射频辉光光谱仪

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现： 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率； 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成； 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器高的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。更多指标参数请访问HORIBA官网

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。 GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用多项技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s） 技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。仪器原理：辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴）样品表面，产生阴溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。更多指标参数请访问HORIBA官网

仪器简介： GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到150微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项专利技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。 技术参数： 1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。 2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。 3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm~800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。 5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5 x 1010。 6、宽大的样品室方便各类样品的加载。 7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。 8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。 9、适用于ISO14707和16962标准。

GD-Profiler HR拥有高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有高光通量，因而拥有卓越的光效率GD敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏地检测ppm含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA单色仪（选配）可极大的提高仪器的灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。10、GD-Profiler HR多色仪焦距为1米，光谱分辨率可达14pm，最多可同时分析60种元素。11、GD-Profiler HR可选配焦距为1米的单色仪，光谱分辨率达9pm。更多指标参数请访问HORIBA官网

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的辉光放电光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷采用RF光源可精确可靠的测量-电镀测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分精确测量化学元素含量高精度、高重复性检测快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究

仪器简介：GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校准曲线更小自吸收和材料再沉积原子线激发少和窄的发射线减少干扰无冶金记忆效应较少的校准标样低氩气消耗两次分析间的自动清扫均匀的溅射其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。以下为对一个硬盘表面100nm深度每种元素3次分析的结果，可以看到每种元素随深度的分布。 可选件射频光源统计软件包光源套件样品夹持器SMARTLINE远程诊断软件求耗材相关信息gds850参考卡(203-104-039)gds850样本文章：辉光放电-涂层分析的现代方式应用报告：QDP物理气相沉积法（102）应用报告：GDS镍及镍基合金（052）应用报告：GDS深度剖面分析（033）应用报告：镀锌钢（001）应用报告：抛光不锈钢上的薄氧化层（002）应用报告：铝合金基板上的商用硬盘（003）应用报告：玻璃基板上的40GB硬盘在（- 004）应用报告：氧化铝样品中的铬（- 005）应用报告：NIST 2135c（- 006）性能报告：GDS分析基体样品的分析前准备（031）性能报告：GDS ASTM E415真空法（030）性能报告：GDS校准（- 041）性能报告：GDS辉光放电光源（035）性能报告：GDS ASTM E1009（- 044）性能报告：铝膜QDP分析（028）性能报告：镀铝钢的涂层分析（040）性能报告：渗碳钢的QDP分析（036）性能报告：粘弹性钢夹层QDP分析（034）性能报告：磷酸铁涂层QDP分析（043）性能说明：镀锌钢QDP分析（027）性能说明： QDP分析电镀样品（024）性能说明：GDS850硬盘深度剖面-048

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性 高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-电镀 测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗OL/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1380mmx1440mmx890mm重量约580kg

GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力， 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。 采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。 激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率 -专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um -完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM) -Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节 真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析 -光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵-选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代 WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1250mmx1440mmx650mm重量约210kg

GD-OES8000辉光放电光谱仪产品介绍：技术参数：功能方式：DC或RF；波长范围：120-800nm；光谱分辨率：18pm-25pm； 深度分辨率：1~2nm；溅射速率：＞1μm/min；深度剖析的范围：1nm~200μm；焦距：998.8mm元素通道：48探测器：光电倍增管PMT性能特点： 有着较低的检出限。 能够逐层检测样品表面。 十几个元素的含量通过一次监测就能够得到，能够给出较大的信息量。 只需几分钟就能够对一个样品，有着非常快的检测速度。 不需要对样品进行稀释，溶解等处理，能够直接对固体样品进行检测。 有非常广泛的检测范围。 光机电产品一体化整机设计。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。了解如何借助 Thermo Scientific&trade ELEMENT GD&trade PLUS GD-MS 为固体中高级高纯度材料的直接分析定义新的标准。通过最大限度减少校准和样品制备操作，可提高样品处理量并达到超低检测限，从而使 GD-MS 适合整块金属分析和深度剖析应用。陶瓷和其他几种非导电粉末使用二次电极法进行分析，从而提供相同水平的灵敏度和数据质量。这使得 GD-MS 成为痕量金属分析的可靠标准方法。存在于固体样品中的几乎所有元素都可进行常规检测和定量：许多元素的含量低于十亿分率 (ppb) 水平。µ s 脉冲式高流速辉光放电池采用脉冲放电模式的高灵敏度离子源广泛可调的溅射速率适用于快速进行整体分析和高级深度剖析应用使用二级电极进行氧化铝粉末分析双聚焦质谱仪高离子传输率和低背景使得信噪比可达亚 ppb 级检测限高质量分辨率可提供最高水平的选择性和准确度：是无可争议的分析结果的先决条件十二数量级的自动检测系统在一次分析中测定基体和超痕量元素，全自动检测器涵盖 12 数量级动态线性范围直接定量测定基体元素 IBR（离子束比率）高效率和简单易用的软件包所有参数均由计算机控制全自动调谐、分析和数据评估自动 LIMS 连接性远程控制和诊断Windows 7样品周转时间通常少于 10 分钟能够在一次分析中测定基体元素到超痕量元素深度剖析涵盖数百微米到一纳米的层厚度最小化基体效应，便于进行直接定量

