数显润蒸发度仪

OLABO/欧莱博 旋转蒸发仪BK-RE-1A一、产品简介旋转蒸发器是实验室广泛应用的一种蒸发仪器。适用于回流操作、大量溶剂的快速蒸发、微量组分的浓缩和需要搅拌的反应过程等。旋转蒸发器系统可以密封减压至400～600毫米汞柱；用加热浴加热蒸馏瓶中的溶剂，加热温度可接近该溶剂的沸点；同时还可进行旋转，速度为50～160转/分，使溶剂形成薄膜，增大蒸发面积。此外，在高效冷却器作用下，可将热蒸气迅速液化，加快蒸发速率。蒸发瓶恒速旋转，水浴锅恒温加热，在此条件下：物料在蒸发瓶内壁形成大面积均匀薄膜快速蒸发，在真空条件下可以提高蒸发效率（需连接真空装置），溶媒蒸汽经玻璃冷凝盘管时冷却成液体（需连接冷却装置），回收于收集瓶。本系列产品使用需配套真空装置（循环水式、旋片式、隔膜式等真空泵），冷却循环装置组成系统装置。二、应用范围主要用于医药、化工和生物制药等行业的浓缩、结晶、干燥、分离及溶媒回收三、产品特点旋转蒸发器与物料接触部分全部采用高硼硅玻璃（膨胀系数3.3）和聚四氟乙烯材料，性能稳定不易与物料起化学反应。 主体支架采用冷板防腐喷塑+铝合金材质，锅胆采用不锈钢材质。密封系统采用聚四氟乙烯旋转轴和氟橡胶垫组合密封。活塞式加料阀套接聚四氟乙烯加长管，可在真空状态下连续进料至蒸发瓶。直立式双层蛇形盘管玻璃冷凝器。 旋转、加热电源开关控制，双联翘式按键（ON-OFF）。电子无极调速，通过旋扭微调。恒温浴锅温度数显，锅底Cu50型传感器+不锈钢探棒。主机手轮升降。 旋转、加热双熔断器安全保护。四、产品参数• 电压频率：220V/50HZ • 整机功率：1030W• 旋转电机功率：30W• 加热功率：1KW• 真 空 度：0.098Mpa• 旋转瓶容量：茄形1000mlΦ131mm/24#标口• 收集瓶容量：球形500mlΦ105mm/24#标口• 旋转速度：0-120rpm/min• 控温范围：室温0-99℃ • 控温精度：±1℃• 主机升降行程：0-150(mm)• 冷凝器尺寸：Φ85*450H(mm) 上29#标口配玻璃抽气头• 冷凝面积：0.17㎡• 四通瓶口径:上29#标口 下24#标塞 左19#标口 右24#标塞• 加 料 阀:19#标标塞阀 进料咀(宝塔接头)外径10mm• 真空抽气咀：29#标塞 真空咀(宝塔接头)外径10mm• 冷凝盘管进出循环咀：宝塔接头外径12mm• 锅胆尺寸容量：Φ220×120H(mm) 约4.5L 3.5KG• 整机占空间尺寸:640×430×(860-1010)mm宽深高• 机器净重：15KG• 包装尺寸：600L×460W×470H(mm) 纸箱0.13m3• 包装重量：18.5KG电压频率220V/50HZ整机功率1030W旋转电机功率30W加热功率1KW真 空 度0.098Mpa旋转瓶容量茄形1000mlΦ131mm/24#标口收集瓶容量球形500mlΦ105mm/24#标口旋转速度0-120rpm/min控温范围室温0-99℃ 控温精度±1℃主机升降行程0-150(mm)冷凝器尺寸Φ85*450H(mm) 上29#标口配玻璃抽气头冷凝面积0.17㎡四通瓶口径上29#标口 下24#标塞 左19#标口 右24#标塞加 料 阀19#标标塞阀 进料咀(宝塔接头)外径10mm真空抽气咀29#标塞 真空咀(宝塔接头)外径10mm冷凝盘管进出循环咀宝塔接头外径12mm锅胆尺寸容量Φ220×120H(mm) 约4.5L 3.5KG整机占空间尺寸640×430×(860-1010)mm宽深高机器净重15KG包装尺寸600L×460W×470H(mm) 纸箱0.13m3包装重量18.5KG

加温控制精确度±1ml/min温度调节范围室温-99℃旋转速度0-180转/分rpm可达真空度-0.098Mpa容量大小1L价格区间面议产地类别国产应用领域环保,食品,化工,石油产品型号YRE-2011旋转瓶容量标配1000ml收集瓶容量标配500ml转速设定液晶数显，无极调速升降方式滑动升降+手动提升升降行程100+150电源220V/50HzYRE-2011旋转蒸发仪旋转蒸发仪又叫旋转蒸发器，是实验室常用设备，由马达、蒸馏瓶、加热锅、冷凝管等部分组成的，主要用于减压条件下连续蒸馏易挥发性溶剂，应用于化学、化工、生物医药等领域。旋转蒸发仪可以用来回收、蒸发有机溶剂。它是利用一台电机带动蒸馏瓶旋转。由于蒸馏器在不断旋转，可免加沸石而不会暴沸。同时，由于不断旋转，液体附于蒸馏器的壁上，形成一层液膜，加大了蒸发的面积，使蒸发速度加快。YRE-2011旋转蒸发仪技术参数:产品名称旋转蒸发仪型式YRE-2011SYRE-2011DYRE-2011V性能旋转速度0-120rpm蒸发能力Ma×25ml/min（水的蒸发量）可达真空度399.9pa（3mmHg以下）功能转速设定旋钮式无极变速安全功能过载保护功能（保险丝）升降功能手动重量平衡方式结构电动机输出功率25w冷凝管斜式三重蛇管 冷却面积0.27m2直立式三重蛇管冷却面积0.27m2直立式三重蛇管冷却面积0.27m2试料瓶梨形瓶1L回收瓶梨形瓶1L（球磨口S35/20）旋转连接轴内径18×长220mm(TS29/38)内径18×长178mm(TS29/38)内径18×长178mm(TS29/38)真空密封圈特氟龙+特氟龙氟化橡胶双重密封圈规格接口口径接嘴外径10mm机座450*320升降行程100mm+150mm(滑动升降+手动提升）使用环境温度5-35℃电源功率0.16A/35VA额定电源AC2202V/50HZ外形尺寸（mm)）660宽度×320进深×510（760）高度480宽度×320进深×650（910）高度480宽度×320进深×660（920）高度仪器保养：1、用前仔细检查仪器，玻璃瓶是否有破损，各接口是否吻合，注意轻拿轻放。2、用软布(可用餐巾纸替代)擦拭各接口，然后涂抹少许真空脂。真空脂用后一定要盖好，防止灰砂进入。3、各接口不可拧得太紧，要定期松动活络，避免长期紧锁导致连接器咬死。4、先开电源开关，然后让机器由慢到快运转，停机时要使机器处于停止状态，再关开关。5、各处的聚四氟开关不能过力拧紧，容易损坏玻璃。6、每次使用完毕必须用软布擦净留在机器表面的各种油迹，污渍，溶剂剩留，保持清洁。7、停机后拧松各聚四氟开关，长期静止在工作状态会使聚四氟活塞变形。8、定期对密封圈进行清洁，方法是：取下密封圈，检查轴上是否积有污垢，用软布擦干净，然后涂少许真空脂，重新装上即可，保持轴与密封圈滑润。9、电气部分切不可进水，严禁受潮。

