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离子溅射喷金仪

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离子溅射喷金仪相关的论坛

  • 离子溅射仪咨询

    各位大侠,我想购买离子溅射仪,不知什么型号的好用。兼顾SEM样品喷金以及镀制金电极。不知各位有何建议。网上找到的几个型号:中科仪的 SBC-12和同创业的JS-1600科晶的 spc-12有使用过的朋友们不吝赐教。谢谢!

  • 【原创】KYKY 小型离子溅射仪的金霸价格是多少呀

    我们的喷金仪是SBC-12小型离子溅射仪  型号:SBC-12  现在金霸击穿了,想定购一个,从公司定购很慢的,现在急需,不知道大家都是从哪里购买金霸,提供一个电话看看别人家都是多少钱,最好上海有这样的公司就不至于耽误使用了

  • 关于E-1010离子溅射仪的问题

    (1)在较长时间抽真空后,日立E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室,然后漏进仪器里面,求原因?(2)仪器里面的油无法全部清理干净,继续进行喷镀,会有危险吗?

  • 关于E-1010离子溅射仪

    (1)在较长时间抽真空后,E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室,然后漏进仪器里面,求原因?(2)仪器里面的油无法全部清理干净,继续进行喷镀,会有危险吗?

  • 【求助】离子溅射仪的金靶不能用了

    今天发现我们的离子溅射仪的金靶掉了,其实也只是一圈很窄的地方都被烧没了,剩下了很多也不能用了打算买一个,人家说纯度5个9的金450元1克……感觉剩了很多就不能用了挺可惜的有没有什么方法可以让这个不总是这样消耗呢?

  • 离子溅射仪为什么不能喷金了呢?

    这是开学后第一次使用,抽真空抽到5.55时,数字就很难往下走了,按下start后,还显示的是抽真空的状态,不能喷金,不知道这是为什么,请指教。

  • 日立E-1010离子溅射仪的电流很小怎么办

    日立E-1010离子溅射仪使用的时候,电流很小。调到high,旋钮也是扭到最大,电流始终都在10左右。而且在喷的过程中,电流逐渐减小。怎么样可以让电流大起来?因为送样的人要求电流达到20……拜托各位大侠了!

  • 【求助】JFC-1600溅射仪喷碳的问题

    请教:不导电样品想喷碳做eds,定做了一个石墨靶Φ57mm*2mm,原希望装在JFC-1600溅射仪上用来喷碳,但溅射不下来,连辉光都没有。但铂靶Φ57mm * 0.3mm能正常使用。请教如何才能使用石墨靶?谢谢!

  • 求教喷金时间问题

    新买的扫描电镜,正在摸索使用,请教各位老师:针对不同材料,如何调节离子溅射仪的电流和时间?喷金的电流和时间与喷金的厚度有没有对应的关系,如电流20mA,时间60s,镀层厚度X纳米

  • ETD800离子溅射仪

    有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪?这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

  • 溅射金膜的分布和哪些因素有关?

    溅射金膜的分布和哪些因素有关?

    经常用溅射仪对样品进行喷金导电处理,然后在电镜照片里面看到有的样品上金膜裂纹非常明显,有的样品就只有部分区域能看见金膜裂纹,请教一下为什么会出现这样的情况?溅射上去的金颗粒沉积和哪些因素有关?

  • ETD-800型全自动离子溅射仪

    有谁用过北京意力博通的 ETD-800型全自动离子溅射仪?这个好像是最新型号的溅射仪,还是全自动的。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

  • 关于离子溅射仪问题请教

    我们的离子溅射仪在每次换Pt靶材之后总是会出问题,会提示你由于真空度的原因或者chamber内contamination的原因不能进行discharge,为什么呢?各位有没有遇到过此类问题呀?检查真空度也达到了要求,内部也擦过很多了,貌似也擦干净了吧,还是不行。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

  • 离子溅射仪镀银咋处理氧化银啊

    大家好我是萌新,之前我导下单了一台离子溅射仪让我镀银测消光,但是只有一开始效果还不错,后面都不是很行,我推测是银靶材表面氧化了。所以我用砂纸打磨后用酒精湿巾擦,效果还是一般,各位能分析一下是什么原因吗,或者告诉我镀银怎么处理氧化的问题,或者教教我砂纸打磨具体要打磨哪些部分,蟹蟹

  • 皖仪科技申请质谱离子源进样装置及进样方法专利

    据国家知识产权局公告,安徽皖仪科技股份有限公司申请一项名为“质谱离子源进样装置及进样方法“,公开号CN117650038A,申请日期为2023年11月。[align=center][img=专利图.png]https://img1.17img.cn/17img/images/202403/uepic/07d50b7f-736b-4a98-8f41-0c7cb8a5f914.jpg[/img][/align]专利摘要显示,本发明公开了质谱离子源进样装置及进样方法,进样装置包括样品打印头、样品床、雾化器以及真空接口。样品的进样方法为,样品从样品打印头喷射到载样纸中;载样纸通过加热器加热,使样品的溶剂挥发,样品在载样纸中形成样品斑,同时,滚筒驱动载样纸绕着滚筒旋转,使样品斑朝向真空接口的方向移动;雾化器喷射的带电溶剂喷雾射向载样纸,使样品斑中的化合物在带电溶剂喷雾中溶解,并被后续的带电溶剂喷雾溅射弹起,形成带电样品?溶剂液滴;液滴通过库伦爆炸形成带电离子;带电离子在真空接口位置被电场吸引,并进入真空接口内完成进样。[b]该进样装置及进样方法,使样品不需要经过复杂的前处理可以直接上样,降低了工作量。[/b][来源:仪器信息网] 未经授权不得转载[align=right][/align]

  • 日立E-1030 离子溅射仪器 参数

    日立E-1030 离子溅射仪器 参数,急求,谢谢,还有沉积速率一般是多少?谢谢http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif

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