我们分析系统的高端产品系列GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品GDA 750 HR通过光电倍增管可检测多达79个可能的元素通道，GDA 750 HR辉光放电光谱仪是您的具有挑战性的应用的理想光谱仪。它提供了大的灵活性，佳的检测限和分析精度，即使是薄的层。可选的高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件扩展了GDA 750 HR的功能，能够将几乎无限数量的元素通道集成到您的分析工作中。GDA 750 HR的特点：GDA 750 HR配备了一个可以无碳氢化合物测量的涡旋泵。GDA 750 HR标准设备还包括一个高频辉光放电源。这也允许分析不导电的样品。使用等离子体干扰可以更容易地分析难以刺激的样品。GDA 750 HR的应用领域从热处理到镀锌到复杂的多层系统。由于PMT的快速数据采集，也可以检测到低于100nm的层测量深度达200微米具有快速数据采集的深度剖面，即使对于非导电层（如几纳米厚度的氧化物）也是如此所有金属和金属合金的含量分析分析非导电样品，如陶瓷，玻璃或漆涂层校准曲线的线性可以测量弯曲甚至形状异常的样品。

AstruM ES是一台双聚焦辉光放电质谱仪，一次扫描就可以测定从亚ppb到基体之间所有元素的含量。它被广泛地应用在高纯金属，半导体材料，航空航天材料的杂质检测。

辉光放电仪主要用于透射电子显微镜（TEM）样品载网和支持膜的清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电荷而变得具有亲水性，样品水溶液因此很容易分散在其表面，便于样品在TEM下观察。同时可以通过辉光放电产生的离子流，对样品表面进行清洗，除去样品表面的有机物分子，灰尘颗粒等污染物，更加真实的在TEM下反映样品的表面形貌结构。主要功能：1、自动程序设定、手动模式选择2、直观的触摸屏显示与控制3、支持带正/负电表面的亲水性或憎水性处理4、换样时间短，真空抽速高 主要技术参数辉光电流0-30 mA高压功率30W样品台?75mm，25 x 75mm载玻片槽样品台高度1-25 mm工作时间0-900 sec.样品室尺寸?120 x 100mm H真空控制潘宁规,范围从大气到0.01 mbar工作真空度1.1 - 0.20 mbar参数设置3" 触摸屏设置操作模式自动/手动可选外观尺寸305 L x 292 D x 230mm H重量6.26 kg

功能强大且灵活的仪器，用于日常质量控制GDA 150 HR和GDA 650 HR GDOES光谱仪是用于质量控制和研究的强大工具，旨在处理全天候工作，同时保持良好的可维护性。GDA 150 HR主要用于研究您的导电样品，在分析性能方面丝毫不逊于其兄弟GDA 650 HR。GDA 650 HR还可以分析非导电样品。GDA 150 HR辉光放电质谱仪GDA 150 HR是一款稳定的温度稳定的CCD光谱仪，用于生产区域的深度剖面和平均分析。例如，它针对中小型热处理和涂层公司的需求量身定制 为了在扩散过程之后测试表面， 为了研究电镀涂层工艺， 为了通过PVD或CVD分析硬涂层， 用于评估热镀锌和其他类型的镀锌， 用于导电材料的内容分析 或用于基材进货检验。GDA 150 HR适用于所有导电基体。甚至可以分析轻元素，如C，N和H（也可以选择O）。借助通用测量室，可以直接测量非平面表面，如管道或球体。仪器的简单操作和分析的短测量时间允许在生产过程中进行快速干预，以纠正任何错误 - 这是其他方法的重要优势。高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件的优势：通道选择灵活 - 可为未来应用扩展。

