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射频磁控镀膜仪

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射频磁控镀膜仪相关的资讯

  • 260万!东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线获取售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。(3)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱:jiaoly_work@163.com 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电话:025-83792632 分机号8806; 实验室与设备管理处:刘加彬 电话:025-83792693。2.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电话:025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电话:025-84532455、025-84532452
  • 240万!成都大学附属医院红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目
    项目编号:N5101012023000011项目名称:红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式:公开招标预算金额:2,400,000.00元采购需求:详见采购需求附件合同履行期限:采购包1:自合同签订生效后起10日内采购包2:自合同签订生效后起10日内采购包3:自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标:采购包1:不接受联合体投标采购包2:不接受联合体投标采购包3:不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx
  • 2012年我国医用射频与核磁仪器市场规模119亿元
    近年来我国各级医院都在努力通过改造医院软硬件条件,不断更新医疗诊断设备以提高提高医疗服务收入,因此对质量好、多功能的大中型器械医疗设备的需求也在持续增长。根据驰昂咨询(Sinotes)最新统计数据显示,2012年我国医用射频与核磁仪器市场规模达119.8亿元人民币,同比增长21.1%。    图1. 2007至2012年我国医用射频与核磁仪器市场规模与增长   射频与核磁仪器主要包括X射线设备、CT设备、MRI设备等。X射线设备由于市场普及度较高,在射频与核磁仪器市场上占有较大比重,而CT及MRI设备则是增长较快的射频与核磁仪器类别。    图2. 2012年我国医用射频与核磁仪器市场份额
  • 用户培训班预告——HORIBA射频辉光放电光谱仪(GD-OES)的应用(上海)
    尊敬的用户: 您好!感谢您一直以来对HORIBA的支持和关注。 射频辉光放光谱仪(GD-OES)是一款适用于材料表面分析和镀层界面元素分析的工具,它正被广泛应用于半导体、陶瓷/玻璃、镀膜钢铁、薄膜和粉末等样品的测试。 为了帮助HORIBA各系列GD-OES的用户提高仪器操作水平以及理论水平,以充分发挥仪器的性能,我公司将举办为期三天的GD-OES应用技术培训班。欢迎有培训需要的用户积报名。 主 办:HORIBA Scientific(Jobin Yvon光谱技术) 培训时间:2013年11月20 日-22日 培训地点:HORIBA Scientific上海应用中心 (上海市天山西路1068号联强国际广场A栋1层D单元,近2号线淞虹路地铁站) 培训对象:HORIBA射频辉光放电光谱仪用户 主 讲:Celia Olivero(法国应用实验室经理)、余卫华、武艳红(应用工程师) 培训安排: 培训费用: 1、1600元/人(保修期内可提供2人/次免费培训),请于11月12日前将费用转至HORIBA公司账户并予以确认。 2、培训期间,我们将为您免费提供午餐,住宿、差旅等费用需贵单位自理。 报名联系: 联 系 人:Ms. Shen (沈小姐) 电 话:021-62896060-161 邮 箱:yilei.shen@horiba.com 报名截止:2013年11月12日 账户信息: 公司名称:堀场(中国)贸易有限公司 开户行:三菱东京日联银行(中国)有限公司上海分行 账号:404029-00000308854(人民币) 关注我们: 邮箱:info-sci.cn@horiba.com 新浪官方微博:HORIBA Scientific 微信二维码:
  • 一次性使用压力监测磁定位射频消融导管获批上市
    近日,国家药品监督管理局经审查,批准了上海微创电生理医疗科技股份有限公司生产的“一次性使用压力监测磁定位射频消融导管”创新产品注册申请。该产品由射频消融导管、连接尾线和尾线连接盒组成。其中导管主体包含高扭矩管身和可弯曲的头部,头部装有铂铱电极,1个头端电极和3个环形电极。该产品在医疗机构中与上海微创电生理医疗科技股份有限公司生产的三维心脏电生理标测系统和心脏射频消融仪配合使用,用于药物难治性、复发性、症状性阵发性房颤的治疗。该产品采用了基于应变片原理压力传感技术、磁场定位技术、头端多孔盐水灌注技术与三维电生理标测系统,可为房颤患者的治疗提供整体解决方案,是国产首个具有压力感知功能的心脏射频消融导管。与传统心脏类射频消融导管相比,该产品可以实时测量导管头端和心壁之间触点压力值,更好的辅助术者完成手术,有效防止术中导管与组织贴靠力过大造成蒸汽爆裂或过小引起消融不完全,可缩短医生学习曲线,达到更优的远期治疗成功率。该产品获批上市有利于该技术的临床应用推广和降低临床治疗费用,使更多房颤患者受益。药品监督管理部门将加强该产品上市后监管,保护患者用械安全。
  • 面向UV粘合和UV镀膜应用,新型UV-LED照射单元面世
    滨松公司将于2016年10月1日开始销售LED照射单元GC系列产品,作为线性紫外(UV)LED照射单元LIGHTNINGCURE® LC-L5G的新成员,该产品具备可连接、薄型、低功耗的特点,适用于国内外生产电视机、平板电脑终端、智能手机等厂家工序中的UV固化工序。 该产品将于9月28日在日本东京举办的材料和技术综合展“N+(N PLUS)”、10月5日在日本大阪举行的“关西机械高性能薄膜展”上亮相。 所谓UV固化,是指通过照射UV光,对UV粘合剂、UV镀膜剂、UV油墨等进行固化的技术,其最佳波长根据用途有所不同。UV粘合和UV镀膜时使用波长为365nm或405nm的UV光源,UV印刷时使用385nm或395nm的UV光源。 为进一步满足电视机、平板电脑终端、智能手机等面板的UV粘合、以及对电路板等进行表面保护的UV镀膜等用途,考虑到UV固化应用市场的不断增长,滨松公司在该产品线上增加投放了新的GC系列。将GC系列链接在一起的状态通过连接照射单元,应对各种产品类型 现产品在连接时可按照射窗的长边方向,用兼顾电源与控制信号输入的导线和固定板即可实现连接。通过改变单元的连接数量,即可方便地调整UV光的照射宽度,适用于电视机、平板电脑终端、智能手机,电路板等各种不同尺寸的产品加工要求。在更换产品种类时也无需替换设备等,减少了设备投资费用。 提高光量的均一性 以往的产品也可以将照射单元排列起来扩大UV的照射宽度,但光源不容易照射到单元的正下方,会出现局部UV光量不足的问题。但新的GC系列则实现了单元的直接相连,且所采用的生产技术可以使LED的UV照射窗镜头在位置上高度对准,这样在单元相互连接时实现了在全部UV照射区域里光量的高度均匀性。以此减少UV固化的不均匀性,提高产品质量。更小体积,节省空间 通过对整体设计进行改良,改变了单元内部的吸气排气结构以及风扇电机的型号,实现了GC系列产品的薄型化。单元厚度从原来的55mm缩小为24mm,单元体积则仅是原有产品的四分之一,大大减少了生产现场的空间。 低功耗,节能化 GC系列产品可以根据用途在所需最小范围内进行UV照射,消耗功率从原来的180W减小到40W,实现了大幅度的节能减耗,更加环保友好。在今后,为了满足市场对光强输出的更高要求,滨松公司计划在明年春天推出更大功率UV-LED单元来扩充产品线。 GC系列:GC-77参数一览项目内容 / 值単位照射面积177 × 5mm峰值波长365385395405nm紫外照射强度22W/cm2输入电压(DC)48V消耗功率(Max.)4540W外形尺寸(W × H × D)77 × 140 × 24mm1 在照射距离2mm处的照射面积 2 照射距离2 mm处、照射面积内的最大紫外照射强度线性UV-LED照射单元LIGHTNINGCURE® LC-L5G 「GC-77」 LIGHTNINGCURE® 是滨松光子学公司的注册商标其他UV-LED照射单元系列一览GP系列 该系列的应用为,向印刷品直接喷射UV油墨,用低强度的UV照射使其达到半硬化状态,防止油墨的渗出以提高印刷质量,用于油墨喷射打印机预烘干。同样是窄薄型和低功耗。GJ系列 用于油墨喷射打印机的正式烘干,小型大功率照射单元。 GL系列 在加大GJ系列宽度的同时,实现了光输出的高度均匀性,针对屏幕印刷、凸版印刷、凹版印刷、间歇印刷、一部分的胶印、塑料容器的直接印刷等用途,提供了UV印刷所需要的大功率照射单元。
  • 英国Pickering公司推出新款基于MEMS的射频开关模块
    Pickering Interfaces与Menlo Microsystems的合作将新的开关技术引入PXI射频多路复用开关,以显著地提高性能。2023年6月26日,于英国Clacton-on-sea。Pickering Interfaces公司作为生产用于电子测试及验证领域的信号开关与仿真解决方案的主要厂商,于今日发布了一款采用新的开关技术的PXI/PXIe射频多路复用开关模块新产品。新款基于MEMS的射频多路复用开关是无线通讯和半导体测试的理想选择,与传统 EMR(电磁继电器)开关相比,操作寿命大大延长(高达300倍)、切换速度更快(高达60倍)、带宽更高,射频功率处理能力更强。插入损耗也与EMR相当,并且远低于固态开关。   新产品家族基于Menlo Microsystems的Ideal Switch®构建。这是首款性能特性能够支持要求严苛的射频测试环境,比如半导体、消费者无线设备和各种S波段的应用(包括移动服务、卫星通讯和雷达)的商用MEMS组件。“Pickering多年来一直在密切关注MEMS(微机电系统)技术,”Pickering Interfaces的开关产品经理Steve Edwards说。“Menlo Micro凭借Ideal Switch成为第一家提供满足射频测试所需规格的量产MEMS开关的公司。”   Menlo Microsystems的创始人兼全球营销高级副总裁Chris Giovanniello指出:“我们与Pickering Interfaces的合作伙伴关系建立在专注于下一代射频产品和应用的五年合作之上。“现在,我们的 Ideal Switch 已被Pickering用来构建首批射频多路复用开关,我们期待进一步推进我们的创新技术的发展。”   40-878 (PXI)和42-878 (PXIe)是50Ω 4:1 射频多路复用开关。为了适应不同规模的测试应用,40/42-878系列提供单组、双组或四组多种规格选择,都仅占用一个PXI或 PXIe机箱插槽。用户可以灵活地选择机箱,最大程度地减少所需插槽的数量。40-878也可以在Pickering的所有LXI/USB模块化开关机箱中安装使用。因此,受PXI、LAN或USB控制的不同的开关解决方案具有相同水平的高性能。该模块提供SMB或MCX连接器,用户可以选择最适合其应用的接口。另外,Pickering还提供类型齐全的线缆解决方案。   Pickering的开关产品经理Steve Edwards对新产品作了说明:“40/42-878系列提供大于30亿次的操作寿命,远超基于EMR的解决方案(通常为1千万次操作),最大程度地减少由于继电器损坏或需要维护造成的系统停机。仅50us的切换速度使得这些开关可以在EMR的一次切换时间内进行多次切换,因此最大程度地减短了测试周期时间,以及提高了系统吞吐量。快速切换的优点使得这款产品适用于类型广泛的各类应用。”   “另外,40/42-878提供4GHz的带宽(现有的EMR产品带宽为3GHz),可以支持新的更高频率的测试要求,因此有助于延长测试系统的使用寿命。提高了带宽的同时也提高了射频承载功率,超过了EMR解决方案的10W功率。”Edwards说:“最后,与固态解决方案不同,40/42-878中使用的MEMS开关具有低插入损耗,在4GHz时通常小于1.4db —— 与EMR解决方案相当,但具有基于MEMS设计的所有优势。”   40/42-878系列随附驱动程序,可在所有主流的软件编程环境中使用。在操作系统方面,支持所有微软当前的Windows版本和主流的Linux版本,以及其他实时硬件在环(HiL)工具。另外,Pickering为所有模块提高三年质保。
  • 镀膜片基底背面反射的影响——低反射率样品表征