产品简介 ? 5L 水、油浴两用加热锅，加热温度可达180℃，独立控温，可单独使用，水、油浴两种加热模式切换方便；? 转速范围20 -200 rpm；?PID精确控温，具有过温 保护功能；?加热锅无媒介加热保护，自动断电；? 专利技术冷凝器，双螺旋冷凝管+中心圆弧设计，加快液体下流速度，回收率高，冷凝效果出色；?双层改性PTFE高弹性密封圈和压簧设计， 超强密封性，耐高温、耐腐蚀，经久耐 用；?手动升降+辅助升降，蒸发瓶升降操作方便，? 蒸发瓶带辅助推出器，拆卸方便 ；? 具有定时和正反转功能；? USB 接口，外接电脑控制仪器并记录转 速，温度数据。技术参数项目主机加热锅电压 [VAC]100-240200-240/100-120频率 [Hz]50/6050/60功率 [W]451010电机直流无刷电机-速度范围 [rpm]20-200-显示LED温度范围 [°C] 室温-180-温度控制精度 [°C]-±1.5(油±3)升降方式手动-升降行程 [mm]110-正反转间歇时间设定[s]1-999-外形尺寸[D×W×H ,mm]440×320×450300×300×240重量 [kg]73允许环境温度 [°C]5-40允许相对湿度80%DIN EN60529保护方式IP20USB有

n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念，一套系统可同时进行磁控溅射镀膜，热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜，并且可以兼容手套箱使用，特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品 - 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备 - 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介（1）FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 - 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中 - 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积：15cc - 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW）

n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念，一套系统可同时进行磁控溅射镀膜，热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜，并且可以兼容手套箱使用，特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品 - 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备 - 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介（1）FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 - 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中 - 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积：15cc - 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW）

该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。 设备技术参数1、使用条件：环境温度5℃～40℃ 电源：三相380 V,功率：≤20 KW，水压：≤2.5bar2、真空室尺寸：蒸发室尺寸：φ500×H500(㎜)3、电子枪：新型电子枪1套，6穴坩埚4、样品转盘：样品尺寸：≤φ150mm，样品可旋转，也可上下升降调节样品到电子枪距离(样品托形状按用户要求设计),加热温度≤500℃5、系统真空度：? 极限真空：经12～24小时烘烤，连续抽气≤5x10-5Pa? 抽气速率：从大气开始40分钟内真空度≤5x10-4Pa? 系统漏率：整机漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵关机12小时后，测量真空室真空度≤10Pa6、抽真空系统：FB1200分子泵+机械泵(TRP-36)系统，并设置旁路抽气7、镀膜监测：采用SQM160膜厚仪进行监测。8、镀膜厚度的不均匀度≤6%

n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念，一套系统可同时进行磁控溅射镀膜，热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜，并且可以兼容手套箱使用，特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介（1）FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW）

电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术；它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属，使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或者蒸汽压低的金属材料，包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3…技术参数：1. 蒸发室尺寸：24"×24"×21"；2. 极限真空度：≤5×10-7托；3. 电子枪功率： 5-10千瓦可调；4. 蒸发速率：可由晶体振荡器监控厚度和沉积速率；5. 可蒸发金属膜Al,Ti,Pt,Au,Ag,Cu,NiCr等；6. 膜厚度误差 ≤±2%，膜厚均匀性误差 ≤±2% 。主要特点：1. 安全简易的软件操作系统，四个不同级别的用户权限（操作、工艺、工程师以及维修保养）较大限度的保证系统的安全。2. 双腔设计：蒸发材料和晶片分别处于不同的腔体中，使得源材料的更换和晶片的装载过程中最大限度的保证腔体的洁净程度和缩短抽真空的时间。3. 较大的前腔门使得在维修和保养的过程中极为方便。4. 采用卫星旋转式晶片装载夹具，可以根据不同的产量的需要升级晶片直径或增加夹具的数量。卫星旋转式夹具保证了沉积薄膜的均匀性。 参考用户： 深圳大学；兰州理工大学；广东工业大学；厦门大学；华中科技大学；重庆微纳研究院；江南大学；

产品简介：450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。产品型号450型电子束蒸发镀膜系统技术参数系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。　　技术指标：　　极限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统e型电子枪：阳极电压：6kv、8kv(1套)　　坩埚：水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml　　功率：0-6KW可调　　电阻蒸发源(可选)　　电压：5、10V　　功率：电流300A，输出功率3Kw1套，可切换水冷电　　极3根，组成2个蒸发舟　　基片尺寸：可放置4″基片　　样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热温度 ≤800°C±1°C，可调手动控制样品挡板组件1套　　气路系统：质量流量控制器1路　　石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999?

产品描述：RV 10数显型代表着IKA RV10旋转蒸发仪生产线的持续改进。该设备配有新的通用加热浴槽、立式玻璃组件、先进的安全功能和数字连接。RV10数显型是一款坚固可靠的实验室伴侣。其优化的浴槽体积确保可以实现快速加热。冷凝器单元有特殊设计的玻璃管，这些玻璃管提供高达1600cm² 的冷凝面积，可实现非常高的效率。这就是RV 10数显型提供可靠且可重复的过程结果的原因，这些结果通常保留给成本更高的系统。平滑启动、正反转间隔或计时器功能等其他功能支持用户的日常实验室工作。RV10数显型的另一个重要方面是多重的安全特性。电动升降机在断电的情况下具有自动提升功能，以防止溶剂过热。安全温度电路可以单独设置。干运转保护、可调下降终点和浴槽设置的锁定功能完成了一系列安全功能。此外，IKA为增加安全需求提供了涂层 玻璃器皿的选择。RS232接口允许通过IKAs“Labworldsoft”进行远程控制。加热浴槽通过主单元的IR接口控制。 - 新型：4升加热浴槽 - 通用水/油加热浴槽 - 竖直玻璃组件 - 具有“安全停止”功能的电动升降机 - RS 232和红外接口 - 优化加热浴槽体积，实现快速加热 - 高效1600 cm² 冷凝器单元 - 坚固的设计 - 符合人体工程学的加热浴槽手柄 - 软启动 - 正反转间隔 - 计时器功能 - 干运转保护 - 安全温度回路 - 下降端点定位 - 可选镀膜玻璃组件 - 退瓶旋钮，可松开贴紧的玻璃器皿 - 由于用户界面的人机工程学设计，操作简单安全技术参数：1. 仪器主机电动升降，马达升降行程140mm，具有安全停止功能，下降终点设置0~60mm，高度可调。2. *间歇性的左右旋转，间歇时间可调0~60s，可运用于粉末状样品的干燥处理。3. *转速以及水浴温度等参数采用双屏幕数字显示。转速5~280rpm无极可调，最低转速不高于5rpm。4. 控制面板：位于加热锅左下方，防止蒸汽烫伤。 5. *三层冷凝管设计，全部可通冷却液，全方位冷凝。冷凝面积不低于1600cm2。6. 内置定时功能，方便实现重复性实验。7. 平稳启动，转速100RPM，有效防止热水泼溅。8. PTFE带不锈钢弹片的密封圈，耐磨耐腐蚀。9. 电源中断时，蒸发瓶将自动提升至加热锅以上位置，保护样品。10. 专用退瓶旋钮便于取出紧密结合的蒸发瓶。11. *红外接口用于加热锅和旋转马达间数据传输12. *可提供免费试用Labworldsoft软件来控制旋转蒸发仪，实现多功能梯度功能和自动蒸馏。13. 配套真空缓冲瓶，保护隔膜泵。14. 加热锅：控温范围：RT-180℃ 数字显示。设置精度：1℃，全量程范围温度偏差不高于±1℃。容积不少于4L，加热功率1400W。15. *加热锅安全温度调节范围：50~190°C，非固定安全温度，可根据实际应用调节16. 加热锅快速升温，有效缩短实验前期的等待时间，最大程度利用有效容积。加热锅可以单独使用，水油浴一体。17. *加热锅带锁定功能键，避免误操作18. 工作环境：电压：220~240V；允许环境温度：5~40°C19. 质保时间：整机2年，官网注册序列号延保3年（人为因素、耗材和玻璃组件除外）

