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样品制备离子仪

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样品制备离子仪相关的论坛

  • 讲座预告:利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品

    讲座预告:利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品

    利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09502.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09501.gif微电子材料样品在做失效分析扫描电镜图像拍摄之前,需要准确研磨到目标位置,尽可能的避免样品研磨面的应力损伤和污染,以便获得清晰的样品断面形貌,或进行元素定性定量分析等。本次讲座介绍如何机械研磨、离子束切割抛光方式和超薄切片方式制备扫描电镜样品。徕卡精研一体机TXP可以对样品进行精确定位研磨,高效率的处理以往难以制备的样品。徕卡三离子束切割抛光仪TIC3X可对样品进行无应力损伤和无磨料污染的氩离子束切割抛光,确保样品适合高倍率扫描电镜图像观察,或这EBS和EBSD分析。徕卡超薄切片机UC7是利用钻石刀对样品进行精细准确切割,非常适合于铜、铝和高分子膜层的截面制备。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/04/201704241054_01_1785258_3.jpg时间:2017-06-30 14:00 讲师:林初诚 讲师简介中国科学院上海硅酸研究所测试中心工程师,长期从事测试工作,对SEM,EDS,EBSD及相关制样技术有深入研究。在样品测试方面有丰富经验,可以根据不同需求制备各种高难度样品协助研究。报名链接:http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2579http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09507.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09510.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gif

  • Ar离子刻蚀制备EBSD样品

    想用离子刻蚀制备EBSD样品,材料是碳含量为0.5%左右的珠光体钢。但是不知离子刻蚀的具体参数,所以想请了解这方面的给些建议。

  • 锅炉水中铁离子检测(万事具备,就差样品制备方法)

    近期取到的锅炉水样品都是呈现红褐色,静置后红褐色沉淀,怀疑为锅炉内部或者管路锈蚀所致,现在要测试水样中铁离子的含量:水样处理:1、取定水样加入定量L的HCL酸化,铁锈溶解。测试条件和设备:仪器DR2800分光光度计、哈希试剂/FerroZine 铁试剂溶液,500mL(溶液) 型号:HACH-2301-49测试方法只需制备好样品后在仪器中直接调出方法就可以测试问题:样品要如何制备?没有相关的制备方法,茫然中,希望有做过该测试的朋友提供点经验,谢谢!

  • 请教TEM样品制备

    现在做的一个样品是在;离子液中制备的,但是在看电镜的时候制备的样品老是很厚,很难打得透,请问有没有什么简单的方法避免这一点?所用离子液是水溶性的,但水溶后会使样品发生变化。谢谢!

  • 【求助】样品制备柱的规格

    有没有人用HPLC测定硫甙组分的,样品制备时所用的聚丙烯离子交换柱规格具体是多少呢?标准是这样写的:聚丙烯离子交换微柱:底部筛板为100目。离子交换微柱的制备:每一个试样提取液准备一支聚丙烯离子交换微柱,垂直置于试管架上。取0.5 mL充分混匀的葡聚糖凝胶悬浮液至每一离子交换微柱中,注意不要使悬浮液粘附在柱壁。静置待液体排干后,取2 mL 6 mol/L甲酸咪唑溶液冲洗树脂,排干后,再用1 mL水冲洗树脂两次,每次均让水排干。

  • 【网络会议】:05月10日 机械减薄+离子减薄制备透射电镜样品介绍

    【网络讲座】:机械减薄+离子减薄制备透射电镜样品介绍【讲座时间】:2016年05月10日 14:00【主讲人】:李旭,中国计量科学研究院纳米新材料所。【会议简介】近年来,材料领域的透射电镜制样设备推陈出新,制样方法也随之越来越先进、高效。但是,对于薄膜/基体截面样品、金属样品、陶瓷样品、剪切带定点样品等制备难度较大的样品,如何使用这些先进的设备,快速制备出高质量的透射电镜样品,需要正确地使用制样设备,需要摸索一些技巧,需要不断积累经验。在此分享一些经验和体会。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件:只要您是仪器网注册用户均可报名,通过审核后即可参会。2、报名截止时间:2016年05月10日 13:303、报名参会:http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/19294、报名及参会咨询:QQ群—171692483http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191700_667332_2507958_3.gif