    当光线照射到两种介质的分界面上时,一部分光线改变了传播方向返回原来的媒介中继续传播,这种现象称为光的反射。在自然界中,光的反射存在着镜面反射、漫反射和逆反射三种现象。光的反射示意图镜面反射是在光线入射到一个非常光滑或有光泽的表面上时发生的。光线在物体表面反射的角度和入射的角度,度数相同但方向相反。如果物体的表面和光源成精确的直角,那么反射光线会完整地反射回光源方向。光的漫反射是一种最常见的反射形式。漫反射发生在光线入射到任何粗糙表面上, 由于各点的法线方向不一致,造成反射光线无规则地向不同的方向反射。只有很少一部分光线可以被反射回光源方向,所以漫反射材料只能给人眼提供很少的可视性。逆反射(背面反射)是指反射光线从靠近入射光线的反方向,向光源返回的反射。当入射光线在较大范围内变化时,仍能保持这一特性。当石英片上镀膜后,石英片的逆反射会对镜面反射的结果有明显的影响。本文采用日立的UH4150紫外可见近红外分光光度计、5°绝对反射附件和60mm积分球测试分析逆反射的影响。 下面是2种不同工艺需求的测试数据图:左图为同一批次的2个镀膜样品,变量为基底是否进行了涂黑处理。通过数据可以明显的发现:涂黑处理后的反射率明显降低,在1370nm附近的反射率约为0.3%,这是因为涂黑处理使得基底的背面反射(逆反射)尽可能地消除。 右图为另一种工艺的产品,直接对样品进行测试,不需要额外的处理,可以得到1300 ~ 1600 nm范围内反射率低于0.2%的效果,符合产品的预期。一般遇到测试反射率低于0.5%的指标需求时,建议使用标准片测试。×总结根据测试的目的需求,基底是否处理对实际的测试结果有很大影响。样品的反射率测试,需要考虑背面反射的影响。日立的紫外可见近红外分光光度计UH4150结合镜面反射附件,可以准确的表征低反射率的样品性能。——the end——公司介绍:日立科学仪器(北京)有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景,始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新,积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括:各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备,以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户,公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构,直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务,从而协助我们的客户实现其目标,共创美好未来。
  • 中科科仪控股公司中科科美研制的高精密镀膜装置在先进光源技术研发与测试平台正式运行
    在庆祝中国共产党百年华诞之际,由国家发改委立项支持、中科院高能物理研究所承建的高能同步辐射光源(HEPS)首台科研设备于6月28日上午安装,为其提供技术研发与测试支撑能力的先进光源技术研发与测试平台(PAPS)启动试运行。其中,中科科仪控股公司中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也于同一天正式投入使用。直线式劳埃透镜镀制装置及纳米聚焦镜镀制装置可实现各类高能物理装置聚焦镜、单色镜、劳埃镜、纳米聚焦镜等膜层制备。在两装置研制过程中,中科科美突破了多项先进制造技术:精密加工制造技术,实现大型真空腔室及复杂运动系统精密加工与装配、减震及超洁净等严苛设计指标;大型真空系统超高真空获得技术,实现结构复杂、内部零部件放气量大的大型真空腔室系统极限真空度达到10-6Pa;高精度直线运动控制技术,实现长距离导轨运行平行度达到微米量级、运动系统速率稳定性控制在千万之一以内;复杂镀膜工艺技术,实现高精度纳米量级万层镀膜工艺,膜厚精度控制在0.1纳米以内。经相关主管部门和院所专家委员会现场测试,高精密镀膜装置结构设计合理、制造工艺先进、主要性能指标达到国际同类产品水平,填补了该领域内多项国内技术空白。直线式劳埃透镜镀制装置HEPS是国家“十三五”重大科技基础设施项目之一,该项目于2019年6月29日开工建设,建设周期6.5年。建成时,HEPS将成为中国第一台高能量同步辐射光源之一,为基础科学和工程科学领域原创性、突破性创新研究提供重要支撑平台。中科科仪控股公司中科科美凭借在真空系统集成领域深厚的专业技术积淀、强大的整体方案解决能力和一站式服务能力参与到该项目中,为国家重大科技基础设施项目实施和技术攻关贡献了力量。
  • 全球首条在线低辐射镀膜超白超厚大板玻璃线建成
    近日,在海南中航特玻公司特玻生产基地,随着2号线15mm厚的在线低辐射镀膜(LOW-E)超白超厚玻璃在生产线下片装箱,全球首条在线LOW-E超白超厚玻璃线在我国诞生。   海南中航特玻技术研发团队在国际先进技术基础上,通过自主创新,将在线LOW-E大板的厚度从3mm、4mm、5mm、6mm、8mm增加至10mm 12mm,现在又成功地生产出15 mm超厚玻璃。这是世界当前最厚的在线LOW-E玻璃产品,也是海南中航特玻继研制出在线Low-E超白产品后取得的又一创新成果。在线Low-E超白超厚玻璃的面世,标志着我国玻璃行业技术已经居于国际领先水平,对进一步拓展国际国内建筑节能玻璃市场有着重要意义,更是我国玻璃行业为世界玻璃工业技术进步作出的新贡献。   据专家介绍,因为受到生产工艺技术的制约,在线Low-E镀膜玻璃厚片生产技术难度较高。在许多公共建筑和大部分高层楼房裙楼商业用房和大堂建筑装饰中需要大板面单片厚玻璃,因为离线Low-e玻璃存在脱膜的问题,所以,一直以来,国内外建筑师都只能在这些部位使用普通浮法玻璃厚片,以至于建筑效果和使用功能与建筑节能产生无解的矛盾。   而在线Low-E是在浮法线上700C镀膜固溶在玻璃体上,单片使用永不会发生膜层脱膜,15mm超厚玻璃既可满足荷载和抗风强度要求,又美观坚固,钢化加工性较强,其节能膜低辐射性能与玻璃同寿命,单片使用达到冬暖夏凉,保温隔热功效十分显著,在北方冬天大幅降低室内热能的浪费,在南方能够很好的起到隔热节能效果。   据统计,单片15mm在线LOW-E玻璃的传热系数比普通浮法玻璃传热系数低36%,比普通单片玻璃提高节能效率1/3,应用在建筑领域上,可节约大量的电力和煤炭资源消耗。不仅如此,这次海南中航特玻公司研发的新产品是在线超白厚板大尺寸Low-E玻璃,超白玻璃具有极高的透过率,可见光透过率可达92%,具有非常好的光学性能,可以更真实再现景观,是高端写字楼和豪华酒店建筑师和业主的梦想。   通过与在线Low-E膜层的结合,既可以保证超白玻璃原有较高的可见光透过率,满足室内采光要求与舒适度,减少室内照明用电,又具有低辐射功能,达到综合节能的效果。是满足通透性建筑型要求较高的关键材料, 如北方和滨海区建筑. 同时,由于超白玻璃对原料的严格要求及自身低铁特性,超白Low-E玻璃不会产生自爆现象。   用作大堂玻璃及幕墙玻璃时,由于抵抗风压和设计规范的要求必须采用钢化玻璃,而非超白钢化玻璃经常发生自爆,厚片普通钢化玻璃自爆的危险程度更高。因此,这一新技术还解决了困扰多年的建筑用钢化玻璃自爆的问题,这问题曾经是历年“两会“代表提案之一,一直受到社会各方面的高度关注.   中航三鑫股份有限公司旗下海南中航特玻材料有限公司,是海南省和中航工业国防新材料重点企业,也是我国资本市场新材料板块引人瞩目的企业。位于海南省老城经济开发区,在海南文昌拥有两座世界顶级品质砂矿。企业引进欧美国多项高端浮法玻璃生产制造专有技术,拥有世界最先进CVD在线镀膜生产技术和装备。公司建有4条600吨级的浮法玻璃生产线,采用全氧燃烧生产工艺并配有余热发电,生产的汽车玻璃原片、超薄电子玻璃原片、超白浮法玻璃、超白航空材料、高速列车玻璃,以及在线低辐射系列节能玻璃等,是我国高端玻璃制造领域的领军企业。   海南中航特玻公司2号线原是生产TCO太阳能基板玻璃。太阳能市场严重萎缩之后,企业通过技术创新,成功转型生产在线Low-E镀膜超白超厚玻璃。该产品为海南中航特玻进一步开辟国内国际市场提供了先机,也大大提高了企业的市场竞争力和经济效益。这条线完全可生产各种颜色和超白等各类在线低辐射系列3—15mm节能玻璃,也是全球第一条多品种高端节能玻璃制造生产线。目前,产品已通过国家玻璃质量监督检验中心的检验合格,性能指标完全满足国家标准《镀膜玻璃第二部分 低辐射镀膜玻璃》(GB18915.2-2002)的各项技术要求。这一优秀成果对于我国第二代浮法玻璃的研发创新,实现玻璃行业转型升级,发展资源节约型、环境友好型和优质高效型玻璃产业,使我国从玻璃大国向玻璃强国迈进,都有着十分重要的战略发展意义。
  • 行业应用 | 射频导纳物位技术如何监控火电厂原煤仓料位?
    火力发电占中国超过70%的发电量,全国遍布了成千上百座火电厂,火力发电厂的安全运营对于电力生产商至关重要。在火电厂中,AMETEK DREXELBROOK的物位产品在静电除尘器、输煤程控、气力输送领域以及汽轮机油箱液位监控、润滑油含水测量等领域有非常成熟的应用方案。在输煤程控领域,AMETEK DREXELBROOK的射频导纳物位开关(杆式或平板式)安装在原煤仓上进行低位、高位和高高位料位报警,DR6400/6500系列26/80GHZ雷达料位计安装在罐顶对煤位进行连续监控。下面图片均为AMETEK DREXELBROOK物位产品在现场安装使用的工况照:图1上图1位在原煤仓上的低位报警开关,该工况选用的射频导纳平板开关,开关的安装形式巧妙避免了落煤对传感器的损害,完美的实现了低位报警功能。图2上图2为原煤仓连续煤位测量,采用AMETEK DREXELBROOK DR6500系列80Ghz高频雷达,精确的为客户计算煤位,和开关一起,双重保证原煤仓安全运作。以上用实际应用图片体现了AMETEK DREXELBROOK产品在电厂多个场合的应用,除以上图片所显示实际应用案例之外,还有其他诸多场合,总体火力电厂应用总结如下:AMETEK DREXELBROOK射频导纳产品在国内的火电厂应用非常多,目前开关的使用量累计超过20000台,见证了中国火电厂的发展历程,也维护了火电厂的安全运行。
  • 半导体情报,科学家首次开发射频毫米波段的高性能忆阻器!
    【科学背景】记忆电阻器(memristor)是一种能够在电气应力作用下实现两个或多个非易失性电阻状态的设备,近年来被提出用于解决射频开关的挑战。这种效应最早在1960年代的硒铋合金中被报道,随后在包括金属氧化物和二维层状材料在内的许多其他材料中得到观察。通过改变材料的原子或电子结构,memristor能够实现不同的电阻状态,如高电阻态(HRS)和低电阻态(LRS)。尽管最初主要用于存储应用,memristor目前被提议用于数据加密、能效数据计算(如实现向量矩阵乘法引擎和人工神经网络的电子神经元)、以及射频数据传输开关等领域。针对射频应用,memristor的主要优势在于其非易失性,无需额外能量来维持其导电状态,与传统的p-i-n二极管开关相比,后者需要大量直流电流来维持其状态。最新的memristor技术基于相变材料,如GeTe或GeSbTe,通过控制加热器来实现晶态和非晶态之间的转变,从而切换设备的HRS和LRS。这些设备在50 GHz的频率下已有工业展示,并且在学术演示中能够达到高达109个循环的耐久性,但其集成到大型电路中需要精细的热设计,并可能引入不需要的寄生电容。针对RF mmWave应用的多层hBN memristor的开发,沙特阿卜杜拉国王科技大学Mario Lanza教授团队通过使用不同的电极材料展示了多个设备的射频性能和一致性行为。通过一种增强导电性的方法,作者成功地实现了RLRS低于10 Ω(最低可达4.5 Ω),并展示了2,000个循环的耐久性。作者的设备在高达260 GHz的频率下表现出低于2 dB的损耗和超过30 dB的隔离度,从等效电路模型中提取的截止频率为7 THz。此外,作者还报告了在120 GHz时串-并联配置中超过35 dB的隔离度的射频mmWave开关电路。【科学亮点】(1)首次开发了适用于射频毫米波(mmWave)应用的多层氮化硼(hBN)记忆电阻器。这些电阻器展示了在高达260 GHz频率下的射频性能,并通过不同电极材料验证了其稳定的行为。(2)通过采用一种新型的导电性增强方法,成功实现了低于10 Ω的低阻态电阻(RLRS),最低可达4.5 Ω。这种方法使得设备能够经受2,000个循环的使用测试,表现出良好的耐久性。(3)射频性能方面,这些设备展示了在频率高达260 GHz时低于2 dB的插入损耗和超过30 dB的隔离度。通过等效电路模型分析,提取的截止频率高达7 THz,显示出在超高频领域的潜力。(4)作者还报道了在120 GHz时串-并联配置中超过35 dB的隔离度的射频mmWave开关电路,突显了这些记忆电阻器在复杂电路中的实际应用潜力。【科学图文】图1: Au-hBN-Au器件的物理和直流特性。图2:通过脉冲写入-验证协议增强射频RF应用的低阻态low-resistance state,LRS性能。图3:Au–多层hBN–Au开关的毫米波性能。【科学结论】本文开发了多层氮化硼记忆电阻器作为射频毫米波应用中的关键组件。传统射频开关技术在高频率(如120 GHz)下存在插入损耗和隔离度方面的限制,而本研究通过精确控制低阻态电阻,利用脉冲偏置协议实现了9.3 ± 3.7 Ω的优异性能。这种方法不仅提高了射频开关的操作频率,还显著降低了信号传输过程中的能量损失。此外,作者展示了在21个设备中一致的双极性切换特性,证明了多层氮化硼在记忆电阻器中的可靠性和稳定性。这些成果不仅推动了射频毫米波技术的前沿,还为未来高速数据传输、增强现实和物联网等应用领域提供了新的解决方案。通过这些研究,作者不仅拓展了记忆电阻器在射频领域的应用潜力,还为探索更高频率、更低能耗的射频开关提供了有力支持。原文详情:Pazos, S., Shen, Y., Zhang, H. et al. Memristive circuits based on multilayer hexagonal boron nitride for millimetre-wave radiofrequency applications. Nat Electron (2024). https://doi.org/10.1038/s41928-024-01192-2
  • 半导体情报,科学家利用自旋整流器实现低功率射频能量的高效收集与应用!
