预处理烘箱

产品概览： 先进的定时器功能可在预先设定的时间后自动打开或关闭烘箱选择每周重复的定时器或在24小时制的基础上运行烘箱最佳性能最高工作温度达到330° C最高的温度均一性和稳定性极低的能耗&mdash 60L型号每小时只需170W（自然对流）或259W（机械对流）即可维持150° C的温度可调风扇速度高转速，快速干燥和加热，快速恢复在需要最小气流时降低转速风扇速度和进气口开关的位置可由电子控制，适合应用相关气流最大的安全性自动干燥功能，样本干燥后烘箱立即自动关闭，具有节能效果（注：需订购可选的样本温度传感器）标准设备设有超温报警，并设有附加的低温报警，确保样本保存于正确的温度门加锁，防止中断、干预处理过程或意外开启门门意外开启时有声报警性能可靠可编程控制器，用于温度补偿和保持，最多可存储多达10个程序，每个程序多达10个步骤接入端口可连接传感器进行独立的数据监测操作简单的校准程序，确保特定一段时间后仍保持温度精度Boost功能可实现快速升温不锈钢外形可选，易于清洁，可满足药品和临床实验室的严格要求技术规格 两种气体对流方式自然对流高端安全型烘箱机械对流高端安全型烘箱型号（涂层外形）OGH60-SOGH100-SOGH180-SOMH60-SOMH100-SOMH180-S型号（不锈钢外形）OGH60-S SSOGH100-S SSOGH180-S SSOMH60-S SSOMH100-S SSOMH180-S SS对流技术自然对流自然对流自然对流机械对流机械对流机械对流温度范围+50-330° C+50-330° C+50-330° C+50-330° C+50-330° C+50-330° C温度均一性± 2.5° C ± 3.0° C± 2.5° C ± 1.8° C ± 1.3° C ± 1.8° C （at 150° C）温度稳定性± 0.3° C± 0.3° C± 0.3° C ± 0.2° C ± 0.2° C ± 0.2° C （at 150° C）台面面积0.3 m20.36 m20.47 m20.3 m20.36 m20.47 m2内腔容积61 L99 L168 L62 L97 L170 L内腔尺寸328× 480× 389 mm438× 580× 389 mm438× 680× 564 mm328× 508× 343 mm438× 608× 343 mm464× 708× 518 mm（宽× 高× 深）外部尺寸530× 720× 565 mm640× 820× 565 mm640× 920× 738 mm530× 720× 565 mm640× 820× 565 mm640× 920× 738 mm（宽× 高× 深）层架数（标配数目/最大数目）2-132-162-192-132-162-19层架最大荷载25 kg25 kg25 kg25 kg25 kg25 kg额定电压/频率230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz 230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz 功率1810 W3100 W3100 W1400 W3060 W3060 W重量44 kg55 kg 69 kg44 kg55 kg 69 kg

产品型号： HS40 产品特点：1、机外壳采用冷轧板烤漆处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 产品技术参数： 电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2% 输入功率：3000W 控温范围：室温+10℃-250℃ 温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 达到真空度：133Pa 容积：90L 工作室尺寸（mm）：450*450*450 外形尺寸（mm）：615*615*900载物托架：2块 时间单位：分钟选配件： 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，极限真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。 HMDS预处理系统的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 HMDS真空烘箱的原理： HMDS预处理系统通过对HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。 HMDS真空烘箱的一般工作流程： 先确定工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。 尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。外壳冷轧板烤漆

实贝PVD-090-HMDS预处理真空烘箱涂胶镀膜烤箱实贝PVD-090-HMDS预处理真空烘箱涂胶镀膜烤箱全自动电脑式HMDS涂胶烤箱，HMDS真空镀膜机，HMDS预处理系统，HMDS真空烤箱HMDS预处理真空烘箱一、预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，而涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得更为必要，尤其在所刻线条比较细的时候，任何一个环节出现一点纰漏，都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，如果在晶片表面直接涂胶的话，会造成光刻胶和晶片的黏合性较差，甚至造成局部的间隙或气泡，涂胶厚度和均匀性都受到影响，进而会影响了光刻效果和显影，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀，所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物，是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。二、产品结构与性能2.1产品结构：1．设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑，内胆316L不锈钢材料制成；无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置；钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2．箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内保持高真空度。3．温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。4．智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5．HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性能极好，确保HMDS气体无外漏顾虑。6．无发尘材料，适用百级光刻间净化环境使用。 2.2产品性能：1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。3.液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片，效率高。4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多，经实践证明，更加节省药液。5. HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染，更加环保和安全。三、技术参数：规格型号PVD-090-HMDSPVD-210-HMDS容积（L）90L210L控温范围RT+10～250℃温度分辨率0.1℃控温精度±0.5℃加热方式内腔体外侧加温隔板数量2PCS3PCS真空度133Pa（真空度范围100～100000pa）真空泵抽气速度4升／秒，型号DM4电源/功率AC220/50Hz，3KWAC380V/50Hz，4KW内胆尺寸W*D*H（mm）450*450*450560*640*600外形尺寸W*D*H（mm）650*640*12501220*930*1755连接管：316不锈钢波纹管，将真空泵与真空箱完全密封无缝连接备注：选配温度压力记录仪时，因工艺需要改变设备整个外箱结构，请参考实物图。外壳采用优质冷轧钢板粉末静电喷涂，内胆采用316L不锈钢，外箱尺寸为（W*D*H）mm：980x655x1600（含下箱柜高700），下箱柜空置。适用于增加各类选配功能。四、HMDS预处理系统的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。五、HMDS预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表面生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。开箱温度可以由user自行设定来降低process时间，正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温））。六、尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。七、产品操作控制系统配置:1. 标配DM4直联旋片式真空泵（外置）；需要使用干泵可选爱德华或安捷伦（选购）2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块3. 固态继电器；加急停装置 其它选配：1．波纹管2米或3米（标配是1米）2．富士温控仪表（温度与PLC联动）3．三色灯 4.增加HMDS药液瓶5．低液位报警（带声光报警）6．HMDS管路加热功能7．开门报警 8.压力温度记录仪

HMDS涂到样品表面后，经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物，将样品表面由亲水性变为疏水性，此疏水性能够很好的与光刻胶结合，增加了样品表面与光刻胶的黏附作用 产品应用： 晶圆匀胶前衬底助黏、“增附”处理对于大部分光刻胶与Si衬底而言，其粘附性一般都是不错的，但是在光刻中，通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底，这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想，这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善，这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。以石英、玻璃或硅表面的氧化物（自然氧化）的形式存在的二氧化硅以及大多数金属在暴露于大气中在一定的下湿度足够长时间后在其表面形成极性OH键。这种衬底是亲水性的，因此对光刻胶的非极性或低极性树脂分子具有较差的亲和力。为了使这样的衬底表面具有疏水性，可以用化学方法将HMDS等非极性分子附着在其表面上。HMDS与Si原子在无氧表面结合，与氧化基表面的氧原子(如有必要，OH基团分解)结合，释放出氨。非极性甲基直接隔离衬底表面形成疏水表面，与光刻胶具有良好的润湿性和附着力。工作原理：在室温下，HMDS蒸汽通过干燥的氮气在“起泡器”中运输，然后传递到加热的(75-120°C)基质中，在衬底表面上HMDS作为单层膜进行化学结合。如果液体的HMDS被直接旋涂在衬底上，HMDS层只能起到物理上的粘附层的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS层在前烘过程中释放出氨，从衬底附近的进入交联的光刻胶层中，从而控制显影过程。产品特性：外观结构：★外壳采用A3冷轧钢板裁剪、打磨、酸洗、磷化等表面防锈处理后烤漆，工作室采用SUS316#洁净不锈钢板满焊、耐高温密封处理，加强型结构，确保箱体高压无形变。★工作室高气密性，气体泄漏量可达100pa/h。★双层防爆钢化玻璃观测窗，10mm防爆玻璃内门。★隔热层采用100mm厚100K高密度硅酸铝纤维保温材料，保温效果佳。★门框密封采用无氟硅橡胶密封条，耐高温，抗老化。温控系统：★不锈钢异性加热器，环绕工作室外壁，四面加热。★7寸人机界面，PLC+PID+SSR控制，SSR无触点等周期脉冲调宽，PID智能演算，自动恒温，超温抑制，传感器断线警报，断电记忆，控温精准，操控简便。★可依工艺设置多种运行模式★高精度PT100不锈钢铠装铂金电阻温度传感器安全系统：★按键锁★HMDS液位报警★超温保护★电流过载保护★相序保护★漏电保护★接地保护规格参数：设备型号ModelHMDS-1控温范围Operating Temp. RangeRT+10~200℃温度分辨率Temperature resolution0.1℃温度波动度Control stability±0.5℃真空泵 Vacuum pump干式真空泵 4L/min真空度Vacuum degree＜133pa（1mmHg/1.33mbar）/ ＞-1012mbar氮气接口Nitrogen interfaceΦ8mm内部尺寸Chamber sizeW450*D450*H450mm外部尺寸Overall sizeW1100*D800*H1500mm层架Number of pallets2PSC电源Power supplyAC380V 50HZ功率Heating power3.5KW运行方式Operation modePLC控制，手动设定工艺流程，自动运行操作界面Operation interface7寸触摸屏HMI人机界面控制器（可编程，带历史曲线、USB转存储功能）

