射频等离子体仪

LabICP 1000电感耦合等离子体发射光谱仪，具有非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，非常适合稀土元素合稀土永磁材料的分析。同时也可广泛应用于食品、环境、地矿、有色金属冶炼等各种应用领域。非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，确保分析数据的准确性闭环控制的射频发生器高压供电回路，与传统的升压变压器和高频阻流圈的高压系统相比，功率控制精度提升到优于0.1%高精度分光系统： 反射式分光系统设计，避免引入额外色差； 机械控制精度，确保光谱定位准确； 高分辨率长焦光路设计，实现了优良的信噪比和极低的基体效应；恒温控制光室，提升测量稳定性，光室冲入氩气后可高精度测量 S（180nm）和Sn（190nm）5-6个数量级的动态线性范围，可满足痕量到常量的元素分析优秀的测量精度和元素检出限，ppb量级全面安全保护系统：具有冷却水保护、氩气保护、过压保护、过流保护、灭弧保护等

产品说明、技术参数及配置ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05%输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min)2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。 性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05% 输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm 蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min) 2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min) 3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

ICP3600型全自动发射光谱仪是由射频发生器、试样引入系统、扫描分光器、光电转换、计算控制系统和分析操作软件组成。它的分析过程是：射频发生器产生的高频功率通过感应工作线圈加到三同心石英炬管上，在石英炬管的外层通入氩气并引入电火花使之电离形成氩等离子体，这种氩等离子体的温度可达6000K～8000K。待测水溶液试样通过喷雾器形成的气溶胶进入石英炬管中心通道，受到高温激发后，以光的形式放出特征谱线，通过透镜进入扫描分光器，分光器将待测元素的特征谱线光强，准确定位于出口狭缝处，光电倍增管将该谱线光强转变成光电流，再经电路处理和模数变换后，进入计算机进行数据处理，最后由打印机打出分析结果。由于仪器的稳定性好，测量范围宽，检出限低，因此广泛地应用于稀土分析、环境保护、水质检测、合金材料、建筑材料、医药卫生等科学领域作元素定量分析。

一、设备简介NE-PE60F是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE60F 系统功能特点： &bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计，可调节托盘间距&bull 8K镜面不锈钢腔体，卓越密封性&bull 13.56射频等离子发生器，产生高密度等高子体，确保出众的清洗效果；&bull 直观的触摸屏，过程参数实时监控。&bull 方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体，包括氩气，氧，氢，氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 高精度气体流量监测系统，两路工艺气体配置(氩气、氧气），双路气流控制，比例 可调，采用高精度电子质量流量计(MFC)、针阀、美国世维洛克气体管路设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-500W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率13.56 MHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 镜面不锈钢，军工级密封腔体容积370(W)*450(D)*400(H)mm 60L单层有效处理面积W370mm x D370mm 电极板数量6层（可定制）真空测定系统（睿宝电阻真空硅管）皮拉尼高精密电阻式真空计绝缘陶瓷进口高频陶瓷3放电电极电极高导电铝合金专用电极电极间距可调整电极之间的距离，调整等离子体强度和密度，极大提升处理能力和效率4气路控制气体流量控制器MFC 气体质量流量计精确控制流量0-500ml/min气路设计腔体均匀进气气路设计，保证清洗均匀性气路数量配置2路工艺气路，可支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等5真空测量真空测定系统皮拉尼真空硅管 测量范围：1.0×10 5 ～1×10 -1 Pa6抽气系统真空泵油泵/无油干泵（选配）工作真空度30PA以内抽真空时间60s以内破真空时间≤15s真空管路不锈钢管路+气动阀门7控制系统PLC三菱PLC模块触摸屏7寸软件程序自主专利设计等离子控制系统8场务条件电源供应AC380V,50/60Hz，三相五线100A 气管接口直径8mm气体纯度99.99%压缩空气要求0.6~0.8MPa输入气压检测系统2路自动报警气压表排气口KF259整机参数整机功率4.5KW外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)重量400kg