GDA Alpha采用最新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。 GDA Alpha装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨率和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA Alpha具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA Alpha也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA Alpha装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm，可适应多种类型的样品分析，方便快捷。应用 热处理-精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%辉光放电光谱仪主要应用领域 汽车制造及零部件 金属加工、制造 冶金 航空、航天 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等 电镀 光伏电池、锂电 科学研究激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析金属薄膜、热处理层。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%.外观尺寸675mmx390mmx950mm重量约95kg

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最jia工具。ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：- 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率；- 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成；- 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度高，轻元素重元素均可。 GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性：· 高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。· 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。· 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。· 低至亚ppb级的定量数据。· 具有深度剖面同位素比值分析能力。· 最少的样品制备过程。

一、设备简介NE-PE60F是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE60F 系统功能特点： &bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计，可调节托盘间距&bull 8K镜面不锈钢腔体，卓越密封性&bull 13.56射频等离子发生器，产生高密度等高子体，确保出众的清洗效果；&bull 直观的触摸屏，过程参数实时监控。&bull 方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体，包括氩气，氧，氢，氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 高精度气体流量监测系统，两路工艺气体配置(氩气、氧气），双路气流控制，比例 可调，采用高精度电子质量流量计(MFC)、针阀、美国世维洛克气体管路设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-500W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率13.56 MHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 镜面不锈钢，军工级密封腔体容积370(W)*450(D)*400(H)mm 60L单层有效处理面积W370mm x D370mm 电极板数量6层（可定制）真空测定系统（睿宝电阻真空硅管）皮拉尼高精密电阻式真空计绝缘陶瓷进口高频陶瓷3放电电极电极高导电铝合金专用电极电极间距可调整电极之间的距离，调整等离子体强度和密度，极大提升处理能力和效率4气路控制气体流量控制器MFC 气体质量流量计精确控制流量0-500ml/min气路设计腔体均匀进气气路设计，保证清洗均匀性气路数量配置2路工艺气路，可支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等5真空测量真空测定系统皮拉尼真空硅管 测量范围：1.0×10 5 ～1×10 -1 Pa6抽气系统真空泵油泵/无油干泵（选配）工作真空度30PA以内抽真空时间60s以内破真空时间≤15s真空管路不锈钢管路+气动阀门7控制系统PLC三菱PLC模块触摸屏7寸软件程序自主专利设计等离子控制系统8场务条件电源供应AC380V,50/60Hz，三相五线100A 气管接口直径8mm气体纯度99.99%压缩空气要求0.6~0.8MPa输入气压检测系统2路自动报警气压表排气口KF259整机参数整机功率4.5KW外形尺寸900mm(L)×960mm(W) ×1750 mm(H)重量400kg

