、相位、累加等多种参数的测量，满足不同应用场景下的测量需求 346。连续无间隙测量：能够进行连续 / 无间隙测量，并在信号边沿上具有时间戳，适用于基本调制域分析，可捕捉到信号的瞬态变化和调制信息 135。宽频率范围：频率范围可达 350MHz，通过选件还可扩展至 6GHz 或 15GHz，适用于不同频率范围的信号测量 346。良好的连通性：标配 LXI-C / 以太网、USB 等接口，部分型号可选 GPIB 接口，方便与其他设备进行连接和数据传输，易于集成到自动化测试系统中 134。用户友好界面：配备直观的用户界面和大型彩色图形显示屏，操作方便，显示清晰，便于用户设置参数和查看测量结果 345。 4.部分设备参数 型号53210A53220A53230A类型1 通道；可选射频通道2 通用通道；可选射频通道2 通用通道；可选射频通道测量功能频率、频率比、周期、输入电压最大值 / 最小值 / 峰峰值频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、信号周期、脉冲宽度、占空比、相位、累加、时间戳 /mda频率、频率比、周期、时间间隔、上升 / 下降时间、信号周期、脉冲宽度、占空比、相位、累加、时间戳 /mda频率范围（可选）直流至 350MHz直流至 350MHz直流至 350MHz（6 或 15GHz）频率分辨率10 位 / 秒12 位 / 秒12 位 / 秒时间间隔分辨率无100ps20ps连通性USB、LAN 和 GPIBUSB、LAN 和 GPIBUSB、LAN 和 GPIB

高功率射频CO2激光器 功率“永不止息”系列：（350W - 850W）姓名：刘工(Pindy)电话：（微信同号）邮箱：高功率射频CO2激光器产品简介：意大利El.En公司（艾伦集团）自主研发设计生产的功率“永不止息”系列的高功率射频CO2激光器（Blade RF Self-Refilling系列）很特殊。这是一种高效的RF CO2射频激光源，EI.En.独有的射频自充技术可提供激光功率无与伦比的稳定性，使其在长期运营中也能保证工艺参数的绝对一致性，非常适合在塑料，木材，皮革和其他材料上应用。但是，与传统的射频激光源不同，Blade RF Self-Refilling系列几乎“不需要任何工厂维修”。这种不可思议的优势，得益于其手动大小的储气筒，您可以自行填充，每年两次，而且成本非常低。这还不是全部，这款出色的设备可为您节省资源：El.En.提供的Blade RF Self-Refilling系列射频CO2光源在电/光转换方面的效率比竞争对手高25％。Blade RF Self-Refilling系列的射频CO2激光器有多种功率配置，范围从350W到850W，所有配置都具有相同的尺寸，因此非常易于集成。高功率射频CO2激光器主要特性：- 内部储气筒- 半密封操作：无需返厂，自行填充- 高电/光转换效率- 运营成本低- 体积小，易于集成- 集成式安全百叶窗-远程诊断和控制的TCP/IP连接高功率射频CO2激光器的主要应用：- 高性能振镜扫描仪应用- 塑料，木材，皮革切割- 数字转换- 聚丙烯涂层和薄膜切割- 标签吻切高功率射频CO2激光器的主要型号：RF333(P)，RF555，RF777，RF888，RF899高功率射频CO2激光器技术规格：

作为新时代女性，我们经常因为家庭、工作的种种原因，将自己的护理一再搁置，随着年龄的不断增长，皮肤出现一系列的问题，例如：皱纹松弛、毛孔粗大，面色暗沉、痤疮痘坑。想解决衰老问题，就选择V纳斯黄金射频微针美容仪器。V纳斯黄金射频微针作用1、点阵物理微针——紧肤提升，突破表皮屏障，准确靶向目标深层。2、高能恒定射频——饱满物皱纹，皮下胶原层新生重塑，稳定皮肤年轻质地。3、透皮多效给药——亮白莹透，更嫩肤通过微针透皮细微通道，实施个性治疗药物导入。V纳斯黄金射频微针技术原理黄金射频微针结合了微针微创、高温射频以及透皮给药三种技术结合，利用黄金涂层绝电微针探头，当探头里的微针深入皮肤时，会同时释放高温黄金射频能量 。并且仅在底部释放，不会加热表皮，所以可安全、准确、均匀有效的加热深层肌肤的胶原蛋白，促进胶原蛋白变性、重组、凝结。V纳斯 黄金射频微针优势定位准，修复迅速，比传统更准如同导航系统，把原本乱窜的电波准确定位肌肤深层，刺激深层胶原蛋白重组新生。疗效显著 效果维持3~6年精确作用不同深度靶向组织，智能实时阻抗监测，针对祛皱、紧肤、祛痘、疤痕等不同症状，进行个性化设置，使皮肤快速修复到年轻健康的状态。V纳斯黄金射频微针美容仪器，全面激活肌肤新能量，开启肌肤新生密码，让年龄静止，享受青春慢生活。