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

1.应用范围：ICP-7800型全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪，具有突出的抗干扰和分析检测性能，应用于研发、检测等高端分析需求， 可方便进行定性、半定量和精确定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。2.工作环境电压：220V AC±10%\\MKJ 室温：环境温度（10-30）℃ 相对湿度：（20-80）%RH3.技术规格3.1.等离子体射频源：3.1.1：全数字控制的双电源设计射频电源，更宽功率范围500-1600W，功率可调，具有更强的样品适应性； 3.1.2：自激式RF射频发生器：自激式电源匹配速度快，功率负载能力强，可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐，水冷散 热，适应复杂样品分析功率切换，无运动部件，抗震抗干扰，更加可靠；3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待机，降低氩气消耗50%以上，待机时氩气用量≤5L/min；3.1.4：等离子体观测方式：可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积，延长炬管使用寿命， 降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰，获得较高的灵敏度，无需配置空气压缩机，节省外部配件及消耗。径向观 测的等离子观测位置可调，针对不同元素的分析需求，具有更强的抗干扰能力； 3.1.5：智能衰减：具有轴向衰减和径向衰减功能，可衰减100倍以内浓度的样品，使得样品高含量元素，能够一次分析完成，不 需要反复稀释，降低样品前处理难度，支持简化分析； 3.1.6：RF射频频率：27.12MHz，耦合效率大于80%；3.1.7：RF功率稳定性: ≤0.1%；RF频率稳定性：≤0.01%； 3.2.光学系统： 3.2.1：恒温三维光学系统，反射次数少，光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中，主机与光室热隔 离设计，更好的抵御外界环境温度变化。光室：精密恒温36℃±0.1℃，驱氩气；3.2.2：稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统，无运动部件，抗震强，稳定可靠； 3.2.3：波长范围：165-900nm，全波长覆盖；3.2.4：单色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱镜二维色散系统；3.2.5：中阶梯光栅：53.6L/mm，63.5度闪耀，刻数越多，分辨率越高； 3.2.6：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液；3.2.7：全谱实时校准技术（TARC）：利用无干扰的氖特征谱线，对光谱的细微偏移进行实时校正，实现光谱的最 优积分，确保长期稳定性，良好消除光谱漂移对于测量的影响。 3.2.8：吹扫型光室：对189nm以下波长测定，选择氩气进行光路吹扫，无需使用真空泵，避免真空返油，污染光 室； 3.2.9：杂散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm处测定）； 3.2.10：光学分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和检出限须在相同条件获得）； 3.2.11：可扩展深紫外Cl/Br分析功能：双光栅设计，使得光谱分析下限达到130nm深紫外区域。3.3.检测器：像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器 3.3.1：检测单元：1024*1024像素大面阵CCD检测器，一次曝光；3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面阵成像感光单元，采用24×24um大像元，带来高灵敏度的响应，整 体面幅大，能够在高分辨率的同时，获得更宽的光谱范围； 3.3.3：像元级制冷：封装在传感器内部的TEC制冷，直接作用像元，制冷温度大于-10℃，有效防止CCD表面冷 凝，无需气体吹扫保护；3.3.4：防饱和溢出：针对每一个像素进行背泄式防溢出保护设计，彻底消除谱线饱和溢出问题，无需担心谱线饱 和对邻近谱线的影响；3.3.5：智能积分设计：信号背景同步采集，曝光时间取决于谱线的光强，自动计算谱线最佳曝光时间，同时以最 佳信噪比获得高强度信号和弱信号，拓宽的动态范围，使高低含量元素可以同时检测，避免试样反复稀释；3.3.6： 检测器表面无任何光转换化学涂膜，不会因为涂层老化而导致检测器损坏更换。 3.4.样品导入系统： 3.4.1：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液； 确保稳定进样的同时，可支持进样管、内标管、废液管和辅助试剂进样管（氢化物发生器）同时运行，有利于复杂 样品分析； 3.4.2：气路控制：采用精密质量流量控制器控制多路气体流量，最多可控制五路，包括雾化气、辅助气、冷却气 和可扩展的附加气体（O2和Ar），精度0.01L/min。 - 3.5. 软件性能：3.5.1：图形化操作界面，软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能； 3.5.2：基于分类和版本的方法库管理软件，便于方法的管理、维护和传承；内置部分标准方法，有助于提高分析 效率； 3.5.3：具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能，数据可安全存储，支持分析数据保存和检索功能，方便日 后再分析；3.5.4：具有50000条以上的谱线库，每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量；3.5.5：具有全谱采集功能，软件上可直接获取完整全谱图，了解样品光谱及光谱干扰状态；3.5.6：具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能：如标准比较法、内标法、干扰元素校正系数法（IEC）、标 准加入曲线法等，丰富了用户多种分析研究的手段； 3.5.7：具有仪器校准功能，支持炬管准直、光源优化等功能，方便用户日常维护；具有可视化的仪器运行状态监 控； 3.5.8：具有登录口令保护，多级操作权限设置和网络安全管理，永久历史记录保存； 3.5.9：具有可视化炬焰观测模块；3.5.10：同时具有中英文版本软件；3.5.11：具有网络远程服务功能，自带远程服务助手，远程诊断，4G网络数据连接技术服务部门对于仪器实现远 程诊断维修； 3.5.12：软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规，软件具有三级管理权限和审计追踪功能， 符合3Q认证等法规要求； 3.5.13：可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。3.6.分析性能： 3.6.1：分析速度：约每分钟200条谱线； 3.6.2：样品消耗量：仅需2ml ；3.6.3：测定谱线的线性动态范围：≥105（以Mn257.6nm 来测定，相关系数≥0.999）；3.6.4：精密度：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液，重复测定十次的RSD≤0.5%； 3.6.5：稳定性：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液， 8小时的长时间稳定性RSD≤1%； 3.6.6：检出限：(单位ug/L，按JJG768-2005规定的元素) 可对分析元素的任何一条谱线进行定性、半定量和定量分析，支持内标法、标准加入法、干扰元素校正等 方法；3.6.7：预热时间：从待机状态到等离子体点燃时间小于5分钟。 3.7. 仪器接口（含联用分析软件）： 3.7.1可实现自动化消解样品处理工作站联用(消解系统采用石墨消解电热模式，实现消解、定容、进样自动化操作， 支持48位以上样品同时处理） 3.7.2具有有机样品直接进样分析系统接口（提供样品制冷功能，温度小于-15摄氏度以下）； 3.7.3具有在线消解模块接口（支持在线全自动电热消解和浓度控制、进样管路自动清洗功能）；3.7.4具有在线氢化物发生分析系统接口（支持反应液体自动添加和浓度控制、进样管路自动清洗功能）； 3.7.5可连接离子交换工作站进行价态分析或低浓度富集高基体去除的分析；3.7.6可连接自动进样器进行分析（支持样品位240以上可配置）；4附件系统：4.1计算机系统 4GB内存，500G硬盘，配DVD和键盘鼠标。 4.2冷却循环水系统 制冷量1490W，温度范围5-35℃。4.3激光打印机 黑白激光打印机 4.4单相交流稳压器 10KVA，精度1%，输入电压160V-280V，输出电压220V。