一、产品简介 激光与原子分子相互作用中，射频（微波）被广泛的使用于超精细能级激发、激光移频、激光锁定、AOM驱动等。这类实验除对微波位相噪声和振幅噪声有极高要求外，还要求微波有程控或触发控制通断、程控或外加信号控制调制以及PID反馈控制等功能。MOGLabs为科学家提供量身定做的敏捷型射频合成器ARF/XRF、四通道射频合成器QRF、AOM驱动器AAD，集成上述功能于一体，并集成功率输出可直接驱动AOM，满足多方面的射频源需求。二、型号参考型号ARF/XRFQRFAAD通道数目241（AADPCB）2（AAD420）最高输出功率+36dBm（421）+16dBm（021）+36dBm（241）+10dBm（041）+36dBm射频源DDS（AD9910）DDS（AD9959）内置可变振荡器或外置震荡源频率范围20 - 400MHz10 - 200MHz70 - 210MHz（内）70 - 350MHz（外）内置参考源20MHz TCXO25MHz TCXONo计算机可控制Ethernet，USBEthernet，USBNo频率控制32-bit（0.23Hz步距）32-bit（0.12Hz步距）10圈电位器振幅控制12-bit10-bit单圈电位器位相控制16-bit14-bit无TTL开关时间40ns40ns 主调制AM/FM/PM，10MHzAM/FM/PM，100kHzAM/FM，500kHz次调制AM/FM/PM，1MHzN/AAM/FM，500kHz内置PIDYesYesNo表格指令间距16ns（XRF）1μs（ARF）10μsN/A数字I/O16路高速I/O无无三、各型号特点及应用1、敏捷型射频合成器ARF/XRF特性l两路独立或同步输出l卓越的模拟调制（AM/FM/PM）带宽：10MHzl用于强度稳定或频率锁定的PID控制l高功率输出：2×4W/ 通道（421型）l宽频谱范围：20 ~ 400MHzl自动执行表格指令，用于复杂序列l16路独立数字信号输出，表格控制l射频输出功率监控及保护l可靠的开路/ 短路保护l数字信号输入控制快速（50ns）射频开/关，以及触发l极低位相噪声l外置时钟输入l三路模拟输出选件l16路数字输入输出（XSMA）l用于噪声抑制及锁频的信号调整（B3121）应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准2、四通道射频合成器QRF特性l高功率：通过选件可达2W/ 通道l10 ~ 200MHz宽范围精密调节l每通道独立模拟调制（AM/FM/PM/PID）l表格指令运行模式：顺序产生复杂频率/功率/位相/波形lPID控制，用于强度稳定及漂移补偿l通过网口和USB的简便控制lTTL快速通断控制，40ns延时l牢靠的开路/短路保护应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准3、AOM驱动器AAD特性l高功率：可达+36dBm / 通道l70 ~ 200MHz 频率范围l高调制带宽：500kHz（FM、AM）lRF功率输出及监控输出（-22 dBc）lTTL外触发快速通/断控制l十圈频率调节，单圈功率调节l低位相噪声高稳定性VCO如有其它需求，请联系我们。

GVC-100辉光放电仪主要用于铜网的亲水性处理。创 新 点：全自主研发，自主知识产权，操作便利，重复性好应用领域：透射电镜 生物样品制备生物样品在进行TEM观测时，需要将制备好的样品放置于铜网上后放入TEM内进行观测，因此，需要铜网具备良好的亲水性。铜网往往是没有亲水性的，所以需要利用该仪器对铜网进行处理，改变表面特性，实现良好的亲水性。该设备也可以用于TEM样品杆的清洗等。技术参数：放电电流0-30mA 连续可调电源功率Max. 50W处理平台Φ75mm预处理时间1-999 秒处理时间1-9999 秒样品室Φ130×130mm进气接口2 个φ4 快拧接口真空测量皮拉尼真空规极限真空度1Pa工作真空20-100Pa人机界面5 英寸彩色触摸式液晶屏外观尺寸424×271×255mm软件保护真空保护、过流保护等

辉光放电光谱仪GDA150 HR是一款功能强大的分析仪器，非常适合质量控制和研究用途，并且可以全天候高效运行。 GDA150 HR主要实际用于研究导电样品，其分析性能几乎与GDA 650 HR相当。这款功能强大且温度稳定的CCD光谱仪经过热处理以及涂层测试的需求进行了优化，在制造业中广泛应用。它不仅适用于所有导电基体，还可以分析C、N和H等轻元素（也可选择O）。由于操作简单且分析时间快速,GDA150 HR 可以迅速介入生产过程并在测量时纠正任何错误。 应用领域 1. 扩散过程的表面试验。 2. 制造中的深度剖面分析。 3. 涂装工艺研究。 4. 硬质涂层分析。 5. 涂镀层评价。 6. 灵活的信道选择。 7. 测量弯曲和不寻规则形状的样品。 8. 全谱评估。