    【科学背景】随着无线传感器网络在健康监测、环境监测和物联网(IoT)等应用中的重要性日益增加,如何有效供电成为一个关键问题。当前,许多传感器需要在难以接触的地方进行安装,例如用于空气质量、温度和湿度监测的传感器,这些传感器的电力需求通常无法依赖传统电池供给。因此,开发一种能够从环境中收集能量并转化为电力的技术成为了一个重要研究方向。在众多能源收集技术中,射频(RF)能量收集因其全天候可用、易于获取且可以与小型无线传感器网络集成的优点而备受关注。射频能量收集的关键挑战之一是如何在低功率条件下提高能量转换效率。尽管已有技术如肖特基二极管和隧道二极管在较高功率条件下表现出较高的效率,但在环境射频功率低于 -20 dBm 的情况下,这些技术的效率大幅降低,无法满足实际应用需求。此外,传统射频整流器面临热力学极限和高频寄生阻抗等问题,这些因素严重制约了其在低功率环境下的性能。为此,新加坡国立大学Hyunsoo Yang等科学家们致力于改进自旋整流器的性能。例如,作者的研究团队开发了一种新型的自旋整流器 rectenna,其在 -62 dBm 的射频功率下具有约 10,000 mV mW&minus 1 的高灵敏度,能够在弱且嘈杂的环境中有效收集射频能量。此外,作者还开发了一种基于片上共面波导的自旋整流器阵列,该阵列展示了约 34,500 mV mW&minus 1 的零偏灵敏度和 7.81% 的高效率。作者的研究解决了传统自旋整流器在低功率环境下效率低的问题,通过利用电压控制的磁各向异性(VCMA)驱动的自参量效应,显著提高了灵敏度和检测带宽。这一进展使得作者的自旋整流器可以在 -27 dBm 的低射频功率下为传感器提供无线供电,展现出良好的应用前景。【科学亮点】1. 实验首次展示了高灵敏度自旋整流器(SR)rectenna的应用:本文首次报道了一种具有高灵敏度的 SR rectenna,能够在 -62 dBm 的低射频功率下进行能量收集,达到约 10,000 mV mW&minus 1 的灵敏度。这种 SR rectenna 能够在弱且嘈杂的环境中有效捕获射频能量。2. 通过优化器件特性提升灵敏度:研究中指出,单个 SR 的灵敏度与其内在特性密切相关,包括垂直各向异性、器件几何形状和来自极化层的偶极场。这些因素共同定义了纳米磁体的能量景观,并促使低输入功率下的大角度磁化进动。此外,SR 的灵敏度还与磁隧道结(MTJ)的动态响应相关,尤其是零场隧道磁阻(TMR)和电压控制的磁各向异性(VCMA)系数对增强零偏置整流电压的作用。3. SR 阵列的自参量效应提升了性能:实验还显示了 SR 阵列在没有外部天线或匹配设置的情况下,通过 VCMA 驱动的自参量效应,增强了灵敏度和检测带宽。该 SR 阵列基础的能量收集模块(EHM)能够在 -27 dBm 的低射频功率下为商业传感器供电,展示了其在实际应用中的有效性和高效性。【科学图文】图1:利用自旋整流器Spin rectifiers,SRs的射频Radiofrequency,RF能量收集。图2: 自旋整流器SR整流天线的性能。图3: 宽带和谐振整流的调谐。图4:基于宽带低功率自旋整流器SR的能量收集器energy harvesting module,EHM。图5: 肖特基二极管、自旋整流器SR阵列和SR整流天线之间的整流性能比较。【科学启迪】本文的研究通过优化自旋整流器的设计,包括垂直各向异性和设备几何形状,研究成功实现了在极低射频功率下的高灵敏度检测。这表明,通过精细调控材料和结构特性,可以显著提高纳米尺度整流器的能量转换效率,从而扩展其在低功率环境下的应用范围。其次,本文引入了基于电压控制的磁各向异性(VCMA)的自参量效应,展示了在没有外部天线或匹配设置的情况下,如何通过自参量激发实现更高的灵敏度和更宽的检测带宽。这一发现不仅突破了传统射频整流器在低功率和复杂环境下的性能瓶颈,还为未来开发更高效的射频能量收集模块提供了新的思路。最后,本研究表明,基于自旋整流器的射频能量收集模块在实际应用中具有良好的性能,如在 -27 dBm 的低射频功率下为商业传感器供电。这表明这些整流器不仅具备高灵敏度和高效率,还具备良好的实际应用潜力,适合于未来无线传感器网络和物联网设备的集成与应用。原文详情:Sharma, R., Ngo, T., Raimondo, E. et al. Nanoscale spin rectifiers for harvesting ambient radiofrequency energy. Nat Electron (2024). https://doi.org/10.1038/s41928-024-01212-1
  • 南开大学600.00万元采购镀膜机
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态:公告 更新时间: 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息: 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00(北京时间,法定节假日除外) 招标文件售价 ¥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ¥600.000000万元(人民币) 联系人及联系方式: 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件,并于2022年12月26日 10点00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:NK2022S024WD(1700-2243JJBH1249) 项目名称:南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额:600.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):600.0000000 万元(人民币) 采购需求: 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统(1套)的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限:收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细:投标人为小型或微型企业的,且所投产品的制造厂家为小、微企业的,投标总价给予10%的扣除,用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细:投标人为监狱企业的,投标总价给予10%的扣除,用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细:供应商须书面承诺:在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品,并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围,则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细:供应商须书面承诺:在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品,并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细:根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定,本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注:小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准,残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准,监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局(含新疆生产建设兵团)出具的属于监狱企业的证明文件,否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求:1)须为在中华人民共和国境内注册,具备独立法人资格的企业,且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定,并提供其有效的“企业法人营业执照(副本)”复印件加盖公章,及满足资格要求的证明文件;2)供应商若为法人投标,须提供法定代表人身份证明书(需由法定代表人签字或盖章)和法定代表人身份证原件;供应商若为被授权人投标,须提供法人代表授权书(需由法定代表人签字或盖章)和被授权人身份证原件。3)供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力,若为进口产品代理商参与本次投标,还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4)开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人,拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间:2022年12月06日 至 2022年12月12日,每天上午9:00至11:30,下午13:30至16:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:天津市河北区狮子林大街200号6层 方式:鉴于目前疫情防控形势,为了有效减少人员聚集和交叉感染,保证报名工作的顺利进行,提供以下两种方式: 1、现场领取:营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章,以现金形式支付(选择采取此种方式,建议提前联系项目负责人); 2、网上领取(建议采用此种方式),具体要求如下:(1)请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com,邮件主题为:1700-2243JJBH1249报名信息,并电话联系项目负责人确认。(2)标书款以电汇或银行转账方式(为方便后期开具发票建议使用对公账户),汇至我公司的银行账号,并请在汇款备注中标明:“1700-2243JJBH1249标书款”(电汇信息及相关表格会以邮件方式发送)(3)标书款汇款后,请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 (4)采用网上领取方式进行报名的,报名日期以标书款到账日期为准。注:已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商,按以上要求报名。尚未登记注册的,须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册,通过审核后方可购买招标文件,注册网址:http://zbb.nankai.edu.cn,注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年12月26日 10点00分(北京时间) 开标时间:2022年12月26日 10点00分(北京时间) 地点:天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:南开大学 地址:天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式:于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称:天津津建工程造价咨询有限公司地 址:天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式:王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人:王先生 电 话: 022-59009035 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () { $('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:镀膜机 开标时间:2022-12-26 10:00 预算金额:600.00万元 采购单位:南开大学 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:天津津建工程造价咨询有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态:公告 更新时间: 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息: 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00(北京时间,法定节假日除外) 招标文件售价 ¥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ¥600.000000万元(人民币) 联系人及联系方式: 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件,并于2022年12月26日 10点00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:NK2022S024WD(1700-2243JJBH1249) 项目名称:南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额:600.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):600.0000000 万元(人民币) 采购需求: 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统(1套)的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限:收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细:投标人为小型或微型企业的,且所投产品的制造厂家为小、微企业的,投标总价给予10%的扣除,用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细:投标人为监狱企业的,投标总价给予10%的扣除,用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细:供应商须书面承诺:在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品,并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围,则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细:供应商须书面承诺:在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品,并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细:根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定,本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注:小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准,残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准,监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局(含新疆生产建设兵团)出具的属于监狱企业的证明文件,否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求:1)须为在中华人民共和国境内注册,具备独立法人资格的企业,且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定,并提供其有效的“企业法人营业执照(副本)”复印件加盖公章,及满足资格要求的证明文件;2)供应商若为法人投标,须提供法定代表人身份证明书(需由法定代表人签字或盖章)和法定代表人身份证原件;供应商若为被授权人投标,须提供法人代表授权书(需由法定代表人签字或盖章)和被授权人身份证原件。