小型磁控溅射仪

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm 厚度直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm 厚度直径57mm x 0.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm 厚度 Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶 产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

美国 Chroma滤光片Chroma专门从事高精度光学镀膜，致力于生产精确波谱控制，高信噪比，陡斜率的滤光片，波谱范围从紫外到近红外包括带通，多波段带通，长通，短通，陷波，二向色镜等。目前是Nikon, Zeiss, Leica和Olympus的主要供货商，同时也是许多其他生物类仪器，医疗仪器，药物研究，机器视觉，天文和激光类仪器厂家的供货商。滤光片分类1）激发滤光片 (Excitation Filter)2）发射滤光片 (EmissionFilter)3）二向色镜 (DichroicMirror)应用1、荧光应用Chroma磁控溅射镀膜滤光片具有高透过高阻挡，零漂移的特点。能够得到准确真实的图像。磁控溅射镀膜 VS 软镀膜Chroma FISH滤光片根据不同染料谱图进行优化，实现最佳的对比度这度，颜色区分和图像配准。2、激光应用Chroma用于TIRF的UltraFlat™ 向色镜(厚度≥2mm)，结合Chroma专利产品TIRF滤块盒，能够保证产生理想的渐逝场，不会激发渐逝场外之外的荧光分子。Chroma的UltraFlat™ 二向色镜能够最小化激光经反射后产生的波前扭曲。3、拉曼应用 RET532/4x (EX) 、RT532rdc (BS)、RET537lp (EM)● 窄带激发片● 斜率更陡的二向色镜● 斜率更陡的长通发射滤光● 低波数Raman信号检测(110-170 cm~1) UV, 488 nm, 532 nm, 785 nm等激光。4、机器视觉● 磁控溅射镀膜● 高透过(≥95%)● 高阻当(OD6)● 陡斜率● 尺寸：2-200 mm 圆形，方形及不规则尺寸 ● 波谱范围 (200-3500mm)● 接受客户定制

密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径：19.2mm

产品简介：不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。 产品型号　不锈钢弯头主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、接口可根据用户要求改制。技术参数　接口：2个KF40 接口

产品简介：加热台主要用于VTC-600-2HD双靶、VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪及GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪的样品台的加热。

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg 99.99 Al 99.99 99.999 AlN 99.9 Al2O3 99.99 Al/Cu 99.99 99.999 Al/Si 99.99 99.999 Al/Si/Cu 99.99 99.999 Au 99.99 99.999 BBaFe12O19 99.9 BaF2 99.9 BaMnO3 99.9 (Ba,Sr)TiO3 99.9 BaTa2O6 99.9 BaTiO3 99.9 BaZrO3 99.9 Bi 99.9 99.999 Bi2O3 99.99 Ba4Ti3O12 99.9 BN 99.9 CCa 99 CaF2 99.95 CaTiO3 99.9 CdTe 99.995 Ce 99.9 CeO2 99.9 99.99 Cr 99.9 99.95 99.99 Cr2O3 99.8 CrSiO2 99.5 Co 99.95 CoO 99.5 Cu 99.997 Cu/Ga 70/30 at.% 99.99 CuO 99.9 DDyFeO3 99.9 Dy2O3 99.9 EEr2O3 99.9 FFe 99.95 Fe2O3 99.9 GGd2O3 99.9 GaN 99.99 Ge 99.999 HHfO2 99.95 I-KIn 99.99 99.999 In2O3 99.99 In2O3/SnO2 90/10wt% 99.99 In/Sn 99.99 Ir 99.8 99.9 LLa 99.9 LaAlO3 99.9 LiCoO2 99.9 LiNbO3 99.9 Li3PO4 99.9 MMg 99.98 MgAl2O4 99.9 MgB2 99.5 MgFe2O4 99.9 MgF2 99.9 MgO 99.95 Mn 99.9 Mo 99.9 99.95 MoS2 99 N-ONd 99.9 Nd2O3 99.9 Ni 99.95 99.98 99.99 Ni/Cr 99.95 Ni/Cr/B 99.95 Ni/Cr/Si 99.95 Ni/Fe 99.95 Ni/V 99.9 Nb 99.95 Nb2O5 99.9 P-QPb 99.999 Pb(Zr,Ti)O3 99.9 Pd 99.95 Pt 99.9 99.99 Pr 99.9 Pr2O3 99.9 RRe 99.9 Rh 99.8 Ru 99.9 RuO2 99.9 SSe 99.999 Si 99.999 SiC 99.5 Si3N4 99.9 SiO 99.9 SiO2 99.99 Si/Cr 99.99 Sn 99.99 SrFe12O19 99.9 SrRuO3 99.9 SrTiO3 99.9 99.99 T-UTaC 99.5 Ti 99.95 99.995 TiB2 99.5 TiC 99.5 TiN 99.5 TiO 99.9 TiO2 99.9 TiSi2 99.5 Ti/Al 99.9 TiW 99,95 99,995 VV 99.7 99.9 VC 99.5 VN 99.5 V2O5 99.9 W-XW 99.95 WC 99.5 W/Ti 99.95 YYb2O3 99.9 Y2O3 99.99 ZZn 99.99 ZnO/Al2O3, 98/2 wt.% 99.9 99.99 99.999 ZnO 99.9 99.99 99.999 ZnS 99.99 ZnSn 99.9 Zn/Al 99.99 Zr 99.2 ZrB2 99.9 ZrO2 + 3, 8, or 10 mol.% Y2O3 99.9