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品型号：HMDS-6210 产品名称：真空烘箱（带基片预处理系统）电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内好品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

仪器简介：微处理器-比例积分微分控制器的温度控制提供了极好的精度和可重复性StableTemp重力式对流烘箱在30分钟内可加热的最高温度达275摄氏度——可在烘干和老化应用中节约宝贵的时间。它们尤适于更大范围的应用，如在精确控制、好的温度均匀性和极好的恢复时间较为重要的应用场合。微处理器-比例积分微分控制器的温度控制很容易实现和保持所需的精确温度。如果实际温度达到或高于设定点5摄氏度以上时，一个内置的备用控制器会自动接管控制系统。当温度超过设定值时，报警指示器会提醒你并且备用控制器开始使用。带备用电池的存储器可以让你进行连续地试验，并消除了在每一次运行前必须重新设置温度。随机配备：镀铬的钢制搁板和一条6英尺长的电源线。技术参数：52301-05StableTemp微处理器控制的重力式对流烘箱，3.75立方英尺，240伏交流容量：3.75温度范围：50至275摄氏度控制类型：微处理器 PID升温时间：30分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏分辨率：1摄氏度8个搁物架位置内膛尺寸：18英寸宽x 20英寸高 x 18英寸厚结构：不锈钢制的内腔和带粉末涂层的钢制外壳规格：25-3/4英寸宽 x 33英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹，7.5安 52301-15StableTemp微处理器控制的重力式对流烘箱，5.0立方英尺，240伏交流容量：5.0温度范围：50至275摄氏度控制类型：微处理器 PID升温时间：30分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏分辨率：1摄氏度11个搁物架位置内膛尺寸：18英寸宽x 26-½ 英寸高x 18英寸厚结构：不锈钢制的内腔和带粉末涂层的钢制外壳规格：25-3/4英寸宽 x 39-1/4英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹，7.5安 52301-45StableTemp微处理器控制的重力式对流烘箱，2.5立方英尺，240伏交流容量：2.5温度范围：50至275摄氏度控制类型：微处理器 PID升温时间：30分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏分辨率：1摄氏度5个搁物架位置内膛尺寸：18英寸宽x 13-1/2英寸高 x 18英寸厚结构：不锈钢制的内腔和带粉末涂层的钢制外壳规格：25-3/4英寸宽 x 26英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹，5.5安

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：3000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：0.5℃达到真空度：133Pa容积：90L工作室尺寸（mm）：450*450*450外形尺寸（mm）：615*590*1470载物托架：2块时间单位：分钟真空泵：国内品牌上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品技术参数：电源电压：AC 380V± 10%/50Hz± 2%输入功率：4000W控温范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动度：± 0.5℃达到真空度：133Pa容积：210L工作室尺寸（mm）：560*640*600外形尺寸（mm）：720*820*1750载物托架：3块时间单位：分钟真空泵：国内品牌，上海慕鸿型号：DM-4，旋片式油泵。 产品特点：1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。 HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。HMDS-6000系列预处理系统的原理： HMDS-6000 预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

一体式高温真空烘箱箱体结构：1) 本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2) 箱体采用设备制作、工艺制造流程、线条流畅，美观大方。3) 工作室材质为不锈钢材质，外箱材质为冷轧钢板，产品外壳采用金属漆喷制，整体设计美观大方，适合实验室的颜色搭配。4) 工作室内搁架可随用户的要求任意调节高度以及搁架的数量。5) 工作室与外箱之间的保温材料为超细玻璃纤维保温棉，保温层厚度：＞70mm, 隔温效果，绝缘结构。从里到外有内腔、内壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，减少了内腔热量的外传。6) 门与门框之间采用密封材料及独特的橡胶密封结构，密封、耐高温、抗老化。7) 箱内风道采用双循环系统，不锈钢多翼式离心风轮及循环风道组成，置于箱体背部的电加热器热量通过侧面风道向前排出，经过干燥物后再被背部的离心风轮吸入，形成合理的风道，能使热空气充分对流，使箱内温度达到均匀。提高了空气流量加热的能力，大幅改善了干燥箱的温度均匀性。8) 加热器用不锈钢电加热管，升温快，寿命长。一体式高温真空烘箱工艺特点：■ 将放入原料托盘，静置在真空容器内部的架子上，边加热边真空抽湿。■ 腔体内的架子为热源交换装置，热源可为热水、蒸汽、导热油、电热等；■ 每个搁架层底面设置真空抽取口，湿气不会交叉上行，提高干燥速率；■ 腔体内的搁架可以冷却或换热，提高使用效率；■ 腔体内壁可为辅助加热或冷凝水通道，腔体内有更高的温度均匀性；■ 圆弧角穹顶设计，防气雾聚结功能，减少挥发性气体在箱内聚结；高温真空烘箱在实验室研究中的应用：高温真空烘箱在实验室研究中的应用非常广泛，它通过结合真空技术和精确的温度控制，为各种材料和样品提供了理想的干燥和热处理环境。以下是一些具体的应用领域：材料干燥：高温真空烘箱可用于干燥各种材料，包括但不限于生物样品、化学试剂、制药原料和成品。在真空条件下，水分和其他挥发性溶剂可以更快地被去除，从而加速干燥过程并减少样品的热损伤。热敏性物质处理：对于热敏性、易分解或易氧化的物质，如某些生物化合物和有机溶剂，高温真空烘箱能够在较低的温度下进行干燥，以避免热降解。样品预处理：在进行进一步的化学分析或物理测试之前，高温真空烘箱常用于样品的预处理，如去除水分、固定结构或改变样品的物理状态。热处理和固化：在材料科学和化学研究中，高温真空烘箱用于热处理和固化过程，如固化树脂、聚合物和其他复合材料。退火和结晶：对于需要特定晶体结构的材料，如金属和陶瓷，高温真空烘箱可以提供无氧环境，以促进退火和结晶过程，改善材料的物理性能。科研和开发：在新材料的研发过程中，高温真空烘箱是不可或缺的工具，它能够模拟和研究材料在极端条件下的行为和性能。质量控制：在工业生产中，高温真空烘箱用于质量控制，确保产品在生产过程中的干燥程度和质量标准。环境模拟：在环境科学研究中，高温真空烘箱可以模拟极端的环境条件，如高温干旱或真空环境，以研究材料和生物体的适应性和耐受性。