一、产品简介 激光与原子分子相互作用中，射频（微波）被广泛的使用于超精细能级激发、激光移频、激光锁定、AOM驱动等。这类实验除对微波位相噪声和振幅噪声有极高要求外，还要求微波有程控或触发控制通断、程控或外加信号控制调制以及PID反馈控制等功能。MOGLabs为科学家提供量身定做的敏捷型射频合成器ARF/XRF、四通道射频合成器QRF、AOM驱动器AAD，集成上述功能于一体，并集成功率输出可直接驱动AOM，满足多方面的射频源需求。二、型号参考型号ARF/XRFQRFAAD通道数目241（AADPCB）2（AAD420）最高输出功率+36dBm（421）+16dBm（021）+36dBm（241）+10dBm（041）+36dBm射频源DDS（AD9910）DDS（AD9959）内置可变振荡器或外置震荡源频率范围20 - 400MHz10 - 200MHz70 - 210MHz（内）70 - 350MHz（外）内置参考源20MHz TCXO25MHz TCXONo计算机可控制Ethernet，USBEthernet，USBNo频率控制32-bit（0.23Hz步距）32-bit（0.12Hz步距）10圈电位器振幅控制12-bit10-bit单圈电位器位相控制16-bit14-bit无TTL开关时间40ns40ns 主调制AM/FM/PM，10MHzAM/FM/PM，100kHzAM/FM，500kHz次调制AM/FM/PM，1MHzN/AAM/FM，500kHz内置PIDYesYesNo表格指令间距16ns（XRF）1μs（ARF）10μsN/A数字I/O16路高速I/O无无三、各型号特点及应用1、敏捷型射频合成器ARF/XRF特性l两路独立或同步输出l卓越的模拟调制（AM/FM/PM）带宽：10MHzl用于强度稳定或频率锁定的PID控制l高功率输出：2×4W/ 通道（421型）l宽频谱范围：20 ~ 400MHzl自动执行表格指令，用于复杂序列l16路独立数字信号输出，表格控制l射频输出功率监控及保护l可靠的开路/ 短路保护l数字信号输入控制快速（50ns）射频开/关，以及触发l极低位相噪声l外置时钟输入l三路模拟输出选件l16路数字输入输出（XSMA）l用于噪声抑制及锁频的信号调整（B3121）应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准2、四通道射频合成器QRF特性l高功率：通过选件可达2W/ 通道l10 ~ 200MHz宽范围精密调节l每通道独立模拟调制（AM/FM/PM/PID）l表格指令运行模式：顺序产生复杂频率/功率/位相/波形lPID控制，用于强度稳定及漂移补偿l通过网口和USB的简便控制lTTL快速通断控制，40ns延时l牢靠的开路/短路保护应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准3、AOM驱动器AAD特性l高功率：可达+36dBm / 通道l70 ~ 200MHz 频率范围l高调制带宽：500kHz（FM、AM）lRF功率输出及监控输出（-22 dBc）lTTL外触发快速通/断控制l十圈频率调节，单圈功率调节l低位相噪声高稳定性VCO如有其它需求，请联系我们。

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产 右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109

