橡胶清洗机

清洗机，橡胶清洗机，高压清洗机用于橡胶等弹性体部件的清洗，尤其是高标准要求的医用橡胶部件等。容积：10-90L材质：不锈钢；圆桶转速：3-20RPM高压泵：150bar / 450bar, 5-30L/M

一、产品原理介绍： （1）Plasma清洗机KT-S2DQX-C型等离子清洗机属于13.56MHz的射频电源清洗。作为一种精密干法清洗设备，主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 （2）该清洗机内置高纯石英仓体，有效容积为500ml，结构为国际上的通用的真空石英法兰密封结构。采用了新型的外观结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。 （3）真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验样品清洗和教学。 二、Plasma清洗机的优点： 1.全自动控制使用方便，更长的制程执行时间 2.操作简易和灵活标准的平台安装 3.快速实现客户定制高效率——低发热量 4.使用简易，节省成本多功能前面板 5.高质量、快速的服务和支持直观的液晶显示操作菜单 6.高纯石英腔体减少样品污染可定时功能，时间更精准 7.射频屏蔽安全可靠*紧急停止，应对各种突发情况三、智能控制滚筒等离子清洗机KT-G1DQX技术参数： 供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积Φ100mmX200mm旋转速度20转/分钟气体流量0—300ml/min过程控制手动控制清洗时间手0-999秒外形尺寸615X390X560mm重量56Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

一、小型等离子去胶机清洗机产品应用原理： （1）利用等离子清洗机对包装盒子或玻璃瓶体进行预处理，在包装或瓶体贴标签过程中，经过预处理后，可采用价格低廉、无环境污染的水胶。 （2）另外，金属果酱瓶盖在成型加工中经常会使用润滑油，瓶盖上残留的一些润滑油会影响后续的封口过程。 （3）并且通过等离子清洗机处理，可以消除这些杂质的干扰，不需要使用特制胶，而仍然是使用普通胶就可以很好地完成粘接动作提高附着力。 二、应用特点： 等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。三、小型等离子去胶机清洗机技术参数： 供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤100Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)观察窗内径Φ65气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程手动控制清洗时间手动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸400x380x360mm重量23Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

1. 产品概述：英思特去胶清洗机是用于去除物体表面胶水、胶渍等污染物的专业清洗设备。 2. 设备原理：去胶清洗机主要是利用化学溶剂或特定的清洗液，与工件表面的胶水发生化学反应或物理溶解作用，从而将胶水从工件表面去除。当工件被放置在清洗槽内或通过传输系统经过清洗区域时，清洗液会与胶水接触并开始发挥作用。在清洗过程中，可能会结合机械作用，如喷淋的冲击力或传输系统带动工件的运动，来加速胶水的去除过程。清洗液在完成清洗任务后，通常会经过过滤、净化等处理，以便循环使用或进行环保处理。3. 设备特点：产品用途 适用于 2寸～6寸硅片去胶清洗 整机构造 骨架：进口10mmPP板，优质不锈钢骨架，外包3mmPP板防腐； 外壳：进口10mmPP板； 安全门：采用透明上下推拉门； 管路：管路位于下后部，以节省空间，采用英制接口； 灭火系统：烟热感应CO2自动灭火系统位于工作台面上部； 排风：根据流体学原理设计位于机台后上部，并配有导流和风量调节装置； 工作照明：机台上方配照明（与工作区隔离）； 台面板为优质不锈钢材质（带有漏液孔）； DI/N2 GUN：可伸缩的DI水枪和******各2把，分置于工作区两侧； 人机界面：Touch Screen彩色界面； 支脚：有滑轮装置和固定装置，可调整高度和锁定； 三色报警等和蜂鸣器 控制系统 PLC可程式控制器（欧姆龙）＋Touch Screen彩色人机界面操作。 制程参数皆采用可设定、修改； 操作模式可分为自动/手动/编辑/维修。 配有独立配电箱，电路区进行功能分块，强电、弱电块，以便于维护； 具Password功能以避免操作人员误改参数： Password-1.启动及可进入自动模式內容。 Password-2可进入编辑模式修改制程参数。 Password-3可进入手动模式。

PTL真空等离子系统致力于为航空航天、国防军工、汽车工业、半导体制造、纺织技术、电子微电子、生物工程、医学医疗、塑料橡胶、科研开发等行业客户提供解决方案，以帮助客户提高产品质量、提升生产效率，同时降低对环境的不良影响。 PTL的等离子清洗和等离子刻蚀设备。采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。 PTL等离子表面处理系统的特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。

等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备，是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机滚筒等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。设备型号KT-Z2DQXKT-S2DQXKT-Z5DQXKT-S2GQX供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率1000W150W300W150w射频频率40KHz13.56MHz耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)2L(内径110MMX深度220MM)5L(内径160MMX深度310MM)φ100x200mm观察窗内径Φ50Φ50Φ70无气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程自动控制过程手动控制过程自动控制过程手动控制清洗时间自动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸150*500*250mm450*460*370mm530*580*420mm重量20kg35kg40kg40Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