  • 石油地质行业样品制备方法

    石油地质行业样品制备方法

    石油地质行业中扫描电镜样品的制备方法 ,扫描电镜在石油地质行业中应用非常广泛。但目前国内、国外的扫描电镜用户在迚行样品制备的时候的经常会出现以下现象:样品内部的微小尺度结构在普通的手动研磨过程中会出现由于研磨所造成的表面的机械划痕、污染以及形变等各种损伤,很难得到其真实的形貌,很难观察到其内部的真实微区。在石油地质行业这种现象更加普遍,比如说这几年国家大力提倡的页岩气开发工作,因为页岩,泥岩,砂岩等样品涉及到其内部储气的孔隙通常都为纳米甚至是埃米级别才及地质样品本身的酥松性,遇水容易膨胀、变形和改变无形,在普通的手动机械抛光过程中,经常会出现堵塞孔隙的现象获得的电子扫描图像不能真实、直观地反映页岩的微观结构。空隙、裂缝、有机质及其它现象常会出现相同的图像效果,故当研究页岩的微观空隙结构时,通常的电镜方法难以凑效。所以现阶段国内外很多用户都会选择氩离子抛光装置来对于样品抛光,使用氩离子抛光处理样品表面后,电镜照片能更好的反应出页岩裂缝形态、空隙、有机质及其他矿物结晶甚至充填形态。氩离子抛光设备,依靠离子束轰击制备样品,从而能够获得传统加工方法难以达到的处理效果,是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备。可利用氩离子抛光设备进行抛光加工的材料种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面,集成电路焊点,多层薄膜截面,颗粒、纤维断面,复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的 SEM、EBSD 样品。氩离子光束抛光页岩样品表面后,结合扫描电镜、薄片岩相鉴定和 X-衍射仪等分析,可定量观察微孔隙结构,确定孔隙度,分析矿物成分。氩离子光束抛光制样技术在页岩研究中具有以下特点: (1) 氩离子光束抛光制样技术具有样品制备简便快捷,观察视域广、图像景深 大,放大倍数范围宽且连续可调,可迚行单组分细微结构的多方位观察,能对样品表面迚行多种信息综合分析等特点。(2)能够清楚地观察到岩石的主要空隙类型:粒间孔、微孔隙(包括粒内溶孔、杂基质微孔隙、微裂缝)、吼道类型(包括点状、片状和缩颈吼道)、测定出孔喉半径等参数和孔隙度。(3)岩样构造面、组分界面、矿物质、纳米级及其它更小的空隙、裂缝等,可较为方便地观察,可获得不同放大倍数较为优质的图像和照片。(4)可以判断有机质演化程度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/11/201611161835_616613_0_3.png

  • 【原创大赛】磁控溅射原理及TEM样品的制备

    当前,制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法,适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点,下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下,在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞,使其电离出氩离子和一个新的电子,电子飞向基片,氩离子在电场作用下飞向阴极靶,并以高能量轰击靶的表面,使靶材发生溅射。在溅射的过程中,溅射离子,中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述,磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态,并束缚和延长原子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm,厚为20μm,网格间距为80μm,最底下一层铜或者钼,上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上,为了减少非弹性散射对衍射数据的影响,在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度,约为15nm-20nm,这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

  • 【分享】生物样品前处理、制备、分离及保存器材

    1. 概 述1.1 生物样品处理制备的主要特点: ⑴生物材料的组成极其复杂,常常包含有数百种乃至几千种化合物。 ⑵许多生物样品在生物材料中的含量极微,分离纯化的步骤繁多,流程长。 ⑶许多生物样品一旦离开了生物体内的环境时就极易失活,因此分离过程中如何防止其失活,就是生物样品提取制备最困难之处。 ⑷生物样品的制备几乎都是在溶液中进行的,温度、pH值、离子强度等各种参数对溶液中各种组成的综合影响,很难准确估计和判断1.2 生物样品的处理制备通常可按以下步骤进行: ①确定要制备的生物样品的目的和要求,是进行科研、开发还是要发现新的物质。 ②建立相应的可靠的分析测定方法,这是进行生物样品制备的关键。 ③通过文献调研和预备性实验,掌握生物样品及产物的物理化学性质。 ④生物材料的破碎和预处理。 ⑤分离纯化方案的选择和探索,这是最困难的过程。 ⑥产物的浓缩,干燥和保存。

  • 【求助】关于XRD样品制备问题!