主要参数： 适用于I-V/C-V/RF/亚微米级测试测试的探针座线性无后座力移动，磁性吸附，带磁力开关/真空吸附 X-Y-Z 行程为 13mm*13mm*13mm，精度0.7um 进口制造***牙具，100 牙/英寸 高刚性结构，弹簧消隙 X-Y-Z，稳定无间隙 可搭配同轴/三轴探针夹具/射频调节机构使用多点探头调水平旋钮，可以+-10°调节，精度0.1度适用于市面主流射频探针台和射频探针

v纳斯黄金射频微针美容仪器1、v纳斯黄金射频微针：快速突破表皮屏障密集微针在短时间内制造出标准统一的穿刺通道，突破面部表皮屏障，准确靶向目标深层，有效激发胶原蛋白新生重组，实现肌肤紧致、细腻、Q弹。2、v纳斯黄金射频微针：全面激活肌肤新能量射频能量安全、准确、均匀加热肌肤深层的胶原蛋白，促进胶原蛋白变性、重组、凝结，促进皮肤新陈代谢，激活肌肤新能量，稳固皮肤年轻质地。3、v纳斯黄金射频微针：开启肌肤新生密码通过微针定点穿刺技术准确定位中胚层，轻松实现透皮直达中胚层给药，达到MT(金属硫蛋白)抗自由基的表层+深层作用，可有效解除重金属，清除肌肤自由基，由内而外实现肌肤整体年轻态。v纳斯黄金射频微针美容仪器功效1、提拉紧致提拉收紧下垂松弛的皮肤，提眉、收紧眼袋、提升下颌缘、改善三八线。2、抚平皱纹治疗后促进大量的胶原蛋白再生和重新排列，填平皱纹和组织破裂，包括脸上皱纹和腹部妊娠纹等，恢复皮肤的平滑细腻。3、改善毛孔促进皮肤的血液循环，清理毛孔，激活表皮的新陈代谢，缩小毛孔，减少油脂、使毛孔不在被油脂，脏物等填充。4、修复痘疤刺激、诱导胶原蛋白再生和重组，修复痘坑疤痕，让肌肤不再坑坑洼洼。5、控油祛痘针对活性痤疮的化脓部位和周围皮脂腺选择性地破坏，使皮脂分泌减少，抑制痤疮的炎症反应。6、腋下多汗可以安全且有效地破坏大汗腺(顶浆腺)与小汗腺，以持续降低腋下排汗与减少异味。

仪器简介：&bull PMM 3010：9KHz～1GHz频率范围 &bull PMM 3030：9KHz～3GHz频率范围 &bull -107～+10dBm射频信号输出 &bull 内置AM和脉冲调制 &bull 含扫频工作模式 &bull 可由内置锂电池供电（3030-2型） &bull RS232和USB连接方式 &bull 可连接外置调制 性能优点&bull 便于携带 &bull 无需附加调制发生器 &bull 满足IEC 1000-4-6 and IEC 1000-4-3标准 &bull 操作简单 &bull 可以和任意电脑兼容使用 &bull 可用于组建测试系统 &bull 可脱机独立进行抗扰度测试技术参数：项 目 参 数 PMM 3010 PMM 3030 频率范围 9kHz- 1GHz 9kHz- 3GHz 频率分辨率 1 kHz 频率精度 ± 10 ppm 电平范围 -107 至 +10 dBm 电平分辨率 0.1 dB 电平精度 1 dB, level -30 dBm 输出阻抗 50 Ω 射频信号输出接口 N female 信号纯度，谐波 -30 dBc @ 0 dBm, f 1 MHz AM调制，内置 2 &ndash 50 &ndash 400 Hz, 1 kHz 10% 至 90% AM调制，外置 2 Hz 至 10 kHz 10% 至 90% 输入阻抗 600 Ω 输入接口 BNC female 脉冲解调，内置 1 Hz: ON/OFF ratio @ 0 dBm 40 dB 200 Hz: ON/OFF ratio @ 0 dBm 40 dB 远程控制 RS-232, USB 2.0 (背板), User Port GPIB (外置适配器) 用户端口 RF OFF, RF ON, Start/s至p test 显 示 340 x 240 pixels, 16 gray levels 显示单位 dBm, dB&mu V 工作温度 +10° C 至 +40° C 电源供应 DC 10 &ndash 15 V, 2.5 A AC &ndash DC adapter 115 &ndash 230 V 50/60 Hz 内置电池组(仅对3030-02) Li-Ion, 可充电电池； 平均工作时间3小时 尺 寸 (WxHxD) 235 x 105 x 335 mm主要特点：&bull 轻便，结构紧凑 &bull 内部AM及脉冲调制 &bull 9kHz～ 1GHz（3010）；9kHz～ 3GHz（3030） &bull 自带操作键 &bull RS232/485接口 &bull 可编程输出 &bull 修正表可下载到设备中 &bull 用户 I/O 端口