产品介绍：无尘烘箱系用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤，强制送风循环方式。双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，得到温度控制精度。产品特点：1.在普通环境下使用，能够确保烘箱内部等级达到Class1002.全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；3.采用进口SUS304#日制800番2mm厚之镜面不锈钢板，并经碱性苏打水清洁，去油污避免烘烤时产生PARTICLE；4.采平面水平由后向前送风后经美国进口H.E.P.AFilter20"×20"装置往前门(特殊风道设计)方向送风，过滤效率99.99%，Class100,排气口：３"φ(附自动启闭风门)产品用途：无尘工业烤箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。无尘工业烤箱也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。产品参数：1、箱体结构：1.1烘箱由箱体部分、电器控制柜、电加热及风道系统组装而成，结构合理，外观美观大方；1.2全周氩焊，耐高温硅胶迫紧，SUS304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；1.3箱体材料：外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆，可防止微尘；1.4内胆材料：采用进口SUS304#日制800番2mm厚之镜面不锈钢板，并经碱性苏打水清洁，去油污避免烘烤时产生PARTICLE；1.5中桶材料：采用进口SUS304#日制800番2mm厚之镜面不锈钢板，并经碱性苏打水清洁，去油污及氩焊密封加工(防污染)。2、温控系统2.1采用日本OMRONE5A型温度控制器，控制器LED数字显示及设定、PID自动演算、薄膜设定，精确度±0.3%FS。；2.2讯号来源：采日制进口CA感应棒±0.5%。2.3输出被控制组件：SSR无接点讯号输出。3、完善的安全保护措施：漏电断路器控制线路保险丝装置超温防止保护装置电热过电流保护装置马达过电流保护机台异常蜂鸣器警示逆向防止器门面安全开关4、选购设备：4.1可程式温控器4.2六点温度记录仪4.3三色指示灯4.4烘烤架名称及型号无尘烘箱WCHX-2D无尘等级Class100温度范围60～+300℃温度均匀度200℃±3℃、300℃±4℃温度波动度±0.5℃（空载）温控精度±0.1℃电源380v,50Hz，12Kw烘箱搁板为活动形式两箱式

产品概览：先进的定时器功能可在预先设定的时间后自动打开或关闭烘箱选择每周重复的定时器或在24小时制的基础上运行烘箱最佳性能最高工作温度达到330°C最高的温度均一性和稳定性极低的能耗—60L型号每小时只需170W（自然对流）或259W（机械对流）即可维持150°C的温度可调风扇速度高转速，快速干燥和加热，快速恢复在需要最小气流时降低转速风扇速度和进气口开关的位置可由电子控制，适合应用相关气流最大的安全性自动干燥功能，样本干燥后烘箱立即自动关闭，具有节能效果（注：需订购可选的样本温度传感器）标准设备设有超温报警，并设有附加的低温报警，确保样本保存于正确的温度门加锁，防止中断、干预处理过程或意外开启门门意外开启时有声报警性能可靠可编程控制器，用于温度补偿和保持，最多可存储多达10个程序，每个程序多达10个步骤接入端口可连接传感器进行独立的数据监测操作简单的校准程序，确保特定一段时间后仍保持温度精度Boost功能可实现快速升温不锈钢外形可选，易于清洁，可满足药品和临床实验室的严格要求技术规格两种气体对流方式自然对流高端安全型烘箱机械对流高端安全型烘箱型号（涂层外形）OGH60-SOGH100-SOGH180-SOMH60-SOMH100-SOMH180-S型号（不锈钢外形）OGH60-S SSOGH100-S SSOGH180-S SSOMH60-S SSOMH100-S SSOMH180-S SS对流技术自然对流自然对流自然对流机械对流机械对流机械对流温度范围+50-330°C+50-330°C+50-330°C+50-330°C+50-330°C+50-330°C温度均一性±2.5°C±3.0°C±2.5°C±1.8°C±1.3°C±1.8°C（at 150°C）温度稳定性±0.3°C±0.3°C±0.3°C±0.2°C±0.2°C±0.2°C（at 150°C）台面面积0.3 m20.36 m20.47 m20.3 m20.36 m20.47 m2内腔容积61 L99 L168 L62 L97 L170 L内腔尺寸328×480×389 mm438×580×389 mm438×680×564 mm328×508×343 mm438×608×343 mm464×708×518 mm（宽×高×深）外部尺寸530×720×565 mm640×820×565 mm640×920×738 mm530×720×565 mm640×820×565 mm640×920×738 mm（宽×高×深）层架数（标配数目/最大数目）2-132-162-192-132-162-19层架最大荷载25 kg25 kg25 kg25 kg25 kg25 kg额定电压/频率230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz230V 50Hz功率1810 W3100 W3100 W1400 W3060 W3060 W重量44 kg55 kg69 kg44 kg55 kg69 kg

Thermo Scientific Heratherm 高端安全型烘箱结合了高端型的优点，并增加了额外的产品安全特性，可提供最佳的稳定性和样本保护。 产品特点：最大的安全性附加安全功能，使您在处理样本时不必担心损坏样本“自动干燥”功能，样本干燥后烘箱将立即自动关闭，具有节能效果（注：需要订购可选的样本温度传感器才可使用此功能）标准设备设有超温报警，并设有附加的低温报警，确保样本保存于正确的温度门加锁，防止中断、干预处理过程或意外开启门门报警可通知操作者门意外开启的情况具有独特的可选样品传感器精确测量样品温度，连同内腔温度一起显示于显示屏在使用“自动干燥”程序的情况下，样品干燥后烘箱立即自动关闭，具有节能效果 型号（涂层外形）OGH180-S对流技术自然对流温度范围50～330 ℃温度均一性（150°C)±2.9 ℃温度误差（150℃）±0.3 ℃台面面积0.47 m2内腔容积168 L内腔,mm（宽×高×深）438×680×564外形*,mm（宽×高×深）640×920×738隔板数目标配2个；最多19个隔板最大负荷25 kg额定电压/频率230/50 V/Hz额定功率/最大电流3100/13.5 W/A重量69 kg*深度（65mm）不包括手柄/显示屏深度，高度（35mm）不包括脚轮高度-背部与墙壁之间的距离：80mm**包括2个层架支架***支架高度包括脚轮高度：187mm

仪器简介：这种热风烘箱，适用于底漆、胶粘剂、涂料、油漆或类似的表面涂层处理剂的干燥，固化，烘烤，淬火和焙烧等。如卷涂生产中的钢板，铝板。或者使用本公司的非连续S-RRCBW反向卷涂模拟连续卷涂生产线所得样本可直接传输到样品支架上，然后自动进入烘箱进行固化和热处理。处理结束后可自动退出样板进行水冷或者淬火实验。 大多数实验室热处理试验都可以通过这个多功能应用单元和干燥炉来完成。这样可以为下一阶段的生产避免浪费和节省时间。 设计之初，这种炉子就非常重视样品测试设计参数的绝对重复性，这是模拟预处理参数的唯一方法。技术参数：最重要的干燥部件如下： 1. 核心控制单元 控制单元 没有采用控制盒，这种仪器取而代之的是紧凑的控制单元，下面的控制参数可以被输入： 1)温度 2)停留时间(dwell time) 3)风扇转速(fan revolutions) 核心控制单元还可以选择如下配件： 1)RS 232电缆，用于和电脑连接，在线纪录过程数据； 2)自动程序设计可以最高设定20个阶梯升温20个程序，每个程序都可以设定升温速率，恒温时间，风速等。这样可以允许一种样品经过多种热处理，每个阶段热处理温度、时间、风速都可以自动设定控制。 2．干燥箱 该仪器采用设计精良有空气通道大马力风扇，可以使得空气和热量在炉子中很好的分布。空气通道安装有调节挡板，可以允许空气只通过上部或者下部进入，也可以双向以相同的速率均匀流进。调节挡板可以在外部控制面板上随时进行设定。 3.温度测定和加热 温度测量基于电阻测定系统Pt 100。温度的控制是由带数字显示的电子测控器来控制。加热元件置于空气通道之上、风扇进口处。采用辅助的温度感应器来监测最高温度，限制周围温度，来保护加热元件。 该仪器还可以配置非接触红外测温装置来测定处理样品表面的实际温度。 4.停留时间 可以在控制面板上调节在炉膛停留的时间(分或秒)。并且显示设定值和用掉的时间。 5.占用空间小 不用单独放置中央控制箱单元，使得占用空间大幅减少。而且电子控制器件作为附件非常妥善地置于干燥箱下面且有一个保护盖，该保护盖也可以易于移走。 6.传送结构 按下相对应的按钮可以激活进料支架自动进料，运行完对应的停留时间，样品可以已自动送出。 7.可信度高 仪器安装多个监控系统来提高自身的可靠性。例如上面提到的加热温度的控制。而且风扇还装有一个旋动控制，可以在风扇发动机出现问题或者风扇带损坏时切断加热源。 8.可以很方便地维护加热器 移开加热档板便可以方便地看到加热器内部，以便任何检查和保养。 9.排风扇 当热处理过程中出现大量烟雾时，可以用排风扇来排除。 10.可以选择如下附件来满足各种用户不同的需求： 10.1中央控制单元： 1)RS 232电缆，用于和电脑连接，在线纪录过程数据； 2)自动程序设计可以最高设定20个阶梯升温20个程序，每个程序都可以设定升温速率，恒温时间，风速等。这样可以允许一种样品经过多种热处理，每个阶段热处理温度、时间、风速都可以自动设定控制。 3)周定时器程序： &mdash &mdash 4ON/OFF 循环开关/天 &mdash &mdash 1 ON/OFF手动循环开关(可以提前5天设定) 10.2烘箱部分 1)非接触红外温度计用来测定样品表面实际温度； 2)温度升高至450℃； 3)标准杯状螺纹的样品筛网把手 4)标准杯状螺纹的样品筛网把手，还有倾斜加水装置用来快速冷却离开加热炉的样品(当需要快速冷却时)； 5) 自动升起马达用于打开后盖，加速样品冷却； 6) 排气风扇，最大排气量30 m3/h 7)脚踏开关用于可脚动控制进入或者送出样品而不用手动操作键盘； 8)带有制动闸的脚轮。 图为带有倾斜水冷装置可以使得离开炉膛架的样品进行快速水冷 技术参数 Sample size max.(样品允许最大尺寸)：30 x 38 cm Temperature range(温度范围)： up to 400℃(最大400℃) Option(可选择)： up to 450℃(最大450℃) Circulation aircapacity(循环空气溶量)：infinitelyvariable, appx.1000 m3/h(无级变速，约1000 m3/h) Dwell time(停留时间)：5 s bis 999 min(5秒到999分钟) Heating(加热功率)：appx. 15 kW(约15千瓦) Fan motor(风扇功率)：appx. 0.8 kW(约0.8千瓦) Weight(重量)：appx. 340 kg(约340公斤)主要特点：这种热风烘箱，适用于底漆、胶粘剂、涂料、油漆或类似的表面涂层处理剂的干燥，固化，烘烤，淬火和焙烧等。如卷涂生产中的钢板，铝板。或者使用本公司的非连续S-RRCBW反向卷涂模拟连续卷涂生产线所得样本可直接传输到样品支架上，然后自动进入烘箱进行固化和热处理。处理结束后可自动退出样板进行水冷或者淬火实验。 大多数实验室热处理试验都可以通过这个多功能应用单元和干燥炉来完成。这样可以为下一阶段的生产避免浪费和节省时间。 设计之初，这种炉子就非常重视样品测试设计参数的绝对重复性，这是模拟预处理参数的唯一方法。