    我是做金属纳米粒子制备的,样品量很少,别人告诉我可以把样品分散在乙醇中,滴到玻璃片上,然后进行测试。请问最终样品在片上的厚度有要求吗?一定要滴到玻片不透光吗? 微量样品测试还有什么其它方法吗?谢谢!

  • 【分享】透射电镜样品制备

    透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术,它对能否得到好的TEM像或衍射谱是至关重要的.投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的,这要求制备出对电子束"透明"的样品,并要求保持高的分辨率和不失真.  电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压,样品的厚度以及物质的原子序数.一般来说,加速电压愈高,原子序数愈低,电子束可穿透的样品厚度就愈大.对于100~200KV的透射电镜,要求样品的厚度为50~100nm,做透射电镜高分辨率,样品厚度要求约15nm(越薄越好).  透射电镜样品可分为:粉末样品,薄膜样品,金属试样的表面复型.不同的样品有不同的制备手段,下面分别介绍各种样品的制备.  (1)粉末样品  因为透射电镜样品的厚度一般要求在100nm以下,如果样品厚于100nm,则先要用研钵把样品的尺寸磨到100nm以下,然后将粉末样品溶解在无水乙醇中,用超声分散的方法将样品尽量分散,然后用支持网捞起即可.  (2)薄膜样品  绝大多数的TEM样品是薄膜样品,薄膜样品可做静态观察,如金相组织;析出相形态;分布,结构及与基体取向关系,错位类型,分布,密度等;也可以做动态原位观察,如相变,形变,位错运动及其相互作用.制备薄膜样品分四个步骤:  a将样品切成薄片(厚度100~200微米),对韧性材料(如金属),用线锯将样品割成小于200微米的薄片;对脆性材料(如Si,GaAs,NaCl,MgO)可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割,或用超薄切片法直接切割.  b切割成φ3mm的圆片  用超声钻或puncher将φ3mm薄圆片从材料薄片上切下来.  c预减薄  使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至10μm厚.用研磨机磨(或使用砂纸),可磨至几十μm.  d终减薄  对于导电的样品如金属,采用电解抛光减薄,这方法速度快,没有机械损伤,但可能改变样品表面的电子状态,使用的化学试剂可能对身体有害.  对非导电的样品如陶瓷,采用离子减薄,用离子轰击样品表面,使样品材料溅射出来,以达到减薄的目的.离子减薄要调整电压,角度,选用适合的参数,选得好,减薄速度快.离子减薄会产生热,使样品温度升至100~300度,故最好用液氮冷却样品.样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的,否则材料会发生相变,样品冷却还可以减少污染和表面损伤.离子减薄是一种普适的减薄方法,可用于陶瓷,复合物,半导体,合金,界面样品,甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄(把他们用树脂拌合后,装入φ3mm金属管,切片后,再离子减薄).也可以聚集离子术(FIB)对指定区域做离子减薄,但FIB很贵.  对于软的生物和高分子样品,可用超薄切片方法将样品切成小于100nm的薄膜.这种技术的特点是样品不会改变,缺点是会引进形变.  (3)金属试样的表面复型  即把准备观察的试样的表面形貌(表面显微组织浮凸)用适宜的非晶薄膜复制下来,然后对这个复制膜(叫做复型)进行透射电镜观察与分析.复型适用于金相组织,断口形貌,形变条纹,磨损表面,第二相形态及分布,萃取和结构分析等.  制备复型的材料本身必须是"无结构"的,即要求复型材料在高倍成像时也不显示其本身的任何结构细节,这样就不致干扰被复制表面的形貌观察和分析.常用的复型材料有塑料,真空蒸发沉积炭膜(均为非晶态物质) .  常用的复型有:a塑料一级复型,分辨率为10~20nm;b炭一级复型,分辨率2nm,c塑料-炭二级复型,分辨率10~20nm;d萃取复型,可以把要分析的粒子从基体中提取出来,这种分析时不会受到基体的干扰.  除萃取复型外,其余复型只不过是试样表面的一个复制品,只能提供有关表面形貌的信息,而不能提供内部组成相,晶体结构,微区化学成分等本质信息,因而用复型做电子显微分析有很大的局限性,目前,除萃取复型外,其他复型用的很少.