上海子期实验设备有限公司专业销售德国IKA RV10数显型旋转蒸发仪，更多旋转蒸发仪型号和实验室仪器耗材欢迎来电垂询。德国IKA RV10数显型旋转蒸发仪产品描述： IKA新型旋转蒸发仪，外形美观，设计科学；紧凑的设计，创新的功能可有效改善实验室操作。仪器充分整合了加热锅 HB 10 基本型加热锅以及竖直玻璃组件 (1 升)。德国IKA RV10数显型旋转蒸发仪特点：加热锅加热安全回路可调，可根据需求独立操作，根据 需要可提供安全防护罩操作面板位于仪器前部，使用方便、操作简单马达升降 (行程 140 mm)， 具有安全停止功能，电源中断时，马达将蒸发瓶自动提升至加热锅以上位置可调升降终点识别功能，可有效防止玻璃组件破裂转速范围：20 至 280 rpm平稳启动：100 rpm蒸馏转速数字显示可间断的左右转动，适用于干燥过程电子定时功能水/油浴加热锅带安全把手加热锅容积适中，加热速度快冷凝面积高达 1,200 cm2蒸发瓶采用推手机械装置，拆卸方便、安全数显水/油浴加热锅带安全把手微控制系统精确控制加热锅加热温度温度数字显示 德国IKA RV10数显型旋转蒸发仪技术参数：冷凝器种类垂直式(竖直)冷凝面积1200 cm2电机原理直流速度范围20---280 rpm转动可逆方向是升降架马达行程140 mm加热温度范围室温---180 ° C加热输出功率1300 W加热温度控制精确度1 ± K浴槽最大容量3 l内置真空控制器不计时器是外形尺寸500 x 430 x 410 mm重量20 kg允许环境温度5---40 ° C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 20RS 232接口是电压220--240 / 100--240 / 100--120 / 100--115 V频率50/60 Hz仪器输入功率1400 W

可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层功能膜。 1、真空室：1.1、真空室内腔尺寸：500×500×680mm 可与手套箱联接使用。 1.2、真空室材料：整个真空室采用 SUS304 不锈钢材料制造，内表面抛光，外表面喷丸处理；极限真空度高。1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板；前滑门、后拉门、侧面抽气系统结构，四壁壳体外壳水冷，采用不锈钢水冷槽通水冷却。1.4、观察窗：Φ100mm 观察窗 2 个，观察窗内有遮挡活动板，配有两套防辐射射玻璃（一套备用）。1.5、CF35 陶瓷封接引线法兰：2 个（照明及内烘烤引线 1 个、预留空置 6芯电极法兰 1 个）1.6、晶振膜厚仪接口 1 个 2、工件架旋转与烘烤：2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封；3 到 60rpm 无级调速 2.2、样品托盘尺寸：可放置单片 4 英寸（配有单独样品托和样品夹具）。 2.3、样品温度：样品盘带有水冷； 2.4、基片与蒸发源之间距离 350～500mm 可调， 3、直流离子轰击 3.1、离子轰击：轰击电压 3000V,电流 160mA 及以上。可清洗样品表面。 3.2、配轰击铝棒 1 根 4、蒸发源：电子束蒸发源4.1、用超高真空 E 型电子枪； 4.2、270°E 型电子枪及高压电源，电子枪功率 0--8KW 可调；4.3、电子枪阳极电压：6kv、8 kv；两挡 4.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负 15mm（X，Y）；4.5、六工位水冷式电动坩埚；每穴容积 11-22ml 4.6、可调角度气动控制蒸发挡板，采用磁流体密封； 4.7、电子枪配有触摸屏，可远控； 4.8、带有高压灭弧自动复位功能。 5、真空抽气系统 5.1、复合分子泵与控制电源：可达 6.0×10-5Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从大气到抽到≤6.0×10-4Pa，小于 30min。 5.2、分子泵与真空室连接采用 DN200 气动挡板阀门； 5.3、机械泵和分子泵连接采用不锈钢金属波纹管；5.4、 系统漏率：系统停泵关机 12 小时后，真空室的真空度≤10Pa。 6、石英晶体测厚仪：采用石英晶体振荡膜厚监控仪◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度 ◇配单个水冷探头 ◇监测膜厚显示范围：0～99μ9999&angst ◇厚度分辨率：1&angst ◇速率显示分辨率： 0～9999.9 &angst ◇控制精度： 0.01 &angst ◇监测时间显示范围：1 分～99 小时 7、真空测量系统：复合数显真空计热偶规： 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa 电离规：（CF35 刀口法兰） 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa8、水冷系统 配备水冷循环系统：满足设备需求（功率大于 2kW） 9、其他： 9.1 不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 9.2 产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 1 套9.3 电子枪灯丝 5 9.4 坩埚 10

仪器简介：全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；电子束蒸发系统：1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation System2.高真空电子束蒸发系统High Vacuum E -Beam Evaporation System3.超高真空电子束蒸发系统Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System5.离子电镀系统Ion Plating System6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System技术参数：1.电子束源&电源 单个或者可自由切换换电子束源： --蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6) --坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc) --标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积 --偏转角度：180o, 270o --输出功率：6, 10, 15, 20 kW --支持两个或者三个电子束源在一个系统上 --可连续或者同时沉积两种或三种材料 --高速率沉积 2.薄膜沉积控制： IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制 --沉积过程参数可控 --石英晶体振荡传感器 --光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm --薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制 --薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制 --支持大面积沉积 --支持在线电子束蒸发沉积 --基底尺寸：20~100英寸 --薄膜均匀性 ±1.0 to 5.0 % 3.真空腔体： --圆柱形腔体 --直径：φ500 ~ 1,500 mm --高度：800 ~ 1500 mm --方形腔体 --根据客户的需求定制 4.真空泵和测量装置： --低真空：干泵和convectron真空规 --高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规 --超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规 5.控制系统PLC和 触摸屏计算机： --硬件: PLC, 触摸屏计算机 --包括模拟和数字输入/输出卡 --显示器: LCD --自动和手动程序控制 --程序控制：加载，编辑和保存 --程序激活控制： --泵抽真空，蒸发沉积，加热， 旋转等 --膜厚度检测和控制多层薄膜沉积 --系统状态，数据加载等 --问题解答和联动状态扩展功能：1、质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制 2、离子源和控制器：等离子体辅助沉积 3、射频电源：基底预先处理 4、温度控制器：基底加热 5、热蒸发器：1 or 2 boat 6、蒸镀源cell：1 or 2 for doping 7、冷却器：系统冷却

电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术；它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属，使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或者蒸汽压低的金属材料，包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3…技术参数：1. 蒸发室尺寸：24"×24"×21"；2. 极限真空度：≤5×10-7托；3. 电子枪功率： 5-10千瓦可调；4. 蒸发速率：可由晶体振荡器监控厚度和沉积速率；5. 可蒸发金属膜Al,Ti,Pt,Au,Ag,Cu,NiCr等；6. 膜厚度误差 ≤±2%，膜厚均匀性误差 ≤±2% 。主要特点：1. 安全简易的软件操作系统，四个不同级别的用户权限（操作、工艺、工程师以及维修保养）较大限度的保证系统的安全。2. 双腔设计：蒸发材料和晶片分别处于不同的腔体中，使得源材料的更换和晶片的装载过程中最大限度的保证腔体的洁净程度和缩短抽真空的时间。3. 较大的前腔门使得在维修和保养的过程中极为方便。4. 采用卫星旋转式晶片装载夹具，可以根据不同的产量的需要升级晶片直径或增加夹具的数量。卫星旋转式夹具保证了沉积薄膜的均匀性。 参考用户： 深圳大学；兰州理工大学；广东工业大学；厦门大学；华中科技大学；重庆微纳研究院；江南大学；

