纳径电位分析仪

BeNano 90 Zeta 纳米粒度及Zeta电位分析仪是BeNano 90 + BeNano Zeta二合一的光学检测系统。该系统中集成了动态光散DLS、电泳光散射ELS和静态光散射技术SLS，可以准确的检测颗粒的粒径及粒径分布，Zeta电位，高分子和蛋白体系的分子量信息等参数，可广泛的应用于化学、化工、生物、制药、食品、材料等领域的基础研究和质量分析与控制。基本性能指标粒径测试粒径范围0.3nm-15μm★样品量3μL-1mL★检测角度90° & 12°分析算法Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta电位测试技术相位分析光散射检测角度12°Zeta范围无实际限制电泳迁移率范围±20μm.cm/v.s电导率范围0-260mS/cmZeta测试粒度范围2nm-120μm分子量测试分子量范围342Da-2×107Da★趋势测量模式时间和温度粘度测试粘度范围0.01cp-100cp★折光率范围1.3-1.6系统参数温控范围-15°C-110°C，精度±0.1°C冷凝控制干燥空气或者氮气激光光源50mW高性能固体激光器，671nm相关器最快25 ns采样，最多4000通道，1011动态线性检测器APD，高性能雪崩光电二极管光强控制0.0001%-100%，手动或自动软件中文和英文符合21CFR Part 11★取决于样品和选件检测参数● 颗粒体系的光强、体积、面积和数量分布● 颗粒体系的Zeta电位及其分布● 分子量● 分布系数PD.I● 扩散系数D● 流体力学直径DH● 颗粒间相互作用力因子kD● 溶液粘度检测技术● 动态光散射● 电泳光散射● 相位分析光散射● 静态光散射相关技术相关应用

纳米粒径及Zeta电位分析仪Nicomp Z3000介绍 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪采用先进的设计理念优化结构设计，充分有效地融合了动态光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和电泳光散射(ELS)技术，即可以多角度（步长0.9μm ）检测分析液态纳米颗粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度测量Zeta电位。粒度测试范围：粒度测试范围：0.3 nm – 10 μm。 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪通过检测分析胶体颗粒的电泳迁移率测量Zeta电位。Zeta电位是对颗粒之间相互排斥或吸引力的强度的度量，是表征胶体分散系稳定性的重要指标，Zeta电位（正或负）越高，体系越稳定。Zeta电位表征的是粒子之间的排斥力。由于大部分的水相胶体体系是通过粒子之间的静电排斥力来保持稳定的，粒子之间的排斥力越大，粒子越不容易发生聚集，胶体也会越稳定。NICOMP 380 Z3000结合了动态光散射技术（DLS）和电泳光散射法（ELS），实现了同机测试纳米粒子分布和Zeta电势电位。 应用行业：磨料、化学机械抛光液、陶瓷、粘土、涂料、污染监测、化妆品、乳剂、食品、液体工作介质/油、墨水、 乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等 自动滴定仪NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪在增加自动滴定模块后，可以一次性使用同一样品在不同PH值或不同离子浓度的条件下进行一系列测试，实现了在等电点测试的技术难题。 相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。NICOMP 380 Z3000 纳米粒径与电位分析仪特点同机测试悬浮液体的粒径分布以及ZETA电势电位Zeta电位运用了多普勒电泳迁移原理以及zui新的相位分析散射法可以测试水相和有机相的样品检测范围宽广，亚微米颗粒均可以被检测样品测试量小高辨析率结果重现性好，误差小于1%100 % 样品可回收li用可搭载自动滴定仪, 自动稀释器和自动进样器无须校准一次性进样，避免交叉污染样品可选配大功率激光发生器以及jun品级APD雪崩二极管检测器来检测粒径小于1nm的颗粒 技术参数：粒径检测范围粒度分析：0.3 nm - 10 μmZeta电位检测范围粒度0.3 nm-100 μm分析方法粒径：动态光散射，Gaussian 单峰算法和 Nicomp 无约束自由拟合多峰算法；电位：电泳光散射(ELS)技术和相位分析光散射法pH值范围2 - 12温度范围0℃ - 90 ℃激光光源（可选）5 mW氦氖光源；15 mW, 35 mW,50 mW激光光源；100 mW激光光源（红）；20 mW，50 