产品简介：密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。 产品型号　密封装置主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数　安装孔径：19.2mm

四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。主要特点可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

产品简介：四通阀包含3个接口、1个阀门，呈垂直且共面分布，其中2个KF40接口、1个KF25接口（可根据用户要求改制），主要用于连接真空腔室与分子泵及真空规管，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪的高真空腔室。 产品型号　四通阀主要特点　可用于高真空腔室。技术参数 1、接口：2个KF40、1个KF25 2、阀门：1个

不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、接口可根据用户要求改制。技术参数接口：2个KF40 接口

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

金靶、铂靶、钯靶、银靶 EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.0 2.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP) 货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

小型半导体高低温温控箱；小型高低温温控箱详细介绍：可程式恒温恒湿环境试验机能模拟各种温湿度环境满足GB/T2423, GJB150A1/4各种恶劣环境下的可靠性机稳定性能等参数，将给您提供预测和改进产品质量及可靠性的依据。该系列产品适用于航空航天产品、信息电子仪器仪表、材料、电工、电子产品、各种电子元气件在湿热环境下、检验其各项性能指标。小型半导体高低温温控箱；小型高低温温控箱主要优势：1.采用圆弧造型及雾面线条处理，高质感外观，并采用平面无反作用把手，操作容易，安全可靠 2.全封闭结构，采用强力循环马达，低嗓音冷冻装置 3.附有防震台垫，使得机台在运转过程中能保持安静及稳定 4.具有被测试件通电测试功能(负载测试) 5.采用飞利浦照明窗口灯、内置耐高温除雾装置，便于观察箱内产品试验情况 6.具有多种保护装置，性能安全可靠。广西恒温恒湿试验箱生产商｜河南触控式恒温恒湿箱｜恒温恒湿价格执行与满足标准： GB/T10589-1989低温试验箱技术条件GB/T10586-1989湿热试验箱技术条件GB/T10592-1989高低温试验箱技术条件GB2423.1-89低温试验Aa , AbGB2423.1-93(IEC68-2-3)恒定湿热试验 CaMIL-STD810D方法502.2GB/T2423.4-93（MIL-STD810）方法507.2程序3 GJB 150.9-8温热试验GB2423.34-86、MIL-STD883C方法1004.2温湿度组合循环试验小型半导体高低温温控箱；小型高低温温控箱主要技术参数：1.内部尺寸：(W×H×D)65×85×80cm（尺寸多，有不同型号）2.外部尺寸：(W×H×D)105×175×135cm（尺寸多，有不同型号）3.重量：约400Kg 4.调温调湿方式：平衡调温调湿方式(BTHC)PID智能调节5.温度范围：0 ℃， -20 ℃， -40 ℃， -60 ℃， -70 ℃ ~150 ℃ 20%-98%R.H6.温湿度控制精度：±0.2℃ ±2.5%RH7.温湿箱内均匀度：±0.5℃ ~±0.2℃ ±4.0%RH8.控制器解析精度：±0.01%℃ ±1%R.H9.升温速率：≥ 2.5°C/min 10.降温速率：平均1°C/min11.内体材料：SUS#304 镜面不锈钢板13.外壳材料：SUS#304拉丝不锈钢板或防锈处理冷轧钢板(喷塑)14.绝缘材料：超细玻璃棉 聚胺脂泡沫15.制冷方式：机械式二元制冷方式16.制冷机：全封闭(法国泰康或德国谷轮)压缩机 17.制冷剂：R23/ R404A18.冷凝方式：风冷或水冷19.加热器：镍铬合金不锈管加热器20.加湿器：不锈钢加湿筒21.鼓风机：离心风机22.气流方式：宽带式强迫气流循环(上出下进)23.恒温恒湿仪操作界面：液晶触摸显示屏，中英文切换24.运转方式：恒定运转、程序运转25.程序记忆容量：120 组可编程序、每个程序最大100 (段)26.设定指标范围：温度：-100℃ 300℃ 湿度：99.9%R.H27.分辨率：温度：0.1℃ 湿度：0.1%R.H28.输入：PT100或T型热电偶29.控制方式：PID控制 30.通讯功能：RS-232 接口31.打印功能：日本横河6点记录仪(选购件)32.附属功能：上下限报警、自诊断、报警显示(故障原因)、定时装置(自动开机、关机)、相序保护33.供水方式：循环供水34.供水箱：内置手拉式(30Kg容量)35.水质：电阻率500Ω.M 36.标准配置：观察窗(双层中空钢化玻璃)1个 测试孔￠50mm(位于左边)1个 样品架2层，箱内照明灯(荧光灯)1个 供水箱1个 37.安全装置：电源用漏电保护器，防干烧装置，水系统保护装置，极限高低温保护，温度偏差报警，压缩机超压，过载，缺水，缺相等保护。小型半导体高低温温控箱；小型高低温温控箱售后服务用户的满意是我们服务的宗旨，完善的售后服务使您解除一切后顾之忧，我们坚信一个好的企业卖出去的不仅仅是一台好的产品，更重要的是良好的服务。东莞市爱佩试验设备有限公司负责对本公司产品提供以下售后服务： 1.技术培训：操作使用、日常维护保养、常见故障检测和排除 2.定期回访：设备巡检，排除故障隐患，传递最新消息 3.备品、备件专项储备支持 4.售后服务部提供维修服务的快速响应 5.专职维修人员确保及时、有效地排除故障