实贝HMDS晶片涂胶烘箱真空电子烤箱干燥箱 HMDS真空烘箱，HMDS涂胶烤箱，HMDS真空镀膜机HMDS预处理真空烘箱一、预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，而涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺显得更为必要，尤其在所刻线条比较细的时候，任何一个环节出现一点纰漏，都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，如果在晶片表面直接涂胶的话，会造成光刻胶和晶片的黏合性较差，甚至造成局部的间隙或气泡，涂胶厚度和均匀性都受到影响，进而会影响了光刻效果和显影，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀，所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷，英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物，是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。二、产品结构与性能2.1产品结构：1．设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑，内胆316L不锈钢材料制成；无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置；钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2．箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内保持高真空度。3．温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。4．智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5．HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性能极好，确保HMDS气体无外漏顾虑。6．无发尘材料，适用百级光刻间净化环境使用。 2.2产品性能：1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。3.液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片，效率高。4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多，经实践证明，更加节省药液。5. HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染，更加环保和安全。三、技术参数：规格型号PVD-090-HMDSPVD-210-HMDS容积（L）90L210L控温范围RT+10～250℃温度分辨率0.1℃控温精度±0.5℃加热方式内腔体外侧加温隔板数量2PCS3PCS真空度133Pa（真空度范围100～100000pa）真空泵抽气速度4升／秒，型号DM4电源/功率AC220/50Hz，3KWAC380V/50Hz，4KW内胆尺寸W*D*H（mm）450*450*450560*640*600外形尺寸W*D*H（mm）650*640*12501220*930*1755连接管：316不锈钢波纹管，将真空泵与真空箱完全密封无缝连接备注：选配温度压力记录仪时，因工艺需要改变设备整个外箱结构，请参考实物图。外壳采用优质冷轧钢板粉末静电喷涂，内胆采用316L不锈钢，外箱尺寸为（W*D*H）mm：980x655x1600（含下箱柜高700），下箱柜空置。适用于增加各类选配功能。四、HMDS预处理系统的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。五、HMDS预处理系统的一般工作流程：首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表面生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。开箱温度可以由user自行设定来降低process时间，正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温））。六、尾气排放：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。七、产品操作控制系统配置:1. 标配DM4直联旋片式真空泵（外置）；需要使用干泵可选爱德华或安捷伦（选购）2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块3. 固态继电器；加急停装置 其它选配：1．波纹管2米或3米（标配是1米）2．富士温控仪表（温度与PLC联动）3．三色灯 4.增加HMDS药液瓶5．低液位报警（带声光报警）6．HMDS管路加热功能7．开门报警 8.压力温度记录仪

仪器简介：这种机械式对流烘箱加热温度最高可达275摄氏度，可节省烘干和老化操作的宝贵时间。所有机型都配有一个很方便设置和监控的PID微处理器控制器，这使它在要求精确控制和好的均匀性的多种应用中的使用非常理想。安全设备包括一个内置的备用控制器和一个电路断路器，如果实际温度达到设定点以上5摄氏度时，备用控制器能自动接管控制工作；电路断路器会保护烘箱不被电涌损坏。当温度值超过设定点和备用控制器使用时，报警指示器会警示你。技术参数：52301-253.75立方英尺，240伏交流，50/60赫兹烘箱容量：3.75立方英尺温度范围：50至275摄氏度控制类型：PID微处理器升温时间：80分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏8个搁物架位置：内膛尺寸：18英寸宽x 20英寸高x 18英寸厚结构：不锈钢制内腔，带粉末涂层的钢制外壳规格：26英寸宽 x 33英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹 52301-355.0立方英尺，240伏交流，50/60赫兹烘箱容量：5.0立方英尺温度范围：50至275摄氏度控制类型：PID微处理器升温时间：80分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏11个搁物架位置内膛尺寸：18英寸宽x 26-1/2英寸高x 18英寸厚结构：不锈钢制内腔，带粉末涂层的钢制外壳规格：26英寸宽 x 39英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹 52301-552.5立方英尺，240伏交流，50/60赫兹烘箱容量：2.5立方英尺温度范围：50至275摄氏度控制类型：PID微处理器升温时间：80分钟至275摄氏度显示：3位发光二极管显示屏5个搁物架内膛尺寸：18英寸宽x 13-1/2英寸高x 18英寸厚结构：不锈钢制内腔，带粉末涂层的钢制外壳规格：25-3/4英寸宽 x 26英寸高 x 23-1/2英寸厚电源：240伏交流，50/60赫兹主要特点：比例-积分-微分（PID）控制器能提供精确的温度控制 备用电池可保存最新的温度设置——极好地适用于试验过程是可重复的实验室

仪器简介：　　电热烘箱产品适用范围 　　适用于电工、电子、仪表、材料、医药等科研、生产单位，主要用于物品的乾燥、烘焙、热处理、消毒、保温等实验、并具有超温保护，可靠性好，操作方便，造型美观大方。技术参数：高温烘箱 高温试验箱 高温试验机 电热烘箱HH系列型系列热风循环烘箱配用低噪音耐高温轴流风机和自动控温系统，整个循环系统全封闭，使烘箱的热效率从传统的烘房3%-7%提高到目前的35%-45%，**热效率可达50%。CT-C型热风循环烘箱的设计成功，使我国的热风循环烘箱达到了国内外先进水平 大部分热风在箱内循环，热效率高，节约能源。利用强制通分作用，烘箱内设有可调式分风板，物料干燥均匀。烘箱热源可采用蒸汽、热水、电、热风炉、选择广泛。烘箱整机噪音小，运转平衡。温度自控，安装维修方便。烘箱适用范围广，可干燥各种物料，是通用干燥设备。 HD智能温控空气循环箱是专门为实验室设计，符合IPC-TM-650手册内所有分析试验。箱体结构均参照德国贺利氏同类产品的技术要素，与同类产品相比具有更好的稳定性，箱体内均采用镜面不锈钢氩弧焊制作而成,箱体外采用优质钢板,造型美观,新颖，数字显示的微电脑温度控制器,带有定时功能,控温**可靠，热风循环系统由能在高温下连续运转的风机和合适风道组成，具有RS485接口可连接记录仪和计算机，能记录温湿度参数的变化状况等特点。 温度控制范围： RT+10～250℃ ? 温度分 辨 率： ± 0.1℃ ? 温度波 动 度: ± 0.5℃ ? 定 时 范 围： 1～9999min ? 工作环境温度： +5～40℃ ? 内 胆尺寸mm： 450× 550× 550 ? 外 型尺寸mm： 600× 710× 845 ? 载 物 托 架： 2件 ? 用 电 要 求： 220V，50Hz；1500W主要特点：产品特点 　　内部材质：SUS430＃不銹钢板厚&ge 1.2mm 　　外部材质；SECC钢板厚&ge 1.5mm粉体烤漆处理 　　温度范围：RT-260℃　 　　控制精度：± 0.5℃ 　　上升时间：RT-100℃约15分鐘