酸蒸逆流清洗机UP-52由罐体、控制模块、石墨加热板构成，可清楚器皿表面所有可溶于酸的痕量金属污染物，确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。　　　　酸蒸逆流清洗机产品概述　　　　酸蒸逆流清洗机UP-52由罐体、控制模块、石墨加热板构成，可清楚器皿表面所有可溶于酸的痕量金属污染物，确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。　　　　工作原理　　　　利用酸亚沸状态，产生纯净酸蒸汽。通过自然冷凝酸蒸汽与器皿表面接触凝结成液珠，在重力条件下回流到桶内，反复循环。将器皿表面的金属离子溶解带走，达到清洗的目的。　　　　酸蒸逆流清洗机性能参数产品型号UP-52支架位数60位（可定制）温控范围0~240 ℃泄压阀过压保护，自动泄压保护处理量≥60个 55 mL消解反应罐（一次）石墨加热器功率≤2.2kw酸蒸馏超净清洗环境密闭冷却方式自然空气冷却，不使用冷却水适用试剂盐酸、硝酸、水清洗时间＜4小时（常规）清洗范围适用于所有的痕量和超痕量分析用的反应器清洗　　性能优势　　　　1.清洗机采用TFM特氟龙原料一体化成型，加热部分是高纯石墨加特氟龙喷涂处理；　　　　2.采用中空结构的支撑蒸汽喷管，进口PFA材料；　　　　3.石墨炉底部有隔热，底部温度不超过60℃（炉温180℃时）；　　　　4.5寸触屏（有线）PID控制器，可阶梯控温，可控制升温速度；　　　　5.自定义温度曲线，可保存自定义方法；　　　　6.超温保护、定时自动停止加热功能；　　　　7.底部有手动排酸阀，打开排酸阀时底部有斜度能自动排干；　　　　8.支持WIFI无线控制（选配），控制元器件远离酸环境；　　　　9.清洗后的酸可以重复使用；　　　　10.排酸时，可使用排酸阀排酸；　　　　11.清洗容器的表面接触酸蒸汽浓度，所有内部接触部件均采用高纯特氟龙材料，清洁度能达到PPB级。　　　　酸蒸逆流清洗机清洗对象　　　　可以对实验室玻璃、陶瓷、金属、塑料和橡胶等材质各种形状尺寸的器皿进行清洗消毒，包括培养皿、玻片、移液管、消解罐、色谱瓶、试管、三角瓶、锥形瓶、烧杯、烧瓶、量筒、容量瓶、西林瓶、血清瓶、漏斗等。　　　　应用领域　　　　政府性质的实验室：质检、法医、商检、疾病预防控制中心、环境监测站、食品药品监督管理局等。　　　　企业性质实验室：食品、化妆品，生物制药、化工、奶制品、石化等。　　　　第三方检测机构实验室：比如瑞士通标（SGS），英国的天祥（Intertek）以及国内第三方检测机构。　　　　研究院所：如医药学院、生物研究院、地球化学研究所、材料研究所、农业研究院等。　　　　酸蒸逆流清洗机使用方法　　　　1、使用前的准备　　　　使用前检查半自动酸蒸逆流清洗器各部位螺钉、螺母是否有松动现象，泵偏心轴箱内已加入30#或40#机油，需检查油位。　　　　2、进水管连接　　　　将进水胶管套在泵体的进水口接头上，然后套上喉卡，拧紧喉卡上的螺钉，保证连接牢固且不漏气。然后按水源的情况将另一端套在自来水龙头上或放入供水池中，进水管要求安装过滤器，以免吸入的杂质损坏高压泵。　　　　3、出水管连接　　　　把高压胶管的插入接头端与机具出水口上的快换接头相连；另一端与喷枪扳机式阀上的螺纹接头相连。注意：高压水管不能绞结，尽量延展、拉直。　　　　4、电源连接　　　　先要确定电源电压与标牌规定相一致，半自动酸蒸清洗机UP-52所采用的固定电源的连接应由专业人员进行，并应符合GB/T16895的要求。如果使用延伸电源线，插头和插座应是防水结构的。

等离子清洗机VP-R手动版产品简介等离子清洗机VP-R手动版对标一线厂家，补充国内技术空白，手动控制，13.56MHz物理与化学处理兼备，适用于PDMS键合，石墨烯粉末清洗，硅材料亲水性处理和高分子材料粘接等处理。 等离子清洗机VP-R手动版产品特性1.BetterReliability，Better Operation内置一路通入气体，无需再搭配气体混合仪简易、智能化设计，避免误操作采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况手动控制，人机界面友好清洗结束，旋钮泄压泄压时长和大小可调，可通入氮气泄压功率高、中、低三挡可调 2.对标国际一线品牌，填补国内技术空白柔性电极输出13.56MHz频率用于等离子清洗性能比肩一线厂家，在控制自动化，人性化设计方面前列腔体低温，运行时腔体温度小于32°C13.56MHz物理作用和化学作用俱佳等离子体从腔体向四周发出，对样品整个表面处理更彻底薄膜、玻璃基片和石墨烯等离子处理比对情况 3.质量可靠，细节决定石英材质腔体，保证腔体更加洁净，更适合清洁度高材料国内真空泵，保证腔体真空度稳定，等离子清洗强度更强306不锈钢卡扣，比普通铝制卡扣更耐用，接口气密性更好1.5米不锈钢波纹管，比橡胶更耐用，密封性更好高硼硅圆形托盘，避免样品二次污染 4.经典清洗案例分析石墨烯粉末清洗、改性，去除粉末杂质和油质增加石墨烯表面亲水基团（-OH）提高亲水性金属工件油污等离子清洗，不损伤样品，去除表面油污PDMS等离子清洗，改变表面性质，提高粘接能力橡胶亲水性处理薄膜等离子处理 等离子清洗机VP-R手动版技术参数型号 ：VP-R手动版 腔体材质：石英玻璃 腔体容量：2L 内腔尺寸：Φ100x200Lmm 功率：160W 射频频率：13.56MHz RF放射：无 频率偏移量：小于0.2KHz 等离子体轰击：从四周向中间 腔体温度：满功率运行30分钟腔体温度＜32℃ 清洗时间：手动设置 功率调节：高、中、低三挡 显示屏：无 操作控制：手动控制 气体流量计：无 提供进气气路：一路进气，进气量可调 进气管：一根，Φ6 泄压：手动开关泄压，泄压速度可调 真空泵极限真空度：5x10﹣2Pa 抽速：8m3/h 噪音：≤56dB 抽真空时间：启动到发出辉光≤35秒（时间可调） 真空检测：无 冷却方式：风冷 腔体门：铝合金，橡胶圈密封 真空泵控制：主机与真空泵联动 供电电源：AC220V/50Hz 箱体平衡：减震橡胶脚杯 外形尺寸(LxWxH)：420x420x320mm 等离子清洗机VP-R手动版订购信息标准配置 ：主机、真空泵、1.5米波纹管、清洗托盘、电源线、说明书、合格证、保修卡、提供一路进气管 选配件：1、微量控气阀（清洗粉末适用）2、高硼硅圆形托盘 3、安捷伦干式真空泵，防止油气挥发（高洁净实验室适用）