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

我公司可订做多种靶材，如：金靶（Au），银靶（Ag），铂靶（Pt），镍靶（Ni）等高纯（99.99%）单质金属溅射靶材。主要适用：扫描电镜样品制备（小型离子溅射仪、镀膜机）、真空镀膜等。

用途：i5小型红外热像仪堪称目前市场上最为轻盈、性价比最高的红外热像仪。该款产品红外图像分辨率达80×80像素，集便捷灵活、操作简便等优势于一身，无需任何使用经验即可轻松掌握操作要领。“瞄-拍-测”操作一气呵成，高质量红外图像即刻呈现，高效获取所需红外信息。技术规格：图像和光学数据视场角（FOV）17°×17°最小调焦距离0.6 m空间分辨率（IFOV）3.71 mrad热灵敏度/NETD0.1℃帧频9 Hz调焦免调焦探测器探测器类型非制冷微热量焦平面阵列（FPA）波长范围7.5 ~ 13 μm红外图像分辨率80 ×80像素图像显示显示2.8英寸彩色液晶显示屏图像调整自动调整/图像锁定测量测温范围0~+250℃精度±2℃或读数±2%测量分析点测温中心点温度发射率校正变化范围：0.1~1.0发射率表预先设定材质的发射率表反射温度校正基于输入的反射温度自动校正设置调色板黑白、铁红和彩虹设置命令可设置为本国单位、语言、日期和时间格式图像存储图像存储类型迷你SD卡文件格式标准JPEG，包含14位测量数据数据通讯接口接口迷你USB，与电脑互相进行数据通讯电源系统电池类型可充电锂离子电池电池电压3.6 V电池工作时间大约5小时充电系统电池壳随机充电充电时间充至90%电量需要3小时电源管理自动关机交流电源交流适配器，90~260 VAC输入，5V输出至热像仪环境参数操作温度0~+50 ℃存储温度-40~+70 ℃湿度（工作和存储）IEC 60068-2-30/24h 95%相对湿度EMCEN61000-6-2:2005(抗干扰)；EN61000-6-3:2007(抗辐射)；FCC 47 CFR Part 15 class B(抗辐射)封装热像仪外壳和镜头：IP43(IEC 60529)冲击25 g (IEC 60068-2-29)震动2 g (IEC 60068-2-6)物理特性热像仪重量（含电池）0.34 kg尺寸（长×宽×高）223×79×83mm产地：美国