产品综述 4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪频率范围可达6.5GHz/18GHz/26.5GHz/40GHz，集双端口矢量网络分析、电缆和天馈线测试、矢量电压测量、频谱分析（通道功率、邻道功率、占用带宽、干扰分析、频率计数）、场强测量、功率测量等多项功能于一体，为您提供强大的综合测试能力！双端口矢量网络分析：可快速准确地对射频微波网络参数进行测量，提供对数、线性、相位、群延时、Smith圆图、极坐标、驻波比等多种显示格式，且提供时域测量选件。电缆和天馈线测试：可实现对天馈线、传输线、电缆等射频微波网络的驻波比、回波损耗、阻抗、电缆损耗等参数进行测量，具有不连续点定位（DTF）功能，可方便地测量馈线、电缆中的阻抗不连续点。矢量电压测量：采用一体化方案代替传统的矢量电压计，可对电缆及其他一些被测件的电长度进行测试。频谱分析：可对电磁环境下频谱特性进行测量，是一台标准功能的频谱分析仪。 场强测量：用户界面友好、测试灵敏度高，配合相应的测试天线，可有效监视电磁波谱，广泛应用于空间电磁环境监测和无线电管理。 功率测量：配置USB功率探头，可实现大动态范围、高精度功率测量，也可通过频谱输入口进行功率监测。主要特点测试功能丰富：天馈线测试、矢量网络分析、频谱分析、场强测量、功率监测、矢量电压测量、USB功率测量等体积小、重量轻、三级环境适应性，便于机动携带和特殊场合测试8.4寸液晶触摸屏，操作简便，人机界面友好，结果显示直观测试数据可存储调用，提供三种存储介质：内部存储器、USB外部存储器、SD外部存储器可电池供电，适合野外使用，智能电源管理，具有剩余电量指示和低电量告警功能，具有休眠节能功能具有八个独立光标显示功能，光标位置可随手指滑动具有数据存储、回放和比较功能具有USB、LAN等接口，可实现程控和数据传输网络分析：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列网络分析频率范围为30kHz~6.5GHz/18GHz/26.5GHz、50MHz~40GHz，提供标准的S参数矢量网络分析测量能力，可进行放大器、滤波器、衰减器、双工器等器部件S参数测试，显示格式包括对数、线性、相位、群延时、Smith圆图、极坐标、驻波比等。频谱分析：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列频谱分析功能（频谱分析、通道功率、占用带宽、邻道功率比、频率计数）频率范围为9kHz~6.5GHz、100kHz~18GHz/26.5GHz/40GHz，具有频率范围覆盖宽、灵敏度高、动态范围大、相位噪声好等特点，可实现快速、高效的信号侦测和测量。可同时显示3条迹线，并且有标准、取样、正峰值、负峰值、均值等不同的检波器模式选择。具有干扰分析、频谱图、瀑布图、数据记录和回放功能。电缆和天馈线测试（选件）：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪作为电缆和天馈线测试仪能够对电缆、馈线等被测件的回波损耗、电压驻波比、阻抗、电缆损耗、故障点距离进行测量，回波损耗和故障点距离测量将帮助您确定天馈线系统中导致系统性能下降的具体原因。