  • 请教高手SEM样品制备和观测

    碰到个样品,是断面,但是要求要看断面里长着的粒子,大概100nm左右的事先是用液氮淬冷掰断出来的断面势必表面不那么平整但对于平常看普通断面的话,应该没问题但又要求药看里面的粒子,并且要拍到8万倍实在太痛苦了,放大那么大倍数,明显高低不平,圆的粒子都被拉长了。有什么好方法吗?对于前期制备和后期观察求教高手们

  • 【求助】Ti合金HRTEM样品制备

    请教各位大侠,钛合金的高分辨样品一般用什么方式制备为好?现用离子减薄,但薄区很少,怎么才能改进呢?如果双喷,什么电解液和抛光条件?恳请指点一二多谢

  • 【讨论】有机溶剂ICP样品的制备讨论

    如果不用测定有机体系的ICP仪器来测试有机溶剂体系中微量金属离子时样品的制备似乎比较麻烦,特别是轻金属好象测不准。不知大家有没有遇到同样的问题?有技巧吗?

  • 求教一般化学方法制备去离子水

    请问哪位知道怎么用一般的化学方法用蒸馏水制备去离子水吗,谢谢!!![em61] [em61] [em61] 我知道用高锰酸钾可以制备但不知道具体怎么做,哪位高手能指教一下,谢谢!!!

  • 【转帖】扫描电子显微镜样品制备

    1 .对试样的要求试样可以是块状或粉末颗粒,在真空中能保持稳定,含有水分的试样应 先烘干除去水分。表面受到污染的试样,要在不破坏试样表面结构的前提下 进行适当清洗,然后烘干。新断开的断口或断面,一般不需要进行处理,以 免破坏断口或 表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵 蚀,才能暴露某些结构细节,则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净,然后烘 干。对磁性试样要预先去磁,以免观察时电子束受到磁场的影响。试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸,不能过大,样品座尺寸各仪器 不均相同,一般小的样品座为 Φ 3 ~ 5mm ,大的样品座为 Φ 30 ~ 50mm ,以分 别用来放置不同大小的试样,样品的高度也有一定的限制,一般在 5 ~ 10mm 左右。2 .块状试样扫描电镜的试样制备是比较简便的。对于块状导电材料,除了大小要适 合仪器样品座尺寸外,基本上不需要进行什么制备,用导电胶把试样粘结在 样品座上,即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材 料,要先进行镀膜处理,在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累,影 响图象质量。并可防止试样的热损伤。 3 、粉末试样的制备先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上,再均匀地把粉末样撒在上面,用洗耳球吹去未 粘住的粉末,再镀上一层导电膜,即可上电镜观察。4 、 镀膜镀膜的方法有两种,一是真空镀膜,另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的 原理是:在低气压系统中,气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作 用下电离成正离子和电子,正离子飞向阴极,电子飞向阳极,二电极间形成辉光放 电,在辉光放电过程中,具有一定动量的正离子撞击阴极,使阴极表面的原子被逐 出,称为溅射,如果阴极表面为用来镀膜的材料(靶材),需要镀膜的样品放在作 为阳极的样品台上,则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上,形成一 定厚度的镀膜层。 离子溅射时常用的气体为惰性气体氩,要求不高时,也可以用 空气,气压约为 5 X 10 -2 Torr 。离子溅射镀膜与真空镀膜相比,其主要优点是:( 1 )装置结构简单,使用方便,溅射一次只需几分钟,而真空镀膜则要半个小时以 上。( 2 )消耗贵金属少,每次仅约几毫克。( 3 )对同一种镀膜材料,离子溅射镀膜质量好,能形成颗粒更细、更致密、更均 匀、附着力更强的膜。