用途：i5小型红外热像仪堪称目前市场上最为轻盈、性价比最高的红外热像仪。该款产品红外图像分辨率达80×80像素，集便捷灵活、操作简便等优势于一身，无需任何使用经验即可轻松掌握操作要领。“瞄-拍-测”操作一气呵成，高质量红外图像即刻呈现，高效获取所需红外信息。技术规格：图像和光学数据视场角（FOV）17°×17°最小调焦距离0.6 m空间分辨率（IFOV）3.71 mrad热灵敏度/NETD0.1℃帧频9 Hz调焦免调焦探测器探测器类型非制冷微热量焦平面阵列（FPA）波长范围7.5 ~ 13 μm红外图像分辨率80 ×80像素图像显示显示2.8英寸彩色液晶显示屏图像调整自动调整/图像锁定测量测温范围0~+250℃精度±2℃或读数±2%测量分析点测温中心点温度发射率校正变化范围：0.1~1.0发射率表预先设定材质的发射率表反射温度校正基于输入的反射温度自动校正设置调色板黑白、铁红和彩虹设置命令可设置为本国单位、语言、日期和时间格式图像存储图像存储类型迷你SD卡文件格式标准JPEG，包含14位测量数据数据通讯接口接口迷你USB，与电脑互相进行数据通讯电源系统电池类型可充电锂离子电池电池电压3.6 V电池工作时间大约5小时充电系统电池壳随机充电充电时间充至90%电量需要3小时电源管理自动关机交流电源交流适配器，90~260 VAC输入，5V输出至热像仪环境参数操作温度0~+50 ℃存储温度-40~+70 ℃湿度（工作和存储）IEC 60068-2-30/24h 95%相对湿度EMCEN61000-6-2:2005(抗干扰)；EN61000-6-3:2007(抗辐射)；FCC 47 CFR Part 15 class B(抗辐射)封装热像仪外壳和镜头：IP43(IEC 60529)冲击25 g (IEC 60068-2-29)震动2 g (IEC 60068-2-6)物理特性热像仪重量（含电池）0.34 kg尺寸（长×宽×高）223×79×83mm产地：美国

Quantagene系列专用小型96孔板名称：PCR孔板板膜套装型号：q225-PLATE-10规格：10套/盒目录编号：02-111每盒含10个孔板和10片板膜支持反应体积：0.5-20 μl推荐反应体积：5-10 μl 孔间距4.5mm搭配酷搏科技Quantagene系列q225或q900荧光定量PCR仪使用

冷却循环水AC900B主要技术指标产品型号AC900B名义制冷量900W（25°C）输出温度范围5~35°控温精度±1°C水箱大小8L输出压力0.05Mpa~0.1Mpa输出流量8-15L/Min过滤装置10μm报警信号水位报警、高低温报警外形尺寸360×450×660主要特点:采用启停智能控温整定功能，控温精确；外观精美，结构合理，排风散热好；系统保温措施严密；不锈钢开口浴槽，便于清洗；可选水位、水流、高低温报警信号输出；全不锈钢管件及水泵，减少污染；可内置过滤装置，颗粒物过滤及离子净化树脂；减震良好，噪音低。主要配套应用领域：冰凌（AC）系列冷水机主要是用于配套原子吸收分光光度计、等离子发射光谱、扫描电子显微镜、高频熔样机、磁控溅射仪、等离子刻蚀机、直读光谱仪、XRD等实验室仪器。【售后服务的内容、形式】1、 负责免费现场安装、校验、调试及试运行、直至设备正常运行。2、 免费对买方技术人员进行保养、维护、维修提供培训。3、 定期对设备进行巡回保养。4、 交货时向用户提供一套完整的中文技术资料，包括使用说明书。5、 供货方除了免费为用户提供安装、技术培训服务外，还免费送货。