mW，100 mW激光光源（蓝/绿）检测角度（可选）90°或 多角度（10°- 175°，可选配）检测器（可选）PMT（光电倍增管），CMP（4倍增益放大）APD雪崩二极管（7倍增益放大）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水相,绝大多数有机相样品池标准4 mL样品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）；1mL样品池（玻璃，高透光率微量样品池，zui小进样量10μL）选配模块高浓度背散射；自动稀释模块，自动进样器，多角度检测器，高能激光发生器，高增益检测器，21CFR PART11规范软件，在线模块。分析软件Windows 兼容软件；符合 21 CFR Part 11 规范分析软件（可选）验证文件有电压220 - 240 VAC，50Hz 或100 - 120 VAC，60Hz计算机配置要求Windows XP及以上版本windows操作系统，40Gb硬盘，1G内存，光驱，USB接口，串口（COM口）外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm重量约26kg（与配置有关）电泳光散射法（ELS）与粒子的动电（Zeta）电位： ELS 是将电泳和光散射结合起来的一种新型光散射。它的光散射理论基础是 准弹性碰撞理论，只是在实验时在式样槽中多加一个外电场，带电粒子即以固定 速度向与带电粒子电性相反的电极方向移动，与之相应的动力光散射光谱产生多普勒漂移，这一漂移正比于带电粒子的移动速度，因此实验测得谱线的漂移，就 可以求得带电粒子的电泳速度，从而求得ζ-电位。相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技术PSS 于 2004 年推出ling先的 PALS 技术，用相位（Phase）变化的分析取代原 先频谱的漂移，不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高，而且突破了水相体系的限制，对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。动态光散射原理 Nicomp 380纳米粒径分析仪采用动态光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理来获得范围在0.3 nm到10 μm的胶体体系的粒度分布。DLS是通过一定波长的聚焦激光束照射在悬浮于样品溶液的粒子上面，从而产生很多的散射光波。这些光波会互相干涉从而影响散射强度，散射强度随时间不断波动，二者之间形成一定的函数关系。粒子的扩散现象（或布朗运动）导致光强不断波动。光强的变化可以通过探测器检测得到。使用自相关器分析随时间而变的光强波动就可以得到粒度分布系数（Particle size distribution, PSD）。单一粒径分布的自相关函数是一个指数衰减函数，由此可以很容易通过衰减时间计算得到粒子扩散率。zui终，粒子的半径可以很容易地通过斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式计算得到。如下是Nicomp 380纳米粒径分析仪的检测原理简图： 大部分样品一般都不均匀，往往会呈现多分散体系状态，即测出来的粒径正态分布范围会比较大，直观的呈现是粒径分布峰比较宽。自相关函数是由多组指数衰减函数综合组成，每一个指数衰减函数都会因指数衰减时间不同而存在差异，此时计算自相关函数就变得不再简单。Nicomp 380纳米粒径分析仪巧妙运用了去卷积算法来转化原始数据，从而得出zui接近真实值的粒度分布。Nicomp 尤其适合测试粒度分布复杂的样品体系，li用一组独特的去卷积算法将简单的高斯正态分布模拟成高分辨率的多峰分布模式，这种去卷积分析方法，即得到PSS粒度仪公司独有的粒径分布表达方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。有些仪器的高斯分析模式可以使用基线调整参数的功能，以此来补偿测试环境太脏而超出仪器灵敏度的问题。高斯分析模式也可以允许使用者指定“固体重量模式”或者“囊泡重量模式”来分析带有小囊泡的胶体体系，比如脂质体。Nicomp分析方法是一种专li的高分辨率的去卷积算法，它首次在1990年提出并应用于分析和统计粒径分布。在历史上已经证明Nicomp分析方法能够精确分析非常复杂的双峰样品分散体系（比如 2：1比例），甚至是三峰样品分散体系。在科学研究中，找到粒子聚集分布的杂峰是非常有用的。 NICOMP 380 Z3000纳米粒径与电位分析仪广泛适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标