内置一些常用电缆、馈线参数，方便使用。矢量电压测量（选件）：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列矢量电压测量频率范围为30kHz~6.5GHz/18GHz/26.5GHz、50MHz~40GHz，可对被测件的电长度和相移进行匹配测量，可进行反射和传输测试。USB功率测量(选件)：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列可通过选用电科思仪872XX系列USB连续波/峰值功率探头进行功率测量，可以测试频率高达40GHz的射频/微波功率。功率监测(选件)：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪也可通过频谱输入口进行功率监测测量，频率范围10MHz~6.5GHz/18GHz/26.5GHz/40GHz。场强测量（选件）：4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列配合相应的测试天线还可进行场强测量，广泛应用于空间电磁环境监测和无线电管理。支持用户天线，允许用户定义自己的天线。支持列表扫描频谱分析、天馈线测试、网络分析等除频率扫描外，还都支持列表扫描方式，各个段内参数相互独立。支持上下极限线频谱分析、天馈线测试、网络分析都支持极限线测试。极限线可以作为一个可视的参考，也可作为PASS/FAIL判断的依据，如果测试数据超过上极限线或者低于下极限线，扬声器将发出“滴”的声音来提醒用户数据已经超差。中英文菜单，易使用机内提供中英文两种菜单，一键切换，非常方便。休眠节能功能具有休眠节电功能，休眠时间可设置，休眠功能开启时，若在一定时间没有操作，会自动关闭显示或关机，节省电能，有效延长电池工作时间和电池使用寿命。更多的光标数提供多达8个独立的光标，可显示光标所在位置的参数，也可进行最大、最小或峰值的搜索，每个光标都提供△模式，使测试读数更加容易。另外显示屏左侧的标尺可方便对测试结果的好坏进行判断。U盘自动软件升级4957B/D/E/F提供可用于软件升级及数据备份的USB接口，您可以方便地利用U盘对仪器进行软件升级及维护，只需几步操作，简单快捷，升级完毕重启仪器即可。典型应用 4957B/D/E/F射频/微波综合测试仪系列体积小、重量轻、携带方便，测试参数多，测试功能全面，非常适合多参数测试场合，可电池供电，是各种微波电子设备现场工程安装、调试、日常维护维修的有力工具，可广泛运用于雷达、通信、广播电视、无线电管理等各领域，也是高校教学的选择。雷达主要性能参数测试作为功能齐全的综合测试仪，4957B/D/E/F在高达6.5GHz/18GHz/26.5GHz/40GHz频率可完成雷达天馈、发射和接收等分系统的主要性能参数测试，包括天馈分系统的驻波比、反射系数、插入损耗、回波损耗和阻抗特性等，发射分系统的发射信号频率、频谱特性等，接收分系统的中心频率、增益、差损、带宽、动态范围等。有线电视、无线通信等领域多参数测试有线电视、蜂窝电话系统、数字移动通信运营商和设备制造商等利用4957B/D/E/F在现场对频谱分布、天馈线接触性能、器部件的S参数、馈通功率等进行一体化测试。