产品简介： GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定，并准确控制温度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范围内进行变化，可蒸镀直径长达2"的薄膜样品，在对样品进行蒸发镀膜的过程中，样品台可进行旋转旋转，以获得更均匀的薄膜。控温蒸发镀膜仪应用范围广，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜，因此被广泛用于电极的制备和有机物发光LED的制备。控温蒸发镀膜仪体积小巧，可有效节约实验室空间；操作简单，对不同材料的适应性强，因此被广泛应用于各大高校和科研院所的实验室当中。 产品型号GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪主要特点1、已通过CE认证。2、采用石英腔体，易于清洁和样品的放入。3、样品台可旋转，能够使所制薄膜达到更好的均匀性。4、采用钨丝作为发热源，温度可达到1700℃，并配有的氧化铝舟装载样品（仅1600oC以下使用，若蒸发温度大于1600oC，样品应直接放在钨丝篮中）。　　5、热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制。6、可将设备转换到手动调节状态，内部不安装热电偶，直接采用手动调节输出电流大小，发热源温度可达2000oC，可达到对样品镀碳等实验要求。7、可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜。8、进气口配有针阀，用于调节进气流量。技术参数1、电压：AC 208V-220V 50Hz/60Hz 单相2、功率：500W，电流顶峰为30A3、真空腔体：石英腔体，直径?6"4、样品台：直径?50mm；可旋转，转速5rpm；与蒸发源间距可调，调节范围60mm-100mm5、温度：1700oC6、热电偶：S型热偶，工作温度200oC-1500oC（可选用B型热偶，工作温度1200oC-1700oC）7、控温精度：±1oC，数显温度控制器，可设置30段升降温程序8、钨丝篮：2个9、真空接口：KF4010、真空计：数显防腐真空计PCG554，测量范围3.8×10-5-1125torr11、进气接口：1/4NPS产品规格尺寸：440mm×330mm×630mm可选配件1、机械泵（带油污过滤器）（真空度10-2torr，可以蒸发贵金属，如Au、Ag）2、分子泵（可获得高真空，真空度10-5torr，蒸发易氧化材料，如Al、Mg、Li等）3、低真空系统4、高真空系统5、等离子清洗机（镀膜前对基片进行清洗，可获得更好的薄膜强度）

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

原理：热蒸发功是能通过对碳纤维绳加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺。 特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、电流可调避免对样品造成不必要的损伤。3、真空保护可避免真空过低造成设备短路。4、触摸屏操作. 5、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。5、可进行 Flash 式或 Pulsed 式镀碳。6、Pulsed 脉冲式镀碳：短脉冲提供了更加可控的沉积方式，与传统镀碳相比，碎屑显减少参数： 仪器尺寸 ：390mm×310mm×290mm（W×D×H） 真空样品室： 160mm×110mm（D×H），硼硅酸盐玻璃 极限真空度：5Pa 样品台：50mm (D) 蒸碳电流：50A-80A 可调 控制方式：触摸屏 蒸发材料：碳纤维 脉冲喷碳次数：0-9 次可调 电源：220V AC,50Hz 接地三脚插头 真空泵：2 升机械旋转泵（国产 VRD-8） 重量：~50kg 功率：1.6kw

产品简介： GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方有一个可旋转挡板，当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住，以防蒸镀材料之间相互污染。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜，可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求，是一款镀膜效果理想且性价比较高的实验设备。GSL-1800X-ZF4镀膜仪腔底部配有5个水冷电极，在工作过程中可有效保护电极温度不会因温度过高而熔化，进而损坏电极。该机采用金属腔室，具有极高的真空度，真空度可达到5.0×10-7torr，样品台可对样品进行加热，加热温度为室温-500℃，是进行高真空蒸发镀膜的设备。产品名称GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪产品型号GSL-1800X-ZF4安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、工作台：落地式，占地面积2m2以上。4、通风装置：需要主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器，操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀（直接与前级机械泵相连，提高效率）、1个CF150闸板阀（直接与分子泵相连）、1个KF16法兰（安装电阻规）、6个CF35法兰（1个安装电离规，1个安装2芯电极，1个安装膜厚仪）3个备用。4、在腔体底部配有5个水冷电极，可支持4个蒸镀加热舟。5、样品台安装在腔体的顶部。6、腔内可装高分辨率的薄膜测厚仪，膜厚测量分辨率（铝）为0.1?。7、可使用循环水冷机。技术参数1、输入：单相AC220V，50Hz/60Hz，功率2.16KW（不含真空泵）2、蒸发输出：电压AC 0-8V连续可调，极限蒸发电流200A，极限蒸发功率1.6KW3、真空腔：?300mm（内径）×400mm，不锈钢，内壁经电抛光处理4、观察窗：?100mm，采用密封圈密封5、真空泵：高抽速涡轮分子泵，抽速600L/s6、真空度：8.0x10-4Pa7、极限真空8.0x10-5Pa8、漏率：6.7×10-8PaL/S9、样品台：φ12010、蒸发舟与样品台间距：150-210mm11、冷却水需量：15L/min产品规格尺寸：900mm×1100mm×1800mm；重量：230kg

高真空热蒸发镀碳仪7英寸TFT触摸屏，全数字显示；全自动控制，一键式操作；4根碳绳交替工作，自动检测通断；连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式。产品优势：1、7英寸TFT触摸屏，全数字显示；2、全自动控制，一键式操作；3、4根碳绳交替工作，自动检测通断；4、连续蒸发、脉冲蒸发两种工作模式；5、旋转样品台，可手动/自动控制；6、软硬件互锁、安全可靠； 产品参数：外形尺寸420(L)×330(D)×335(H) mm操作界面7 英寸触摸屏、全数字显示蒸发源高纯碳纤维（φ0.8mm）蒸发源数量4 根蒸发模式连续蒸发、脉冲蒸发工作模式全自动、手动预热除气有除气挡板全自动真空泵旋片式真空泵真空泵抽速1.1L/s真空室高硅硼玻璃 ~φ170×130mm极限真空≤1Pa样品台≥φ90mm工作真空≤2Pa样品台旋转手动或自动样品台转速高速、低速两档可调供电AC220V/50Hz额定功率800W蒸发源状态系统上电后自动检测 4 根蒸发源通断情况，并在主界面显示保护功能真空保护、过流保护、过压保护等其它真空、电流、电压可实时曲线 显示选配分子泵（高真空模式）、膜厚监测、温度检测等

上海贤德xiande-5220A大容量20升水浴旋转蒸发仪产品介绍：◆ 升级版大屏幕液晶屏，集成式多功能运行系统联控监测显示,菜单式界面,旋钮式数据输入,设定操作直观便捷。◆ 无人模式安全操作功能，实验结束设备自动停止工作,蒸发瓶与加热锅自动分离回到待机状态,预警保护。◆ 人性化设计:底部支架的空间可以放置真空控制器和隔膜泵,万向滑轮带定位装置的安装让设备使用稳定,移动轻便◆ 密封部件:选用进口PTFE及特殊合成材料，经特殊工艺技术处理模具合成，密封性强，耐腐蚀、耐高低温和耐磨性。◆ 保压阀门装置，在不影响设备系统压力运行和样液蒸馏的情况下，可以同时让收集瓶中的回收溶液进行连续取放。◆ 安全保护功能:设定有过流,过载保护,熔断器、感热式干烧防止器,设备异常、超温自动断电、待机预警保护。◆ 可设置正/反转功能，间歇性正反循环功能(0～60s)，可运用于粉末状样品的干燥处理。◆ 一次性成型特氟隆加热锅,耐腐蚀、耐高温、易清洗，避免实验时出现交叉污染。◆ 立式,一体式 三回流大直径冷凝器,冷却面积大,蒸发能力强,安装便捷。◆ 自动升降功能，安全距离限位设定，升降平稳，方便快捷。◆ 内置真空控制器（可选配）,自动控制真空度。◆ 配有防护罩，保温节能，防溅，防爆.可选附件:- xiande.VC-3000pro真空控制器或者xiande.GMVC-3000pro真空控制器真空泵一体机；- XDGM-20真空泵：耐腐蚀的PTFE隔膜真空泵，流速20L/min，极限真空度6mbar；及循环水真空泵- XDYQ-3/15/XDYQ-5/10/XDYQ-5/20低温冷却循环装置；- XDFC瓶：冷凝收集瓶（缓冲瓶），使用XDGM-20真空泵、 xiande.VC-3000pro真空控制器或者xiande.GMVC-3000pro真空控制器真空泵一体机时推荐使用；- 溶媒回收装置：配套的冷却器和活性炭吸附装置设计小巧,能有效吸收有害气体改善实验环境空气。为了保护隔膜真空泵，抑制废气泄露，装备有自循环净化功能。技术参数：型号xiande-5220A主机自动悬臂式升降 0-190毫米蒸发能力MaX.5L/H(H2O)转速10-130转/分； 可设置正/反转功能，间歇性正反循环功能(0～60s)温度PID自动控温，液晶屏显示, 水浴：室温-99度±1℃加热锅一次性成型特氟隆304加热锅,耐腐蚀、耐高温、易清洗浴锅尺寸Φ450×260mm加热功率5KW冷却器立式,一体式 三回流大直径冷凝器,,冷却面积大,蒸发能力强,安装便捷加料器阀门式加料管套接四氟乙烯管和挡水流圈试料瓶容量范围5-20L密封部件选用进口PTFE及特殊合成材料，经特殊工艺技术处理模具合成，增强密封性，防腐性和耐磨性。总功率5.3KW工作电源AC220V/50Hz尺寸重量(长*宽*高)125×60×180cm /110KG出厂配置收集瓶10L1个 φ125法兰口旋转瓶20L* 1