射频感应耦合 等离子源 电离层环境模拟器| 介绍低温氩气源（LTA）是一种紧凑的一种等离子设备，设计用于在发射之前进行空间等离子体物理研究或对空间硬件进行测试。它可以人为地模拟较高的电离层条件，这意味着它可以以非常低的电子温度（0.5 eV），低离子能量（比等离子推进器低两个数量级）和相对较高的电子密度产生等离子流。 （?10 11 m -3）。该流的速度也与在轨道上遇到的离子流（?8 km / s）相似。| 应用电离层模拟研究ThrustMe的离子源和等离子体诊断工具可帮助研究人员在地面上进行电离层研究。LTA可以模拟类似于高层大气中的粒子环境，从而为研究人员提供了进行实验的机会，而这种实验对于使用ThrustMe的等离子体诊断技术发送到太空或校准自己的探头和传感器而言过于昂贵。测试您的太空硬件再现高空电离环境可以使卫星集成商和子系统制造商在发射前测试其太空硬件。在系统级别，ThrustMe的LTA可用于研究卫星的充电并预测飞行过程中可能出现的任何问题。在子系统级别，在地面上重现电离层可以为天线制造商提供机会来研究其天线在不同高度或不同太阳活动水平下的信号传播。太空环境测量ThrustMe的MD-1探针是前所未有的小.绝.对电子密度探针。它很小的3x50mm尺寸几乎可以安装在任何小型卫星上。将此探针用于高层大气和太空天气研究目的。

ICP-OES电感耦合等离子体发射光谱仪EXPEC 6500采用全新设计的垂直炬管双向观测技术，在RF 射频电源、大面阵检测器应用、等离子炬焰观测方式等核心技术方面有了新的飞跃。可以实现在复杂基体下，同时测量高低含量相差较大的元素。新型电感耦合等离子体发射光谱仪的8小时稳定性指标RSD1%，双生内标法精密度RSD0.1%，能给客户带来稳定可靠的分析结果。产品特点新一代垂直炬管双向观测技术全新设计的垂直炬管双向观测技术，极大降低氩气消耗和炬管消耗，可以实现在复杂基体下，同时测量高低含量相差较大的元素。其中，垂直炬管避免高盐沉积，径向观测避免基体干扰，以此获得灵敏度和重复性；自激式全固态RF射频电源自激式全固态RF 射频电源，保证设备具有更好的样品适应性和稳定性，即使直接进有机样品甚至空气，也不会熄火，完全省去油品等有机样品的前处理制备过程；专有大面阵ECCD传感器提升仪器的灵敏度与光谱范围专有大面阵ECCD 传感器，其优异的低噪声、深紫外响应结合防溢出设计，使EXPEC 6500具有良好的检出限，大面阵设计确保仪器真正的实现全谱一次采集，最快10s完成72种元素分析；超持久稳定性通过高精密温度梯度场仿真，风道流体力学仿真，结合反复实践验证，优化内部结构设计，使设备具有极强的环境温度耐受性。结合RF 电源，进样系统等多处关键部件的稳定性设计，具有8 小时RSD1%的超高稳定性；可扩展样品智能前处理设备谱育科技为EXPEC 6500配套开发了样品智能前处理系统，从样品称量开始，至出结果等一系列过程，“一键式”智能处理，不需要人工参与；产品选型 EXPEC 6500系列型号特点适用领域EXPEC 6500 D型垂直炬管双向观测适用于高灵敏度要求的领域，具有较为广泛的通用性EXPEC 6500 R型垂直炬管径向观测适用于基体复杂的应用领域，如: 金属，油品，地矿等样品EXPEC 6500 H型全谱高分辨率稀土行业专用仪EXPEC 6500 U型全谱覆盖深紫外130nm-900nm 波段范围，覆盖Cl/Br 等深紫外元素分析EXPEC 6000型电感耦合等离子体发射光谱仪具有射频电源、稳固的恒温二维分光系统、制冷的防溢出高速CCD传感器、易用的炬室与进样系统，结合FSC光谱校正技术，Standby模式低功率待机等关键技术，致力于为用户带来性能和良好的使用体验。 EXPEC 6000系列型号特点适用领域EXPEC 6000 D型双向观测检出限低，干扰小EXPEC 6000 R型垂直观测消除背景干扰，适合复杂样品分析