一、Tergeo系列等离子清洗机应用适用于等离子体清洗，蚀刻，表面处理 应用领域1.医疗器械活化、杀菌和提高涂层附着力2.光刻胶灰化、除渣、硅片清洗3. PDMS，微流体，玻片和实验室上的芯片4.用于烃污染去除的SEM / TEM样品清洗5.引线键合，倒装芯片底部填充，器件封装和解封6.改善金属与金属或复合材料的结合7.改善塑料、聚合物和复合材料的粘接 二、Tergeo系列等离子清洗机的特点1、13.56MHz高频射频发生器；2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；3、标配75W版本，可选150W版本；4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。 浸入式等离子源 远程式等离子源三、技术参数1、控制系统1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤。2、反应腔体1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；2）腔体容积：2.6L； 3）腔体尺寸：内径110毫米，深度280毫米。 3、射频电源 1）射频频率：13.56MHz；2）射频功率：标配0~75W；从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调，可选0~150W。4、等离子源1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。四、可选配项气体流量控制混合仪：各路气体和混合气体流量的精准控制，舱内压力的实时监控。特点：综合计时器；触摸屏操作界面；最多三个质量流量控制的气体输入口；排气/通过排气室的传输口和高速抽真空的气体管道来排气；对于不同种类的气体，气体流量率补偿也是不同的；质量流量计可以在0~100sccm之间精确控制气体流量；

实验室洗瓶机属于特殊类清洗设备，是科技和生产力到达一定水平后形成的一种产品以及相关服务。它既需要高新技术支持也需要常规生产设备和工艺技术，不仅需要拥有针对客户要求的解决方案，而且还要负责安装、调试及技术服务等内容，不同的应用会使用不同的清洗设备、不同的清洗剂以及不同的清洗技术和流程。 　　对于实验室器皿清洗市场覆盖率政府职能部门检测中心、化工制药企业分析实验室、科研院所分析实验室、医院的检测中心等，这些单位对清晰的质量要求非常的高，被清洗的污染各种各样，强酸强碱等有害物质非常多，清晰的器皿各种各样。国外普遍配备相关的设备，基本避免了强酸强碱的使用尤其是铬酸的使用，而国内大部分仍有人工进行清洗，铬酸是常规必备清洗剂。 　　实验室客户对于设备的自动化程度要求越来越高，例如实验室目前购买的液相色谱或者原子吸收器自动进样器均作为标配，而五年前只有个别用户才能获得采购除基础设备以外的机器，自动进样器大大提高了工作效率和准确度，即使预算价格会增加数十万，但也是目前认为值得购买的附件。 　　随着环境污染、食品安全、药品安全等原因，上交hi掩饰的检测量是过去的几十倍，及时增加了设备和人员，仍然处于疲于应付的情况，这就要求提高实验室自动化水平，减少不必要的人力。 　　目前的实验室普遍采用的解决方法是雇佣临时人员进行清洗类的工作，或者采用一次性的耗材来提高工作效率。如果人员培训不合格不规范，其清洗效果难以保证符合检测的需求，如果采用一次性的耗材则大大增加了成本，同时高质量的检测时采用一次性耗材也不符合要求。对于要求或者重要的实验仍需正式试验人员亲自清洗。对于某些复杂或者贵重的器皿，其手工清洗程序也是非常复杂，甚至要使用强酸强碱等腐蚀性溶液。 　　实验室洗瓶机保证了清洁质量的一致性和高清洁度，清洗效果使实验结果得到了保障，大大的提高了工作效率。可以清洗复杂的器皿，比如：移液管、集气瓶、液相小瓶等，既节省了人力成本，也减少了强酸强碱的污染和人员的伤害等问题。目前的实验室的设备上基本都配备了自动进样装置，数据处理系统等，同样实验室洗瓶机也是符合实验室现代化和自动化的要求，并且清洗的过程可以记录，可追溯清洗条件，也更符合实验室的管理规范 　　实验室玻璃器皿清洗机可对多种器皿进行有效清洗 　　实验室玻璃器皿清洗机可以对实验室玻璃、陶瓷、金属、塑料和橡胶等材质各种形状尺寸的器皿进行清洗消毒，包括培养皿、玻片、移液管、消解罐、色谱瓶、试管、三角瓶、锥形瓶、烧杯、烧瓶、量筒、容量瓶、西林瓶、血清瓶、漏斗等，设计更加符合人体工程学，它不仅仅可以减少实验室工作人员的工作负荷，降低工作人员潜在的风险，还能确保清洗后的玻璃器皿洁净度更高一级可重复性。 　　实验室玻璃器皿清洗机可对多种实验室玻璃器皿进行有效清洗，其中包括： 　　1、实验室玻璃器皿清洗机对新玻璃器皿的清洗：新玻璃器皿的表面常附着有游离的碱性物质，需要用酸来中和清除。原手洗方法为：用合成洗液或肥皂水刷洗，冲净，再用稀盐酸浸泡4小时以上，再注入浓盐酸布满整个器皿内壁几分钟，直至冲洗干净。现清洗机机洗可先用常温水冲洗，然后用我们的玻璃器皿酸洗程序进行清洗即可。 　　2、实验室玻璃器皿清洗机可对沾有油污玻璃器皿的清洗：被石蜡、凡士林或其他油脂类玷污的玻璃器皿，要单独清洗，防止油脂污染其它玻璃器皿，增加清洗困难。碱剂在高温下对油污有特定的去除效果，因此我们采取了常温预洗（清除灰尘和颗粒物）+95℃高温下加碱剂清洗方案。如油污玷污器皿时间较长则可在常温预洗阶段也加入碱剂清洗以增加清洗效果。　　3、实验室玻璃器皿清洗机可对有机物残留的器皿的清洗：一般的有机物残留用碱剂都能去除，因此采用75℃水温加碱剂清洗方案。 　　4、实验室玻璃器皿清洗机可对有机物无机物混合残留的清洗：混合残留的清洗一般是先用酸剂去除无机物，再用碱剂去除有机物。 　　5、实验室玻璃器皿清洗机之热消毒清洗：因需要热消毒，所以水温设定为95℃，在此温度下维持3-10分钟，可起到消毒的作用。