  • 【分享】扫描电子显微镜样品制备

    1 .对试样的要求试样可以是块状或粉末颗粒,在真空中能保持稳定,含有水分的试样应 先烘干除去水分。表面受到污染的试样,要在不破坏试样表面结构的前提下 进行适当清洗,然后烘干。新断开的断口或断面,一般不需要进行处理,以 免破坏断口或 表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵 蚀,才能暴露某些结构细节,则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净,然后烘 干。对磁性试样要预先去磁,以免观察时电子束受到磁场的影响。试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸,不能过大,样品座尺寸各仪器 不均相同,一般小的样品座为 Φ 3 ~ 5mm ,大的样品座为 Φ 30 ~ 50mm ,以分 别用来放置不同大小的试样,样品的高度也有一定的限制,一般在 5 ~ 10mm 左右。2 .块状试样扫描电镜的试样制备是比较简便的。对于块状导电材料,除了大小要适 合仪器样品座尺寸外,基本上不需要进行什么制备,用导电胶把试样粘结在 样品座上,即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材 料,要先进行镀膜处理,在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累,影 响图象质量。并可防止试样的热损伤。 3 、粉末试样的制备先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上,再均匀地把粉末样撒在上面,用洗耳球吹去未 粘住的粉末,再镀上一层导电膜,即可上电镜观察。4 、 镀膜镀膜的方法有两种,一是真空镀膜,另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的 原理是:在低气压系统中,气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作 用下电离成正离子和电子,正离子飞向阴极,电子飞向阳极,二电极间形成辉光放 电,在辉光放电过程中,具有一定动量的正离子撞击阴极,使阴极表面的原子被逐 出,称为溅射,如果阴极表面为用来镀膜的材料(靶材),需要镀膜的样品放在作 为阳极的样品台上,则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上,形成一 定厚度的镀膜层。 离子溅射时常用的气体为惰性气体氩,要求不高时,也可以用 空气,气压约为 5 X 10 -2 Torr 。离子溅射镀膜与真空镀膜相比,其主要优点是:( 1 )装置结构简单,使用方便,溅射一次只需几分钟,而真空镀膜则要半个小时以 上。( 2 )消耗贵金属少,每次仅约几毫克。( 3 )对同一种镀膜材料,离子溅射镀膜质量好,能形成颗粒更细、更致密、更均 匀、附着力更强的膜。

  • 固体样品的平均样品制备

    食品分析中,固体样品的平均样品制备,采用的方法是()。 A、先碎化,后混匀,用四分法制成平均样品 B、先搅后碎,再四分法制备成平均样品 C、用组织捣碎机捣碎后,取一部分成平均样品 D、直接混合,四分法制备平均样品

  • 【求助】关于样品制备

    各位专家我这现在新进一台荧光,在使用中遇到几个问题,希望大家能给以帮助1,对于不同的样品的样品制备的操作规程或者叫处理方法上,有没有国标或行标?上网找了许多都不是我们用的(我们主要做的是陶瓷及矿物原料),没有相关规程及标准,感觉样品制备,特别是熔样很难进行。2,对于未知样品,在没有标样的时候,怎样能进行比较准确的定量分析。希望各位不吝赐教,先谢过了

  • 帕特LIMS的样品制备环节

    帕特LIMS的样品制备环节

    [color=#ff0000]注:如果在市场合同登记中,是否质控选择是,则发放完了流转到质控样登记,再到样品制备,如果是否质控选择否,则样品发放完成后直接到样品制备。[/color]点击样品管理下拉菜单中的样品制备,选择样品点击小铅笔编辑制备信息。点击操作按钮下的小方格查看检测项目,点击批量制备批量制备样品。点击打印,打印标签。点击标签置换进行标签置换,点击标签打印机设置设置标签打印机。如图1。[color=#ff0000]注:[/color][color=#ff0000]标签打印机设置要求:打印纸张设置 60*35mm,并垂直偏移5.0mm[/color][color=#ff0000][img=,383,323]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/05/201705181446_01_3165358_3.png[/img][/color][img=,690,186]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/05/201705181448_01_3165358_3.png[/img]图一编辑完成制备信息后点击保存,如图二[img=,580,107]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/05/201705181451_01_3165358_3.png[/img]图二保存后自动返回上一级,状态中会显示制备完成。还可点击操作按钮下的小方格查看检测项目。然后批量选择样品进行制备。如图三[img=,533,98]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/05/201705181452_01_3165358_3.png[/img]图三样品都制备完成后批量选择进行提交。如图四[img=,531,98]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/05/201705181501_01_3165358_3.png[/img]弹出对话框,确定提交,提交成功。