太赫兹探测器/微波射频热声探测器(RF Thermoacoustic Microwave and Millimeter Detector)品牌： Tydex型号： TAD-ATydex的热声探测器 TAD-1 被专门设计用来测量微波频段的脉冲电磁波，可测量脉冲宽度1-500ns，响应的波谱范围为3-300GHz。当微波脉冲激发探测器内部层结构时，会产生声波信号。探测器TAD-1可以被用来测量以下微波辐射源： √ 初级回旋谐振振荡管 √ 二次和三次回旋谐波的大尺寸回旋振动管 √ 毫米波段的表面波相对产生器 √ 脉冲式磁控管产生器 √ 相对返波管振荡器 √ 毫米波段的调速管 √ 其它光源 此探测器能将大功率的射频电磁波脉冲精确地以相同的形状轮廓转换为声波信号。因此根据示波器的响应，可以计算出脉冲能量的时间依赖关系，并由此描绘出输入脉冲时间依赖的能量相对值形貌。性能参数：参数数值探测器窗口尺寸，mm20.0可测量的脉冲宽度范围，ns1-500可测量的频率范围，GHz3-300脉冲重复频率，kHz最高可测5Hz微波脉冲峰值输出，MW1-500推荐的微波功率通量密度，W/cm250—1×104操作温度，℃5—45存储温度，℃0—60空气湿度，%5—85整体尺寸（L×W×H），mm105.0×60.0×60.0重量，Kg0.35微波射频热声探测器?

射频穿刺针也叫射频套管针、射频热凝套管针、射频热凝电极套管针。 射频穿刺针是一次性无菌产品。 射频穿刺针与北琪射频热凝电极完美结合，实现温度的准确控制，锋利的针尖带给患者极小的穿刺痛感，射频热凝套管针裸露端与绝缘层之间零厚度过渡带给穿刺带来的润滑感和准确的手感，令穿刺更加快畅准确，减小病人的不适感，提高手术的准确性和安全性。众所周知，作用是对事物产生的影响、效果等，射频穿刺针作用为治疗效果，该技术对治疗起到了其他方面的影响，因此对于作用的了解，能为医疗机构选择设备减少阻力。射频穿刺针治疗中具有微创、损伤小等特点，治疗效果明显，安全，高温度能达到95℃，细针穿刺，风险更低。作用：可高选择的毁损痛觉神经传达通路，阻断神经神经信号向上位神经传导，快速抑制疼痛。为了能够减少病人治疗的痛苦，射频穿刺针在设计制作时在各部件做好了合理的设计，并有不同的作用，接下来就一起看看吧！1、人体工学设计 ——- 操作简洁；2、高灵敏温度测量 ——- 准确消融；3、套管有高绝缘、隔热层 --- 保护操作者；4、套管锋利 ——- 准确穿刺；5、电极是高强度形状记忆材料 --- 组织内电极形状固定；6、电极有纳米涂层 ——- 不粘连组织。

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国原装进口 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数: 阳极电感耦合等离子体2kW & 2 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2, 其他流量5-50 sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准 OptiBeamTM离子束栅极22cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000, MHC 1000高度30 cm直径41 cm锁紧安装法兰10”CFKRI 射频离子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜 (光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 40上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.射频离子源 RFICP 40 特性:1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度12.7 cm直径13.5 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域： 预清洗 表面改性 辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

1200W超高功率射频二氧化碳激光器姓名：田工(Tom)电话：（微信同号）邮箱：超高功率射频二氧化碳激光器产品简介：作为功率“永不止息”系列的CO2射频自充激光器（Blade RF Self-Refilling系列）的终款，BLADE RF1222射频二氧化碳激光器集齐两大优点于一身：超高峰值功率（射频激励技术，高频率调制，结构紧凑）与“免工厂维护”自行更换气体。RF 1222可提供高达2400W的超高峰值功率，可用作焊接的热源，当高功率激光束打到两个待加工部分的边缘时，会使材料熔化，导致两个部分在其毗邻处熔合，并且你还可以处理传统工艺无法处理的区域。该款高功率射频CO2射频激光器的光束质量、机械尺寸、功率范围和相关配件等参数都经过精心设计，让您在汽车和液晶显示器行业的金属和塑料材料上获得卓越的应用效果。超高功率射频二氧化碳激光器典型特征： -额定功率1200W，峰值功率可达2400W -低维护成本&易于集成 -功率稳定&高光束质量 -高电\光转换效率 -集成安全百叶窗 -用于远程诊断和控制的TCP/IP连接 -外置控制界面超高功率射频CO2激光器的主要应用： -高性能远程处理 -塑料、木材、皮革、纺织及钢材切割 -数字转换 -激光清洗 -激光除锈RF1222技术规格：