硅晶圆片随着半导体、微电子行业的发展，硅片的用途越来越广泛。比如半导体芯片领域、X射线晶体分析、磁控溅射样品生长、原子力、红外光谱测试分析、PVD/CVD镀膜衬底等。我们提供各种不同直径、厚度、电阻、级别和应用场景的硅片，请将您的参数要求发给我们，如有疑难，也请联系我们。哪里可以快速买到硅片作为基片，当然是这里！我们主要为国内的科研院所、高校提供高品质的硅片衬底，高纯抛光的硅基底也能够提供。选型指导：特性产品描述常规硅片直径1"、2"、3"、4"、5"、6"、8"、10"、12"厚度50um至10000um超薄硅片直径5mm、10mm、25mm、50mm、75mm、100mm超薄硅片厚度2um至50um，公差±0.5μm、±1.0μm、±1.5μm表面粗糙度Prime Grade wafer Ra5? .掺杂类型P型、N型、无掺杂晶向〈100〉± 0.5° 〈110〉±0.5° 〈111〉± 0.5°，〈100〉± 1°，〈110〉±1°表面处理抛光、刻蚀、ASCUT；单面/双面处理电阻率0~至 20000 (Ωcm)级别Mechanical Grade、Test Grade、Prime Grade、SEMI Prime Grade 产品举例：产品描述尺寸举例规格多孔硅晶圆，Porous silicon wafer76.2mm10片无掺杂硅晶圆，undoped silicon wafer100mm10片氮化硅膜硅晶圆，Silicon Nitride Wafer LPCVD PECVD100mm10片FZ区硅晶圆片，Float Zone Silicon Wafer25.4mm10片热氧化处理硅晶圆片Thermal Oxide Wafer76.2mm25片超平硅片Ultra-Flat or MEMS wafers6″5片太阳能硅晶片，Solar Silicon Cells6″，5″25片外延硅片，Epitaxial Silicon Wafer100mm10片N型硅晶圆片，N-Type Silicon Substrates100mm100片各种硅晶片 我们致力于为客户提供全面的硅片（Silicon Wafer）解决方案，从测试级硅片（Test Wafer）到产品级硅片（Prime Wafer），以及特殊硅片氧化硅片（Oxide）、氮化硅片(Si3N4)、镀铝硅片、镀铜硅片、SOI Wafer、MEMS Glass、定制超厚、超平硅片等，尺寸覆盖50mm-300mm。对于2D材料的研究，软光刻硅片，直接放射性核电实验，等离子体刻蚀硅片，以及微流控芯片平台的建立，我们均有成功的经验。 小常识：将某一特定晶向的硅种子(种子,通常为一小的晶棒)棒插入熔融液态硅,并慢慢向上拉起晶棒,一根和种子相同晶向的晶柱就被生产出来。将晶柱切割成多个一定厚度的圆片片,通常称呼的wafer就被制造出来了。初步切割出来的wafer表面，通常比较粗糙,无法用作晶圆生产，因而通常都在后续工艺中进行抛光，抛光片的名词就由此而来。针对不同晶圆制造要求，通常需要向粗制晶圆内掺杂一些杂质，如P、B等，以改变其电阻值,因而就有了低阻、高阻、重掺等名词。镀膜片可以理解为外延片Epi，是针对特定要求的半导体装置而制定的wafer,通常是在高端IC和特殊IC上使用，如绝缘体上Si(SOI)等。用Czochralski(CZ)晶体生长法或浮区（floatzone）（FZ）生长法生成单晶硅。超大规模集成电路应用更多采用Czochmlski硅，因为它比FZ材料有更多的耐热应力能力，而且它能提供一种内部吸杂的机械装置，该装置能从硅片表面上的器件结构中去除不需要的杂质。因为是在不与任何容器或坩埚接触的情况下制成，所以FZ硅比CZ硅有更高的纯度（从而有更高的电阻率）。器件和电路所需的高纯起始材料（如高压，高功率器件）一般都用FZ硅。我们的低应力PECVD氮化是一个单面膜，已优化为晶圆需要最小的热处理。因为低应力PECVD氮化物是在低温下沉积的，它提供了更大的灵活性，可以沉积在任何其他薄膜上。我们提供独立式超薄超平硅片，厚度从5μm到100μm不等，直径从5毫米到6英寸。薄硅片是真正的镜面光洁度DSP，良好的表面平整度，无雾，无空洞，表面RMS低(典型1-2 nm)，超低值TTV通常小于+/-1μm。我们的单晶太阳能硅片的效率高达19.5%。什么是太阳能效率，阳光光子击中太阳能晶片在一个特定的空间的百分比。更高的效率意味着发电所需的比表面积更小。因此，小型屋顶将希望使用更高的效率面板，以弥补较小的表面积。