  • 【金秋计划】提高灵敏度的样品制备策略

    [align=center] [/align] [font=Tahoma, Helvetica, SimSun, sans-serif][size=18px][color=#444444]样品制备是 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url] 方法的第一步,对于提高灵敏度至关重要。 提高灵敏度的一个常用方法是:增加用于萃取的样品量或进样量。这种简单易行的方法对于纯净的标准溶液非常有效。 然而,对于真实的生物样品,如果缺乏适当的样品制备过程来获得干净的样品提取物,则可能无法达到预期的灵敏度提高效果。有时甚至会导致灵敏度下降,因为增加样品体积或进样体积也会增加提取样品中的基质成分。 除了目标物之外,生物样本中还存在各种内源性成分(如蛋白质、脂类、盐类),它们的含量通常比分析物高得多。如果这些成分被带入提取样品中,并与分析物发生共洗脱,导致在质谱分析过程中(尤其是在使用电喷雾电离时),可能出现抑制或增强分析物的电离(基质效应)。 基质效应会严重影响 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url] 生物分析测定的灵敏度、准确度和精确度。回收率是正确的样品制备策略需要考虑的另一个重要因素,因为一般来说,回收率越高,灵敏度就越高。 理想的样品制备方法应能从生物样品中 100% 地回收分析物,并去除所有基质成分,从而最大限度地提高灵敏度。 然而,在实际应用中很难实现理想的样品制备。能提取大部分分析物的样品制备方法可能也会提取大量基质成分,导致严重的基质效应(如果不能通过色谱法解决)。反之亦然,一种方法可以提取出非常干净的样品,但分析物的回收率却很低。 因此,为了提高灵敏度,应同时评估基质效应和回收率,以获得最佳的样品制备方法,而这往往是两者的折衷。 对于小分子分析物而言,蛋白质和盐类相对容易从生物样本中去除。 磷脂由于同时具有疏水(两个脂肪酸"尾部")和亲水(磷酸盐"头部")官能团的两亲性质,通常很难去除。血浆中丰富的磷脂已被证明是小分子生物分析 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LCMS[/color][/url] 检测中基质效应的主要来源之一。 因此,确保在样品提取过程中有效去除磷脂已成为提高小分子生物分析检测灵敏度、质量和稳健性的常用方法。 对于蛋白质分析物的 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url] 生物分析,生物样品中的高丰度内源性蛋白质(如血清白蛋白、免疫球蛋白)是基质效应的主要来源。与蛋白质分析物相比,血浆/血清中这些内源性蛋白质的浓度通常要高得多。 其中一些蛋白质(或其消化后产生的肽)可能与蛋白质分析物(或其相应的替代肽)具有相似的理化性质,因此很难将其从感兴趣的蛋白质(或肽)中分离出来,并可能导致严重的离子抑制、高背景噪声以及对 [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]LC-MS[/color][/url] 分析的潜在干扰,从而严重降低检测灵敏度。 目前已开发出多种样品提取策略。对于小分子分析物,蛋白质沉淀(PPT)、液液萃取(LLE)和固相萃取(SPE)是最常用的样品制备方法。对于多肽和蛋白质分析物,SPE、PPT 和免疫亲和萃取(IAE)被广泛使用。[/color][/size][/font]