高性价比射频二氧化碳激光器 RF88姓名：田工(Tom)电话：（微信同号）邮箱：高性价比射频二氧化碳激光器产品简介： CO2激光器是一种气体激光器，典型波长为10.6μm，属于中红外频段。相比于其他激光器，CO2激光器具有更高的功率和电光转换效率，非常适合用于非金属材料加工。意大利 El.En.公司在射频二氧化碳激光光源制造方面有超过30年的经验，已在各个地区安装超过2500个工业解决方案。对于低功耗的应用，El.En.公司的工程师开发了一款高效的射频CO2激光光源—RF 88，其额定输出功率为80W，有效峰值功率可达200W。El.En.精心设计的密封式二氧化碳激光器保证激光功率长时间稳定和近乎高斯光束的激光输出，是集成到您设备中的“不二之选”。高性价比射频二氧化碳激光器产品特性：-射频激励-密封技术-高光束质量-结构紧凑&易于集成高性价比射频CO2激光器主要应用： -生物刺激 -塑料和皮革切割 -农业嫁接 -激光微穿孔 -激光打标RF 88 技术规格：

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:阳极电感耦合等离子体1kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 500mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-40sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极14cm Φ栅极材质钼, 石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度25.1 cm直径24.6 cm锁紧安装法兰12”CFKRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流350 mA离子动能100-1200 V栅极直径10 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度23.5 cm直径19.1 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下美国 KRI 射频离子源 RFICP 100美国 HVA 真空闸阀德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 23001978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请联络上海伯东。上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Agilent N9310A 供应 射频信号发生器欧阳R:13537229325温馨提示：如果您找不到 方式，请在浏览器上搜索一下，旺贸通仪器仪Agilent N9310A 回收工厂或个人、库存闲置、二手仪器及附件。长期 销售、维修、回收 高频 二手仪器。N9310A 射频信号发生器，9 kHz 至 3 GHz是对现代消费类产品（例如无绳电话、数字无线产品、GPS 模块、RFID 和无线 LAN 设备）进行电子制造测试的理想选择。它是 款新型入门级射频基础仪器，具有所需的全部功能和可靠性，而其价格也降低到了您一直期待的水平。这款新型信号发生器的操作简单，不仅可以生成 9 kHz至 3 GHz 的常见射频信号，而且利用其内置模拟调制能力，还可轻松生成调制的 AM、FM、QM 以及脉冲信号。它添加了可选的模拟 Iq 输入功能，能够从定制的 IQ 输入生成复杂的 IQ 调制信号，例如 GSM、cdma 和 OFDM 信号。技术指标：9 kHz 至3 GHz 连续波输出，20 Hz 至 80 kHz 低频（LF）输出-127 至 +13 dBm 输出电平范围（大可设为 +20 dBm）-95 dBc/Hz SSB 相噪全面的扫描功能：射频（9 kHz至3 GHz）/幅度（-127至+13 dBm）、低频（20 Hz至80 kHz）广泛的模拟调制：AM、FM、相位和脉冲调制可选的 IQ 调制器，40 MHz 带宽直观的图形用户界面支持 11 种语言支持自动测试和闪存的标准 USB 接口用于远程控制的 SCPI 集