上海贤德xiande-5210A大容量10升水浴旋转蒸发仪产品介绍：◆ 升级版大屏幕液晶屏，集成式多功能运行系统联控监测显示,菜单式界面,旋钮式数据输入,设定操作直观便捷。◆ 无人模式安全操作功能，实验结束设备自动停止工作,蒸发瓶与加热锅自动分离回到待机状态,预警保护。◆ 人性化设计:底部支架的空间可以放置真空控制器和隔膜泵,万向滑轮带定位装置的安装让设备使用稳定,移动轻便◆ 密封部件:选用进口PTFE及特殊合成材料，经特殊工艺技术处理模具合成，密封性强，耐腐蚀、耐高低温和耐磨性。◆ 保压阀门装置，在不影响设备系统压力运行和样液蒸馏的情况下，可以同时让收集瓶中的回收溶液进行连续取放。◆ 安全保护功能:设定有过流,过载保护,熔断器、感热式干烧防止器,设备异常、超温自动断电、待机预警保护。◆ 可设置正/反转功能，间歇性正反循环功能(0～60s)，可运用于粉末状样品的干燥处理。◆ 一次性成型特氟隆加热锅,耐腐蚀、耐高温、易清洗，避免实验时出现交叉污染。◆ 立式,一体式 三回流大直径冷凝器,冷却面积大,蒸发能力强,安装便捷。◆ 自动升降功能，安全距离限位设定，升降平稳，方便快捷。◆ 内置真空控制器（可选配）,自动控制真空度。◆ 配有防护罩，保温节能，防溅，防爆.可选附件：- xiande.VC-3000pro真空控制器或者xiande.GMVC-3000pro真空控制器真空泵一体机；- XDGM-20真空泵：耐腐蚀的PTFE隔膜真空泵，流速20L/min，极限真空度6mbar；及循环水真空泵- XDYQ-3/15/XDYQ-5/10/XDYQ-5/20低温冷却循环装置；- XDFC瓶：冷凝收集瓶（缓冲瓶），使用XDGM-20真空泵、 xiande.VC-3000pro真空控制器或者xiande.GMVC-3000pro真空控制器真空泵一体机时推荐使用；- 溶媒回收装置：配套的冷却器和活性炭吸附装置设计小巧,能有效吸收有害气体改善实验环境空气。为了保护隔膜真空泵，抑制废气泄露，装备有自循环净化功能。技术参数：型号xiande-5210A主机自动悬臂式升降 0-160毫米蒸发能力MaX.3.5L/H(H2O)转速10-130转/分； 可设置正/反转功能，间歇性正反循环功能(0～60s)温度PID自动控温，液晶屏显示, 水浴：室温-99度±1℃加热锅一次性成型特氟隆304加热锅,耐腐蚀、耐高温、易清洗浴锅尺寸Φ350×220mm加热功率3.5KW冷却器立式,一体式 三回流大直径冷凝器,,冷却面积大,蒸发能力强,安装便捷加料器阀门式加料管套接四氟乙烯管和挡水流圈试料瓶容量范围5-10L密封部件选用进口PTFE及特殊合成材料，经特殊工艺技术处理模具合成，增强密封性，防腐性和耐磨性。总功率3.8KW工作电源AC220V/50Hz尺寸重量(长*宽*高)106×55×170cm /95KG出厂配置收集瓶5L1个 φ95法兰口旋转瓶10L *1

1.产品概述：高真空电子束蒸发薄膜沉积系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成，体现立方整体外观，适用于超净间间壁隔离安装，操作面板一端处在相对要求较高超净环境，其余部分（含低温泵抽系统）处在相对要求较低超净环境。2.设备用途：高真空电子束蒸发薄膜沉积系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。该系统的主要功能是利用电子束蒸发技术在基片上沉积各种薄膜材料。3.产品优势：限真空度高：能够达到≤6.×10^-5 Pa，这有助于减少薄膜制备过程中的杂质和气体干扰，提高薄膜质量。电子枪功率可调范围大：电子枪功率 0—10kW 可调，可以满足不同材料蒸发和薄膜沉积的需求，适应多种工艺条件。配备水冷式坩埚：4 穴坩埚，每个容量不少于一定数值（具体容量可能因型号而有所不同），可容纳多种材料同时蒸发。样品台性能优良：可容纳较大尺寸的样品，并且能够加热至较高温度（具体温度可能因型号而有所不同），转速可在一定范围内调节，满足不同实验需求。具备精确的膜厚监测仪：彩色 LCD 显示屏，提供英文或中文版本，设有“quick setup”（快速设定）菜单、多个区分上下文按钮以及简便的参数设定旋钮，易于设定和操作，且测量速率和分辨率较高，存储容量大，能够使用单传感器或多传感器监控源材料，提供精确的源分布监控，有利于实现对薄膜沉积过程的精确控制和质量监测。包含金属蒸发源组件：可提供多套蒸发电源，大输出功率满足一定要求（如 1.8kW，电压 6V，电流×A），有助于提高薄膜沉积的效率和稳定性。拥有较高的分子泵抽速：≥×l/s，能够快速有效地抽取真空室内的气体，维持高真空环境。其他方面：可能还具有良好的设备稳定性、可靠性，以及完善的售后及质保服务等。4.产品参数：真空室结构:U形开门真空室尺寸:900×900×1100mm限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样品尺寸，温度:φ4英寸，26片，高300℃占地面积（长x宽x高）:约3.5米x3.9米x2.1米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%特色参数 :样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根据用户基片尺寸设计工件架