1. 产品概述RIE-400iP是用于ø 4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。3. 设备特点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测，干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计，TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）应用领域各级疾控中心理化所/科,职业卫生技术服务机构理化分析；职业病监测理化分析；职业病诊断-职业医学检验疾控中心理化分析。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 高效进样系统：分体式炬管，自准直装配，直观简单。◇ 稳定的ICP离子源：自激式全固态射频电源，采用频率匹配调谐，调谐速率高，可直接分析有机样品，无运动部件，稳定可靠；平衡驱动，无需屏蔽炬即可获得离子动能平衡。◇ 可靠的双锥接口设计：高效率传输待分析离子，保持分析物组份的代表性，专门离子接口设计大幅度提升灵敏度；提手是换锥接口，稳固可靠，操作便利。◇ 复合离子传输系统：前后两次离轴，良好消除中性粒子干扰；采用复合电场多极杆导引技术、复合透镜偏轴离子传输技术，在消除光子和中性粒子干扰之外大幅度的提升离子传输效率。◇ 高速动态碰撞反应池：分布式碰撞/反应气扩散方式，大大提高碰撞效率，提升灵敏度；采用离子动能歧视技术，结合喷碰撞和动态反应两种模式的优点；高效碰撞模式，可直接稀释到测试血液样品。◇ 四极杆质量分析器：纯钼四极杆，超高稳定性；抗温湿度变化的RF电源，确保在普通实验室条件下也有良好的稳定性。◇ 高灵敏电子倍增器：专有的数字/模拟双模式检测器，具有9~10个数量级的动态范围。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 自主研发的国产ICP-MS替代进口产品，完全满足疾控客户水、食品、土壤、环境等检测需求，成为各级疾控中心理化采购热点；◇ 满足ICP-OES替代方法，检出限可到ppq，四级杆质量分析器，全数字频率调谐射频发生器。

PlasmaQuant 9100 系列洞察秋毫 还原本真最值得信赖 - 高分辨光学系统带来业内最高光学分辨率功能强大 -多领域应用和卓越的分析性能灵活的观测方式 -根据分析要求最有化观测方式提高检测能力 -稳定强劲的等离子体轻松应对各种复杂基体让您更加高效、自信、从容地完成精密的分析工作精益求精超高分辨率分光系统、强劲稳健的等离子体射频系统、智能化矩管设计、灵活的增强型双向观测等业内领先的分析技术智能的与PlasmaQuant 9100融为一体，为PlasmaQuant 9100卓越的分析性能奠定了优异的硬件基础。在超高光学分辨率、强大的基体耐受性、独有的分析灵敏度的相互增益作用下，PlasmaQuant 9100为ICP-OES分析技术在复杂样品基体中痕量元素分析开辟了新纪元。超高分辨率光学系统使得在各种应用中均可使用最适宜的发射谱线；强大的基体耐受性使PlasmaQuant 9100可以轻松应对各种样品的消解溶液，甚至是未经任何稀释的有机样品和高浓度盐溶液；独有的分析灵敏度确保最佳光通量和理想信背比的获得。创新的分析技术带来值得信赖的分析结果德国耶拿PlasmaQuant 9100系列是一款功能强大的电感耦合等离子体发射光谱仪，融合多项创新技术于一身，以卓越的分析性能助力你的常规样品检测和复杂样品分析。PlasmaQuant 9100系列ICP OES有两个型号，分别为高灵敏度ICP-OES PlasmaQuant 9100和高分辨率 ICP-OES PlasmaQuant 9100 Elite。它包括四个突出的创新设计以及灵活可选的分析选项，以涵盖所有应用领域。其主要特点是：长寿命V Shuttle矩管：缩短清洗频率和样品沉积速率，最小化维护成本强劲稳健的等离子射频发声系统：从容应对最复杂样品基体，最大程度拓展测试的应用范围增强型双向观测：最大限度地减少样品前处理的复杂程度，高效便捷的完成测试工作超高分辨率光学系统：轻松应对各种复杂样品基体的光谱干扰，在任何样品类型中均可获得出色的高精度分析数据PlasmaQuant 9100PlasmaQuant 9100专注于拓展常规分析的适用性、提高易用性和降低分析成本。其特点为：适应于各类样品基体，出色的基体耐受性和高灵敏度。因此满足第三方实验室对分析结果准确性的要求，轻松应对质控过程对分析数据可靠性的需求及特殊应用领域对合规的要求。开机预热时间短，方法设置和切换迅速灵活，适合复杂基体连续进样分析，极大的体高了分析效率和生产效率。PlasmaQuant 9100 Elite超高光谱分辨率使PlasmaQuant 9100 Elite在型号繁多ICP-OES中脱颖而出。PlasmaQuant 9100 Elite揭示光谱细节，通过超高光谱分辨率消除光谱干扰，几乎每一个样品都可以使用最灵敏的发射谱线，结合其出色的基体耐受性和高灵敏度使得PlasmaQuant 9100 Elite精密度、准确性和检出限等关键性指标均达到了ICP-OES历史的新高度。当面临复杂基体样品同时对分析检出限和灵敏度又有特殊要求时，PlasmaQuant 9100 Elite是当仁不让的不二之选。PlasmaQuant 9100系列ICP-OES可以根据实际应用需求灵活配置，丰富可选的升级附件各种应用需求、简化样品前处理并提高样品通量。可根据样品基体类型选择不同的进样附件，例如高盐高基体进样组件、耐HF酸进样组件、有机样品直接进样组件等。多种自动进样器可选，实现不同样品基体的全自动进样功能，样品基体类型可以是各种类型水溶液也可以是不同粘度的有机样品。选配全自动稀释工作站后可实现实验室分析流程全自动化。PlasmaQuant 9100配置超快速进样系统后明显缩短分析时间提高分析效率。PlasmaQuant 9100预热时间短，通过内置氖灯实时进行自调节确保在冷开机几分钟内即可进入正常工作状态，大大缩短由于分析前的长时间等待导致的分析成本。工矿企业的质量控制和研发过程中以及对分析数据要求极为严苛政府监管实验室常常会面临复杂高基体样品所带来的严重光谱干扰， PlasmaQuant 9100Elite凭借超高的光学分辨率为该类样品准确定量分析提供了新的途径和方法，并获得出色的分析性能和精度，获得了石油、天然气、地矿、冶金、化工等行业用户的青睐。PlasmaQuant 9100通过不断提升光谱分析能力并降低分析成本，助力您在分析工作中始终领先一步。