3)供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力,若为进口产品代理商参与本次投标,还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4)开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人,拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间:2022年12月06日 至 2022年12月12日,每天上午9:00至11:30,下午13:30至16:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:天津市河北区狮子林大街200号6层 方式:鉴于目前疫情防控形势,为了有效减少人员聚集和交叉感染,保证报名工作的顺利进行,提供以下两种方式: 1、现场领取:营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章,以现金形式支付(选择采取此种方式,建议提前联系项目负责人); 2、网上领取(建议采用此种方式),具体要求如下:(1)请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com,邮件主题为:1700-2243JJBH1249报名信息,并电话联系项目负责人确认。(2)标书款以电汇或银行转账方式(为方便后期开具发票建议使用对公账户),汇至我公司的银行账号,并请在汇款备注中标明:“1700-2243JJBH1249标书款”(电汇信息及相关表格会以邮件方式发送)(3)标书款汇款后,请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 (4)采用网上领取方式进行报名的,报名日期以标书款到账日期为准。注:已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商,按以上要求报名。尚未登记注册的,须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册,通过审核后方可购买招标文件,注册网址:http://zbb.nankai.edu.cn,注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年12月26日 10点00分(北京时间) 开标时间:2022年12月26日 10点00分(北京时间) 地点:天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:南开大学 地址:天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式:于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称:天津津建工程造价咨询有限公司 地 址:天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式:王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人:王先生 电 话: 022-59009035
  • 超亿采购中磁控溅射占主流——半导体仪器设备中标市场盘点系列之PVD篇
    p style=" text-align: justify text-indent: 2em " span style=" text-indent: 28px " 薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节,传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积( /span span style=" text-indent: 28px " PVD /span span style=" text-indent: 28px " )、化学气相沉积( /span span style=" text-indent: 28px " CVD /span span style=" text-indent: 28px " )等气相沉积工艺。物理气相沉积 /span span style=" text-indent: 28px " (Physical Vapour Deposition /span span style=" text-indent: 28px " , /span span style=" text-indent: 28px " PVD) /span span style=" text-indent: 28px " 技术是在真空条件下,采用物理方法,将材料源 /span span style=" text-indent: 28px " —— /span span style=" text-indent: 28px " 固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 /span /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。 /p p style=" text-align: justify text-indent: 2em " 仪器信息网近期特对一年内的 span PVD /span 设备的中标讯息整理分析,供广大仪器用户参考。 span style=" color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px " (注:本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台,不完全统计分析仅供读者参考。) /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " span style=" text-align: center " img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title=" 1.png" alt=" 1.png" width=" 400" height=" 240" border=" 0" vspace=" 0" / & nbsp & nbsp /span /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 各月中标量占比 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " span 2019 /span 年 span 10 /span 月至 span 2020 /span 年 span 9 /span 月,根据统计数据, span PVD /span 设备的总中标为 span 218 /span 台,涉及金额上亿元。 span 2019 /span 年 span 10 /span 月至 span 12 /span 月,平均中标量约 span 25 /span 台每月。 span 2020 /span 上半年,由于疫情影响, span 1 /span 月至 span 4 /span 月中标市场持续低迷,平均中标量约 span 5 /span 台每月,其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进, span PVD /span 设备中标市场活力回升,从二月份到七月份中标量不断增长,其中 span 7 /span 月 span PVD /span 中标量达 span 27 /span 台。第三季度的 span PVD /span 设备采购基本恢复正常,平均中标量约 span 24 /span 台每月。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title=" 2.png" alt=" 2.png" width=" 400" height=" 252" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 采购单位性质分布 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 从 span PVD /span 设备的招标采购单位来看,高校是采购的主力军,采购量占比高达 span 68% /span ,而企业和科研院所的采购量分别占比 span 12% /span 和 span 19% /span 。值得注意的是,企业和科研院所采购设备的单价较高,集中于高端设备,高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业,高校方面的采购单位以大学为主。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title=" 3.png" alt=" 3.png" width=" 400" height=" 265" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 招标单位地区分布 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 本次盘点,招标单位地区分布共涉及 span 25 /span 个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为 span PVD /span 设备采购排名前 span 5 /span 的地区,其中广东的采购量最大,达 span 32 /span 台。在这些地区中,上海、浙江和江苏的 span PVD /span 设备采购以高校为主力,北京以科研院所和高校采购为主力,只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业,如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司,致力于打造“中国光谷”。 /p p style=" text-align:center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title=" 4.png" alt=" 4.png" width=" 400" height=" 233" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong span style=" font-family:& #39 微软雅黑& #39 ,sans-serif color:#444444" 不同类型 span PVD /span 设备占比 /span /strong /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " span PVD /span 设备种类繁多,包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知,磁控溅射占据了中标 span PVD /span 设备的主流、高达 span 72% /span 的 span PVD /span 设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪 span 70 /span 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 /p p style=" text-indent: 28px text-align: justify " 本次 span PVD /span 设备中标盘点,涉及品牌有泰科诺、 span Kurt J. Lesker /span 、创世威纳、 span Moorfield /span 、 span Leica /span 、合肥科晶、 span VEECO Instruments Inc. /span 、 span Teer Coatings Ltd. /span 、 span QUORUM /span 、 span style=" font-size:15px" Syskey /span span style=" font-size:15px" 、 span Applied Materials ,lnc. /span 、 span ULVACInc /span 、株式会社昭和真空 /span 等。 /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 其中,各品牌比较受欢迎的产品型号有: /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title=" 5.jpg" alt=" 5.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm" span style=" font-size:15px" span 三靶射频磁控溅射镀膜仪 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 这是一款小型台式 span 3 /span 靶等离子溅射仪 span ( /span 射频磁控型 span ) /span ,配有三个 span 1 /span 英寸的磁控等离子溅射头和射频( span RF /span )等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款 span 1 /span 英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度。 /span /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title=" 6.jpg" alt=" 6.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm" span style=" font-size:15px" span 双靶磁控溅射仪 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" & nbsp /span span style=" font-size: 15px " 双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。 /span span style=" font-size: 15px " VTC-600-2HD /span span style=" font-size: 15px " 双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。 /span /p p style=" text-indent: 0em text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title=" 7.jpg" alt=" 7.jpg" / /p p style=" text-align: center text-indent: 0em " strong span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm" span style=" font-size:15px" span 科特莱思科热阻蒸发镀膜系统 /span /span /a /span /strong /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 这款仪器由预真空进样室(可选)前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或 span OLED /span 低温蒸发源、 span 6” /span 基片、基片旋转、基片偏压(可选)、离子源清洗基片(可选)、基片加热 span 1000 /span 度 span ( /span 可选 span ) /span 等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式,能够沉积金属、半导体和绝缘材料,还可沉积多层膜及合金薄膜。 /span span style=" font-size: 15px " & nbsp /span /p p style=" text-indent: 29px text-align: justify " span style=" font-size:15px" 点击此处进入 /span span a href=" https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml" span style=" font-size:15px" span 【 span 半导体行业专用仪器 span 】 /span /span /span /span /a /span span style=" font-size:15px" 专场,获取更多产品信息。 /span /p p style=" text-indent: 29px text-align: center " span style=" font-size:15px" 更多资讯请扫描下方二维码,关注【材料说】 /span /p p style=" text-indent: 28px text-align: center " img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title=" 材料说.jpg" alt=" 材料说.jpg" / /p
  • 将实验设备制成便携工具 杭电学生自研射频微波网络测量仪
    第八届浙江省国际“互联网+”大学生创新创业大赛决赛中获得“金钥匙奖”颁奖。 将一台手掌大小的长方形仪表盒子线头接上一段射频电路,仪表显示屏上随即出现电波图形… … 8月上旬,在杭州电子科技大学通信工程学院科协创新实验室内,一款由该院学生团队联合研发的便携式矢量网络分析仪进行应用演示。 “如果电波图形和被测试电路板上已绘制好的电波图形吻合,说明该射频电路发射性能优良,反之则说明该电路传输信号有问题。”该设备核心研发人员、杭电通信学院大三学生江逸宁介绍说,团队凭此在7月底落幕的第八届浙江省国际“互联网+”大学生创新创业大赛决赛中获得“金钥匙奖”,从而拿到这一赛事全国总决赛的入场券。 记者了解到,这一分析仪可用于检查信号发射状况,分析出基站天线、电缆接触状况等影响网络的变量,并进行修复,从而恢复基站正常功能。 射频电路的网络测试,具有广泛应用场景。比如当前在高校开展广泛的电子信息类学科竞赛,普遍要用到无线信号传递。通常智能车的通信模块、航模比赛的遥控装置等就要用到射频电路发射信号。 “在电子竞赛中深感现有市场上网络测试仪器使用起来不便或太贵,所以我们想自己研发性价比高、使用方便的网络测试仪,目标是使其成为射频微波领域的‘万用表’。”该项目主要负责人、杭电通信学院大三学生王来龙说。 “实验室用到的电子网络测试仪、基站维护领域的驻波仪等设备,通常价格不菲以及被国外垄断。”该团队指导老师、杭电通信学院教授张福洪说,他们鼓励学生研发推出具备类似功能甚至可实现部分替代的仪器。 据介绍,这一分析仪由学生团队通过自主设计核心电路优化仪器电路结构、使用国产全自主芯片以及提升机器学习方法研制而成,基于团队成员的快速锁相环、数模转换器等专利,使频率测量的效率大为提高,同时降低了生产成本。 “同学们从实践出发,学以致用,促进电子测试仪器的国有化,推动测量仪器进一步发展,是一次大胆而创新的尝试。”中国电子学会嵌入式系统专家委员会委员严义教授对此表示。
  • 中科院最新推出RFG系列高端2000W射频电源(3U风冷系列)
    为满足半导体设备客户的需求,中科院射频电源组(www.rf-power.net)经过2个月的设计研发,于2013年3月正式推出固态RFG-2000高端型射频电源(3U风冷系列),此型号适用于大腔室刻蚀等半导体设备。此型号带有RS232/RS485/USB通讯协议,模拟口通讯,脉冲调制,相位同步与移相等功能。 固态RFG-2000高端型射频电源(3U风冷系列)   中国科学院微电子所射频电源(RF Generator)课题组从1984年开始研发电子管射频电源(13.56MHz),1985年研制成功500W-10KW电子管射频电源,获得“ 六五”攻关荣誉证书以及“FD-2反应离子刻蚀机与超精细刻蚀研究”项目二等奖。   从2010年开始在极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项(国家02重大专项)项目资金支持下,研发晶体管射频电源(13.56MHz),2011年研发成功300W-3000W晶体管射频电源,获得第七届国际发明展览会银奖。   经过二十多年的发展完善,产品的性能不断提高,规格齐全, 目前开发成熟的电子管与晶体管射频电源产品有:300W、500W、1KW、1250W、1.5KW、2KW、3KW、5KW、6KW、8KW、10KW等多种规格以及不同功率的400KHz高频电源及不同功率的稳流源与自动匹配器。   年销售电子管与晶体管射频源占国内市场份额的70%以上。   目前射频电源组,实行组长负责制,下设三个部门:产品研发部,产品生产部,产品推广与售后服务部。   产品研发部:实行部长负责制,有专业研发人员7人,其中硕士及以上比例100%,具有教授级职称2人,具有博士学历3人,从清华大学,中科院电工所,中国科学技术大学引进资深射频技术与自动控制专家3人,目前已建立起一支由高级研发顾问领导的国际化研发人才团队。   产品生产部:实行部长负责制,有专业技术工程师17人,具有500平方专业射频电源生产与测试车间(可以进行ESD,EMC等测试),年生产能力达3000台套,库房常年备有库存,可保证给客户随时发货。   产品推广与售后服务部:实行部长负责制,有专业推广销售人员4人,专业售后服务人员2人,其中硕士及以上比例100%。   射频电源广泛应用于等离子体研究,集成电路工艺设备,太阳能光伏工业,LED制程,薄膜生长,射频感应加热,医疗领域的消毒与理疗美容,常压等离子体消毒清洗等领域。   中国科学院微电子研究所射频电源组网址:www.rf-power.net
  • 中科院推出RFG系列射频电源与自动匹配器
    中国科学院微电子所射频电源(RFGenerator)课题组(www.rf-power.net)从1984年开始研发电子管射频电源(13.56MHz),1985年研制成功500W-10KW电子管射频电源,获得“六五”攻关荣誉证书以及“FD-2反应离子刻蚀机与超精细刻蚀研究”项目二等奖。   从2010年开始在极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项(国家02重大专项)项目资金支持下,研发晶体管射频电源(13.56MHz),2011年研发成功300W-3000W晶体管射频电源,获得第七届国际发明展览会银奖。   经过二十多年的发展完善,产品的性能不断提高,规格齐全,目前开发成熟的电子管与晶体管射频电源产品有:300W、500W、1KW、1250W、1.5KW、2KW、3KW、5KW、6KW、8KW、10KW等多种规格以及不同功率的400KHz高频电源及不同功率的稳流源与自动匹配器。年销售电子管与晶体管射频源占国内市场份额的70%以上。   目前射频电源组分为三个部门:产品研发部,产品生产部,产品推广与售后服务部。   产品研发部:有专业研发人员7人,其中硕士及以上比例100%,具有教授级职称2人,具有博士学历3人,从清华大学,中科院电工所,中国科学技术大学引进资深射频技术与自动控制专家3人,目前已建立起一支由高级研发顾问领导的国际化研发人才团队。   产品生产部:有专业技术工程师17人,具有500平方专业射频电源生产与测试车间(可以进行ESD,EMC等测试),年生产能力达3000台套,库房常年备有库存,可保证给客户随时发货。   产品推广与售后服务部:有专业推广销售人员4人,专业售后服务人员2人,其中硕士及以上比例100%。   射频电源广泛应用于等离子体研究,集成电路工艺设备,太阳能光伏工业,LED制程,薄膜生长,射频感应加热,医疗领域的消毒与理疗美容,常压等离子消毒清洗等领域。   中国科学院微电子研究所射频电源组网址:www.rf-power.net
  • Nature|潘建伟、白春礼团队合作,首次实现利用射频场相干合成三原子分子
    中国科学技术大学潘建伟、赵博等与中国科学院化学所白春礼小组合作,在超冷原子双原子分子混合气中首次实现三原子分子的相干合成。在该研究中,他们在钾原子和钠钾基态分子的Feshbach共振附近利用射频场将原子和双原子分子相干地合成了超冷三原子分子,向基于超冷原子分子的量子模拟和超冷量子化学的研究迈出了重要一步。2月10日,这一重要研究成果发表在国际权威学术期刊《自然》杂志上。图:从超冷原子和双原子分子混合气中利用射频场合成三原子分子的示意图量子计算和量子模拟具有强大的并行计算和模拟能力,不仅能够解决经典计算机无法处理的计算难题,还能有效揭示复杂物理系统的规律,从而为新能源开发、新材料设计等提供指导。量子计算研究的终极目标是构建通用型量子计算机,但实现这一目标需要制备大规模的量子纠缠并进行容错计算,仍然需要长期不懈的努力。当前量子计算的短期目标是发展专用型量子计算机,即专用量子模拟机,它能够在某些特定的问题上解决现有经典计算机无法解决的问题。例如,超冷原子分子量子模拟,利用高度可控的超冷量子气体来模拟复杂的难于计算的物理系统,可以对复杂系统进行精确的全方位的研究,因而在化学反应和新型材料设计中具有广泛的应用前景。超冷分子将为实现量子计算打开新的思路,并为量子模拟提供理想平台。但由于分子内部的振动转动能级非常复杂,通过直接冷却的方法来制备超冷分子非常困难。超冷原子技术的发展为制备超冷分子提供了一条新的途径。人们可以绕开直接冷却分子的困难,从超冷原子气中利用激光、电磁场等来合成分子。利用光从原子气中合成分子的研究可以追溯到上世纪八十年代。激光冷却原子技术的出现使得光合成双原子分子得以快速的发展,并在高精度光谱测量中取得了广泛的应用。在光合成双原子分子取得成功之后,人们开始思考能否利用量子调控技术从原子和双原子分子的混合气中合成三原子分子。在2006年发表的综述文章[Rev. Mod. Phys. 78,483, (2006)]中,美国国家标准局的Paul Julienne教授等人回顾了光合成双原子分子过去二十年的发展历史,并指出从原子和双原子分子的混合气中合成三原子分子是未来合成分子领域的一个重要研究方向。由于光合成的双原子分子气存在密度低、温度高等缺点,一直无法用来研究三原子分子的合成。后来随着超冷原子气中Feshbach共振技术的发展,利用磁场或射频场合成分子成为制备超冷双原子分子的主要技术手段。从超冷原子中制备的双原子分子具有相空间密度高、温度低等优点,并且可以用激光将其相干地转移到振动转动的基态。自2008年美国科学院院士Deborah Jin和叶军的联合实验小组制备了铷钾超冷基态分子以来,多种碱金属原子的双原子分子先后在其他实验室中被制备出来,并被广泛地应用于超冷化学和量子模拟的研究中。超冷基态分子的成功制备重新唤起了人们对合成三原子分子的研究兴趣。2015年,法国国家科学研究中心的Olivier Dulieu教授等在理论上分析了从原子双原子分子混合气中合成三原子分子的可行性 [Phys. Rev. Lett. 115, 073201 (2015)]。 但由于三原子分子的相互作用极其复杂,无法精确计算,因而理论上无法预测三原子分子的束缚态的能量以及散射态和束缚态的耦合强度。中国科学技术大学的研究小组在2019年首次观测到超低温下原子和双原子分子的Feshbach共振,相关成果发表于《科学》杂志 [Science 363, 261 (2019)]。在Feshbach共振附近,三原子分子束缚态的能量和散射态的能量趋于一致,同时散射态和束缚态之间的耦合被大幅度地共振增强。原子分子Feshbach共振的成功观测为合成三原子分子提供了新的机遇。但由于原子和分子的Feshbach共振非常复杂,理论上难以理解,能否和如何利用Feshbach共振来合成三原子分子依然是实验上的巨大挑战。在该项研究中,中国科学技术大学的研究小组和中科院化学所的研究小组合作,首次成功实现了利用射频场相干合成三原子分子。在实验中,他们从接近绝对零度的超冷原子混合气出发,制备了处于单一超精细态的钠钾基态分子。在钾原子和钠钾分子的Feshbach共振附近,通过射频场将原子分子的散射态和三原子分子的束缚态耦合在一起。他们成功地在钠钾分子的射频损失谱上观测到了射频合成三原子分子的信号,并测量了Feshbach共振附近三原子分子的束缚能。这一工作为量子模拟和超冷化学的研究开辟了一条新的道路。超冷三原子分子是模拟量子力学下三体问题的理想研究平台。三体问题极其复杂,即使经典的三体问题由于存在混沌效应也无法精确求解。在量子力学的约束下,三体问题变得更加难以捉摸。如何理解和描述量子力学下的三体问题一直都是少体物理中的一个重要难题。此外,超冷三原子分子可以用来实现超高精度的光谱测量,这为刻画复杂的三体相互作用势能面提供了重要的基准。由于计算势能面需要高精度地求解多电子薛定谔方程,超冷三原子分子的势能面也为量子化学中的电子结构问题提供了重要的信息。该研究工作得到了科技部、自然科学基金委、中科院、安徽省、上海市等单位的支持。论文链接: https://www.nature.com/articles/s41586-021-04297-2