仪器简介：　　　产品适用范围 　　适用于电工、电子、仪表、材料、医药等科研、生产单位，主要用于物品的乾燥、烘焙、热处理、消毒、保温等实验、并具有超温保护，可靠性好，操作方便，造型美观大方。技术参数：广东烘箱.电热烘箱/高温烘箱/高温电烘箱该电热鼓风干燥箱内胆规格（高× 宽× 深）为750*600*500mm，外部尺寸约高1230*宽1100*深680mm。 内胆及其风道系统由不锈钢加工制成，同时采用不锈钢管状电加热器，整机使用寿命长。水平运风循环，温度均匀，工作效率高。 **工作温度为250℃。采用数字PID自动恒温仪表，清晰醒目，操作方便，广泛适用于各类工业企业、医疗卫生、科研部门的车间或实验室，是一种得到广泛肯定的箱式干燥烘培设备。 本型电热鼓风干燥箱的外壳由冷轧钢板成，外表面涂装浅灰色漆。外壳与内胆之间用保温岩棉充填，形成可靠的隔热层。加热器位于工作室底部。采用**电气部件，运行稳定维护成本低。 主要性能参数 ■电热鼓风干燥箱型号：HH-235 ■工作室尺寸：高750*宽600*深500mm ■外部尺寸：约高1230*宽1100*深680mm ■电源：220V 50Hz ■加热功率：4.0Kw ■工作温度：室温+10--250℃,任意温度可设 ■温度均匀性：正负1.6% ■风道：双风道，水平循环运风 ■外壳材质：冷扎钢板, 表面涂装浅灰色漆 ■内胆及风道系统材质：不锈钢板 ■加热器：不锈钢管状电加热器 ■加热器位置：底部加热 ■隔热材料：80mm厚玻璃岩棉 ■鼓风电机：功率40W ■温度控制：PID温控仪，LED数字显示，按键设定，自动恒温 ■感温元件：Pt100热电阻 ■恒温定时：0.01--99.99小时，时间到切断加热，蜂鸣提示 ■安全保护：短路、过载保护,电机热过载、缺相保护 ■附件：标配2块不锈钢网搁板主要特点：该电热鼓风干燥箱内胆规格（高× 宽× 深）为750*600*500mm，外部尺寸约高1230*宽1100*深680mm。 内胆及其风道系统由不锈钢加工制成，同时采用不锈钢管状电加热器，整机使用寿命长。水平运风循环，温度均匀，工作效率高。 **工作温度为250℃。采用数字PID自动恒温仪表，清晰醒目，操作方便，广泛适用于各类工业企业、医疗卫生、科研部门的车间或实验室，是一种得到广泛肯定的箱式干燥烘培设备。 本型电热鼓风干燥箱的外壳由冷轧钢板成，外表面涂装浅灰色漆。外壳与内胆之间用保温岩棉充填，形成可靠的隔热层。加热器位于工作室底部。采用**电气部件，运行稳定维护成本低。 主要性能参数 ■电热鼓风干燥箱型号：HH-235 ■工作室尺寸：高750*宽600*深500mm ■外部尺寸：约高1230*宽1100*深680mm ■电源：220V 50Hz ■加热功率：4.0Kw ■工作温度：室温+10--250℃,任意温度可设 ■温度均匀性：正负1.6% ■风道：双风道，水平循环运风 ■外壳材质：冷扎钢板, 表面涂装浅灰色漆 ■内胆及风道系统材质：不锈钢板 ■加热器：不锈钢管状电加热器 ■加热器位置：底部加热 ■隔热材料：80mm厚玻璃岩棉 ■鼓风电机：功率40W ■温度控制：PID温控仪，LED数字显示，按键设定，自动恒温 ■感温元件：Pt100热电阻 ■恒温定时：0.01--99.99小时，时间到切断加热，蜂鸣提示 ■安全保护：短路、过载保护,电机热过载、缺相保护 ■附件：标配2块不锈钢网搁板

鼓风干燥箱简介：常规的鼓风干燥箱（烘箱）在外壳选材上一般采用薄钢板制造，表面喷塑工艺，工作室采用优质的结构钢板制造。外壳与工作时之间填充硅酸铝纤维。加热器安装底部，也可安置顶部或两侧。温度控制仪表采用数显智能表，PID调节：配置999.99小时时间控制器，并与报警装置相连接，使烘箱的操作更简便、快捷与有效，适用于各行业的烘干，干燥，保温，固化，烘焙，试验及其他热处理等用途。烘箱按行业来分可分为：电子行业专用烘箱、仪器仪表行业专用烘箱、塑料及橡胶行业专用烘箱、电工器材行业专用烘箱、电镀行业专用烘箱、印刷行业专用烘箱、眼镜行业专用烘箱、制药行业专用烘箱、纺织印染行业专用烘箱、机械行业专用烘箱、合成纤维行业专用烘箱、木材行业专用烘箱、摩擦材料专用烘箱。烘箱按外形来分可分为：卧式烘箱和立式烘箱两种。注意事项：1.烘箱应安放在室内干燥和水平处，防止振动和腐蚀。2.要注意安全用电，根据烘箱耗电功率安装足够容量的电源闸刀。选用足够的电源导线，并应有良好的接地线。3.带有电接点水银温度计式温控器的烘箱应将电接点温度计的两根导线分别接至箱顶的两个接线柱上。另将一支普通水银温度计插入排气阀中，（排气阀中的温度计是用来校对电接点水银温度计和观察箱内实际温度用的）打开排气阀的孔。调节电接点水银温度计至所需温度后紧固钢帽上的螺丝，以达到恒温的目的。但必须注意调节时切勿将指示铁旋至刻度尺外。4.当一切准备工作就绪后方可将试品放入烘箱内，然后连接并开启电源，红色指示灯亮表示箱内已加热。当温度达到所控温度时，红灯熄灭绿灯亮，开始恒温。为了防止温控失灵，还必须照看。5.放入试品时应注意排列不能太密。散热板上不应放试品，以免影响热气流向上流动。禁止烘焙易燃、易爆、易挥发及有腐蚀性的物品。6.当需要观察工作室内样品情况时，可开启外道箱门，透过玻璃门观察。但箱门以尽量少开为好，以免影响恒温。特别是当工作在200℃以上时，开启箱门有可能使玻璃门骤冷而破裂。7.有鼓风的烘箱，在加热和恒温的过程中必须将鼓风机开启，否则影响工作室温度的均匀性和损坏加热元件。8.工作完毕后应及时切断电源，确保安全。