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产 右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109

高性价比射频二氧化碳激光器 RF88姓名：田工(Tom)电话：（微信同号）邮箱：高性价比射频二氧化碳激光器产品简介： CO2激光器是一种气体激光器，典型波长为10.6μm，属于中红外频段。相比于其他激光器，CO2激光器具有更高的功率和电光转换效率，非常适合用于非金属材料加工。意大利 El.En.公司在射频二氧化碳激光光源制造方面有超过30年的经验，已在各个地区安装超过2500个工业解决方案。对于低功耗的应用，El.En.公司的工程师开发了一款高效的射频CO2激光光源—RF 88，其额定输出功率为80W，有效峰值功率可达200W。El.En.精心设计的密封式二氧化碳激光器保证激光功率长时间稳定和近乎高斯光束的激光输出，是集成到您设备中的“不二之选”。高性价比射频二氧化碳激光器产品特性：-射频激励-密封技术-高光束质量-结构紧凑&易于集成高性价比射频CO2激光器主要应用： -生物刺激 -塑料和皮革切割 -农业嫁接 -激光微穿孔 -激光打标RF 88 技术规格：

安立MA24105A通过式峰值功率传感器能够在350 MHz 到 4 GHz的频率范围下提供准确的平均功率测量，其功率测量范围涵盖2mW至 150 W。该传感器在其采用"双通道"内部架构的二极管传感器前端配备一个独立的定向耦合器，能够在整个频率和动态范围内提供（类似于热敏传感器）真有效值测量，使得用户能够对 CW、多音信号以及数字调制信号（如 GSM/EDGE、CDMA/EV-DO、WCDMA/HSDPA、WiMAX 和 TD-SCDMA）执行高度准确的平均功率测量。传感器中的信号调节回路、ADC 、电源及微处理控制器共同构成一个功能全面的功率计。正向路径还包括一个4MHz带宽通道，峰值和比较器/集成电路，由此增加了测量功能，比如：PEP功率、波峰因子、CCDF测量功能和突发平均功率.另一反向检测电路增加了反向功率测量功能，包括反向功率、反向系数、回波损耗和SWR. 微控制器、信号调节电路ADC，以及传感器中的电源，使之成为一个完整的微型功率计。与个人电脑搭配操作可以通过USB接口与Microsoft Windows系统的个人电脑相连接使用。其带有PowerXpert™ 应用软件 (版本 2.1 或更高)，可用于数据显示、分析和功率传感器的控制。软件提供了一个前窗面板，使得PC界面如同传统的功率计。这款应用软件有极丰富的功能特点，比如数据记录、功率Vs时间，以及偏移表，实现快速精确的测量。频率范围350 MHz - 4 GHz动态范围2 mW to 150 W (+3 dBm to 51.76 dBm)输入回损29.5 dB, ≤ 3 GHz26.5 dB, ≤ 4 GHz测量不确定度 3.8%射频接头N (F)一批功率计，反射仪，激光器等最后清仓中序号名称型号数量描述厂家备注1安立射频功率计MA24105A1Inline Peak Power Sensor, 350 MHz to 4 GHz安立全新2安立光功率计5P100-FC1安立全新3光时域反射仪MU909815C11310，1550，1650波长，三波长，35dB安立全新4光时域反射仪MU909014A51650波长，单波长，30dB安立全新5MT9090模块MU909014A91650波长模块安立全新6泵浦激光器AF4B116AA75L34安立全新7泵浦激光器AF4B230CU550F1安立全新8校准套件3669B1V Connector Verification Kit安立全新9天馈线测试仪S251B1安立全新10天馈线测试仪S332D1安立样机11SDH样机MP1590B1安立样机12现场综测测试仪CMA30001安立全新13衰减器41KC-201Precision Fixed Attenuator, 20 dB, DC to 40 GHz, 50 Ohm, K(m) - K(f)安立全新14功率传感器MA2411B1安立全新15互调仪MW82119A1安立全新16偏置器5585-1141BIAS TEE，2-18HGz,100V,6A,SMA J-PPicosecond全新17偏置器5589-1141BIAS TEE，3-2.86HGz,100V,7A,SMA J-PPicosecond全新18衰减器89-30-121 avg 10W, 2.92mm(m-f)安捷伦全新19黄青蛙功率计0077-2-R5YellowFrog power meter 700 MHz to 2.7 GHz黄青蛙全新20鸟牌射频功率计5000-EX3Digital Power Meter鸟牌全新21鸟牌探头50124Wideband Power Sensor鸟牌全新22衰减器8490D-02012.4mm(m-f)，RF power avg 1W Coxial fixed attenuator,dc-50GHz with options 020Aeroflex全新23转接头506542.4(m)-3.5(m)Aeroflex全新24转接头506622.4(m)-3.5(f)Aeroflex全新25转接头506722.4(f)-3.5(m)Aeroflex全新26转接头506823.5(f)-2.4(f)Aeroflex全新27转接头508543.5(m)-3.5(m)Aeroflex全新28转接头51121N(m)-APC7Aeroflex全新29转接头514023.5(m)-APC7Aeroflex全新31转接头514423.5(m)-N(m)Aeroflex全新32转接头514513.5(f)-N(m)Aeroflex全新33转接头514623.5(m)-N(f)Aeroflex全新34转接头514842.4(f)- 2.4(f)Aeroflex全新35转接头514942.4(m)-2.4(m)Aeroflex全新36转接头515222.4(f)- 2.92(m)Aeroflex全新37转接头515322.4(m)- 2.92(f)Aeroflex全新38转接头515432.4(m)- 2.92(m)Aeroflex全新39转接头515722.4(m)-N(m)Aeroflex全新40转接头518222.4(f)-APC7Aeroflex全新41国产电缆4742国产转接头4943电源线16744国产校准件145国产电池146电源适配器5447偏置器248混频器149连接器750国产衰减器751延长线952定向天线453全向天线1154八木天线1055串行接口电缆256跳线557铝箱4758中号升降平台159大号升降平台160软包561以太网线262功分器363国产负载1764可调谐光源样机模块2