G60自动对焦激光清洗机采用激光器、激光光学系统及控制系统组成，实现手持式激光清洗，设备易于安装、操控和实现自动化。操作简单，接通电，打开设备，即进行无化学试剂、无介质、无 尘、无水的清洗,可自动对焦，贴合曲面清洗，清洗表面洁净度高等优势，能够清除物件表面树脂、油污、污渍、污垢、锈蚀、涂层、镀层、油漆。产品优势： 1，机构全铝型材设计加工，不生锈 2，大量选择通用独立部件设计，方便快速维修 3，提供两种激光头可供选择（枪型和标准型） 4，提供焦距对焦指示红光，方便手持对焦操作 5，清洗和深刻打标二合一功能 6，波型清洗路径（自动变相，角度自动转换） 7，区域自动填充清洗路径 8，外部导入自动CAD清洗路径 9，采用FIBER激光器。　10，激光清洗，可实现位置、尺寸选择性清洗。 11，不需任何化学清洗液，无耗材，安全环保。 12，操作简单，通电即可，可手持或配合机械手实现自动化清洗。 13，清洗效率非常高，节省时间。 14，激光清洗系统稳定，几乎无需维修。

紫外臭氧清洗机（UVO）英国Ossila公司提供的紫外臭氧清洗机（UVO），是一种简单，经济，快速的材料表面清洗设备，只需把样品放置到样品盘上，关上舱门，设置时间，并按运行，就可以了，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面，只需要在传统清洗后，再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得！目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。u 表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。 主要应用u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。u 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。u 精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。u 科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。 产品特点u 成本低。u 120x120mm样品台。u 最处理样品高14mm。u 抽屉式样品台，简单方便。 u 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害。 UVO显示器u LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”。u 60分钟定时器。u 高强度UV灯源。u 可控温的样品台。u 样品清洗无需溶剂。u 超净表面。 UVO样品托盘二、技术参数紫外灯类型低压石英水银蒸汽灯紫外线灯的主要波长185nm和254nmUV灯管尺寸100x100mmUV灯电源4000V,30mAUV灯寿命每天使用可用8-10年适用电压230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)运行时间59分59秒安全安全联锁，高温报警，高温断电。托盘尺寸120x120mm样品尺寸100x100mm总尺寸长204mm、高227mm、宽300mm在紫外线臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基质上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分钟后(右)。

PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。 技术参数电源AC 208~240V，单相 50/60Hz紫外灯可发出双波长的水银灯功率：55W发出光的波长：254 nm 和 185 nm 使用寿命：2500 小时（可在本公司购买紫外灯来更换）照射区域：200 x 200 mm腔体&样品台不锈钢壳体抽屉式样品台，以便放样取样样品台面积310 mm x 320 mm臭氧通风装置安装在腔体上样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）样品台可以加热，最高温度可达150℃可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口直径为80mm的排气口安装在仪器后端请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外仪器中不包含橡胶管外形尺寸510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) 净重28kg质保期一年质保期，终生维护（不包含紫外灯）应用去除分子级别的污染物紫外光固化粘合剂紫外光催化氧化PDMS表面消毒刻蚀清洗MEMS 器件清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