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

AL-ICP9090型电感耦合等离子体发射光谱仪 AL-ICP9090型电感耦合等离子体发射光谱仪是一款全新的全谱直读型ICP-OES产品，采用高可靠性的射频电源、稳固的恒温二维分光系统、制冷的防溢出高速CCD传感器、易用的炬室与进样系统，结合独创的FSC光谱校正技术，为您打造一款性能稳定、质量可靠的创新产品。 仪器广泛应用于环境保护、食品安全、地质矿产、治金、有色金属、稀土、化工、临床医药、石油制品、半导体、农业研究等各个领域。 技术优势 1、全自动化设计 整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全，方便。 2、精密的光学系统 中阶梯光栅二维分光系统；专业的光学优化设计使得光通量品大化的同时保证了优导的光谱分额率:无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性 超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限。 3、稳定先进的全数字自激式全固态射频电源 全固态射频电源，具有体积小，效率高，输出功率稳定，带有各种保护功能算诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。 全新的变频设计,实现等离子体负载自动匹配；700-1600W连续功率可调； 水冷式设计,迅速散热，有效提升可靠性；内部功率、温度连锁保护；功率稳定性0.1%。 4、快速准确的全自动匹配功能 负载终端采用全自动匹配技术，具有匹配速度快，精度高等优点，确保了输出功率最大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方使。 5、蠕动泵 蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节 通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。 6、高效的进样系统 自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。 可配备国内外各种变化器、露化器，可以配务高盐露化器，耐氛制装化器等，满定客户的各种热求。 多路数字质量流量控制器，精确控制每一路氩气，控制精度达0.01L/min，保证测量数据的稳定性； 全分体式炬管，自准直安装，针对不同的应用，仅需更换中心管即可，大幅降低成支持扩展多种附件。 7、强大的全中文软件系统 人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，可快速开展分析操作。 软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正，去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。

紧凑的台式 iCAP&trade PRO ICP-OES 和 iCAP&trade PRO X ICP-OES可同时分析样品中的所有痕量元素。其垂直炬管定向系统提供出色的耐用性，可为径向观测和双向观测仪器提供耐腐蚀内炬盒。吹扫中阶梯光栅多色仪和电荷注入设备 (CID) 阵列检测器可实现高光通量，从而提供出色的检测限。 该系统包括：一台 3 通道的蠕动泵，可轻松添加在线内标或使用氢化物发生器附件。一根快速释放的半拆卸式炬管，易于维护。一台固态自激式的 27.12 MHz 射频发生器，可确保从任何样品基质中产生稳定的等离子体。三个独立的质量流量控制器 (MFC)，可用于精确控制雾化器、等离子体和辅助气体，并确保长期稳定性。一个互锁排干系统传感器，在检测到样品通道中有泄漏时会关闭系统，防止样品丢失。可自动恒温控制的中阶梯光栅多色仪，以确保长期稳定性并减少重新校准的需要。一面与中阶梯光栅结合使用的交叉色散棱镜，可提供 7 pm 的分辨率并尽可能减少干扰。一台高速随机读取 CID 成像仪，可实现完全同时读取 167.021 到 852.145 nm 之间的全波段光谱。Thermo Scientific&trade Qtegra&trade Intelligent Scientific Data Solution&trade (ISDS) 软件提供易于导航的平台，允许分析员在光谱仪采集数据的同时添加波长、创建方法、分析样品和后期数据处理。带有垂直炬管的台式同步iCAP&trade PRO XP ICP-OES光谱仪，包含经过吹扫中阶光栅多色仪和电荷注入设备 (CID) 阵列检测器。其中包括：一台可使用高级附件的 4 通道蠕动泵。一台固态自激式的 27.12 MHz 射频发生器，可确保从任何样品基质中产生稳定的等离子体。三个独立的 MFC，可用于精确控制雾化器、等离子体和辅助气体，并确保长期稳定性。可以选择通过集成的 MFC 以 0-0.25 L/min 的流量向等离子体中添加附加气体。从而可对高盐样品（高达 30% TDS）或有机样品进行分析。一个互锁排干系统传感器，在检测到样品通道中有泄漏时会关闭系统，防止样品丢失。可自动恒温控制的中阶梯光栅多色仪，以确保长期稳定性并减少重新校准的需要。一面与中阶梯光栅结合使用的交叉色散棱镜，可提供 7 pm 的分辨率并尽可能减少干扰。一台高速随机读取 CID 成像仪，可实现完全同时读取 167.021 到 852.145 nm 之间的全波段光谱。一种增强的紫外线模式，可通过二次紫外线聚焦曝光，为 167.021 和 240.063 nm 之间的元素提供更好的灵敏度和检测限。Thermo Scientific&trade Qtegra&trade Intelligent Scientific Data Solution&trade (ISDS) 软件提供易于导航的平台，允许分析员在光谱仪采集数据的同时添加波长、创建方法、分析样品和后期数据处理。