  • 广电计量将举办无线射频产品SRRC、FCC、R&TTE认证等研讨会
    依据《中华人民共和国无线电管理条例》,第五章第二十七条,生产的无线电发射设备,其工作频率、频段和有关技术指标应当符合国家有关无线电管理的规定,并报国家无线电管理机构或者地方无线电管理机构备案。无线射频产品型号核准制度在中国是强制的认证制度。   频谱资源属于国家资源,因此每个国家对于无线射频产品的管理,也是强制性要求,除中国SRRC认证外,美国FCC认证,欧盟的R&TTE认证,是全球针对无线射频的主要法规要求。   如何让您的产品更顺利,更快捷的满足这些技术壁垒,迅速占有市场,特举办该研讨会,与各厂家共同发展。   【主要内容】   l 《中国无线电管理条例》法规解读以及有关新规定   l 中国无线电发射设备型号核准(SRRC)及测试规范   l 无线射频产品的美国FCC认证   l 无线射频产品的欧盟R&TTE认证   l 无线射频产品的其他地区(如巴西,日本,韩国,东南亚等地)认证要求   l 无线射频产品的模块认证   l 无线射频产品在船用产品,车用产品,飞机产品,及军品中的特殊要求   【适合对象】   电子企业技术研发人员、检测人员、质量控制人员、采购人员,相关部门领导   【举办单位】   l 广州广电计量检测股份有限公司   【演讲嘉宾/议题】   演讲题目:   无线射频产品SRRC、FCC、R&TTE认证等多国要求   演讲嘉宾:   吴煜民:GRGT电磁兼容检测中心中心总监,从事产品检测认证工作十余年,精通通信行业检测及认证,   在无线通信产品性能测试,射频测试,EMC测试,多国认证等业务领域拥有丰富经验。   【会议安排】 日期 2012年 7月26日(星期四) 时间 10:00-17:00 地点 成都市永丰路45号 长盛帝都国际酒店 3楼会议室 议程 9:30-10:00 签到 10:00-12:00 无线电管理条例以及相关新规及中国无线电发射设备型号核准认证流程及测试要求 12:00-13:30 午饭 13:30-14:30 FCC认证及R&TTE认证等多国要求 14:30-15:00 茶歇、互动交流、答疑 15:00-15:30 无线射频产品的模块认证 15:30-15:40 茶歇 15:40-16:30 无线射频产品在船用产品,车用产品,飞机产品,及军品中的特殊要求 16:30-17:00 互动交流、答疑、   【费用】 A、听课免费(不办理相关证件)        B、提供讲义教材       C、免费提供午餐   Registration form报名回执 课程名称:《无线射频产品SRRC、FCC、R&TTE认证等多国要求》 日期 2012年7月26日 公司名称: 公司地址: 联络人: 电话: 传真: E-mail: 参加人: 职位: 手机: E-mail: 参加人: 职位: 手机: E-mail: 请写下您感兴趣的问题,我们的专业讲师将在现场为您作详细解答 问题1: 问题2: 温馨提示:* 请将以上报名表于2012年7月22日前回传到我司,以便为您预留座位。 * 为方便签到,请携带您的名片入场。 * 会务组联系方式: 广州广电计量检测股份有限公司 成都分公司 地址:成都市高新西区西芯大道4号创新中心A219室 联系人: 曾永 电话:028-66259369 传真:028-66259366 手机:13882274060 电邮:zengy@grg.net.cn  * 为方便签到,请携带您的名片入场。   * 会务组联系方式:广州广电计量检测股份有限公司 成都分公司   地址:成都市高新西区西芯大道4号创新中心A219室   联系人: 曾永   电话:028-66259369 传真:028-66259366   手机:13882274060   电邮:zengy@grg.net.cn   交通指引:成都市永丰路45号 长盛帝都国际酒店 3楼会议室   交通路线: 84路 52路 92路 28路 11路 51路 408路
  • 国产突破!松山湖材料实验室成功研制先进激光镀膜设备
    超导技术被誉为21世纪最具有经济战略意义的新兴技术之一,超导体所具备的“零电阻”和“完全抗磁”这两大神奇特性,为人们带来了巨大想象空间。例如利用超导体电阻为零的特性来进行电力输送,可以大大减少线路损耗,实现超远距离的大容量电力输送;利用它完全的磁抗性可以制造磁悬浮列车、电磁弹射装置等。“超导最近在媒体出现的频率比较高。比如时下热门的量子计算,涉及到超导量子比特;被称为‘人造太阳’的全超导托卡马克核聚变实验装置,也应用了超导磁体。”中国高温超导研究奠基人之一、国家最高科学技术奖得主赵忠贤院士介绍道,超导距离实际生活最近的应用,则是医院常见的核磁共振成像中的超导磁体。超导薄膜技术是超导技术发展的重要方向之一。日前,由赵忠贤院士倡导建立并担任顾问的研究团队,面对国外禁运,通过技术集成创新,成功研制出基于国产部件的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”,并制备出大尺寸双面钇钡铜氧(YBCO)超导单晶薄膜,为我国制备高品质、应用型超导薄膜产品技术带来新突破。关键设备买不来,怎么办?在东莞松山湖科学城松山湖材料实验室“实用超导薄膜研究团队”的一间实验室内,一组银白色装置占据了房间一角,三台激光器宛如手术台上的三支机械臂,将一个带有观测窗的球形操作台围在中间,绿色和紫色的光束不时闪烁。这个装置就是该团队近期研发成功的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”。该设备基于国产部件实现技术集成创新,包括采用国产小型固态脉冲激光器实现多光束共沉积、激光器与光路系统模块化整体位移、自主研发控制软件实现操作智能化等。利用这台设备,该团队还成功制备出2英寸双面YBCO超导单晶薄膜,将脉冲激光沉积技术制备高品质应用型薄膜产品,推向了一个新的高度。该团队负责人金魁研究员表示,大尺寸双面钇钡铜氧(YBCO)单晶薄膜,是设计高温超导薄膜器件的良好载体,而高温超导薄膜器件则是开发未来通信技术和超高性能雷达探测器的重要部件,具有十分重要的应用前景。然而,能够制备该类薄膜的先进设备,此前被德日美等少数国家掌握,一直以来对我国封锁核心技术,并且大尺寸薄膜制备设备近期也已对我国禁运,导致我国高品质应用型“薄膜”和“镀膜设备”核心技术受制于人。金魁坦言,按照最初构想,是希望直接从国外购买一套先进的大尺寸镀膜设备,之后按团队的需求改造,然而却未能如愿。“买小尺寸薄膜制备设备回来,做出的样品主要是用于基础研究,找规律、写论文,国外公司同意卖给我们;但要买能投入实用的大尺寸薄膜制备设备,他们就拒绝了。”金魁表示,另一方面,国外的设备只能实现单面薄膜的制备,无法满足团队需求。关键设备买不来,怎么办?在赵忠贤院士的鼓励和指导下,团队最终下定决心走上了自研之路。令他们感到高兴的是,团队产出成果的进度超过了预期。在国外禁运的情况下,团队仅用一年多时间就取得了成功。“积小胜为大胜”“我们用激光去打真空腔里面的靶材,由于瞬时高温,靶材表面的成分会变成等离子体向外喷射,之后接触高温衬底,外延沉积完成镀膜,过程就像是烙饼一样。”该设备主要的设计和搭建者冯中沛博士是团队里的一名年轻人,设备成功运转,让他格外兴奋。过去一年多,冯中沛和同事们几乎每天都围着这台设备转。在工作室紧邻该装置的墙边有一面白板,上面写满了与装置搭建相关的事项。一年时间里,大到整个装置的设计装配,小到一根螺丝钉的定制,整个团队“挂图作战”,环环推进,最终才获得了成功。“这台设备的功能可以扩展,也可以为超导以外的材料进行镀膜。就像买了一口锅,一开始只用来炒菜,后面还可以用来蒸煮。”冯中沛介绍道。令整个团队感慨的是,直到他们研制出成本更低、性能更优的设备时,从日本采购的小尺寸镀膜设备甚至因为疫情,还没有厂家工程师前来拆箱。“这件事虽然谈不上伟大,但是它给了我们很大信心。遇到‘卡脖子’难题,逼着自己进行自主研制和创新,最终把一条新的技术路线走通了。”赵忠贤表示,假如全国几十万、上百万的科研团队,能有十分之一像这样专注去做一件事,我们跟国外的科技竞争就能握有更大的主动权。“积小胜为大胜,变成大胜就有了长板,有了竞争优势,国外还怎么卡我们脖子?”他说道。除了团队自身的努力和经验积累,赵忠贤还特别提到,松山湖科学城给予的宽松科研环境与合理的评价体系,为这一成果取得提供了重要土壤。在他看来,松山湖材料实验室一方面注重研究实效,不以论文论英雄,让科研人员集中精力搞攻关;另一方面,充分信任科学家,原本购置设备的钱可以灵活用于自主研发,“允许用打酱油的钱去买醋”,赋予科学家自主权。推动超导技术成果转化能否制备出大尺寸、高质量的超导薄膜,关系诸多关键产业的发展前景。以超导薄膜为基础的数字电路,相比半导体材料做的数字电路速度更快、损耗更小、容量更大;用超导薄膜制成的超导量子干涉器,可以探测比人脑磁场弱几千倍的磁场,用收集来的磁信号进行分析,能够确定矿源、预报地震等。而超导薄膜制成的天线、谐振器、滤波器等微波通讯器件,具有常规材料(如金、银等)无法比拟的高灵敏度。此外超导薄膜在大型粒子加速器中也有着广泛的应用。粗略估计,国内外计划建设的各类加速器项目,对超导薄膜谐振腔的需求量将超过10000个。面对这一趋势,与超导基础研究打了大半辈子交道的学界泰斗,开始将工作重心放在推动超导技术成果转化与实际应用上来。2017年底,广东启动首批四家省实验室建设,赵忠贤接受邀请,出任松山湖材料实验室学术委员会主任一职,从北京来到了东莞松山湖。在他倡议和亲自指导推动下,“实用超导薄膜研究团队”在松山湖材料实验室迅速建立起来。除赵忠贤院士作为团队顾问之外,担任团队负责人的金魁研究员,也是一位高水平超导研究专家,他在高温超导体机理研究、超导薄膜制备、新超导体探索等方面都有诸多重要成果,先后在《自然》杂志等主流刊物发表重要论文80余篇。此外,多位具备国家重点实验室工作背景的超导薄膜和低温技术专家也先后加入,组成了国内一流的班底阵容。“我们选定的题目是‘实用超导薄膜及相关技术研究’,这个不像‘量子’或者‘智能’之类的名字时髦,但并不意味着研究的内容不重要。”赵忠贤说,希望以应用为目标来做一个中长期项目,解决超导应用过程中一系列关键核心技术难题,推动实现跨越性的进步,带来应用上的质变。谈及今后的打算,年届八旬的赵忠贤心心念念的,仍然是超导。“一是找到超导应用存在的短板,想办法推动一些项目、组织一批队伍来把超导领域的这些问题全部扫光;二是在超导应用的某些方面,希望看到我们比别人强,有自己的‘绝活’。”
  • 华兴源创5G射频测试系统获得韦尔半导体批量订单
    2021年8月30日,在嘉盛半导体(苏州)有限公司举行了华兴源创5G射频测试系统交付仪式以及上海韦尔半导体股份有限公司、嘉盛半导体(苏州)有限公司、苏州华兴源创科技股份有限公司三方战略合作签约仪式。经过长达3年的潜心研究,由华兴源创自主研发的4台射频测试系统TS-1800,在韦尔半导体和嘉盛半导体大力支持下,顺利进入嘉盛半导体(苏州)有限公司的量产线用于韦尔半导体射频开关的测试。在中国大陆射频芯片封测产业,不得不提到嘉盛半导体苏州公司,全球超过一半的射频开关产品从这里完成封测。本次华兴源创交付的TS-1800射频测试系统,最核心的射频信号矢量信号收发仪板卡(VST)及射频矢量信号网络分析仪板卡(VNA)均为从底层架构完全自主研发,因此可以说是国内首台完全自主创新的5G射频测试系统。TS-1800设计的最高收发频率可达Sub6GHz,可满足所有5G射频开关(Switch)、低噪放大器(LNA)、功率放大器(PA)、滤波器(Filter)、射频调谐(Tuner)等射频前端芯片的测试,打破了国内在5G射频专用测试领域完全依赖进口设备和进口射频矢量板卡的局面。TS-1800射频测试系统的技术亮点主要有1.在硬件设计方面,TS800利用“高功率多频段复用技术”, HP Multi-band TM. 使客户在更换产品时,无需Loadboard硬件更换,只需控制切换即可实现不同的频段的高功率测试。这项技术区别于其他射频设备,实现轻松切换,进一步提高产能。2.在数据处理方面,TS1800 采用Auto-Detect 智能算法。这个强大的智能算法的成功应用,进一步提高测试精度,确保测量的稳定性和一致性。3.TS1800的优于分时系统利用双TX通道和双RX通道集成于一卡的优势实现低功率和高功率实时并行测试的技术,在测试时间上拥有竞争优势。4.高度集成的完全自主研发板卡在测试成本方面拥有天然的竞争优势。上海韦尔半导体股份有限公司董事副总经理纪刚代表公司出席了仪式。他表示韦尔半导体作为一家中国设计公司在保证芯片品质的基础上一直积极推进测试设备的国产化,目前公司的分立器件和模拟芯片的测试已经比较多的采用国产测试设备了,但其他产品的量产测试设备还是依靠海外测试供应商。2年多前豪威集团和华兴源创首先启动了合作,目前在其代工厂已采用华兴源创测试机加分选机的解决方案。经过2年多的不断改善,华兴源创的测试解决方案在效率、稳定性等多项关键指标上已经达到国际同类水平。今天交付的4台5G射频专用测试设备主要用于公司射频开关、LNA等前端芯片的测试,由于射频测试设备的技术门槛很高,截止目前我们基本上全部采用海外品牌测试机,此次首次采购数量不多,但意义重大。首先是韦尔半导体和华兴源创的战略合作又往前发展了一步,从一个品类变成了两个品类,其次今后韦尔半导体的射频前端芯片非常有机会能逐步通过采用高性价比的国产测试解决方案来提高产品竞争力。苏州华兴源创科技股份有限公司董事长陈文源出席了仪式,他表示:首先要感谢韦尔半导体和嘉盛半导体对华兴源创的信任和大力支持,因为公司作为半导体测试设备的新厂商,成败的关键因素之一就是一定要有几家下游铁杆客户不离不弃的陪跑。在韦尔半导体项目推进过程中接收端在高频5GHz范围左右扑捉小信号峰值的时候出现过数值不稳定现象,这是一个集硬件,算法,和信号完整性交织在一起的复杂问题。在韦尔半导体的信任和支持下我们工程师们历经约1个月的奋战,应用了严谨的鱼骨法问题解决方式,做了数十次DOE,终于找到原因,并用精巧的算法实现了稳定地抓取每一次数据的解决方案,这为今天的顺利交付奠定了扎实的基础。其次今天交付的设备,对于华兴源创只是万里长征开始的第一步,我们将持续投入研发,通过与海外同类畅销机型的对比以及从满足客户的各种需求出发,不断升级完善产品,希望在不久的将来,华兴源创的5G射频测试解决方案能成为国内射频芯片厂商乃至全球射频芯片厂商心目中的最佳测试解决方案。出席此次仪式的还有上海韦尔半导体股份有限公司运营总监蒋海林、生产运营高级总监褚彩萍、封装总监俞江彬、嘉盛半导体(苏州)有限公司总经理李操权、运营总监石岩、销售总监朱勤、测试总监向国平、苏州华兴源创科技股份有限公司运营中心长姚夏、董事会秘书朱辰、半导体事业部总监黄龙。华兴源创是行业领先的工业自动化测试设备与整线系统解决方案提供商,基于公司在电子、光学、声学、射频、机器视觉、机械自动化等多学科交叉融合的核心技术为客户提供从整机、系统、模块、SIP、芯片各个工艺节点的自动化测试设备。目前华兴源创产品已经服务于平板显示、半导体、可穿戴、新能源车等多个领域。
  • 莱宝镀膜机用输送泵|德国彗诺微量泵精准微量输送屏蔽油