  • 【求助】寻样品制备设备

    岩石样品制备设备,那种最好。比如50克样品,5次/h以下的使用频率。每个样品的制备时间不超过5min。0.08mm以下粒度。

  • 【点评】EBSD 样品制备方式

    【点评】EBSD 样品制备方式

    EBSD 样品制备的最有效手段——氩离子抛光系统 EBSD 技术可以通过研究晶粒取向关系、晶界类型、再结晶晶粒、微织构等, 反应材料在凝固、形变、相变、失效破坏等过程中晶粒是如何形核长大及晶粒间 的取向转换等,可以作为技术人员提高材料性能的理论依据,目前 EBSD 技术广 泛应用于金属、陶瓷、地质矿物等领域。 EBSD 数据来自样品表面下 10-50nm 厚的区域,且 EBSD 样品检测时需要 倾转 70°,为避免表面高处区域遮挡低处的信号,所以要求 EBSD 样品表面“新 鲜”、清洁、平整、良好的导电性、无应力等要求。目前比较常用的 EBSD 制样 方法为机械抛光、电解抛光、聚焦离子束(FIB)、氩离子抛光等。 目前机械抛光比较常用的抛光膏硬度较大,虽然粒度可以很小,但是仍会划 伤表面,不适合硬度较小的材料。其形变应力层较大,虽然可以通过化学侵蚀的 方法在一定程度上去除表面形变层,但是对于多相材料来说,侵蚀速度的不同, 会造成材料表面凹凸不平,同时侵蚀一定程度上会加快晶界处的腐蚀速度,降低 EBSD 的标定率,损失了对于晶界处的研究价值,尤其对于晶粒非常细小的材料, 侵蚀会严重丢失其取向信息。同时机械抛光时需要用水冲洗,容易造成材料氧化, 不适用于易于氧化的材料。 电解抛光是做 EBSD 检测时比较常用的手段,但是对于不同材料其电解液的 配方不同,同时不同尺寸、不同状态的同种材料其参数(抛光电压、电流、时间、 频率等)也各不相同,需要随时调节。电解抛光对于样品尺寸有较多限制,面积 较大时,各处电流不均匀,使样品表面凹凸不平。电解液多为腐蚀性、易挥发的 酸等化学试剂,一方面危害操作者的健康、污染环境;另一方面,环境温度较高时,挥发性物质置于密闭容器中,易于引发爆炸等事故。对于多相材料来说,不 同相在电解液中的腐蚀速率各不相同,容易引起材料表面不平整,做 EBSD 检测 时会引起信号遮挡,损失有价值的信息等,比如硬质合金。 聚焦离子束是利用高电流密度的镓离子束对样品进行侵蚀、减薄,虽然其进 行精确逐层切割,但是镓离子较重,轰击到样品上容易产生较厚的非晶层,尤其 对于易于相变的材料,镓离子轰击容易使其表面发生相变,生成第二相,使实验 数据产生偏差,比如 WC-Co 硬质合金,使用镓离子轰击时,Co 相从面心立方 结构转变为密排六方结构。FIB 测试区域非常小,耗时非常长,不利于观察,同 时其价格非常昂贵。且对于铝、镁等 FIB 易造成其表面污染,所以不适合对其应用FIB 切割。 氩离子抛光是利用高电流密度的氩离子束对样品进行减薄,氩离子相对镓离 子来说非常轻,产生的应力层、非晶层非常薄,可以避免由于制样方法对实验数 据产生的误导,同时由于晶格畸变较小,可以提高 EBSD 的标定率,降低标定参 数,从而有效提高标定效率,节约时间。通过调节不同电压、电子枪的位置及倾 斜角,可以有效控制抛光时间及抛光区域。氩离子抛光设备,具有截面及横面两种抛光模式,其最低可以使用 1ev 的电压对样品进行抛光,产生的非晶层非常薄为纳米级。进行抛光时,可以首先 利用高电压将应力层去除,再利用低电压将非晶层减薄、修整表面,整个过程所 用时间非常短。对于易于发热的样品,可以通过液氮实时控制样品室温度,一方 面可以避免样品发热对实验数据产生的影响,另一方面可以极大提高样品的 EBSD 标定率。同时配备的交换舱,不必等到液氮全都挥发后更换样品,可以极大缩短更换样品的时间。氩离子抛光对于晶粒特别细小、多相材料及极易氧化材 料做 EBSD 检测时的样品制备具有极大的优势。如下图所示为钛合金 800℃热压 所得样品,经过 3 种不同抛光方法,在相同参数下(step size=0.3um)所得 EBSD 图像的对比图,且未经过降噪处理,其标定率依次为 22%、53%、90%, 从图中 1 可以清晰看出,机械抛光虽然二次电子像非常平整,但是由于存在较大 的应力,因此所得 EBSD 图像质量非常差;图 2 中可见,由于存在第二相,电解 抛光时,腐蚀速率不一样,因此,二次电子图像,能够清楚看到相界,所得 EBSD 图像虽然比机械抛光要好,但是第二相由于信号遮挡,因此,其标定率较低;图 3 中可看出,图像整体标定率非常高,第二相虽然尺寸相对较小,但是经过氩离 子抛光后,可以得到其准确的取向信息。通过 3 种抛光方法的对比,可以明显看 到氩离子抛光仪在 EBSD 检测方法上的优势。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/11/201611171450_616690_0_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/11/201611171450_616691_0_3.png

  • 样品制备记录

    有没有样品制备记录?这个记录上是有果核的才记录,还是只要是样品都记录,包括蔬菜。

  • 食品样品制备 相关标准

    刚刚搜了一下关于样品制备的国标,找到了GB/T 20195 动物饲料 试样的制备,却没找到跟食品有关的试样制备,请教关于食品制备的相关标准。多谢!

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