技术参数： 可测元素70多种； 分析速度快，一分钟可测5-8个元素； 多元素同时分析，客户可以自由选择元素数量与安排测量顺序； 检出限低，达到ppb量级，Ba，Cu等甚至达到0.7ppb； 线性动态范围宽，高达6个数量级，高低含量可以同时测量； 分析成本低，一瓶氩气(瓶压10Mpa)可以用8个小时； 全反射消色差光学系统 采用凹面反射镜代替凸透镜作为光学聚焦元件，解决了不同元素焦点不同而引起的色差问题，同时提高光学系统效率。 波长范围宽 选择3600条刻线光栅，波长范围可达180nm-500nm 选择2400条刻线光栅，波长范围可达180nm-800nm 全自动化设计 自动化程度高，整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都是通过计算机控制，可靠、安全、方便。 先进的进样系统 进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器，耐氢氟酸雾化器等，满足不同客户的需求。 稳定先进的全固态射频电源： 仪器采用的射频电源为公司自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进 一步提高了仪器的稳定性与安全性。 快速准确的全自动匹配功能 负载终端采用自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点。确保输出功率最大限度的加到负载，提高电源的使用 效率，从而提高仪器的稳定性，使得整个点火过程方便简单。 一键点火：用户只需点击一个启动按钮，仪器自动进行气体压力、冷却水、电源开关检查、点火、匹配等诸多动作，并将信息实时 传递给客户。 观察高度调节 不同的元素有不同的最佳观察高度，客户可以根据经验或者比较，适当的通过软件调整火焰的观察高度，在最佳的位置得到最好的 测量效果。强大的图形诊断功能 强大的图形诊断功能可以帮助客户充分的了解当前仪器的工作状态，并通过适当的参数设置来观察不同条件下仪器的运行状况，以 把握最佳的测量条件。 多元素自动测量 选择需要测量的各个元素，设定好测量参数，一切交给仪器，最后直接得到所有元素的测量结果，简单、省事。 强大的数据库管理 拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得 更加专业与准确。 软件功能强大，操作人性化 软件功能强大，全中文更适合国人使用。可进行定性、定量分析；有数据再处理功能；自动计算元素含量，自动生成测试报告；具有 数据筛选功能，剔除不想要的数据；数据库管理完善，可以自由保存与删除。 测试完毕后可以生成检测报告，检测报告内容可以根据用户需求选择，包括方法名称、仪器型号、元素、波长、强度、含量、相对标 准偏差、单位、检测员、备注、校正人等，方便用户分析。 软件界面设计人性化，简单明了，大大提高了分析效率。软件主界面集成软件的主要功能，包括控制等离子体状态、仪器状态、分析 参数、分析谱线、波长谱图显示、曲线拟合、数据处理、历史谱图、历史数据、用户管理等诸多功能。

1. 产品概述高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。3. 设备特点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统。排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电升降机构。晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计。TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。

1. 产品概述高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。3. 设备特点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电升降机构，晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计，TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。

1. 产品概述Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统。2. 设备用途/原理Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统，填孔能力以及高沉积速率，温度场和 ICP 电磁场设计保证了低温高致密的膜质表现，优化机台结构，缩小占地面积，友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效。3. 设备特点晶圆尺寸 12 英寸，适用材料氧化硅。适用工艺浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层。适用域 新兴应用、集成电路。等离子体化学气相沉积(plasmachemical vapor deposition)是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术。按产生等离子体的方法，分为射频等离子体、直流等离子体和微波等离子体CVD等。

