一维平移台

1.0 二级光谱滤光片 由于光栅本身的分光特性，在宽光谱范围分光时，会产生多级光谱，主要是二级光谱，会对光谱测量产生干扰，为了消除这种干扰，需要在光谱仪内部安装适合的高通滤光片，用来消除多级光谱的影响。根据不同的光谱范围，需要选择不同截至波长的的滤光片；N17E型无需选择和安装此种滤光片。 滤光片需要根据下表对应选择，并被安装在光谱仪内。 滤光片型号 截至波长(nm) 适用的光谱相机型号 OBF450 450 V8E OBF570 570 V10E OBF1400 1400 N25E 2.0 成像镜头 成像镜头是高光谱成像分析系统不可或缺的部分，它被用来将被测物的反射或透射光搜集进入高光谱仪。 ◆ 适合400-1000nm波段的镜头焦距可选：8，9，17，18.5，23，35，50，140mm ◆ 适合900-2500nm波段的镜头焦距可选：15，22.5，30，56mm ◆ 所有镜头均为消像差设计，孔径与光谱仪孔径相匹配。 3.0 X-Z位移平台 X-Z位移平台主要用于样品的位置调节和扫描，其中Z轴位移台为手动，用于样品的位置微调，X轴位移台为电动，用于测试过程中的样品扫描。另可提供多种规格电控旋转平台，详情请咨询。 ◆ Z轴调整范围：± 60mm（型号：TSMV120-1S），手动调节 ◆ X轴行程：300mm（型号：PSA300-X） ◆ 台面尺寸：200mm× 200mm ◆ 可选产品型号规格列表 型号 产品描述 行程范围(mm) TSMV60-1S Z轴升降台，手动 ± 30 TSMV120-1S Z轴升降台，手动 ± 60 PSA200-X X轴平移台，电控 200 PSA300-X X轴平移台，电控 300 PSA400-X X轴平移台，电控 400 PSA500-X X轴平移台，电控 500 PSA1000-X X轴平移台，电控 1000 4.0 校正白板 校正白板主要用于白平衡校正，为进口聚四氟乙烯漫反射材料。 白板型号 规格(mm× mm× mm) CAL-tile200200× 25× 10 5.0 高光谱仪软件（SpectraSENS） SpectraSENS高光谱仪软件为随机配套的光谱及图像采集软件。 ◆ 可进行光谱相机扫描参数设定 ◆ 可实时获取样品光谱及影像信息 ◆ 可存储扫描结果为图像（图片格式） ◆ 可存储扫描结果为光谱曲线（xls、txt等格式） ◆ 可存储全部原始数据（raw格式），并可用ENVI等第三方分析软件调用 6.0 光源 可提供针对不同应用需要的漫射型光源、线光源、强紫外光源等。详情请咨询。

该电动三维位移台是一款无刷直线伺服电机驱动的电动直线位移台，融合了高速高精度的特点，具有亚微米的定位精度,三维位移平台可以为用户带来高工作量/吞吐量,最大负载高达50kg，最高速度高达3m/s.主要特色：三维位移台精确导向系统为高速度长行程提供稳定的定向和导向保障 三维位移台强大的直线电机提供高负载能量和大驱动力；三维移动台高分辨率直线编码器（光栅尺）提供精确的定位反馈和闭环数字伺服控制；三维移动台具有美国制造的坚固耐用特性，高可靠性，长期工作。产品特色：这款三维位移平台采用直接驱动的直线电机用于位移台的定位。这种技术与传统的导螺杆驱动的位移台相比，具有明显的优势：三维位移平台没有螺杆驱动系统中出现的弹性形变问题，可保障更为复杂而精密的定位轨迹，更短的设置和行进时间，更高的重复精度，更快的伺服反应。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种技术没有旋转惯性，可获得更高的加速度和行进速度。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台台消除了旋转部件的磨损问题，具有更高的可靠性，更长的工作时间和寿命，更长的检修间隔时间，大大降低用户的使用成本。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种直接驱动的直线电机具有高分辨率的编码器,可以精确调节速度，这种直线电机和其它部件可经过特殊处理具有真空兼容性，用于真空环境。