射频辐射抗扰度测试系统6000R：包含射频信号源3010/3030及其它品牌射频信号源、功率放大器5225/5228/5294/5295、功率计6630、发射天线STLP 9128ES/STLP 9149、自动化测试软件PIMS，可以实现3米距离的10V/m、20V/m、30V/m已调波的照射以及1米距离的200V/m照射。6000R采用了去中心化的分体式硬件架构设计理念，将测试系统的硬件优化配置与不断变化的测试需求相适应。整套系统根据试验限值的不同，能够兼容不同品牌的射频信号源与功率计。还可以根据试验信号的频率范围与调制方式，兼容多种品牌的射频信号源（例如德国R&S的SMB100、意大利PMM的3030）。由于6000R选择的硬件设备均为能独立工作能力的台式仪器或便携式设备，因此，该系统不仅拥有上述的系统兼容性能，而且硬件设备均单独工作或融合到其他系统中使用。6000R系统中的程控仪器（信号源、功率计）与测试软件均源于PMM，因此，测试软件的各个版本可以与同厂制造的仪器仪表保持高度的匹配性。6000R系统采用的测试软件依据EMC抗扰度试验原理而设计，允许使用人员灵活选择试验方式、试验频率范围及步进、施加频点驻留时间以及敏感频点时期的EUT行为监测记录。

可调；电压输出时间：10s-可调：漏电流：1mA--‐10mA 可我公司射频电源系列中按照 GJB681A调。－2002 研制开发的射频电缆耐压测试仪， l参数设置。可通过触摸屏幕或外能够输出电压 1.5KV 、频率 5MHz －接鼠标直接完成各种参数的设7.5MHz 的射频高压信号，满足军品射频置：起始频率、终止频率、起始电缆高频信号下耐压试验。电压、漏电电流、阶段升压和计高频高压测试仪由前级信号源、功率 时等参数；放大器、以及显示部分、控制部分等组成，产品运用：仪器在 5MHz~7.5MHz 频段内输出近似电压正弦波电压有效值 1500Vuu射频连接器生产厂家uu第三方检测机构产品特点：uu军工整机生产厂家 序号项目指标单位备注电性能部分1输入电压AC220±10%V电性能部分1输出波形正弦波2输出电压1500V3频率范围5-7.5MHz4电压分辨率50V5电流分辨率1mA6≤5%@1000V-1500VV电压测量精度7≤10%@100-1000VV8频率调节分辨率≤100Hz10频率不稳定度≤0.05%Hz9漏电检测电流1-10mA11运 行 时 间5@额定容量min12噪 声≤50dB环境条件1工作温度-20～＋50°C2存储温度-40～＋85°C3工作相对湿度≤90%尺寸及重量1尺寸19”8U2重量≤10Kg

高频 高电位电压测试仪 产品特点l适用于《GJB681A--‐2002 射频同轴连接器通用规范》测试要求； l大屏幕触摸液晶彩屏显示,操作简单、数据显示直观 l可同时显示测试电压、试验频率、漏电电流、测试时间，电压曲线等；l参数可调。频率：5MHz--‐7.5MHz产品简介：可调；电压输出时间：10s--‐5min高频高电位测试仪可调：漏电流：1mA--‐10mA 可是我公司射频电源系列中按照 GJB681A调。－2002 研制开发的射频电缆耐压测试仪， l参数设置。可通过触摸屏幕或外能够输出电压 1.5KV 、频率 5MHz －接鼠标直接完成各种参数的设7.5MHz 的射频高压信号，满足军品射频置：起始频率、终止频率、起始电缆高频信号下耐压试验。电压、漏电电流、阶段升压和计高频高压测试仪由前级信号源、功率 时等参数；电压正弦波电压有效值 1500Vuu射频连接器生产厂家uu第三方检测机构产品特点： uu 军工整机生产厂家放大器、以及显示部分、控制部分等组成，产品运用：仪器在 5MHz~7.5MHz 频段内输出近似YT--‐RF--‐057515PS Specification 序号项目指标单位备注输入部分1输入电压AC220±10%V电性能部分1输出波形正弦波2输出电压1500V3频率范围5-7.5MHz4电压分辨率50V5电流分辨率1mA6≤5%@1000V-1500VV电压测量精度7≤10%@100-1000VV8频率调节分辨率≤100Hz10频率不稳定度≤0.05%Hz9漏电检测电流1-10mA11运 行 时 间5@额定容量min12噪 声≤50dB环境条件1工作温度-20～＋50°C2存储温度-40～＋85°C3工作相对湿度≤90%尺寸及重量1尺寸19”8U2重量≤10Kg 西安思嘉电子科技有限公司地址:西安市高新区前进大厦7层电话：86-029-68859788 传真：86-029-88764149 E-mail:

VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）可选配300W射频电源（自动匹配）注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料）磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机） 真空腔体真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）真空度：1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,5×10-5 torr （采涡旋分子泵） 载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：0 - 20 rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪（可选） 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