Ossila紫外臭氧清洗机产品介绍什么是紫外臭氧清洗?紫外臭氧清洗是一种光敏氧化处理过程。在处理过程中，有机分子在吸收短波长紫外辐射后，与臭氧分子发生化学反应，使有机分子从样品表面分离下来。紫外臭氧清洗是一种卓越的清洁技术，可清洁光敏表面、树脂表面，以及洗涤溶剂、助焊剂、油类中的残留物，可以对你的样品进行表面杀菌处理而不影响表面属性。紫外臭氧清洗与其它清洗技术(如氧等离子清洗)不同，不会导致样品表面损伤。紫外臭氧清洗机利用高强度紫外光源，在185nm和 254nm两个波长照射目标表面进行处理。样品仓内的分子氧(O2)在200nm以下波长的紫外线照射下进行分解，产生两个氧自由基(O• )。每个氧自由基随后与更多的氧分子发生反应，生成臭氧(O3)分子(图1)。没有被残余氧吸收的大于200nm波长的紫外线被基片表面上的有机化学键大量吸收，导致激发状态或有机自由基的产生。这些活性有机物种与不稳定的臭氧分子接触时会产生易挥发性物种，如CO2，H2O，N2及短链有机化合物。这种挥发性物质极易从样品表面挥发释放，达到表面清洁的效果。 英国Ossila紫外臭氧清洗机可以去除样品表面污染，数分钟内产生超净表面。它利用高能紫外光源产生臭氧，臭氧将样品表面的污染物分解为挥发性化合物。挥发性化合物从样品表面蒸发，不留痕迹。这种清洁方法可以产生接近原子级的清洁表面，而不会对样品表面产生损坏。英国Ossila紫外臭氧清洗机的托盘尺寸为100mmx100mm，可将样品定位于紫外光源下。您只需将样品放到托盘上，关上仓门，设置好时间，按开始键即可。英国Ossila紫外臭氧清洗机性价比高，厂家提供2年免费质保。主要应用目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。表面UV光清洗：利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。表面UV光改质：利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。紫外臭氧清洗机的应用领域包括: 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。 微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与粘结垫的清洗。在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性：橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜,塑料薄膜,树脂成型空气袋,IC包装,注射針接合部份的表面性,介入导管的表面改型等。科研过程的表面清洗及处理：半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等。紫外臭氧清洗机适用的样品类型包括: 石英 硅 二氧化硅 氮化硅 金 镍 铝 砷化镓 氧化铝 玻璃 不锈钢功能特征 成本低； 120x120mm样品台； 处理样品高14mm； 抽屉式样品台，简单方便； 样品台自动安全开关,打开UV自动关闭，防止对人身伤害； UVO显示器 LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”； 60分钟定时器； 高强度UV灯源； 可控温的样品台； 样品清洗无需溶剂； 超净表面左: 紫外线臭氧清洗前 右: 紫外臭氧清洗10分钟后(右)。技术参数UV灯类型人造石英紫外格栅灯UV灯主要波长185 nm 和 254 nmUV灯规格100 mm x 100 mmUV灯电流30 mA (恒定)254 nm 输出强度100厘米距离的光强度为20 μW/cm2UV 灯使用寿命T80 (2000小时) 8-10年标准日常使用时间电源电源220-240 VAC 保险丝：1A选配的AC/AC 变压器110 V / 230V运行时间59 分钟59秒安全特征安全互锁装置, 高温报警, 热熔断路托盘尺寸100 mm x 100 mm样品尺寸100 mm x 100 mm外形尺寸宽 204 mm高 227 mm长 300 mm

超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

北京陕西山东超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

PCE-22紫外臭氧清洗机是一款可加热型的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM &TEM，紫外对聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。1、仅室内使用 海拔高度5500英尺以内 2、温度范围：5-40℃ 3、相对湿度上限80％，30.5℃，40℃线性降至50％相对湿度 4、主电源波动不超过额定电压的10％ 5、污染等级2 臭氧水平（环境）测量45 ppb。6、去除分子级别的污染物7、紫外光固化粘合剂8、紫外光催化9、氧化PDMS10、表面消毒11、刻蚀12、清洗MEMS 器件13、清洗各种基片，如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片产品名称 PCE-22紫外臭氧清洗机产品型号 PCE-22主要参数 1、功率：上限350W2、AC 208~240V，单相 50/60Hz腔体&样品台1、不锈钢壳体2、抽屉式样品台，以便放样取样3、样品台面积310 mm x 320 mm4、臭氧通风装置安装在腔体上5、样品台与紫外灯的距离：20mm -40mm（可调）6、样品台可以加热，温度上限可达150℃7、可设置20段升降温程序，控温精度为+/-1℃8、设备运行时间：0.01 秒- 99.9小时排气口1、直径为80mm的排气口安装在仪器后端2、请将橡胶管与排气口连接，将臭氧排出到实验室外3、仪器中不包含橡胶管紫外灯1、可发出双波长的水银灯2、功率：55W3、发出光的波长：254 nm 和 185 nm4、使用寿命：2500 小时（可更换）5、照射区域：200 x 200 mm6、可以清洁直径上限为12英寸x 35毫米的晶体晶片。产品规格 1、尺寸：510mm x 350mm x 400mm (W x H x D)2、重量：28kg

深圳市心齐超声波设备有限公司制作的7槽塑胶制品超声波清洗机采用半自动结构、不锈钢成型，是一款经济型的清洗设备。本机并配有热风循环干燥系统，可风干清洗物品，清洗烘干一步到位。 机器参数：电源电压：380V，50/60Hz频率：28KHZ/40KHZ/68KHZ功率：32KW

德国Diener electronic成立于1993年，是世界低温等离子工业的领导者，是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气（常压）等离子清洗机的高科技企业。 用途： Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点，主要适合于高科技生产单位的以下场合： 半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有以下特点： 可以更灵活地操作，简便地改变处理气体的种类和处理程序；不会对操作人员的身体造成任何伤害；其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。 Femto A Femto C Femto D Femto B Femto E应用：表面清洁(e.g. before bonding, soldering or gluing)表面活化(e.g. before printing, varnishing or gluing)表面蚀刻(e.g. microstructuring of silicon or etching of PTFE)表面涂层(e.g. deposition of hydrophobic / hydrophilic layers) 应用领域：REM, TEM考古汽车制造业橡胶制造业微机械制造传感器检测灭菌纺织业医疗器械制造业塑料制造业研发部门电子半导体行业 规格、参数：系列Femto控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.9~6L真空腔室圆形不锈钢件，配有盖子（大约 Φ 100 mm, 长 278 mm 或者长 600 mm）矩形不锈钢件，配有铰链的门（约宽 103 x 深 285 x 高 103)配有盖子的圆形铝材，或者配有铰链的门（大约Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm）配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP)，或者配有铰链的门（大约 Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm）配有盖子的硼硅玻璃 (UHP) 或者配有铰链的门（大约Φ 95 mm，长 280 mm 或者长 600 mm）电极单层或多层RIE样品支架（选项：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron（适用于腐蚀性气体版本）计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 100 W；0 - 1000 W13.56 MHz；功率 0 - 50 W；0 - 300 W12.45 GHz: 功率 0 - 100 W；0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源供电电源： 台式设备为 230 V，立式设备为 400 V/3 相位