一、 产品简介 KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构，高度模块化，能够提供多种沉积选项。基于基础系统，通过配置不同的模块，可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单，易于安装，为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。二、 产品特性：- 模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小三、 主要指标：- 模块化设计，由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选，可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台，旋转加热台、水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能，- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔（选配）- 可配备原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振- 系统占地空间小，约1m2四、主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件 五、 PVD热源简介（1） FISSION磁控溅射源 Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器，并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体，允许在靶材表面附近实现更高的分压，从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有（固体）金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜- 靶材尺寸：50mm（2”）- 最大靶材膜厚：6mm（1mm厚强磁体）- 直流电源：780W（600V，1.3A）- 射频电源：300W（13.56MHz）- 气体补偿：通过内置气罩- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（2）TAU电子束蒸发器 TAU 蒸发源非常小巧，无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒，也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。- 工艺腔热源数：4个- 工艺腔单个热源最大功率：250W- 蒸发材料：圆棒（最大直径4mm）或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀：支持- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（3）ORCA有机材料沉积源 材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 1000℃ 的温度下最有效地运行，这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下，辐射损耗显着降低，传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。 ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚，以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡，从而实现出色的温度稳定性和控制。 坩埚由高导热材料制成，确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地，可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。 K 型热电偶插入坩埚主体，与典型的接触式布置相比，可提供更准确的读数。该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。- 坩埚容积：15cc- 温度范围：50-600℃- 热电偶：K型- 电源：直流- 冷却：水冷（最小0.5L/min）（4）TES舟型热蒸发源 热蒸发不需要工艺气体，因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行，极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源，HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用，例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。- 舟型载体容积：1cc-5cc- 温度范围：50℃-2200℃- 电源：直流（1.2kW） 六、 样品台简介 七、 操作软件简介 八、 快速降压及配件展示 九、 手套箱集成展示 Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装 了 100 多个 HEX 系列系统，始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分，同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战，并延续其以客户为 中心的文化。

容量大小50L价格区间面议产地类别国产应用领域环保,食品,化工,石油产品型号YRE（EX）-2050A旋转瓶容量50L收集瓶容量20L旋转电机功率180W水浴锅加热功率8KW电源220V/50HzYRE-2050A（50L）防爆旋转蒸发仪旋转蒸发器主要用于医药、化工和生物制药等行业的浓缩、结晶、干燥、分离及溶媒回收。其原理为：在真空条件下，恒温加热，使旋转瓶恒速旋转，物料在瓶壁形成大面积薄膜，蒸发。溶媒蒸发经玻璃冷凝器冷却，回收与收集瓶中，大大提高蒸发效率，特别适合用于高温容易分解变性的生物物品的浓缩提纯。本公司旋转蒸发器及国内外同类产品之精华，本公司成功实践经验已形成1L、2L、3L、5L、10L、20L、50L、系列，产品设计遵循、实用、经济原则，一切为用户着想。YRE-2050A（50L）防爆旋转蒸发仪特点：1、 采用上的EL气密系统，能保持高真空度。气液分离，无回流。2、 采用主副双冷凝器，确保高回收率。3、 防爆旋蒸的电器部分（电机及调速盒等电器部分）均采用国内。4、 旋转瓶用螺母联接便于装卸。5、 收集瓶下口有放液阀，回收溶媒十分快捷。6、 收集瓶于副冷凝器之间装有真空止回阀，放液时不影响蒸发真空可连续进料。7、 真空系统装真空表，对低沸点物料可调节真空度。8、 水浴锅电子恒温控制，并可上下升降。9、 结构合理，用料讲究。机械结构大量采用不锈钢和铝合金件。玻璃件全部都用耐高温硼硅玻璃。电器关键件进口，氟橡胶密封 易损件全部用新，便于用户采购更换，关键件进口。 防爆旋转蒸发仪的详细操作步骤： 1、用胶管与冷凝水龙头连接，用真空胶管连接真空泵抽真空。 2、先将水注入加热槽(最好用纯水)，如用自来水，请放置一两天再用。 3、调正主机角度的方法：只要松开主机和立柱连结螺钉主机即可在0-45度之间任意倾斜。 4、接通冷凝水、接通电源、与主机连接上蒸发瓶(不要放手)，打开真空泵使之达到一定的真空度后再松开手。 5、调正主机高度的方法：按压下位于加热槽底部的压杆，左右调节弧度使主机达到合适位置后，手离开压杆即可达到所需要的高度。 6、打开调速开关绿灯亮，调节其左侧旁的转速旋钮，蒸发瓶开始转动。打开调温开关绿灯亮，调节其左侧旁的调温旋钮加热槽开始自动温控加热，旋蒸进入试运行。温度与真空度一到所要求的范围即能蒸发溶剂到接受瓶。 7、停低温冷却液循环泵，停水浴加热，关闭水泵循环水，倒出接收瓶内溶剂，洗干净缓冲球，接收瓶。蒸完先停止旋转，再通大气，然后停水泵，最后再取下蒸馏烧瓶。 8、蒸发完毕后先关闭调速开关及调温开关，按压下压杆使主机上升。然后关闭真空泵并打开冷凝器上方的放空阀使之与大气相通，取下蒸发瓶即蒸发过程结束。 仪器保养1、用前仔细检查仪器，玻璃瓶是否有破损，各接口是否吻合，注意轻拿轻放。2、用软布(可用餐巾纸替代)擦拭各接口，然后涂抹少许真空脂。真空脂用后一定要盖好，防止灰砂进入。3、各接口不可拧得太紧，要定期松动活络，避免长期紧锁导致连接器咬死。4、先开电源开关，然后让机器由慢到快运转，停机时要使机器处于停止状态，再关开关。5、各处的聚四氟开关不能过力拧紧，容易损坏玻璃。6、每次使用完毕必须用软布擦净留在机器表面的各种油迹，污渍，溶剂剩留，保持清洁。7、停机后拧松各聚四氟开关，长期静止在工作状态会使聚四氟活塞变形。8、定期对密封圈进行清洁，方法是：取下密封圈，检查轴上是否积有污垢，用软布擦干净，然后涂少许真空脂，重新装上即可，持轴与密封圈滑润。9、电气部分切不可进水，严禁受潮。

1. 产品概述：高真空电子束蒸发薄膜沉积系统是一种先进的物理气相沉积（PVD）技术设备，主要用于在超高真空环境下，通过电子束加热蒸发源材料，使其蒸发并在基片表面沉积形成薄膜。该系统广泛应用于物理学、材料科学、动力与电气工程等域，特别适用于纳米材料、太阳能光伏电池、半导体器件等高精度薄膜的制备。2 设备用途/原理：1. 薄膜制备：该系统能够制备各种金属、半导体、氧化物等材料的薄膜，满足不同材料和器件的制备需求。2. 科学研究：在材料科学研究中，用于探索新材料、新结构的物理和化学性质。3. 工业生产：在半导体、光电子、太阳能电池等行业中，用于大规模生产高精度、高质量的薄膜产品。3 设备特点CMP抛光机具有以下几个显著特点：1 高真空度：系统能够达到高的真空度（≤6.0E-5Pa），有助于减少薄膜制备过程中的杂质和气体干扰，提高薄膜质量。2 电子束加热：采用电子束加热技术，具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快等优点，能够蒸发高熔点材料，制备高纯薄膜。3 多源蒸发：系统配备多个蒸发源（如6个40cc坩埚），可同时或分别蒸发多种不同材料，实现多层膜的均匀沉积。4 精确控制：配备高精度的膜厚监控仪和控制系统，能够实现对薄膜厚度、成分和结构的精确控制，确保薄膜的均匀性和一致性。5 灵活定制：样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架等多种选择，可根据用户基片尺寸设计工件架。6 稳定可靠：系统整体设计合理，结构紧凑，具有良好的设备稳定性和可靠性，以及完善的售后及质保服务。综上所述，高真空电子束蒸发薄膜沉积系统以其高真空度、高精度、多源蒸发和灵活定制等特点，在薄膜制备域具有广泛的应用景和重要的科学价值。4 特色参数：本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。真空室结构:U形开门真空室尺寸:700x700x900mm限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样品尺寸，温度:φ4英寸，26片，高300℃占地面积（长x宽x高）:约3.2米x3.9米x2.1米电控描述:全自动控制系统：通过工控机和 PLC 实现对整个系统的控制，具有自动和手动控制两种功能，操作过程可在触摸屏上进行，提供配方设置、真空系统、电子枪系统、工艺系统、充气系统、冷却系统等人机操作界面；在工控机上可通过配方式参数设置方式实现对程序工艺过程和设备参数的设置。工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%特色参数 :工件架有拱形基片架和行星形基片架：可根据用户基片尺寸设计工件架