FOR SURFACE MODIFICATION - CLEANING - ACTIVATION - ETCHING - DEPOSITION表面改性（亲水性和赤水性），等离子清洁，等离子活化，刻蚀以及反应离子刻蚀，等离子沉积等应用 GlowResearch是美国著名的真空系统解决方案供应商，其旗下的OptiGlow和AutoGlow全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年，随着研发提升及软硬件更新，现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外，其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套，遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室，著名包括莱斯大学，麻省理工学院，哈佛大学，尤利希中心，法国生物化学与生物分子研究中心，法国应用光学研究所，德国生物技术研究所，德国航空航天研究所，德国马普所，英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术，它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业，需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中，除了射频等离子体的强烈的化学作用外，其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物（如金属氧化物和其它无机物沉淀）以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托，3个气体流量质量控制器，150mm基底尺寸，13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到300W，全自动协调校准，压力可读，氮气清洗，CE认证标识。电容耦合的，只需按一个按钮便可全自动操作整个处理流程。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。 AutoGlow 200—可以处理200mm基底（8寸晶圆），和反应离子刻蚀RIE(可选ICP电感耦合等离子体源）和等离子体处理。3个气体流量质量控制器–氧气，氩气或氟化气体（CF4或SF6）, 13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到600W，全自动协调校准，，压力可读，氮气清洗，CE认证标识，高品质铝样品室。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。具有观察窗用来监控OES发射光谱和处理终点检测。 Rice University has an AutoGlow in the Halas Research Lab. The system is used for removal of polymer resists for applications in plasmonics and nanophotonics and prepare samples for surface-enhanced molecular spectroscopy. Harvard University’s AutoGlow system in the Gordon McKay lab. The system is used for organic removal, surface modification and serves the needs of several researchers working on DNA research and human genome sequencing. Pictured is the AutoGlow at the Microsystems Technology Lab at MIT. This AutoGlow is used for Photoresist removal, cleaning and surface modification. This lab does research in MEMS, BioMEMS, Nanotechnology and Photonics. 全自动控制系统可以使用户轻松进行操作处理样品, 一旦系统检测真空达到预设真空值后, 便自动开启并控制气体流量进入, 这个过程不需要任何其他操作因素. 系统也可配置两路或三路气源和同时使用不同比例的混合气源（比例可以任意调整）然后通过一个额外的阀门来自动调整任意比例两种不同混合气源.系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等. 可适用多种工艺气体, 如氩气Ar, 氧气, 空气及氟化合物如CF4或SF6, 通过两个气体质量流量控制气体以及特殊阀门控制任意气体混合比例. 除了结构紧凑和集成度高外, 出色的射频激发等离子体配合出色的工艺控制, 失效保护系统和数据采集系统使其很容易使用在实验室和生产环境中。 湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4. 功能一：Plasma Cleaning等离子清洗： 应用于： - 金属表面超精细清洗 - 塑料与弹性体表面处理 - 一般玻璃表面陶瓷表面处理和清洗 - 去除样品表面氧化物和碳污染物 功能二：Plasma Surface Activation等离子表面活化功能三：Plasma Coating 等离子镀膜功能四：Plasma Surface Etching 等离子表面刻蚀-POM、PTFE、PEP、PFA -PTFE部件 -构建硅基结构 -光刻胶灰化

系统配置：■PerkinElmerOptima4300DV电感耦合等离子体发射光谱仪这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：OPTIMA4300DV主要技术指标：射频发生器：40MHz自激式固态

产品概述 ICP-5000是集中阶梯光栅的二维分光系统、自激式全固态射频电源、科研级高速CCD为一体的全谱直读电感耦合等离子体发射光谱仪，可以同时分析72个元素，覆盖元素周期表绝大多数金属元素和非金属元素；检出能力达到ppb级别。小型、智能化ICP-5000告别了过去的单道扫描时代，带您体验快速、全谱分析技术！ 电感电感耦合等离子体发射光谱仪-ICP-5000 产品特点分析准确 中阶梯二维分光系统，具备较高的分辨能力；防溢出背照式百万像素CCD检测器，紫外响应高，无紫外荧光膜，使用寿命长；多种背景校正技术可供选择；稳定可靠 全固定无运动部件的光学系统；稳定的质量流量氩气集成控制系统；可视化的安全联锁和运行监控。便捷易用 采用可拆卸炬管，内置自动化的炬管准直、光源优化功能。使用成本低 智能光室吹扫，紧凑的光室设计等多项措施降低氩气消耗；免费保外技术指导和平价现场服务。全面的分析软件 层次化的软件界面，操作直观、便捷，可满足不同层次客户的使用需求；丰富的方法库和版本化的管理方式更利于方法的传承、学习和维护。典型用户 高校、质检中心、环境监测站、企业、农业系统、地质地矿典型应用点 环境保护、地质冶金、电子电器、食品安全、化工制药

1. 产品概述高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的用系统，可以在小的洁净室空间内安装。2. 设备用途/原理GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。3. 设备特点 新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统，排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测,干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计,TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。