1 产品概述: 半导体烘箱是一种专门用于半导体芯片、电子元器件等材料进行热处理的设备。它通过高温加热的方式，对半导体芯片进行烘干、固化、烘焙等处理过程，以提高半导体芯片的性能稳定性和可靠性。半导体烘箱采用先进的温度控制系统和加热技术，能够精确控制加热过程中的温度波动范围，确保半导体芯片在热处理过程中不受损害。2 设备用途：半导体烘箱的主要用途包括：半导体芯片制造：在半导体芯片制造过程中，烘箱用于烘干、固化和烘焙芯片，以提高芯片的稳定性和可靠性。电子元器件处理：对于电子元器件，如LED封装、印刷电路板等，半导体烘箱可用于去除水分、气体，保证元器件的质量稳定性和寿命。热处理实验：在科研和实验领域，半导体烘箱也常用于烘烤、老化实验，检验电子元气件、仪器仪表等材料在温度环境下的性能指标。3 设备特点半导体烘箱的特点主要体现在以下几个方面：高精度温度控制：半导体烘箱具备高精度的温度控制系统，能够精确控制加热过程中的温度波动范围，通常误差小于1℃，确保热处理过程的稳定性和可靠性。先进加热技术：采用不锈钢加热管等高效加热元件，加热速度快，热效率高，且使用寿命长。多种送风方式：部分高端半导体烘箱采用独特的水平+垂直送风相结合的强压鼓风循环系统，使温度更加均匀，提高热处理效果。 4 技术参数和特点：1. 含氧控制：500PPM以内 2. 温度范围：Room temp. +20~500℃3. 控温精度：±1.0℃4. 温度均匀性：±2.5%℃5. 升温时间：RT~ 500℃≤60min

仪器简介：电热烘箱控制器 温度控制方式 微电脑PID控制 温度设定方法 按&Delta ▽设定数字 温度显示方式 测量和设定温度 LED数字显示 定时时间 0～999min 温度传感器 工业铂电阻 (PT100) 运行功能 定值运行 安全装置 内空尺寸（ mm） D 400 × W450 × H400 外形尺寸 （ mm）D 610 × W905 × H575 内容积（ L）72 功 率(KW) 1.5 电 源 AV220V 50H Z技术参数：电热烘箱0769-82204616张小姐/业务部工业烤箱.高温实验机,精密烘箱 用途: 电子、电工、仪表、材料、半导体等生产企业对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培及热处理试验； 学校、医药、食品、化工等单位科研及对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培、消毒、保温及热处理试验； 特别适用于LED、LCD、石英晶体、电容、电阻等要求高恒温精度和可靠性的产品生产过程的烘干和老化。 性能 循环方式 强制对流式 温度范围 R.T+10℃～300℃ 温度波动度 0.1℃(at+100℃) 0.3℃(at+200℃) 温度均匀度 2.5 升温时间 &le 40min 构成 内胆材料 不锈钢板 外壳材料 优质冷轧钢板防锈处理 ,静电喷塑 隔热材料 超细玻璃棉 岩棉 大门密封 环保型硅橡胶条 石棉绳 加热器 镍铬合金电加热器 进出气口 特殊的进出换气口主要特点：　产品特点 　　内部材质：SUS430＃不銹钢板厚&ge 1.2mm 　　外部材质；SECC钢板厚&ge 1.5mm粉体烤漆处理 　　温度范围：RT-260℃　 　　控制精度：± 0.5℃ 　　上升时间：RT-100℃约15分鐘

TPS 高温烘箱仪器简介：Blue M作为美国Lunaire公司的子公司, 专业生产符合各种特殊应用的高温烘箱. Blue M烘箱由于其特异的性能, 长时间的服务期, 易于操作和广泛的使用范围从而赢得高度的声誉. Blue M的Standard Ultra-Temp高温烘箱是用于退火, 热处理,消除应力处理, 黏合剂烧结, 陶瓷焙烘以及其它许多高温过程的好工具, 尤其在卷涂行业及涂料行业得到了非常成功的应用. TPS 高温烘箱主要特点：* 高温度可达 700℃，玻璃纤维门垫圈设计使得在高温度时也能保持良好的密封性* 良好的隔热门保证了较低外表温度* 水平空气流动 ,确保在所有装载条件下均匀的热性能* 标准安全门开关 , 在门开启时自动关闭加热器和风扇* 空气流动开关额外保护以免燃烧* 烘箱内壁涂有耐腐蚀材料，耐腐蚀性好；* 附加过温保护* 一年部件及服务保证* 三年标准控制调换保证

精密烘箱　　精密烘箱即高精度烘箱适用于基础实验、塑料、半导体、烟草、包装、军工、航天航工、汽车、电子工业固化、老化、塑料橡胶高温精密试验、电话手柄线生产的成型工艺以及高等院校科研机构，工矿企业对产品温度要求较高的实验或车间生产线。　　城池高精度烘箱有别于传统鼓风型烘箱将电热丝装于烘箱底部的做法，而是将加热原件装于侧部或后部风道中，避免了某些工件在加温过程中因液体滴落而造成的漏电等情况。由于高精度烘箱采用低负载电热管，加大了散热面积，在一定程度上降低了低着火点的溶剂气体直接接触电热丝而发生爆炸的因素。这对于线圈烘干、油漆涂层、环氧树脂固化等较为安全。本高精度烘箱在电路设计上设置多道保护装置，能有效防止短路、漏电、超温等情况。　　精密烘箱箱体内胆采用优质镀锌钢板或镜面不锈钢氩弧焊制而成,箱体喷塑处理,钢化玻璃。造型美观,新颖。时间设置：双目数字显示，微电脑温度控制系统，控温精确可靠。热风循环系统由能在高温下连续运转风机和合理风道组成，工作室内温度均匀。热风循环系统由能在高温下连续运转的风机和特殊风道组成，工作室内温度均匀。独立限温报警系统，超过限制温度即自动中断，保证实验安全运行不发生意外。设有大面积钢化玻璃观察窗，供观察工作室状况之用。控制系统:采用智能型温度控制器。具有定时功能:温度恢复时间快。

仪器简介：外壳材料 　冷轧钢板表面环氧粉末静电喷涂 内箱材料 　BN为SUS304不锈钢板 N为优质冷轧钢板高温银粉处理 电源 隔热材料 　高密度聚氨酯泡沫 +玻璃纤维 大门密封 环保型硅橡胶条 加热器 镍铬合金电加热器 脚轮 　可锁定的脚轮 温度控制器 　进口智能温度控制器 温度设定方式 　按上下键设定数字 功率 温度显示方式 　测量和设定温度 LED数字显示 定时时间 　0～999min 温度传感器 　工业铂电阻 (PT100) 运行功能 　定值运行 AC220 ± 10V　　 50± 0.5Hz 3.0kw 4.0kw 6.0kw 附件 　旋转架一套（或搁板 2 层），说明书一套。 选配附件 　可编程温度控制器 ,外部输出端口（RS232或RS485）,记录仪,附加搁板, 观察窗 , 电缆引线孔&Phi 50等等 安全装置 　独立超温保护,过电流断路器、过热保护技术参数：立式烘箱广东东莞烘箱 广东干燥试验机 广东高温干燥机　电热鼓风干燥箱HH-235 电子、电工、仪表、材料、半导体等生产企业对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培及热处理试验； 学校、医药、食品、化工等单位科研及对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培、消毒、保温及热处理试验； 特别适用于LED、LCD、石英晶体、电容、电阻等要求高恒温精度和可靠性的产品生产过程的烘干和老化。 恒温干燥箱详情 执行与满足标准 JB/T5520-1991干燥箱技术条件 内部尺寸(cm) 50× 60× 75 70× 70× 80 80× 80× 100 外部尺寸(cm) 67× 106× 96 87× 116× 102 97× 126× 129 性能 循环方式 　强制空气循环 材料 温度范围 　R.T+10～300℃ / R.T+20～450℃ 控制系统 温度波动度 　± 0.5℃ 温度均匀度 　± 2.5% 升温时间 　R.T+10～300℃ &le 70min/ R.T+20～450℃&le 80min 换气量 　5～200次/小时主要特点：立式烘箱特点： 按上下键即可人工输入参数，设定方便简单，同时显示设定温度、测量温度； 具有独立的超温保护装置，提高了产品的可靠性和安全性； 采用微电脑PID控制，具有PID自整定功能，确保设备在任何工作状态下都能达到**控温精度； 方便的温度补偿功能，较好地避免了显示温度值与实际温度值的误差； 独特的拼装设计，使箱体结构更合理； 产品具有测量温度达到设定温度的定时恒温功能； 配备方便产品移动的脚轮。 用途 电子、电工、仪表、材料、半导体等生产企业对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培及热处理试验； 学校、医药、食品、化工等单位科研及对非易燃、非易爆物品进行干燥、烘培、消毒、保温及热处理试验； 特别适用于LED、LCD、石英晶体、电容、电阻等要求高恒温精度和可靠性的产品生产过程的烘干和老化。