美国Harrick等离子清洗机Harrick Plasma公司的等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。区域经理张丽丽： 扣扣：美国Harrick等离子清洗机产品参数* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。* 两种型号：基本型：PDC－32G－2等离子清洗机清洗舱：长7英寸，直径3英寸；舱盖可拆卸。整机尺寸：8英寸H×10英寸W×8英寸D扩展型：PDC－002等离子清洗机清洗舱：长6英寸，直径6英寸；舱盖具备铰链和磁力锁，并有一aa个可视窗口。整机尺寸：11英寸H×18英寸W×9英寸D产品介绍等离子清洗机应用：* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。区域经理张丽丽： 扣扣：

1：声波清洗机声波清洗器珠宝声波清洗机眼睛声波清洗机型号：HAD-800声波清洗机特点的电路、使用更安可靠外观、时髦漂亮、新声波清洗机入家庭装、送礼佳品多位时间控制系统、更准确的控制清洗时间3分钟自动停机声波清洗机主要应用：珠宝行：项链、耳环、手镯、钱币、剃须刀头、笔尖、钱币、徽章、五金零件眼镜行：眼镜、镜片、玻璃、隐型眼镜附件等其它：假牙、打印机墨头、证章、餐具详细规格声波频率40,000Hz内胆材料不锈钢SUS303容量600ml(1pint)时间控制3-分钟AutoCut-off

清洗阳极化处理机： 清洗机主要用于制作铝蜂窝芯材时对铝箔表面去油污清洗及表面磷酸阳极化处理，设备由碱槽清洗、磷酸阳极化处理、涂底胶、铝箔烘干、切边、收卷等功能。通过编程实现铝箔清洗及表面处理的自动化生产。

工业超声波清洗机工业超声波清洗机的优势如下：①彻底清洁工件死角：超声波清洗机对于手工及其它清洗方式不能完全有效地进行清洗的工件，具有显著的清洗效果，可彻底地达到清洗要求、清除复杂工件藏角死角处污渍；②多种工件批量清洗：不管工件形状多么复杂，将其放入清洗液内，只要是能接触到液体的地方，超声波清洗作用都能达到。超声波清洗机对形状和结构复杂的工件尤为适用；③多功能清洁：超声波清洗机可结合不同的溶剂达到不同的效果、满足不同配套生产工艺，如：除油，除锈、除尘、除蜡、除屑、除或磷化、钝化、陶化、电镀等。④减少污染：超声波清洗可有效地降低污染，减少有毒溶剂对人类的损害，环保高效。⑤减少人工：运用超声波清洗机可实现工件全自动清洗、烘干，只需在工件清洗上下料端各配置一名操作员工即可，大大减少了人工清洗所需要的人员数量和清洗时间。⑥缩短作业时间：超声波清洗机清洗与人工清洗相比，清洗时间缩短为人工清洗的四分之一；⑦降低劳动强度：手工清洗：清洗环境较恶劣、体力劳动繁重、复杂机械零件需需要长时间清洗超声波清洗：劳动强度低、清洗环境整洁有序、复杂零件自动高效清洗。⑧环保节能：超声波清洗配套循环过滤系统，可实现清洗溶剂的循环过滤反复使用，对于节约水资源、清洗溶剂成本、提高企业环保形象具有重大意义

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 清洗原理： 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。清洗原理: 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。应用领域:?等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学，光学，电子学，医药学，环境学 生物学等不同领域，主要用于以下实验：?表面清洁 ?表面活化?键合?去胶?金属还原?简单刻蚀?器械的消毒?去除表面有机物?疏水实验?镀膜前处理等 产品特点：?采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；?采用美国气体浮子流量计，流量显示准确；?独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；?弧形电极板设计，清洗更完全；?舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；?手动、自动两种工作模式，可根据客户需求任意切换；?触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单；?智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；?无需任何耗材，使用成本低；?无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；?整机保修一年。 技术参数：

边缘清洗机-EBR去边机是一种用于去除材料边缘多余部分的设备。以下是对EBR去边机的简要介绍及其应用领域：EBR去边机介绍：工作原理： EBR去边机采用切割技术，通过机械或其他方式精确地去除材料边缘的不规则或多余部分。自动化控制： 这种设备通常配备自动化控制系统，可以根据预定的参数进行精确的去边操作，提高生产效率。适用材料： EBR去边机广泛适用于各种材料，包括金属、塑料、纸张、橡胶等。精准性能： EBR去边机能够实现高度精准的去边，确保最终产品的质量和外观。应用领域：制造业： EBR去边机在制造业中广泛应用，用于对生产出的零部件、工件进行去边处理，确保其符合规定的尺寸和质量标准。包装行业： 在包装生产过程中，EBR去边机可以用于去除包装材料的多余边缘，提高包装品的外观和包装效果。印刷业： 对于印刷品的后期加工，EBR去边机可以确保印刷品的边缘整齐，提高印刷品的质量。塑料加工： 在塑料制品生产中，EBR去边机可用于去除注塑或挤出过程中产生的多余边缘，提高塑料制品的外观和质量。金属加工： 在金属加工领域，EBR去边机可用于去除金属零件的切割边缘，确保产品达到规定的标准。总体而言，EBR去边机在提高生产效率、优化产品质量方面发挥着重要作用，适用于多个制造和加工领域。在半导体行业，边缘清洗机（EBR去边机）发挥着关键作用，特别是在半导体制造过程中。以下是边缘清洗机在半导体行业的主要应用方面：芯片制造： 在半导体芯片制造过程中，晶圆（wafer）经过多道工序生产。边缘清洗机用于去除晶圆边缘的残留物和不洁净物质，确保晶圆表面的清洁度，以防止这些杂质影响芯片的性能和可靠性。晶圆切割： 在晶圆经过切割成单个芯片的阶段，切割产生的边缘可能存在不规则、粗糙或有残留物。边缘清洗机用于去除这些边缘不良因素，提高切割后芯片的质量。清洗工序： 半导体制造涉及多个清洗工序，其中一些工序可能需要专门的边缘清洗步骤。这有助于确保半导体器件的表面不受污染，并提高生产线的可靠性。提高生产效率： 边缘清洗机的自动化和精确的去边操作有助于提高生产效率。通过减少人工处理的需要，可以加速制造过程并降低生产成本。防止污染： 在半导体制造中，任何微小的污染物都可能导致器件故障或不良性能。边缘清洗机有助于去除边缘区域的微粒和杂质，降低污染的风险。质量控制： 边缘清洗机可以实现高度精准的去边操作，确保半导体器件的边缘质量符合严格的标准和规范。总体而言，边缘清洗机在半导体行业的应用对于确保半导体器件的高质量生产和可靠性至关重要。清洁、平滑的边缘处理有助于提高制程稳定性，减少不良品率，从而提高半导体产品的质量水平。产品特点： 方形基片的边缘清洗边缘区域：1-20mm基片厚度要求：0.5-20mm自动对准边缘尺寸液体喷嘴数量可选可增配