    真空镀膜工艺,屏蔽油精准输送是关键镀膜工艺用于建筑玻璃进行隔热,镜头防止眩光或划伤,激光反射镜加强光线发射,也可用于提高工具或轴承耐磨性能。屏蔽油在金属镀膜生产过程中,保证在其基膜上蒸镀高精度铝锌层,屏蔽油因其表面张力低,真空条件下损失小,粘温性好,绝缘性好等性能特点,因此在金属镀膜工艺中,起到了聚丙烯薄膜与金属镀膜的绝缘作用,来控制金属膜的工艺规格及形状要求。在真空镀膜工艺中,往往容易出现屏蔽油过多或过少的情况,导致金属镀膜工艺出现一系列问题。因此对屏蔽油的精准输送非常关键。德国彗诺mzr-2521微量泵解决屏蔽油精准输送问题 德国彗诺mzr-2521微量齿轮泵是一款低压输送微量泵,具有高精度、低脉动和低剪切应力的特点,能够高精度进行低剂量输送,适用于低粘度液体的计量输送。优点:1.设计紧凑,直径13毫米,长度75毫米2.低剂量高速输送,最小体积0.25微升,流速高达9毫升/分钟3.高精度4.采用耐磨碳化钨或陶瓷材料,使用寿命长德国彗诺微量齿轮泵mzr-2521流程图技术参数流量:0.15-9(最小0.0015*)毫升/分钟最小排量体积:0.25微升排量体积:1.5微升粘度范围:0.3-100(最大1000*)mPas压差范围:0-1.5bar(22 psi)翁开尔是德国彗诺HNPM微量泵中国总代理,咨询了解更多关于mzr-2521微量泵产品信息和应用。
  • 中国科大实现低频射频场的高灵敏里德堡原子传感器
    中国科学技术大学郭光灿院士团队在基于里德堡原子的低频射频电场测量上取得重要进展。该团队史保森、丁冬生课题组利用非共振外差方法实现了基于里德堡原子的低频射频电场精密探测,相关成果以“Highly sensitive measurement of a MHz RF electric field with a Rydberg atom sensor”为题发表在国际应用物理期刊《Physical Review Applied》上。   里德堡原子由于其较大的电偶极矩和极化率等独特性质,在微波测量领域展现出巨大应用潜力。基于里德堡原子的量子传感器在测量精度﹑抗干扰性以及可朔源等方面有望超越传统微波接收系统,因此该研究方向受到广泛关注,例如:美国陆军研究室、桑迪亚国家实验室等开展了相关研究,并取得了重要进展[Physical Review Applied 13, 054034 (2020),Physical Review Applied 15, 014047 (2021)]。尽管里德堡原子传感器在GHz高频微波频段探测取得了重要进展,但在MHz附近的低频波段却遇到困难,测量灵敏度较低,其主要原因在于低频电场与里德堡原子之间的耦合是一种弱的非共振相互作用,受限于光谱测量分辨率,人们难以测量微弱微波电场造成的扰动,这就限制了里德堡原子微波测量向低频波段的扩展。   在本工作中,研究团队基于AC Stark效应和非共振外差技术,通过引入一个本地振荡电场来放大系统对微弱信号电场的响应,最后通过测量探测光的电磁诱导透明光谱得到信号电场的强度。研究团队实现了对30-MHz微波电场(波长近10米)的高灵敏度测量,最小电场强度为37.3µV/cm,灵敏度为−65 dBm/Hz,动态范围超过65 dB。此外,研究团队还演示了1 kHz振幅调制(AM)信号的传输和接收:通过对探测光束信号进行解调,并分别方波和正弦波调制下提取初始调制信息,保真度均达到98%。图1 (a)里德堡态激发 (b)传感器示意图图2 (a)系统灵敏度 (b)和(c)AM解调信号演示 这项工作提高了MHz电场的原子传感器灵敏度,有助于原子电场传感技术的发展。该工作对里德堡原子传感器的在其他领域的应用,如远程通信、超视距雷达和射频识别(RFID)也有参考价值。   中科院量子信息重点实验室硕士研究生刘邦为本文的第一作者,丁冬生教授、史保森教授为本文的共同通讯作者。该成果得到了科技部、基金委、中科院、安徽省重大科技专项以及中国科学技术大学的资助。
  • 虹科新品 | 全新升级更高性能可编程射频测试设备上线!——数字衰减器
    新品发布全新升级的射频测试设备你拥有了吗,在延续其小巧的身型、可编程、USB供电控制等经典特色的同时,虹科最新发布的便携式射频测试设备具有更高的带宽、更优秀的性能、更棒的测试体验,包括数字衰减器、信号发生器、射频开关、混频器、射频功率计和功率放大器等,满足您的个性化需求与不同应用场景。虹科便携式可编程数字衰减器具有高达40GHz频率范围和120dB的衰减控制范围,可直接从附带的图形用户界面(GUI)为固定衰减、扫描衰减斜率进行轻松编程,对于希望开发自己界面的用户,虹科提供LabVIEW驱动程序、Windows API DLL文件、Linux驱动程序、Python示例等,满足不同的应用需求。数字衰减器虹科HK- LDA-802-32200-8000MHz高分辨率数字衰减器,32通道,衰减范围为120dB,步长0.1dB虹科HK-LDA-802-32数字衰减器是一个机架式、32通道、高动态范围、双向、50欧姆的步进衰减器。它提供120dB的衰减控制范围,频率范围为200-8000MHz,步长为0.1dB,同时提供USB和以太网接口。特点● 可靠且可重复的固态数字衰减器● 免费的GUI、Windows Linux和MAC SDK,以及LabVIEW驱动程序● 单次或重复的可编程衰减斜率● 可通过GUI或SDK对衰减曲线进行编程● USB和以太网控制● 可设置静态IP或DHCP● 密码保护的web GUI应用● WiFi,WiFi 6E,3G,4G,5G,LTE,DVB,微波无线电衰减模拟器● 工程/生产测试● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-LDA-802-16200-8000MHz高分辨率数字衰减器,16通道,衰减范围为120dB,步长为0.1dB虹科HK-LDA-802-16数字衰减器是以机架方式进行安装,具有16通道高动态范围、双向、50Ω的步进式衰减器。它提供120dB的衰减控制范围,频率范围为200-8000MHz,步长为 0.1dB,同时提供USB和以太网接口。特点● 可靠且可重复的固态数字衰减器● 免费的GUI、Windows Linux和MAC SDK,以及LabVIEW驱动程序● 单次或重复的可编程衰减斜率● 可通过GUI或SDK对衰减曲线进行编程● USB和以太网控制● 可设置静态IP或DHCP● 密码保护的web GUI应用● WiFi,WiFi 6E,3G,4G,5G,LTE,DVB,微波无线电衰减模拟器● 工程/生产测试● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-LDA-608V-4200-8000MHz高分辨率数字衰减器,4通道,衰减范围为60 dB,步长为0.1dB虹科HK-LDA-608V-4数字衰减器是一款高精度、双向的50欧姆步进式衰减器,具有4个独立控制的衰减通道,提供200-8000MHz的校准衰减,典型精度应用● WiFi,WiFi 6E,3G,4G,5G,LTE,微波无线电衰减模拟器● 工程/生产测试● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-LDA-4030.1-40GHz高分辨率数字衰减器,单通道,衰减范围为31.5 dB,步长为0.5 dB,USB/以太网控制虹科HK-LDA-403数字衰减器是一个双向的、50欧姆的步进衰减器,提供从0.1到40GHz的衰减控制,步长为0.5dB,同时提供USB和以太网接口。通过连接衰减器的扩展总线,可以从一台PC控制多个HK-LDA-403设备。特点● 可靠且可重复的固态数字衰减器● 免费的GUI、Windows Linux和MAC SDK,以及LabVIEW驱动程序● 可编程的衰减斜率和衰减曲线● 可直接从电脑或自带电源的集线器上操作多个设备● 易于携带的USB供电设备应用● WiFi,WiFi6E,4G,5G,LTE,DVB,微波无线电衰减模拟器● 工程/生产测试● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-LDA-203B1-20GHz USB可编程数字衰减器,单通道,衰减范围为63 dB,步长为0.5dB,USB/以太网控制虹科HK-LDA-203B数字衰减器是双向、50Ω步进衰减器,在1-20 GHz频率范围内提供63 dB的衰减控制,步长为0.5 dB,提供USB和以太网接口,易于携带。特点● 可靠和可重复的固态数字衰减● 免费的GUI, Windows和Linux SDK, LabVIEW驱动程序● USB和以太网控制● 可设置静态IP或DHCP● 密码保护的web GUI应用● WiFi,WiFi 6E,3G,4G,5G,LTE,DVB,微波无线电衰减模拟器● 工程/生产测试● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-VMA-Q8X8SE衰减矩阵8x8衰减矩阵,频率范围为500–6000MHz,衰减范围为90dB,步长0.1dB,集成式服务器虹科HK-VMA-Q8X8SE衰减矩阵是一个机架式8输入8输出的无阻塞测试仪器,集成了Windows服务器,可独立操作,提供90dB的衰减控制范围,频率范围为500-6000MHz,在所有64种路径组合上步长为0.1dB,可以很容易地对固定衰减、扫频衰减斜率和衰减曲线进行编程。虹科HK-VMA-Q8X8SE采用交流供电,通过机箱后面的一个以太网端口进行控制,射频输入信号通过后面板进入,在前面板获得输出信号。特点● 可靠和可重复的固态数字衰减● 包括Windows和Linux SDK● 可编程的衰减曲线● 以太网控制● 集成服务器应用● WiFi,WiFi 6● LTE,5G,6G● MIMO、多点无线电衰减模拟器● 半导体测试和鉴定● 自动测试设备(ATE)★虹科HK-DAT306K30GHz宽频数字微波步进衰减器虹科HK-DAT306K是一款独立的宽带数字微波衰减器,额定频率为1-30GHz,衰减量从0到60dB不等,最小步长为0.50dB,插入损耗通常低于10dB。虹科HK-DAT306K是一个三重控制设备,衰减设置可以通过用户界面、USB端口串行命令或以太网接口来改变。特点● 最大输入功率:+28.0dBm● 40GHz精密2.92mm K型连接器● USB供电和控制(虚拟COM串口-115.2Kbps)● 音频反馈、LED和OLED显示● 用于PC的简单控制软件● 标准以太网连接● 提供6GHz、12GHz、22GHz等不同型号应用● 电子战● 自动测试环境● 一般射频实验室使用● 控制系统● 卫星通信● 生产验证● 教育/大学实验室● 航空航天/国防研究● 无线基础设施● 雷达系统● 无线基础设施
  • 总投资5.48亿元!光驰半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目竣工
    近日,光驰半导体技术(上海)有限公司投资建设的原子层镀膜与刻蚀设备项目顺利完成竣工验收。宝山高新区消息显示,原子层镀膜与刻蚀设备项目位于宝山高新区07-17地块,总投资5.48亿元,占地面积50亩,总建筑面积6.44万㎡,其中一期建筑面积约3.8万㎡,涵盖标准厂房、研发办公楼等。项目主要致力新型电子元器件及设备制造,利用全球泛半导体产业链的调整与相关前沿研发的投入与技术整合,实现电子专用设备制造产业化、规模化。光驰半导体技术(上海)有限公司,作为光驰科技(上海)有限公司全资子公司。光驰科技自2000年入驻宝山高新区南部园区。2022年,光驰科技将传统光学与半导体技术融合,于北部园区投资设立光驰半导体,进一步提升制造空间与产能,开辟光学元器件向半导体集成光学转变的新市场。项目预计达产后年产能将达到高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机。2023年4月10日,光驰半导体技术(上海)有限公司半导体原子层镀膜与刻蚀镀膜项目一期正式封顶。
  • 新品推荐---日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7
    东方德菲公司作为日本株式会社SDI的中国指定代理商,特为研究溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料的各高校和研究院所实验室推荐我公司新代理的设备---日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7,此款设备是日本原装、实验室专用、高端台式浸渍提拉镀膜仪,是日本最热销的超低速浸渍镀膜(浸涂)的浸渍提拉镀膜仪,速度可変范围1nm/sec到60mm/sec。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7的主要特点:1. 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位:1nm)进行浸渍镀膜。2. 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。3. 采用触控面板操作,可控16级变速程序、可控变速范围(变速单位:lnm/sec)、往复运转、存储8个运转模式。4. 日语、英语显示可以一键式切换。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7的技术参数:行程:150mm(最大800mm) 最小速度(Min):1nm/s 最大速度(Max):60mm/s 操作方法:触控面板 画面文字:英语/日语 处理速度指定级数:16级 停止位置指定个数:16个 停止时间指定数量:16个 连续运行模式:有 手动运行模式:有 运转模式存储数量:8个运转模式电机功能(当前速度):有电机功能(当前位置):有电机功能(运行剩余时间):有重复运行:有标准夹具:聚丙烯(PP)材质电源:AC100V、250VA最大搬运重量:1kg最大处理尺寸(mm): 150mm(H)直线运行模式:无备注:※连续运行模式是指:改变速度时,停止时间为“Osec”。※手动运行模式是指:以设定的一个速度上升/下降运行(上升速度和下降速度分开设定)
  • 客户见证---日本SDI浸渍提拉镀膜仪成功入驻北京航空航天大学
    热烈祝贺东方德菲代理的日本株式会社SDI浸渍提拉镀膜仪成功入驻北京航空航天大学国际交叉科学研究院。北京航空航天大学化学学院的刘欢教授是从事超润湿表面诱导纳米材料自组装研究方面的专家,刘教授的纳米材料自组装研究离不开高精度的镀膜仪,多年来,刘教授发现国产镀膜仪微米级的速度、精度和稳定性无法满足纳米材料自组装的需求。SDI株式会社是日本研发生产镀膜仪的专业厂家,他们与日本东京大学共同研发的纳米级高精度浸渍提拉镀膜仪NanoDip ,不仅速度精度可以达到1nm/秒,而且速度可控范围大,从1nm/秒到60mm/秒,且性价比高,运行稳定,操作简便,实验精度与实验效率极高,刘教授终于找到了心仪的高精度超低速镀膜仪,且一次性购买了两台。培训时,东方德菲的工程师为刘欢教授课题组成员热心细致地讲解了仪器的操作程序,指导每一位成员动手操作直至熟练。日本SDI浸渍提拉镀膜仪解决了刘教授课题组在仿生多尺度纤维材料的动态浸润行为及液体可控运输研究方面的诸多难题,课题组成员纷纷表示对仪器的满意和认可。 北京航空航天大学是东方德菲的老客户,在接触角测量仪器方面就有很深的渊源,这一次浸渍提拉镀膜仪的入驻更加给与了我们信心,奠定了新的里程碑,鞭策着我们为用户介绍更先进的实验技术,提供更专业更优质的技术服务。
  • 江淮前沿技术协同创新中心145.00万元采购镀膜机