射频0.7um探针座产品介绍谱量光电TPLR系列射频探针座是一款集成进口细牙丝杆以及进口交叉滚珠导轨，这个保证了我们在探针的运行过程中的稳定性以及精度，底部匹配日本进口超强磁性底座，可以通过开关调节磁性的有无，超强磁力，稳定性高，探针移动不偏移，集成射频专用夹具，水平角度0-30°可调，方便了我们调整射频针尖状态，方便我们完成射频测试！射频0.7um探针座产品说明探针位移精度0.7μmXYZ位移行程20mm点测角度0-30°射频（RF）是Radio Frequency的缩写，表示可以辐射到空间的电磁频率，频率范围从300kHz～300GHz之间。射频就是射频电流，简称RF，它是一种高频交流变化电磁波的简称。每秒变化小于1000次的交流电称为低频电流，大于10000次的称为高频电流，而射频就是这样一种高频电流。射频（300K-300G）是高频（大于10K）的较高频段，微波频段（300M-300G）又是射频的较高频段。谱量光电TPLR系列射频探针座集成进口细牙丝杆以及进口交叉滚珠导轨，保证了我们在探针的运行过程中的稳定性以及精度底部匹配日本进口超强磁性底座，可以通过开关调节磁性的有无，超强磁力，稳定性高，探针移动不偏移，集成射频专用夹具，水平角度0-30°可调，方便了我们调整射频针尖状态，方便我们完成射频测试！模块介绍通用型0.7um探针座通用参数探针座位移精度0.7um探针座位移行程XYZ20mm点测角度0-30°移动方式线性移动底座固定方式磁力吸附（可升级真空吸附，固定安装）应用RF测试，兼容常用射频探针产品示意图射频0.7um探针座应用领域RF测试等，可配合40GHZ/50GHZ/67GHZ/110GHZ射频探针使用谱量光电根据客户实际应用需求，定制配套探针台系统，以达到更好的测试效果及更高的性价比，具体信息可联系详询公司介绍 南京谱量光电科技有限公司是一家专业从事集光电仪器、精密机械、计算机软硬件于一体的技术创新型企业。主营激光器、探针台、积分球、光电测试系统、光学机械、物理成像设备、光学设计镀膜及多种光电类测试服务。产品主要服务于物理光学、电子、材料、化学、生命科学等相关科学领域。谱量光电总部坐落于江苏南京，在济南设有生产中心，公司拥有成熟的研发及运营团队，我们坚持从研发设计、制造选型、装配调试等环节做好产品全方位质量保证。公司自成立运营以来，已成为国内科研用户的优选品牌，产品得到了众多高校、科研院所等高水平实验室的应用。我们一直以客户需求为导向，秉持“专业、品质、服务”的经营理念，为客户提供值得信赖的产品和服务体验。我们相信谱量光电的产品和技术将得到客户越来越广泛的应用和赞誉，我们愿意与广大客户和合作伙伴携手，共同在“科教兴国、科技强国”时代创造价值，实现共赢！ 为我国的光电子产业发展做出自己积极的贡献。企业文化： 企业愿景：产研融合，创新发展，赋能国内产学研革新！核心价值观：诚信、专注、创新、共赢技术理念：不断超越，追求完美服务理念：专业、贴心、及时、周到

PELCO easiGlow&trade 91000辉光放电仪是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM铜网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow&trade 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括：真空设定精确、方便处理周期短 结果重现好自动程序控制与手动模式可选采用触摸屏，显示与控制直观方便支持带正/负电、亲水性/疏水性模式结构紧凑，价格合理 提供两个可选的夹具，用于批量处理铜网或支持膜。当然直接用实验室的玻片承载也可以。 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。同时提供两种可选的不同的网格夹具来固定需要清洗的铜网。 工作距离与压力的优化曲线 对于经常进行亲水性和疏水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统以避免在样品室内引起交叉污染。技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台直径75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小直径120 x 100mm 高进气孔2 个直径6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高重量11 kg 真空泵性能 2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

GloQube® Plus是一种性价比高、结构紧凑同时易于使用的辉光放电仪，满足Cryo-TEM实验室样品制备需求。GloQube® Plus的主要应用是对TEM载网表面进行改性，以满足各种大分子冷冻电镜成像的要求，该系统将两个腔室集成在一个系统中，能够同时实现亲水和疏水处理。

太赫兹探测器/微波射频热声探测器(RF Thermoacoustic Microwave and Millimeter Detector)品牌： Tydex型号： TAD-ATydex的热声探测器 TAD-1 被专门设计用来测量微波频段的脉冲电磁波，可测量脉冲宽度1-500ns，响应的波谱范围为3-300GHz。当微波脉冲激发探测器内部层结构时，会产生声波信号。探测器TAD-1可以被用来测量以下微波辐射源： √ 初级回旋谐振振荡管 √ 二次和三次回旋谐波的大尺寸回旋振动管 √ 毫米波段的表面波相对产生器 √ 脉冲式磁控管产生器 √ 相对返波管振荡器 √ 毫米波段的调速管 √ 其它光源 此探测器能将大功率的射频电磁波脉冲精确地以相同的形状轮廓转换为声波信号。因此根据示波器的响应，可以计算出脉冲能量的时间依赖关系，并由此描绘出输入脉冲时间依赖的能量相对值形貌。性能参数：参数数值探测器窗口尺寸，mm20.0可测量的脉冲宽度范围，ns1-500可测量的频率范围，GHz3-300脉冲重复频率，kHz最高可测5Hz微波脉冲峰值输出，MW1-500推荐的微波功率通量密度，W/cm250—1×104操作温度，℃5—45存储温度，℃0—60空气湿度，%5—85整体尺寸（L×W×H），mm105.0×60.0×60.0重量，Kg0.35微波射频热声探测器?