双频清洗机ZL3-120B产品介绍： “左乐”品牌双频基本型超声波清洗器除其本身具有的清洗功能外，还具有提取、乳化、加速溶解、粉碎、分散等多种功能。广泛应用于：机械、电子、塑胶、仪器仪表、环保、医药、包装、军工、航天航空、船舶、汽车等行业的制造及维修清洗；实验材料吸管、吸咀及器皿的清洁，层析前的脱气处理，医疗器械、医用材料及用具的清洁；珠宝、首饰、手表、贵重金属、宝石、硬币、眼镜等的清洗。 双频清洗机ZL3-120B主要特征:1.数显记忆和设定超声清洗时间；2.所有型号均配有专用降音盖、不锈钢网架；3.超声波双频率交互工作，彻底解决超声波清洗盲区；4.产品工作槽采用优质SUS304不锈钢一次冲压成形；5.时间设定: 0-99 分钟数码定时设定；6.排水系统：6L及以上机型均安装排水球阀。双频清洗机ZL3-120B技术参数:产品型号容量超声功率超声频率清洗槽尺寸机器外形尺寸排水价格LWKHZ(LⅹwⅹH)mm(LⅹwⅹH)mm(元)ZL2-100B2L8028/40150x140x100190x170x220无3100ZL3-120B3L12028/40240x135x100270x170x240无3500ZL6-180B6L18028/40300x150x150330x180x310有4300ZL10-250B10L24028/40300x240x150330x270x310有6300ZL15-300B15L36028/40330×300×150360×330×310有6700ZL22-500B22L48028/40500×300×150550×330×310有11500ZL22-600B30L60028/40500×300×200550×330×360有11800实物图展示：

台式清洗机ZL1-60A产品介绍： “左乐”品牌加热型超声波清洗器除其本身具有的清洗功能外，还具有提取、乳化、加速溶解、粉碎、分散等多种功能。广泛应用于：机械、电子、塑胶、仪器仪表、环保、医药、包装、军工、航天航空、船舶、汽车等行业的制造及维修清洗；实验材料吸管、吸咀及器皿的清洁，层析前的脱气处理，医疗器械、医用材料及用具的清洁；珠宝、首饰、手表、贵重金属、宝石、硬币、眼镜等的清洗。台式清洗机ZL1-60A主要特征:1.时间设定: 0-30 分钟数码显示可调；2.温度设定: 室温~80℃数码显示可调；3.产品材质：内胆、外壳均采用优质不锈钢；4.产品优点：清洗槽采用冲压成形，无焊缝；5.元件品质:超声波元件均采用进口的高质量配件；6.排水系统：6L及以上机型均安装排水球阀；7.散热系统：10L及以上均安装高效散热风扇。台式清洗机ZL1-60A技术参数:型号容量超声功率超声频率加热功率清洗槽尺寸排水价格LWKHZW(LⅹwⅹH)mm（元）ZL1-60A1.3L604050150×140×65无1900ZL2-80A2L804050150x140x100无2400ZL3-120A3L12040100240x135x100无3100ZL6-180A6L18040200300x150x150有3500ZL10-250A10L24040250300x240x150有4300ZL14-300A14L30040400300×240×200有6300ZL15-360A15L36040400330×300×150有6700ZL19-420A19L42040600330×300×200有11500ZL22-500A22L48040600500×300×150有11800ZL30-600A30L60040800500×300×200有13800实物图展示：

功率可调型清洗机ZL3-120D产品介绍： “左乐”品牌功率可调型超声波清洗器除其本身具有的清洗功能外，还具有提取、乳化、加速溶解、粉碎、分散等多种功能。广泛应用于：机械、电子、塑胶、仪器仪表、环保、医药、包装、军工、航天航空、船舶、汽车等行业的制造及维修清洗；实验材料吸管、吸咀及器皿的清洁，层析前的脱气处理，医疗器械、医用材料及用具的清洁；珠宝、首饰、手表、贵重金属、宝石、硬币、眼镜等的清洗。功率可调型清洗机ZL3-120D主要特征:1.超声波功率无级可调；2.时间设定: 0-30 分钟数码显示可调；3.温度设定: 室温-80℃数码显示可调；4.产品材质：内胆、外壳均采用优质不锈钢；5.产品优点：清洗槽采用冲压成形，无焊缝；6.元件品质:超声波元件均采用进口的高质量配件；7.排水系统：6L及以上机型均安装排水球阀。功率可调型清洗机ZL3-120D技术参数:产品型号容量超声功率超声频率加热功率清洗槽尺寸排水价格LWKHZW(LⅹwⅹH)mm(元)ZL3-120D3L50～12040100240x135x100无3680ZL6-180D6L70～18040200300x150x150有4680ZL10-250D10L100～24040250300x240x150有5200ZL14-300D14L120～30040400300×240×200有5900ZL15-360D15L150～36040400330×300×150有6400ZL19-420D19L170～42040600330×300×200有7900ZL22-480D22L200～48040600500×300×150有8800实物图展示：