真空烘箱 “Celsius”标准软件 型号：200/400/500 +20～+200℃ 10mbar～1100mbar真空烘箱MEMMERT真空烘箱展示了它加热时间短、温度控制精确的特点。同时能温和地干燥热敏感物质以及易氧化物质。MEMMERT是世界上唯一提供数字压力控制器的制造商。除了真空烘箱外，Memmert还提供可控真空泵（选配），安装在箱体下部。 模块选择 在标配中，真空烘箱包含了一块搁板、两个搁板接口、USB接口、Celsius软件以及记忆卡、各种模块选择来满足您的需要。 惰性气体模块：可编程的数字控制进气，减少进气的流量。 泵控制模块：最优化泵组件的程序，同时输出泵开关的信号。 高级模块：选项包含了惰性气体模块和泵控制模块还有额外的加热搁板接口（VO200：1个/VO400和VO500：2个）一块加热搁板（VO400/VO500），底部滴水盘 搁板直接加热每一块搁板都有单独的温度传感器，单独的控制回路对不同的装载物和水分含量有精确的响应，能保证所有使用的搁板在设定的温度上；每个搁板在控制面板上有独立加热显示标志。加热和操作时间比传统的内壁加热节约75%，且搁板可以移除进行清洁。循环程序控制功能用户友好型的编程程序，节约客户的时间，保证可靠的加热工艺。可以在控制面板上直接进行编程，高达40个阶段的不同温度和真空度的设定。当用Celsius软件时，可以实现无限阶段的编程。型号尺寸/说明200400500不锈钢内腔体积升（大约）2949101宽度mm385385545高度mm305385465深度mm250330400最大搁板数数量344搁板之间的距离mm757595每块搁板的最大载重量kg202020箱体最大载荷kg406060外部压花不锈钢宽度mm550550710高度mm600680760深度（不带门把手，门把手深度38mm）mm400480550安全玻璃门，压花不锈钢框，内部带弹簧式安全玻璃，外部带防喷溅屏幕ESG□□□门的密封环形的硅脂密封条□□□温度电子微处理温度控制器，带Pt100探头和自诊断系统□□□每块加热搁板带4线制Pt100传感器□□□温度范围℃高于环境温度5K～+200设定温度范围℃+20～+200温度随时间变化（依照DIN12880：2007-05）（铝制加热搁板）K≤±0.3160℃/50mbar时的温度均一性（表面）（铝制加热搁板）K≤±2真空度数字式的电子压力控制（可通过程序编辑，高达40阶段，每个阶段可单独调节）压力范围在10mbar～1100mbar。实际显示可从5mbar～1100mbar。可对进气、温度、真空度程序控制，加快样品烘干，减少水分□□□门打开时空气快速吸入，且不改变所选择的真空设定点□□□允许最低真空度mbar0.01最大泄漏率bar/h0.01监控器微处理器温度控制器用作过温保护（保护等级3.1），Pt100传感器内含故障诊断装置，带可视和声音报警□□□高低温监控器□□□温度监控带，自动链接至设定点（ASF）□□□各加热搁板的多层过温保护（MLOP)□□□发生故障时箱体停止加热□□□机械温度限制器（TB）□□□声音报警：高温和低温□□□定时功能实时/周程序编辑功能（如周一至周五）□□□显示剩余运行时间的定时器：通过控制面板或记忆卡编程，最多40阶段（每阶段1min～999h）通过电脑和免费软件编程，无限阶段数□□□文件内存1024KB循环数据存储，包括：设定值，真实值，错误信息，真实时间，日期，最多可存储3个月数据，采集频率为1min□□□Celsius软件用于控制和记录温度和压力□□□设置可在控制面板上实现三点温度校正□□□控制器多种语言选择：D/UK/E/F/I□□□连接真空连接和进气口使用DN16法兰□□□详细数据230V，50/60Hz时的电气负载（装载最大数量的加热搁板）W（大约）120020002400标准附件可拆卸内部支架，不锈钢材质1.4404（ASTM 316L），带有放置加热搁板的集成横向导杆□□□加热搁板接口数量2加热搁板，铝材质3.3547（ASTM B209)，带集成式大面积加热，包括局部温度感应（4线制Pt100传感器），对每块搁板进行单独的高温保护数量1工作校准证书（+160℃，50mbar，在搁板中心），每块搁板有单独的校准证书□□□包装尺寸/真空烘箱净重/毛重（包含纸箱）kg（大约）58/6482/90120/134标准尺寸 宽度/高度/深度cm（大约）67/81/5467/89/6382/97/67包装尺寸/泵模块不带泵/带泵的净重kg（大约）26/4030/4541/56不带泵/带泵的毛重（包含纸箱）kg（大约）32/4638/5357/69标准尺寸 宽度/高度/深度cm（大约）67/70/5467/78/6382/97/67 订单型号：真空烘箱 VO200 VO400 VO500 选件200400500惰性气体进口：惰性气体可编程和数控进口，减少流量W5泵控制：泵膜的清洁程序以及泵开/关的信号输出（建议与PMP组合）W8高级模块：包含惰性气体进口，泵控制，一个打印机接口，额外的加热搁板接口：1个（200），2个（400/500），一块额外的加热搁板（400/500）和滴水盘T5附件200400500铝制的加热搁板，铝制材质W.-St3.3547(ASTM B209)，带集成式大面积加热，包括局部温度感应（4线制Pt100传感器），每块搁板进行单独的高温保护MLOP（多层过温控制）和校准证书B00741B00734B00744不锈钢加热搁板，适合带腐蚀性的材料-不锈钢材质1.4404(ASTM 316L)，适用于专门的腐蚀性材料，带集成式大面积加热，包括局部温度感应（4线制Pt100传感器），每块搁板进行单独的高温保护MLOP（多层过温控制）和校准证书B00733B00734B00735可拆式底部滴水盘-不锈钢材质1.4404（ASTM 316L）制成E04256E04257E04258管状框架，用于真空烘箱和泵模块的叠加，总高度1650mmE02030E02031E0203750mbar压力时3个温度的工作校准证书：+50℃，+100℃，+160℃D00115保修期延长一年（仅限VO）GA2Q5隔音真空泵模块（不带真空泵）（外部尺寸和材料号，参见真空烘箱），底部带抗震金属板，以适应真空泵。包括全视玻璃门，真空烘箱插座，信号电缆和连接软管PM200PM400PM500隔音真空泵模块，如上，带泵，230V，50Hz，（VO200使用泵E04062，VO400使用泵E04063)，VO上需要配合W8或T5使用PMP200PMP400PMP500信号电缆（3m），通过按照需求激活MEMMERT泵，优化泵的性能B04027从真空烘箱到MEMMERT泵的真空连接软管（3m），包含优化的连接附件（部分为不锈钢）B04026耐化学性真空泵，带PTFE双隔膜，大气压力下的泵容量约为34Nl/min=2.04m3/h，真空烘箱自动进行清洁控制。需要配合B04027和04026使用。230V，50/60HzE04062-耐化学性真空泵，带PTFE双隔膜，大气压力下的泵容量约为60Nl/min=3.6m3/h，真空烘箱自动进行清洁控制。需要配合B04027和04026使用。230V，50/60Hz-E04063

Blue M作为美国Lunaire公司的子公司, 专业生产符合各种特殊应用的高温烘箱. Blue M烘箱由于其特异的性能, 长时间的服务期, 易于操作和广泛的使用范围从而赢得高度的声誉。Blue M的Standard Ultra-Temp高温烘箱是用于退火, 热处理,消除应力处理, 黏合剂烧结, 陶瓷焙烘以及其它许多高温过程的好工具, 尤其在卷涂行业及涂料行业得到了非常成功的应用。主要特点：* 最高温度可达 700℃，玻璃纤维门垫圈设计使得在最高温度时也能保持良好的密封性* 良好的隔热门保证了较低外表温度* 水平空气流动 ,确保在所有装载条件下均匀的热性能* 标准安全门开关 , 在门开启时自动关闭加热器和风扇* 空气流动开关额外保护以免燃烧* 烘箱内壁涂有耐腐蚀材料，耐腐蚀性好；* 附加过温保护* 一年部件及服务保证* 三年标准控制调换保证