ICP-7700电感耦合等离子体发射光谱仪，东西分析数十载精华力作。光源系统，采用固态射频发生器，端氏观测方式，具有检出限低、分辨率高、工作稳定和适用面广的特点，可以快捷、准确地检测微量至常量的70种元素。ICP固态射频发生器：体积小、重量轻、效率高，具有自动匹配功能，输出功率稳定性优于0.1%，可测试有机溶液的样品；观测方式：端式，具有检出限低的特点；进样系统：采用精密质量流量计，稳定可靠。先进的雾室，重复性RSD可达到1.0%；自动保护：断水、断气、过流、过热，防止炬管烧熔等。应用范围：地质、冶金、稀土分离、稀土磁性材料、医药卫生、环境、生物、海洋、石油、化工、核工业、农业、水质等科学领用。

PE-75等离子体清洗机作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性，对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。* 清洗晶体、天然晶体和宝石；* 清洗半导体元件、印刷线路板；* 清洗生物芯片、微流控芯片；* 清洗沉积凝胶的基片；* 高分子材料表面修饰；* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌；* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体表面处理仪技术参数：设备型号：PE-75腔体尺寸：圆柱形腔体，内径10.75英寸（273mm）x深度10英寸（254mm）；腔体材质：T-6铝合金一体成型；腔体容积：13.8升；射频电源：13.56MHz；0~150W自动调节；工作压力范围：1-2000 mT；气体流量控制：0-25cc/min带精密针阀；皮拉尼真空计： 0-1Torr；选配：1、400W，50KHz；2、100W,13.56 MHz；（自动匹配网络） 3、300W,13.56 MHz；（自动匹配网络） 4、Venus PC控制功能，可以通过MFC控制气体；

钢研纳克ICP光谱仪，35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位。央企品牌，上市公司，品质之选！仪器介绍 Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。 Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。 1、 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向观测，具有稳健的检测能力。2、 高效稳定的固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。3、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。4、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。技术参数1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm2. 谱线范围：165nm~950nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm4. 晶体管固态射频发生器，小巧高效5. 27.12MHz频率提高信噪比，改善了检出限6. 自动匹配调节7. 全组装式炬管，降低了维护成本8. 计算机控制可变速12滚轴四通道蠕动泵，具有快速清洗功能9. 实验数据稳定性良好：重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD ≤1.0%（大于3小时）仪器特点--稳健高效的全固态光源 全固态射频发生器，体积小、效率高，全自动负载匹配，速度快、精度高，能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试，具有优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 简洁的炬管安装定位设计，快速定位，精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯高效可靠。 --精密的光学系统 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用超纯SiO2棱镜，高光路传输效率，保证了深紫外区的元素测量。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室多点充气技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 光室气路独立，可充氮气或氩气。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。 --进样系统 仪器配备系列经过优化的进样系统，可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。 使用一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。 使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，流量连续可调，保障测试性能长期稳定。 4通道12滚轮蠕动泵，泵速连续可调，确保样品导入稳定性。 --检测器 大面积背照式CCD检测器, 全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出 具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，获得更为快速、准确的分析结果 同类产品中最大靶面尺寸，百万级像素，单像素面积24μm X 24μm 三级半导体制冷,制冷温度低于-35℃，具有更低的噪声和更好的稳定性

产品概述WEPER ICPMS9000质谱仪稳定可靠、维护简便、配置灵活，配置长寿命稳定的ICP离子源、高灵敏度且宽动态范围的ETP检测器、消除质谱干扰的动能歧视碰撞反应池、双重离轴式离子传输系统，使WPER ICPMS9000同时拥有高性能、高稳定性、易用性的特点。开发了智能化的软件系统，具有简单易用的自动调谐、自动校正、自动优化和数据分析工具，与高性能质谱一起给您带来极致的测试体验。性能优势灵活的进样系统，用户可根据自身的应用需求灵活选择标准进样系统、耐氢氟酸进样系统、耐高盐进样系统；还可根据需要选配波尔贴半导体制冷装置，精确控制雾化室温度，降低基质干扰。采用一体式同心炬管，矩管基座导轨式设计，安装简便，自动定位，使得进样系统维护便捷和操作简单。采用高效稳定的全固态自激式射频发生器，保证样品原子化/离子化的稳定性和重复性。自激式射频发射器通过射频线圈将能量高效率传输至等离子体工作区域，功率在300～1600W范围连续可调，即使面对复杂基体样品，等离子体依然可以强劲高效激发。多重安全防控措施，确保仪器安全可靠的运行，避免用户误操作带来的风险。活动的锥接口设计，可使仪器在真空状态下更换锥接口和维护锥接口。新一代碰撞反应池技术，可消除多原子和双电荷离子干扰，提高数据准确性；同时还可以采用高纯氦气作为碰撞气体，设置简单安全，无需切换气体。智能化操作软件，支持用户自己编辑报告模板。应用领域环境保护：包括自来水，地表水 ，地下水，海水以及各种土壤、污泥 、废弃物等的分析食品安全：卫生防疫、商检、烟及酒等食品的质量控制，鉴别真伪等合金材料：钢铁合金、玻璃、陶瓷和矿冶等样品分析

氧等离子体去胶机VP-RS15真空腔体不锈钢材质，功率500W，射频频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。