1. 产品概述电子束蒸发镀膜机E-Beam系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成。2. 设备用途本系统配有一套电子枪及电源，可满足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。3. 技术参数真空室尺寸：定制极限真空度：≤6.0E-5Pa 沉积源：6个40cc坩埚 温度：最高300℃电控描述：全自动工艺：片内膜厚均匀性：≤±3%特色参数：样品尺寸及数量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架4. 企业简介深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

技术参数：产品型号AYAN-B80AYAN-B100AYAN-B150AYAN-B200AYAN-B220内径(mm)80100150200220蒸发面积(㎡)0.10.150.250.350.5冷凝面积(㎡)0.150.250.450.550.65进料容积(L）22255处理流量L/H0.5∽4.00.5∽5.01.0∽8.01.5∽10.02.0∽15.0电机功率(W)120120120120200转速(r/min)≤450≤450≤450≤450≤450轻组分收集瓶(L）12355重组成收集瓶(L）12355冷井有有有有有外置冷凝装置有有有有有冷却装置有有有有有真空度(pa)100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下100bar以下受热温度(°C)室温-200室温-200室温-200室温-200室温-200 简介： 刮板薄膜蒸发器是壳体外部装有加热蒸汽夹套，其内部装有可旋转的刮板,刮板由圆筒中心的旋转轴带动。材料液由蒸发器上部沿切向参与后，在重力和旋转刮板的带动下,沿壳体的内壁面构成下旋的薄膜，结束液由底部排出器外，二次蒸汽则经除沫器后由上部排出。这种蒸发器的出色利益是对物料的适应性很强,对高黏度、易结晶、易结垢、含悬浮物或兼有热敏性料液的蒸发均适用。 描述： 它主要由加热夹套和刮板组成，夹套内通加热蒸汽，刮板装在可旋转的轴上，刮板和加热夹套内壁坚持很小空地，一般为0.5～1.5mm。料液经预热后由蒸发器上部沿切线方向参与，在重力和旋转刮板的作用下，分布在内壁构成下旋薄膜，并在下降过程中不断被蒸发浓缩，结束液由底部排出，二次蒸汽由顶部逸出。在某些场合下，这种蒸发器可将溶液蒸干，在底部直接得到固体产品。 这类蒸发器的缺点是结构凌乱（制造、设备和维修工作量大）加热面积不大，且动力消耗大。 工作方法 物料从大直径端接连不断地进入卧式蒸发器，被刮膜片加速和分配并立即在加热面上构成一个薄的活动膜。 圆锥型薄膜蒸发器，依赖于转子施于物料一个离心力，这离心力有两个有效能，一个垂直于加热面，另一个朝大直径端体的方向（留意：相同的效果相同出现在垂直圆锥型薄膜蒸发器里）依托这些力发作物料加速，并且进入的物料保证加热面充分湿润，不依赖于蒸发比或进料速度。因此，部分物料过热和热降解被削减或消除。 在此过程中，轻组份（低沸物）顺流（和液膜同向）穿过卧式薄膜蒸发器进入汽液分别器，在此处经汽液分别所发作的液滴和泡沫被击碎进入液相（高沸物），被分别后的汽体进入外置冷凝器或下道工序；重组份（高沸物）沿着加热壁面爬升到小端出口排出。一、概述　　分离技术是化工生产三大技术之一，分离过程的优劣对产品质量、效率、消耗、效益影响极大。GXZ旋转薄膜蒸发器，是按物料的挥发度不同进行分离的设备。该设备的传热系数高、蒸发温度低、物料停留时间短，热效率高、蒸发强度大。在石化、精细化工、农药、食品、医药、生物化工等行业中广泛应用于蒸发、浓缩、脱溶、提纯、汽提、脱气、脱臭等过程。 薄膜蒸发器是通过旋转刮膜器强制成膜，并高速流动，热传递效率高，停留时间短（约5~15秒），可在真空条件下进行降膜蒸发的一种新型蒸发器。它传热系数大、蒸发强度高、过流时间短、操作弹性大，尤其适宜热敏性物料、高粘度物料及易结晶含颗粒物料的蒸发浓缩、脱气脱溶、蒸馏提纯。它由一个或多个带夹套加热的圆筒体及筒内旋转的刮膜器组成。刮膜器将进料连续地在加热面刮成厚薄均匀的液膜并向下移动；在此过程中，低沸点的组份被蒸发，而残留物从蒸发器底部排出。二、性能特点真空压降小：　　物料汽化气体从加热面送到外置的冷凝器，存在的压差。在一般的蒸发器中，这种压力降（Δp）通常是比较高的，有时甚至高得难于接受。而刮板式薄膜蒸发器有较大的气体穿越空间，蒸发器内压力能看成与冷凝器中的压力几乎相等，因此，压力降很小,真空度可≤1Pa。操作温度低：　　由于上述特性，这使得蒸发过程可以保持在较高真空度条件下进行。由于真空度的提高，与之相应的物料沸点迅速降低，因此，操作可以在较低温度下进行，降低了产品的热分解。受热时间短：　　由于刮板式薄膜蒸发器的独特结构，刮膜器具有泵送作用，使得物料在蒸发器内的停留时间很短；另，在加热的蒸发器上由于薄膜的高速湍流使得产品不会滞留在蒸发器表面。因此，适用于热敏性物料的蒸发。蒸发强度高：　　物料沸点的降低，增大了同热介质的温度差；刮膜器的功能，减小了呈现湍流状态的液膜厚度，降低了热阻。同时，在这过程中抑制物料在加热面结壁、结垢，并伴有良好的热交换，因此，提高了刮板式薄膜蒸发器的总传热系数。 操作弹性大：　　正是由于刮板式薄膜蒸发器的性能，使其适宜于处理热敏性和要求平稳蒸发的、高粘度的及随浓度提高粘度急剧增加的物料，其蒸发过程也能平稳蒸发。它还能成功地应用于含固颗粒、结晶、聚合、结垢等情况物料的蒸发和蒸馏。三、应用领域　　在热交换工程中，刮板式薄膜蒸发器得到广乏的应用。尤其对热敏性物料（时间短暂）的热交换，刮膜器有利于热交换的进行，并通过不同的刮膜器设计，能进行复杂产品的蒸馏。　　刮膜蒸发器已在下述领域用于蒸发浓缩、脱溶、汽提、反应、脱气、除臭（气）味等为目的，取得了良好效果：中、西药：抗生素，糖液，雷公滕、黄芪等中草药，甲基咪唑、单腈胺等中间体；轻工食品：果汁，肉汁，色素，香精，香料，酶制剂、乳酸、木糖、淀粉糖，山梨酸钾；油脂日化：卵磷酯，VE，鱼肝油，油酸，甘油，脂肪酸，废润滑油，烷基多糖苷，醇醚硫酸盐等；合成树脂：聚酰胺树脂，环氧树脂，多聚甲醛，PPS（癸二酸聚丙烯酯），PBT，甲酸丙烯酯；合成纤维：PTA，DMT，炭素纤维，聚四氢呋喃，聚醚多元醇等；石油化学：TDI，MDI，三甲基氢醌，三羟甲基丙烷，氢氧化钠等；农药生物：乙草胺、丙草胺、毒死蜱、呋喃酚、广灭灵、等除草剂，杀虫剂、除莠剂，除螨剂；废　　水：无机盐废水等；四、工作原理 分子蒸馏是利用液相中轻重组份分子逸出液相主体时分子自由程的差来实现分离。要实现分子蒸馏的基本条件是：轻组份分子逸出的分子自由程等于加热面与冷凝面的距离，能正确地达到内置冷凝器实现捕集，而重组份分子逸出的分子自由程要小于加热面与冷凝面的距离，使其不会达到内置冷凝器，也就是内置冷凝器只捕集轻组份的分子，而实现轻重组份的分离。　　 短程蒸馏器就是根据分子蒸馏的原理而设计的，是模拟分子蒸馏的模型，由于其加热面和冷却面的距离很近，阻力很小，故称短程蒸馏器。由于内置冷凝器的作用，能把汽化的汽相瞬间液化，收缩体积，因此能维持设备内部的高真空。短程蒸馏器的操作真空可达1Pa,是其它蒸发、蒸馏设备难以达到的,因此，短程蒸馏器适用于在常压下高沸点，用普通分离方法难以分离的物料，作为一种新型的液--液分离设备已有很多行业得到了成功经验。根据物料特性的不同，也有各种刮板形式的选择，原理与刮板蒸发器相似。短程蒸馏器的处理能力：　　由于短程蒸馏器一般是用来处理高沸点的物料，通常粘度都较高，又通常是用导热油加热，因此分离能力也较小，根据物料的不同，分离能力为30-70kg/ m2.hr。 　 物料从加热区的上方径向进入蒸发器；经布料器分布到蒸发器加热壁面，然后，旋转的刮膜器将物料连续均匀地加热面上刮成厚薄均匀的液膜，并以螺旋状向下推进。在此过程中，旋转的刮膜器保证连续和均匀的液膜产生高速湍流，并阻止液膜在加热面结焦、结垢，从而提高传总系数。轻组份被蒸发形成蒸汽流上升，经汽液分离器到达和蒸发器直接相连的外置冷凝器；重组份从蒸发器底部的锥体排出。　　一个独特的布料器不仅仅具有将物料均匀地泼向蒸发器内壁，防止物料溅到蒸发器内部喷入蒸汽流，还具有防止刚进入的物料在此处闪蒸，有利于泡沫的消除，物料只能沿着加热面蒸发。　　在刮膜蒸发器的上部配有一个依据物料特性设计的离心式分离器，将上升蒸汽流中的液滴分离出来并返回布料器。