射频0.7um探针座产品介绍谱量光电TPLR系列射频探针座是一款集成进口细牙丝杆以及进口交叉滚珠导轨，这个保证了我们在探针的运行过程中的稳定性以及精度，底部匹配日本进口超强磁性底座，可以通过开关调节磁性的有无，超强磁力，稳定性高，探针移动不偏移，集成射频专用夹具，水平角度0-30°可调，方便了我们调整射频针尖状态，方便我们完成射频测试！射频0.7um探针座产品说明探针位移精度0.7μmXYZ位移行程20mm点测角度0-30°射频（RF）是Radio Frequency的缩写，表示可以辐射到空间的电磁频率，频率范围从300kHz～300GHz之间。射频就是射频电流，简称RF，它是一种高频交流变化电磁波的简称。每秒变化小于1000次的交流电称为低频电流，大于10000次的称为高频电流，而射频就是这样一种高频电流。射频（300K-300G）是高频（大于10K）的较高频段，微波频段（300M-300G）又是射频的较高频段。谱量光电TPLR系列射频探针座集成进口细牙丝杆以及进口交叉滚珠导轨，保证了我们在探针的运行过程中的稳定性以及精度底部匹配日本进口超强磁性底座，可以通过开关调节磁性的有无，超强磁力，稳定性高，探针移动不偏移，集成射频专用夹具，水平角度0-30°可调，方便了我们调整射频针尖状态，方便我们完成射频测试！模块介绍通用型0.7um探针座通用参数探针座位移精度0.7um探针座位移行程XYZ20mm点测角度0-30°移动方式线性移动底座固定方式磁力吸附（可升级真空吸附，固定安装）应用RF测试，兼容常用射频探针产品示意图射频0.7um探针座应用领域RF测试等，可配合40GHZ/50GHZ/67GHZ/110GHZ射频探针使用谱量光电根据客户实际应用需求，定制配套探针台系统，以达到更好的测试效果及更高的性价比，具体信息可联系详询公司介绍 南京谱量光电科技有限公司是一家专业从事集光电仪器、精密机械、计算机软硬件于一体的技术创新型企业。主营激光器、探针台、积分球、光电测试系统、光学机械、物理成像设备、光学设计镀膜及多种光电类测试服务。产品主要服务于物理光学、电子、材料、化学、生命科学等相关科学领域。谱量光电总部坐落于江苏南京，在济南设有生产中心，公司拥有成熟的研发及运营团队，我们坚持从研发设计、制造选型、装配调试等环节做好产品全方位质量保证。公司自成立运营以来，已成为国内科研用户的优选品牌，产品得到了众多高校、科研院所等高水平实验室的应用。我们一直以客户需求为导向，秉持“专业、品质、服务”的经营理念，为客户提供值得信赖的产品和服务体验。我们相信谱量光电的产品和技术将得到客户越来越广泛的应用和赞誉，我们愿意与广大客户和合作伙伴携手，共同在“科教兴国、科技强国”时代创造价值，实现共赢！ 为我国的光电子产业发展做出自己积极的贡献。企业文化： 企业愿景：产研融合，创新发展，赋能国内产学研革新！核心价值观：诚信、专注、创新、共赢技术理念：不断超越，追求完美服务理念：专业、贴心、及时、周到

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

特征概览:非接触式超小设计，监测高功率射频电源的电流及电压传输方便替换传统的光谱仪，准确探测刻蚀工艺的终点监测腔体是否刻蚀干净及过度刻蚀，缩短刻蚀时间和降低气体成本，提高生产机台使用率高速采样频率，可达2万赫兹 应用：用于半导体，平板显示器及太阳能等行业PVD，CVD及刻蚀腔体工艺等离子体放弧探测及刻蚀终点探测（Endpoint）。

4大特点无创无痛、体感舒适治疗全程体感温热、舒适无创、无电刺激感、无禁欲期全盆底覆盖、整体康复多模块治疗模式，治疗范围更深、更广可实现从外阴、阴道壁、盆底肌肉、筋膜韧带到全盆腔的整体治疗单极射频、双极射频两种能量模式智能切换，触屏一体，操作简易事实监测治疗温度，智能调节输出功率，让治疗安全、高效AI温控、阻抗匹配单双联合、智能切换