    html, body { -webkit-user-select: text } * { padding: 0 margin: 0 } .web-box { width: 100% text-align: center } .wenshang { margin: 0 auto width: 80% text-align: center padding: 20px 10px 0 10px } .wenshang h2 { display: block color: #900 text-align: center padding-bottom: 10px border-bottom: 1px dashed #ccc font-size: 16px } .site a { text-decoration: none } .content-box { text-align: left margin: 0 auto width: 80% margin-top: 25px text-indent: 2em font-size: 14px line-height: 25px } .biaoge { margin: 0 auto /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 25px } .table_content { border-top: 1px solid #e0e0e0 border-left: 1px solid #e0e0e0 font-family: Arial /* width: 643px */ width: 100% margin-top: 10px margin-left: 15px } .table_content tr td { line-height: 29px } .table_content .bg { background-color: #f6f6f6 } .table_content tr td { border-right: 1px solid #e0e0e0 border-bottom: 1px solid #e0e0e0 } .table-left { text-align: left padding-left: 20px } 详细信息 江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)招标公告 安徽省-合肥市-包河区 状态:公告 更新时间: 2024-05-16 项目编号:24AT47081802606 江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)招标公告 发布时间:2024年05月16日 安徽安天利信工程管理股份有限公司受江淮前沿技术协同创新中心委托,对“江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)”进行国内(项目编号:24AT47081802606)。欢迎具备条件的国内投标人参加投标: 一、项目概况与规模 1.招标范围:光学元件在镀膜后能具有很好的光学性能,如光透过率、反射率、偏振等,此次采购的真空蒸发镀膜系统采用电子束蒸发方式,主要用于增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜。具体内容详见招标文件。 2、资金来源:已落实 3、最高投标限价:人民币145万元(含税) 二、投标人资格条件: 1、投标人须具有有效的营业执照或法人证书。 2、投标人须为所投产品的制造商或代理商(经销商),如为代理商(经销商)须书面承诺在中标后提供所投产品的有效授权证明。 3、投标人未被人民法院在“中国执行信息公开网”网站(http://zxgk.court.gov.cn/shixin/)列为失信被执行人。 4、单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 5、本项目不接受联合体投标。 三、招标文件的获取 1、获取时间:2024年5月16日至2024年5月23日下午17:00; 2、获取方式:网上获取:凡有意参加本项目投标人/供应商,需在安天智采电子交易系统(https://www.xinecai.com/)进行企业免费注册,具体操作参见《安天智采—企业注册通知公告》。 完成企业注册并通过审核后(审核期一般为三个工作日),可以通过互联网登录“安天智采电子交易系统”,明确参加项目及标段,在公告有效期内在线缴纳招标/采购文件费用后,下载文件及相关附件(含澄清、答疑及补充通知等文件,招标人/采购人/代理机构不再另行通知,投标人/供应商应及时关注、查阅安天智采电子交易系统发布的上述相关内容,否则造成的后果自负);联合体投标的,由联合体牵头人进行文件下载操作。 用户注册成功后如需要变更初始注册信息的,应及时在安天智采申请变更(安天智采服务热线:400-050-9988),如因未及时变更导致不良后果,投标人/供应商责任自负。 四、投标文件的上传时间及地址 1、投标文件递交截止时间暨开标时间:2024年6月5日下午14时30分(北京时间) 2、投标人应在截止时间前通过“安天智采电子交易系统”(网址:https://www.xinecai.com/)上传电子投标文件。 逾期系统将自动关闭,电子投标文件未完成上传的,投标将被拒绝。 五、发布公告的媒介 本次招标公告在 “安天智采招标采购电子交易平台”(https://www.xinecai.com/)、安徽省招标投标信息网(www.ahtba.org.cn)、中国招标投标公共服务平台(http://www.cebpubservice.com/)等网上发布。 六、联系方式 招标人:江淮前沿技术协同创新中心 地 址:合肥市高新区云飞路中安创谷二期H6 电 话:19314023612 联 系 人:杨老师 招标代理机构:安徽安天利信工程管理股份有限公司 地址:安徽省合肥市祁门路1779号安徽国贸大厦1404室 联 系 人:丁工 电 话:0551-63736770 电子邮件:lding@ahbidding.com × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 $('.clickModel').click(function () { $('.modelDiv').show() }) $('.closeModel').click(function () {$('.modelDiv').hide() }) 基本信息 关键内容:镀膜机 开标时间:2024-06-05 14:30 预算金额:145.00万元 采购单位:江淮前沿技术协同创新中心 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:安徽安天利信工程管理股份有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)招标公告 安徽省-合肥市-包河区 状态:公告 更新时间: 2024-05-16 项目编号:24AT47081802606 江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)招标公告 发布时间:2024年05月16日 安徽安天利信工程管理股份有限公司受江淮前沿技术协同创新中心委托,对“江淮前沿技术协同创新中心真空蒸发镀膜系统采购(二次)”进行国内(项目编号:24AT47081802606)。欢迎具备条件的国内投标人参加投标: 一、项目概况与规模 1.招标范围:光学元件在镀膜后能具有很好的光学性能,如光透过率、反射率、偏振等,此次采购的真空蒸发镀膜系统采用电子束蒸发方式,主要用于增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜。具体内容详见招标文件。 2、资金来源:已落实 3、最高投标限价:人民币145万元(含税) 二、投标人资格条件: 1、投标人须具有有效的营业执照或法人证书。 2、投标人须为所投产品的制造商或代理商(经销商),如为代理商(经销商)须书面承诺在中标后提供所投产品的有效授权证明。 3、投标人未被人民法院在“中国执行信息公开网”网站(http://zxgk.court.gov.cn/shixin/)列为失信被执行人。 4、单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 5、本项目不接受联合体投标。 三、招标文件的获取 1、获取时间:2024年5月16日至2024年5月23日下午17:00;2、获取方式:网上获取:凡有意参加本项目投标人/供应商,需在安天智采电子交易系统(https://www.xinecai.com/)进行企业免费注册,具体操作参见《安天智采—企业注册通知公告》。 完成企业注册并通过审核后(审核期一般为三个工作日),可以通过互联网登录“安天智采电子交易系统”,明确参加项目及标段,在公告有效期内在线缴纳招标/采购文件费用后,下载文件及相关附件(含澄清、答疑及补充通知等文件,招标人/采购人/代理机构不再另行通知,投标人/供应商应及时关注、查阅安天智采电子交易系统发布的上述相关内容,否则造成的后果自负);联合体投标的,由联合体牵头人进行文件下载操作。 用户注册成功后如需要变更初始注册信息的,应及时在安天智采申请变更(安天智采服务热线:400-050-9988),如因未及时变更导致不良后果,投标人/供应商责任自负。 四、投标文件的上传时间及地址 1、投标文件递交截止时间暨开标时间:2024年6月5日下午14时30分(北京时间) 2、投标人应在截止时间前通过“安天智采电子交易系统”(网址:https://www.xinecai.com/)上传电子投标文件。 逾期系统将自动关闭,电子投标文件未完成上传的,投标将被拒绝。 五、发布公告的媒介 本次招标公告在 “安天智采招标采购电子交易平台”(https://www.xinecai.com/)、安徽省招标投标信息网(www.ahtba.org.cn)、中国招标投标公共服务平台(http://www.cebpubservice.com/)等网上发布。 六、联系方式 招标人:江淮前沿技术协同创新中心 地 址:合肥市高新区云飞路中安创谷二期H6 电 话:19314023612 联 系 人:杨老师 招标代理机构:安徽安天利信工程管理股份有限公司 地址:安徽省合肥市祁门路1779号安徽国贸大厦1404室 联 系 人:丁工 电 话:0551-63736770 电子邮件:lding@ahbidding.com
  • 自激式全固态ICP射频源研制及产业化重大专项启动会在聚光科技召开
    2016年11月18日,由聚光科技(杭州)科技股份有限公司(以下简称“聚光科技”)牵头承担的国家重大科学仪器设备开发专项“自激式全固态ICP射频源研制及产业化”项目开题会议在杭州顺利召开。浙江省科技厅乐斌、中科院电工研究所韩立所长助理、浙江大学金钦汉教授、浙经事务所徐永标教授、上海环境监测中心大气环境监测室段玉森主任、浙江地质矿产研究所胡勇平教授、中国科学院高能物理研究所刘宇研究员、杭州信雅达科技有限公司赖月林总经理、杭州电子科技大学程知群教授、浙江工业大学莫卫民教授等领导、项目专家成员以及合作单位相关负责人近22人出席会议。与会人员合影  首先由项目承担单位聚光科技党委书记陈荧平致欢迎辞,随后浙江省科技厅乐斌对项目实施过程中几点要求及评价体系等方面发表重要讲话,并希望项目组进一步加强合作,祝愿聚光科技在后续项目的实施过程中取得圆满成功。 浙江省科技厅乐斌发表重要讲话  中国地质大学(武汉)金星教授向各位领导及专家组就项目总体情况进行了介绍,本专项重点研制具有自主知识产权、达到国际一流水平的自激式全固态ICP射频源设备,在此基础上进行工程化、产业化,同时建立一条规模生产线,年产能达500台套,项目完成后3年内年销售量300台套以上,支持ICP类分析仪器销售500台套。 中国地质大学金星教授作项目介绍  本专项将研制工作在27.12 MHz频率的自激式全固态ICP射频源,频率稳定度优于0.01%,功率稳定性优于0.1%,输出功率在0.6~1.7 kW之间连续可调。  在应用开发方面,本项目针对ICP射频源在光谱和质谱中的应用,将研制的ICP源集成在国产ICP-OES和ICP-MS上,实测灵敏度、背景噪声、检出限和长短期稳定性等主要性能指标,并与采用进口ICP射频源的国产ICP-OES和ICP-MS进行横向比较,以验证本项目研制的ICP射频源的性能是否满足ICP-OES和ICP-MS的要求。形成的测试报告和应用示范效果,对于ICP射频源在国产ICP-MS中的推广应用将起到一个良好的带动作用。  在产业化方面,本项目将依托产业化承担单位的基础,按照产品开发(IPD)流程进行产品开发,参考ISO 9001:2001质量标准进行管理,建立全面的ICP射频源产品质量管理体系、物料质量管理规范和产品订单履行规范,保证ICP射频源的小试、中试和规模生产顺利实施。建立相应质量管理体系,建设生产线,实现自激式全固态ICP射频源年销售量300台套以上。  通过本项目的实施,将给国家带来巨大的经济社会效益。  一、为环境、食品等行业的仪器设备提供核心部件,提升我国检测设备的研制和应用水平  在水、土壤环境质量检测、水质重金属污染突发事件和食品重金属检测领域等行业,本项目研制成功的ICP源将为这些领域重金属检测设备ICP-OES和ICP-MS提供先进的核心部件,促进国产高端元素检测设备的技术成熟,保障检测行业的检测事业发展。先进的检测设备将大大提升水质、土壤环境的检测能力,促进环境安全和食品安全的总体控制。环境和食品安全保障手段的加强,必将提高人民的生活水平,从而产生巨大的社会效益。  二、 促进元素检测技术水平的提高  通过实施项目,我国元素检测设备和检测质量控制产品的研制水平将会有很大提高,必将进一步促进整个国产化元素检测关键设备的产业化、标准化、系列化,形成关键检测设备核心模块的产业化基地,促进国产元素检测设备的市场化推广。  三、替代进口,节约外汇  目前国内高端的ICP-OES和ICP-MS设备基本购买国外产品,市场被进口设备长期垄断,价格昂贵、仪器的维护费用高、周期长。本项目研制的具有我国自主知识产权的ICP射频源,技术指标达到国外同类产品水平,将极大的促进国产ICP-OES和ICP-MS在技术上成熟,达到国外同等先进水平,能够胜任国内元素检测各种复杂的应用环境;同时实现国产化应用、本土化维护和成本的降低,完全可替代进口产品,降低了成本,不仅促进仪器企业降低成本提高产品竞争力,也帮助国产ICP类分析仪器在整个元素检测仪器市场提高竞争力。  四、拉动内需,促进就业  本项目涉及光学、化学、机械加工、生物学、微加工、电子学、材料科学等多行业,能够促进ICP-OES和ICP-MS等分析仪器行业的进步,项目的实施将带动相关产业的发展,增加就业岗位。  总之,通过本项目的实施,将实现具有自主知识产权的自激式全固态射频电源的国产化和产业化,将在杭州建立一条拥有年产能力500台套ICP射频源的生产线,并实现批量销售,项目完成后年销售量超过300台套。通过本项目研究成果的推广,将促进国产ICP-OES和ICP-MS等高端无机分析仪器的产业化,提升国产仪器的市场竞争力。  随后,各仪器开发单位分别就各承担任务的总体目标、工作难点、技术路线、实施计划等方面进行了专题汇报,经过专家组多次提问及内部讨论,形成了专家意见,为项目的顺利实施奠定了坚实的基础。
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