产品描述：这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台的所有结构材料都是高强度的铝合金材料，材料表面经过精密机械加工，并进行硬质阳极氧化镀膜（涂层）成浅灰色。电动直线位移台采用两个带有再循环线性轴承的精密方形导轨作为承载部件，它由预加载的滚珠器件精密导引，这种导向系统只需要标准的润滑服务，不需要其他维护。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台尺寸紧凑，驱动电机不单独外悬，直线电机,编码器和电缆等驱动部件安装于位移台底座，这种设计从而避免了那些外悬电机等核心部件受冲击等损害，具有更为安全的结构。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台采用再循环轴承系统并配带精密导轨支撑位移台高速度，高精度运动。三维位移台,三维移动台,三维位移平台使用的高强度铝合金材料，精密机械加工工艺把电动位移台的刚度和稳定性发挥到极致。三维位移台,三维移动台,三维位移平台对于铝材料的标准处理是阳极氧化硬质涂层，对于不修钢部件采用抛光处理，对于特殊要求，比如Teflon特氟隆浸渍硬质涂层，非阳极氧化处理，化学镀镍等都可为用户提供。产品应用：这个系列三维位移台,三维移动台,三维位移平台是无刷直线电机（Brushless linear motor)驱动的电动位移台, 即使在高负载情况下也有超高可靠性和精密定位能力，是高负载,高精度高可靠性的最佳电动直线位移台。三维位移台,三维移动台,三维位移平台具有超高加速能力和行进速度.这种电动直线位移台具有更小的惯性,比传统的罗杆驱动等机械传动的位移平台更适合应用.根据牛顿定律可知,负载的轻重直接影响到加速度,这款直线电动位移台,具有较高的加速度和运行速度, 能够帮助用户减少时间而提供工作量.直线电动位移台,电动直线位移台,电动位移台。产品规格和型号参数行程范围：125-750mm驱动系统：无刷直线电机最大加速度： 取决于负载最大速度：3米/秒（无负载时）最大峰值力：800N最大连续力：160N最大负荷：XY平台50Kg，Z轴25kg反馈系统：非接触式直线编码器系统TTL分辨率：5 μm, 1μm, 0.5μm,0.25μm, 0.2μm,100 nm & 50 nm重复精度：5x分辨率构造：铝合金主体，硬质灰色阳极镀膜 型号LX-8125LX-8375LX-8500LX-8625LX-8750行程（mm)125375500625750精度 Standard SP 标准型± 11μm± 12μm± 16 μm± 18μm± 22 μm High Precision HP高精度型± 5 .5μ± 7 μm± 8 μm± 10 μm± 11 μm平整度 Standard SP标准型± 6 μm± 12 μm± 20 μm± 28 μm± 36 μm High Precision HP高精度型± 4 μm± 6 μm± 10 μm± 14 μm± 18 μmYaw/Pitch/Roll Standard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec High Precision HP10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-secHigh Precision HP5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-secExtra High Precision XHP3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec

仪器简介本产品属于“微波样品处理系统”，是国家科技部“十五”科技攻关项目。产品在汲取国外先进技术的基础上，采用变频技术、工业级大炉腔设计，特别是在防爆安全技术方面有所创新(专利)。仪器研发背景微波样品处理方法是近三十年发展起来的处理技术，称为“微波强化学”。将样品和相应的试剂放置于高温高压密闭样品罐或敞口容器中，在微波的作用下，按照一定的实验方法，使样品和试剂发生快速、激烈的物理、化学反应。另外微波有机合成也以其绝对的应用优势将取代传统的合成方法。越来越多的实验室采用了微波样品处理系统来替代耗时、费力、污染严重的传统方法。仪器特性☆消解速度快、样品消解彻底微波增强化学技术消解速度快，比一般电热板方法快10-100倍；采用变频微波加热系统，加热更均匀，同时采用高压密封罐，样品消解更彻底，大大减少了易挥发元素的损失。☆ 温控精确，利于样品的准确分析1）采用内置的Pt100铂电阻进行精确的测温控制，实时监控高达300℃的温度，温控精度为±0.5℃；2）微波消解使用试剂少，减少了样品的空白值和背景；3）同批次处理样品的平行性、重复性好。☆ 采用变频技术，节能环保的效果显著1）通过PID控制改变微波频率来调整不同的输出功率，提高电源部分的效率，减少了待机时的耗量，比传统微波消解节电20%以上。另外，变频技术的引进也减小了仪器的工作噪音；2）整个消解过程在密闭条件下进行，酸试剂不会污染环境，有利于环境保护和人身健康；同时比传统方式节能80％左右。☆ 独特的“大炉腔”设计1）“45L大炉腔”设计，炉体厚重坚固，与国际先进 产品同步，高压工作更安全，同批次处理样品更多（多大10个）；2）炉腔内设有排风扇，外接排烟管，风速：5.8m3/min；3）炉腔中设有样品罐架，由光控可逆电机控制，可逆向360°旋转转盘，使样品罐接收微波能更加均匀，确保各个样品罐温度的一致；4）炉腔喷涂采用美国杜邦生产的专利材料PFA（全氟烷氧基乙烯），耐工业强酸，抗高温。☆ 优良的压力控制系统1）采用直接接触式压力测量方式，压力反映真实、准确，实时监控达900psi，控制精度：0.01MPa；2）高压密闭水管检测系统压力，反馈控制，过压报警；3）安全膜片保护压力分别为中压200psi，高压400psi☆ 安全保障，六重措施1）三项主动措施，确保危险情况不会发生：安全可靠的控制系统，具有斜率控制功能，防止升压或者升温过冲；真正实现了温度和压力在同一罐中双重控制，差异小，安全可靠；罐内压力超过设定的保护值会自动停止微波加热。2）三项被动措施，极端情况下确保人身不受伤害，财物损失最小化：样品罐上安装安全防爆膜，过压时先行破裂，卸压防爆，并可以防止样品罐受损；特殊平移结构的自锁式安全防爆门(专利)；控制部分与消解炉体为一体式和分体式两种结构，可为客户提供多种选择。技术指标型号MD7型MD6系列微波频率（MHz）2450±132450±13电源要求AC220V/50Hz/10AAC220V/50Hz/10A输出功率（W）14001200功率范围0～100％PID自动连续调整0～100％PID自动连续调整炉膛容积（L）4545外形尺寸W×D×H（mm）640×640×710490×610×610炉重（Kg）5848控温范围0-300°C0-300°C控温精度±0.5°C±0.5°C控压范围（MPa）0-100-8控压精度（MPa）0.010.01炉腔喷涂材料6重进口PFA喷涂，耐工业强酸，耐高温6重进口PFA喷涂，耐工业强酸，耐高温排风量5.8m3/min，快速排酸雾，快速降温5.8m3/min，快速排酸雾，快速降温炉门平移泄压专利门，二次防爆功能专利号：ZL 200420032536平移泄压门，二次防爆功能微波泄漏≤0.3m w/cm2,（远低于国标）≤0.3m w/cm2,（远低于国标）配备高压消解罐外罐：PEEK罐（进口原料，耐压达10Mpa）；内罐：TFM（进口原料，耐高温，防酸碱和有机溶剂）容量：100ml外罐：PEEK罐（进口原料，耐压达10Mpa）；内罐：TFM（进口原料，耐高温，防酸碱和有机溶剂）容量：85ml控制系统一体化触摸屏控制系统可选A、C、T型控制器应用范围可应用于消解、萃取、蛋白质水解等多种分析化学的样品前处理工作中，如原子吸收光谱仪（AAS）、原子荧光光谱仪（AFS）、电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-AES）、电感耦合等离子体质谱联用仪(ICP-MS)、高效液相色谱仪（HPLC）、气相色谱仪（GC）等分析仪器的样品制备等前处理过程。