产品规格及主要参数：1、温度范围：室温+10~300℃,此范围内任意温度可调 2、内胆材料：采用1.0mm---1.5mm厚度A3冷压碳钢板制作 3、外墙材料：采用1.0mm---1.5mm厚度A3冷压碳钢板制作4、涂装材料：外墙采用环保自干漆（锤纹漆），颜色为银灰色 5、保温材料： 高效硅酸铝纤维隔热层,保温性能好6、底部材料：箱体底部承重框架材料6#槽钢；若大型烘箱则底部有两条埋入式凹槽，采用12#槽钢加固，12#轻轨钢延伸箱外，方便小车进出。 7、温控装置：智能温控仪表，自动恒温控温，精度±2℃。 8、电机功率：腾龙电机股份有限公司出品。 9、进气系统：口径60毫米。可控制调节风量。 10、排气系统：口径60---120毫米。可安装接口到车间外面 11、测温装置：一支不锈钢铠甲PT100铂电阻温度传感装置，测温精确。 12、加热元件：不锈钢管状电加热器，安装于箱体两侧风道内或底部13、报警装置：APT/AD16型声光报警，恒温时间结束报警提示，可开关。 14、电流电压：380V/50HZ 三相四线。 15、电器元件：全部采用浙江正泰。烘箱/高温试验箱使用说明：1、本型烘箱应在室内工作，并安装平稳。2、电源输入应装置专用的前级通断开关，并接妥良好地线。3、必须检查电源、电压、电源接线无误后，方可通电使用。4、在新购使用或搁置较久再用时， 应先用低温烘烤80-100℃二小时后再开始升高温度，以利潮气外泄，增强绝缘性能和延长瓷件寿命。5、仪表控温的热敏元件探头应从左侧线路的测温孔中插入工作室内，不得从箱顶气阀中心孔插入，以免影响使用。6、本干燥箱初次使用时，应请勤加以观察，避免过热烘坏工件，造成损失。7、使用如感到热惯稍大时，可关闭一组加热器以降低发热功率，防止惯性过大造成超温。8、取入烘烤物件：请勿撞击伸入工作室的控温器部份，防止损坏控温器导致失灵。9、本箱切忌烘烤易爆，易燃及挥发性的物品，以防爆炸。10、如遇故障，请专业电工检修。11、出厂时，工作室的搁板二块，说明书及合格证各一份。

仪器简介：Heraeus烘箱的众多优势每天都在各个领域显现。无论是在工业领域还是在科研领域-从塑料产业、电子产品到药厂和汽车制造业，您都可以看到我们烘箱的应用。Heraeus烘箱在设计上除了要满足您的应用需求，还一贯秉承着&ldquo 安全第一&rdquo 的宗旨...技术参数：Thermo Scientific Heraeus Vacutherm系列真空烘箱 三种尺寸：25L，53L和128L 采用模块化设计，不同应用采用不同组合。 特殊的加热工艺，提供快速加热。 双层安全玻璃门，在烘箱使用寿命内都有防爆功能 标配的断流器时时保护烘箱和样品主要特点：● 三款机型，三种尺寸：25L，53L和128L，采用模块化设计，不同应用采用不同组合。特殊的加热工艺，提供快速加热。双层安全玻璃门，在烘箱使用寿命内都有防爆功能。标配的断流器时时保护烘箱和样品。 ● 大大缩短干燥所需时间和常规烘箱相比， Heraeus Vacutherm 的处理速度快6倍。 ● 满足各种应用需求易燃物的安全干燥，消除了热处理过程中的氧化作用，提高脱气产品的得率。 ● 多种加热方式选择可选择气套加热或搁板加热方式。搁板加热方式能大大加快加热速度，缩短处理时间。 紧凑的真空干燥烘箱--VT6025，一个包装里涵盖了所有功能 VT6025型烘箱，设计上非常节省空间，采用夹层式加热方式。真空夹层和其他与触媒接触的元件全部采用不锈钢材料，电抛光处理，良好的抗腐蚀性能。 ● 优是化学制药实验室的理想之选 ● 惰性气体接口与精密控制阀门和过压安全气阀精确释放非可燃性，非氧化性气体（VDI20465） ● 标配DN25插孔，位于箱体后壁，方便后续操作。

织物缩水率恒温烘箱织物缩水率恒温烘箱用途：织物缩水率是指在特定条件下，织物在水洗或烘干过程中的尺寸变化比例。恒温烘箱是一种可以控制温度恒定在特定温度的烘干设备。织物缩水率恒温烘箱的用途主要有以下几个方面：研究和测试：在纺织行业，研究织物的缩水率是很重要的。恒温烘箱可以提供恒定的温度环境，用于测试和研究不同类型织物在不同温度下的缩水率。生产控制：在纺织品生产过程中，恒温烘箱可以用来控制织物的缩水率。通过将织物置于恒温烘箱中进行烘干，可以减少织物在水洗后的尺寸变化，确保产品符合规定的尺寸要求。质量检测：恒温烘箱可以用来进行织物质量检测。在织物生产完成后，可以将织物放入恒温烘箱中进行烘干，以观察织物的缩水率是否符合质量标准。总之，织物缩水率恒温烘箱的主要用途是研究和测试织物在不同温度下的缩水率，并用于生产控制和质量检测，以确保织物的尺寸变化符合要求。用于织物缩水率试验烘干。织物缩水率恒温烘箱符合标准：GB/T 8629。织物缩水率恒温烘箱仪器技术参数控制系统：PLC 操作界面：彩色7寸触摸屏，中英文切换；整机采用风道循环结构，具备可选择的强制通风装置，烘箱内装有进出风口；箱体外壳喷塑处理，内部选用304不锈板，不锈钢支架，面板选用进口特铝喷砂氧化处理，黑色字体，金属按键，温度控制器采用OMRON温控仪；温度数字显示，自动控制；有超温保护装置；底脚选用60F福马轮，安全又方便。箱内尺寸（L×W×H）：1610mm×610mm×1100mm，箱内可放8层层板，每块层板支架采用304不锈钢制成，内装304不锈钢丝网（钢丝直径1mm以上），层板两边应平整，不能有钢丝凸出现象。

易于使用的 Kelvitron™ 微处理器（夹层加热式烘箱）或 Digicon 多通道控制器（托架加热型烘箱）模拟压力显示超温传感器可保护烘箱及样品双层安全玻璃门不锈钢真空配件、导管和球阀带精密阀门和超压安全阀的惰性气体接口能准确释放非易燃性、非毒性气体后壁上有标准 DN25 检修口夹层加热型号运行温度高达 200°C隔板加热型号运行温度高达 400°C可确保热转换效果最佳推荐用途：热敏感材料干燥设计成分复杂的无残留干燥可实现脱气产品的目标回收率

无尘烘箱概要：提供高温净化环境,是一个特殊洁净无尘烘干设备无尘烘箱特点：1.外壁采用国际设备界中通用的SECC钢板,钢板外表面采用精密双层粉体烤漆处理，可防止微尘；内壁材料采用 2mm厚度SUS304#不锈钢钢板，氩弧满焊，密闭性好、洁净度高；背后做槽型加强，避免受热变形鼓起，并经碱性苏打水清洁，去油污，避免烘烤时产生PARTICLE2.室内空间设置样品架支撑调节分度架，在分度架上设置卡槽，方便取放，托盘采用不绣钢材料，承重≥10KG/层3.跨平台控制系统可实现远程监控、数据上抛,异常推送，手机程序监管及兼容MES数据交互4.过滤装置采用耐高温高效过滤器， Class 100标准，过滤器采用特殊的褶翻褶形褶层设计，过滤效率为99.99%5.设备采用模块化微控技术，具有自我诊断功能，智能故障解除提示及断电讯息保护功能6.定时功能(自动启动及自动停止运行)无尘烘箱规格参数： 型号KCO系列（可订制）内箱尺寸 W650xH650xD600mm 外型尺寸W1480xH1980xD1040mm重量 约680kg测试环境条件环境温度为5～35℃、相对湿度≤85%RH气压(86～106)kPa温度范围 （RT＋20）℃～200℃控温精度 ≤±0.5℃，按GB/T5170-2008表示温度均匀度 ≤2.0℃温度上升时间环境温度＋20℃～200℃≤60min温度下降时间 200℃降温至80℃≤60分钟（空载况下测试）无尘等级 无尘Class100级（≥0.5μm尘粒≤3.5颗/升）（工作室）满足试验标准GB/T2423.2-2001试验B：高温试验方法