仪器简介：此系统可以配置多种沉积方式(预留各种功能接口),高度灵活,非常适合多种沉积模式的科研. 高真空条件沉积模式（使用机械泵+分子泵，或冷凝泵）。多种组合沉积模式，同一腔体实现多种功能沉积方式，沉积源模式有:磁控溅射源Sputter source电子束蒸发E-beam SourcesK-cell蒸发热蒸发Thermal sources氧化物源Oxide sources此系统高度灵活，软件操作方便，专业为研究机构沉积超纯度薄膜，真正的高真空沉积系统。The System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options. 感谢中科院上海应用物理研究所上海光源同步实验部用此设备，为广大专业研究人员提供服务！！上海光源同步实验部配置的是磁控溅射（直流和射频均有）和电子束蒸发的组合功能，膜厚均匀性(镀膜500纳米左右厚度)均达到3%，这种组合系统极大地扩展了沉积功能，性能价格比超高，是研究人员的有力工具！！使用此系统的主要用户还有：中国计量院，吉林大学，中国科技大学，中北大学等技术参数：顶部法兰: 12”Radial ports：4 x NW100CF沉积接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF分子泵: 300ls , 500 ls options样品操作: Quick-open top-lid.极限真空: 5x 10E-10 (24小时烘烤)机柜: Low footprint frame on transport casters样品台操控: Rotation, heating, bias样品操作: Load-Lock （可选）Sample size样品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ，大到8”，12”等膜厚监控: QCM, Ellipsometry烘烤: Internal or jacket全自动软件操作，方便简单：Automation Touch screen pump down and process automation系统尺寸:Width: 1.5mHeight: 1.6mLength (standard): 1.3mLength: (with Loadlock): 2.0m主要特点：Top-loading chamber (500mm直径)超高真空匹配接口多种沉积源模式接口Analysis, load-lock and viewing ports多种样品夹具， 样品台可旋转，加热/冷却，DC/RF偏压 多种沉积源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.

BJD-2000和FC-2000系统是通用型蒸发镀膜设备，通过选用不同的附件配置，适合大部分应用要求。除了高效运行和兼容洁净室的特点，这些系统还具有更大的灵活性，以方便使用。其中FC-2000是一款具有快速工艺周期能力以及真空锁结构的系统，可以在装卸基片时让电子束蒸发源保持在高真空状态。而BJD-2000则没有真空锁结构。 虽然是Temescal产品家族系列中最小型的设备，但同样具有Temescal一贯的设计思想，也拥有与大型生产设备一样的高稳定性、高可靠性以及易维护性的特点。为了满足用户对未来产能提升的要求，BJD-2000和FC-2000还可以在现场升级成更高产能的2800系列系统。

北京AYAN-B120薄膜蒸发器外置冷凝装置参数可定制性能特点：1.真空压降小：物料汽化气体从加热面送到外置的冷凝器，存在yi定的压差。在一般的蒸发器中，这种压力降（常是比较高的，有时甚至高得难于接受。而刮板式薄膜蒸发器有较大的气体穿越空间，蒸发器内压力能看成与冷凝器中的压力几乎相等，因此，压力降很小,真空度可达5mmHg。2.操作温度低：由于上述特性，这使得蒸发过程可以保持在较高真空度条件下进行。由于真空度的提高，与之相应的物料沸点迅速降低，因此，操作可以在较低温度下进行，降低了产品的热分解。3.受热时间短：由于刮板式薄膜蒸发器的独特结构，刮膜器具有泵送作用，使得物料在蒸发器内的停留时间很短；另，在加热的蒸发器上由于薄膜的高速湍流使得产品不会滞留在蒸发器表面。因此，适用于热敏性物料的蒸发。4.蒸发强度高：物料沸点的降低，增大了同热介质的温度差；刮膜器的功能，减小了呈现湍流状态的液膜厚度，降低了热阻。同时，在这过程中抑制物料在加热面结壁、结垢，并伴有良好的热交换，因此，提高了刮板式薄膜蒸发器的总传热系数。5.操作弹性大：正是由于刮板式薄膜蒸发器独有的性能，使其适宜于处理热敏性和要求平稳蒸发的、高粘度的及随浓度提高粘度急剧增加的物料，其蒸发过程也能平稳蒸发。 它还能成功地应用于含聚合、结垢等情况物料的蒸发和蒸馏。旋转蒸发器的保养须知旋转蒸发器是实验室广泛应用的一种蒸发仪器。适用于回流操作、大量溶剂的蒸发、微量组分的浓缩和需要搅拌的反应过程等。保养须知：1、用前仔细检查仪器，玻璃瓶是否有破损，各接口是否吻合，注意轻拿轻放。2、用软布(可用餐巾纸替代)擦拭各接口，然后涂抹少许真空脂。真空脂用后要盖好，防止灰砂进入。3、各接口不可拧得太紧，要定期松动活络，避免长期紧锁导致连接器咬死。4、先开电源开关，然后让机器由慢到快运转，停机时要使机器处于停止状态，再关开关。5、各处的聚四氟开关不能过力拧紧，容易损坏玻璃。6、每次使用完毕用软布擦净留在机器表面的各种油迹，污渍，溶剂剩留，保持清洁。7、停机后拧松各聚四氟开关，长期静止在工作状态会使聚四氟活塞变形。8、定期对密封圈进行清洁，方法是:取下密封圈，检查轴上是否积有污垢，用软布擦干净，然后涂少许真空脂，重新装上即可，保持轴与密封圈滑润。9、电气部分切不可进水，严禁受潮。10、采购原厂正宗配件，随意使用其他配件对机器会造成致命的损害。11、对机器做任何修理或检查时，要先切断电源，水源。安装 1.产品出厂前已经进行过整体试车，用户可把设备整体吊装至设备基础上。 2.设备应整体找平，找平的位置可参考减速机机架上平面。并把设备固定在楼面上或钢架上。 3.对于规格较大的设备为了增加设备的稳定程度，可在底法兰上部适当部位，增加水平方向辅助支撑，辅助支点只限制设备径向位移，不限制其轴向位移。 4.按工艺要求配制好管道，排清异物，清洗置换设备，接通电源。