达因特真空等离子清洗机与传统清洗方法的优势,全自动在线处理节约人工,处理温度低,无危险,灵活搭配流水线配套生产.同时用真空等离子清洗机可对各种材料进行活化处理.真空等离子腔体分为以下几种：石英腔体 不锈钢腔体铝合金腔体真空等离子清洗机的电源有以下几种：40KHZ中频电源：主要用于电路板清洗13.56MHZ射频电源：用于常规产品的清洗真空等离子清洗机与传统清洗方法的优势：等离子处理传统处理人工成本 全自动在线处理，节约人工需人工处理处理温度处理温度低，无危险有明火产生，有危险处理方式灵活搭配流水线配套生产无操作方式操作简单，处理过程无污染清洗效果清洗效果可通过接触角测量仪量化，废品率低无法量化清洗效果，废品率高运营成本操作简单，极低运营成本操作复杂，高运营成本 环保规范过程无化学污染物排放，符合环保规范1.金属的活化处理：尽管可能是对金属进行活化处理的，但是金属的活化非常不稳定，故此有效时间较短。如果对金属进行了活化处理，则必须在几分钟或者几小时之内进行后续加工处理（胶合、涂漆...），因为表面很快就会永久性的与环境空气中的污物结合。最好是在落实诸如锡焊焊接或者粘接之类的工艺之前进行金属活化处理。2塑料的活化处理：诸如聚丙烯或者 PE 之类的塑料均为非极性结构。这意味着，在印刷、喷漆和粘合之前必须对这些塑料进行预处理。作为工艺气体，通常使用干燥和不含油的压缩空气。将接受过处理的工件和未接受过处理的工件浸入水中（极性溶液），活化效果令人印象极其深刻。在未经过处理的零部件上，形成了正常形状的液滴。接受过处理的零部件的处理部位则完全被水湿润。3.可以对玻璃和陶瓷进行活化吗？ 玻璃和陶瓷的表现与金属类似，并且活性处理的有效期较短。作为工艺气体，通常使用压缩空气。4.如何量化等离子清洗机的处理效果？通过接触角测量仪进行测量：在这种方法中，我们会测量水滴至活化表面的湿润角。活化效果越好，水滴则越是平铺于表面之上。当然，随着接触角测量仪的普及，这种方法越来越多的使用，这是因为接触角测量仪器相对于达因笔，测量的效果更为精确，并且可以量化精确的水滴角角度数据，达因特做为表面性能解决及处理方案专家，在客户使用等离子清洗之后同时提供免费的接触角测量，由下图中我们可以看到，原先的线路板初始水滴角度是疏水的，60度以上，经过等离处理后达到30度以下。同时对于较大或者形状复杂的零部件，如果不方便对其进行切割，我们可以提供便携式接触角测量仪器进行测量。

超声波清洗机是一种利用超声波在液体中产生的空化效应，对五金、塑胶零件表面进行高效、环保的清洗设备。它主要由超声波发生器、换能器及清洗槽组成，能够清洗复杂工件的每个缝隙和角落，实现无死角的清洗效果。超声波清洗机广泛应用于表面喷涂处理行业、机械行业、电子行业、半导体行业、钟表首饰行业、光学行业、纺织印染行业等多个领域。例如，在机械行业中，可用于清洗切削油、磨粒、铁屑、尘埃等附着物；在电子行业中，可用于清洗电子零件表面的尘埃、油污等。主要特点1.清洁无死角：超声波清洗设备可以容纳多个工件的批量清洗，且能清洗复杂工件的每个缝隙和角落，实现无死角的清洗效果。2.降低劳动强度：超声波具有快速而高效的清洁效果，能够降低工人的劳动强度，并创造一个洁净有序的清洗环境。3.清洗更环保：超声波清洗机内置高效的循环过滤系统，使用过的清洗溶剂能够通过过滤系统进性过滤后达到反复使用的目的，从而节约水资源和清洗溶剂，降低企业的清洗成本，提高环保形象。超声波频率，常规清洗，频率选择在20-40kHz和68-120kHz。低频率段，适合于去除3-5um的污物粒子。主要参数1.频率：≥20KHz，可分为低频、中频、高频三段。2.清洗介质：化学溶剂或水基清洗剂，化学作用与超声波清洗的物理作用相结合，以达到更好的清洗效果。3.功率密度：功率密度=发射功率（W）/发射面积（cm² ），通常≥0.3W/cm² ，超声波的功率密度越高，空化效果越强，速度越快，清洗效果越好。实际工作中粉末冶金件如磁芯、磁环、带有磨削磁粉类，选择频率20-25kHz；粗加工金属零部件，如汽车轮毂、气缸组件等大型零件，选择频率25-28kHz；对于钟表零件、精密冲压件，选择频率40kHz；对于光学玻璃、低档液晶器件，选择频率68-120kHz；对于半导体硅片、液晶玻璃基片的清洗，去除1-3um的污物粒子，选择0.8-1.0MHz的兆赫级。