三脚抛光器

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。） 产品材质*产品规格*产品价格浸渍增强无纺布抛光布2FC1型,自粘型，200mm 5片/盒7002FC1型,自粘型，250mm 5片/盒9002FC1型,自粘型，300mm 5片/盒1100合成纤维塔夫绸抛光布2TT1型，自粘型，200mm 5片/盒7002TT1型，自粘型，250mm 5片/盒9002TT1型，自粘型，300mm 5片/盒1100超细天然纤维缎编织抛光布2TS3型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS3型,自粘型，230mm 5片/盒7002TS3型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS3型,自粘型，300mm 5片/盒900超细天然纤维绸编织抛光布2TS4型,自粘型，200mm 5片/盒6002TS4型,自粘型，250mm 5片/盒8002TS4型,自粘型，300mm 5片/盒900高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）3SE2型，自粘型，200mm 5片/盒6003SE2型，自粘型，250mm 5片/盒8003SE2型，自粘型，300mm 5片/盒900高耐磨羊毛编织抛光布3TL1型,自粘型，200mm 5片/盒 7003TL1型,自粘型，250mm 5片/盒 9003TL1型,自粘型，300mm 5片/盒 1100短植绒抛光布3FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5003FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7003FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800长植绒抛光布4FV1型,自粘型，200mm 5片/盒5004FV1型,自粘型，230mm 5片/盒6004FV1型,自粘型，250mm 5片/盒7004FV1型,自粘型，300mm 5片/盒800高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）高性能金相专用抛光布盘（背胶型）4MP1型,自粘型，200mm 5片/盒11004MP1型,自粘型，230mm 5片/盒14004MP1型,自粘型，250mm 5片/盒16004MP1型,自粘型，300mm 5片/盒1900 金相制样中试样磨抛工作的目的是去除变形层（深干扰层）露出真实样品并达到光滑平整的观测表面。去除变形层后获得平整光滑无划痕的样品表面叫做样品抛光，通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 抛光布轮也是依据样品硬度来选择的，选择适合的抛光布是用来提高抛光效率，节约制样时间的。（不合适的抛光布也可以最终完成抛光，但是会增加抛光的时间和操作的难度。）抛光过程可以分为初抛和终抛两个过程，初抛会使用浅层强支撑织物来去除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕，获取平整的样品表面，终抛会使用深层软支撑来去除剩下的较浅的细微划痕，达成完美光滑观测面。预抛时底部由硬质磨盘支撑，金刚石悬浮液只能磨薄表面接触损伤层并且会产生新的变形层（深干扰层）预抛时底部由软质织物支撑，金刚石悬浮液在消除表面接触损伤层和变形层时不会产生新的变形层（深干扰层）1.抛光布一旦和磨料配伍是很难清洗干净的，如需更换磨料只能向上匹配，如用过3um可使用6um的磨料，但不能在使用1um的磨料.2.抛光布在使用磨料前需要充分润湿，以便磨料颗粒的分散和与纤维空间的结合。a.使用悬浮液的可以用水充分润湿后，甩去浮水开始滴加悬浮液。b.使用抛光膏和抛光喷雾的可以使用具备乳化和悬浮活性的专用润滑稀释液702型（水敏感的使用704型）来润湿，先喷抛光喷雾或者涂抛光膏再喷稀释液润湿。3.抛光布是可以短期内重复使用的，在二次使用前，使用专用润滑稀释液来润湿，可以有效唤醒织物中沉积的磨料重新发挥作用。4.抛光布经过多次使用后会有样品碎屑残留，是需要清洗的，清洗的方法是使用通用复合清洁剂742型或者使用的悬浮液布面用清水，使用抛光膏的用酒精，低转速配合塑料刮片由中心向边缘清洁。

金相抛光布是金相制抛光工序最重要的一步，其金相组织呈现的清晰度与抛光息息相关，抛光质量的好坏与抛光布也有紧密的关系。金相抛光布规格有φ200mm；φ220mm；φ230mm；φ250mm及其它定制规格；带背胶或不带背胶。金相抛光布规格有：帆布、平绒、丝绒、真丝、丝绸、呢绒、法兰绒、精抛绒等。

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。抛光布Akasel的抛光布适用于金属和其他材料的抛光，是我司在丹麦的工厂专门开发和生产的，因此，我们可以保证每块抛光布的均匀性和质量。这也意味着，除了标准尺寸外，我们还可以根据要求提供任何尺寸或直径的Aka抛光布，最大可达1250 mm。Akasel的抛光布（Aka-）具有以下优点：布纤维与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起，可保护布料免于磨损，并确保金刚石与样品表面保持良好接触，从而以最低的成本完成快速制备。低粘性的胶将抛光布牢牢地保持在盘上，同时易于清除，且不会在制备盘上留下任何残留物用于磁性支持盘的Mag磁性抛光布与上述抛光布相同，但层压在钢盘上。这些钢制圆盘配有3个卡口，便于拆卸。我们的抛光布种类繁多，涵盖金刚石抛光、最终金刚石抛光和氧化物抛光，可为所有材料实现出色的制备效果。Plaran是一种编织尼龙cloth，可用于软质材料的精细研磨和硬质材料的抛光。建议与15-3 μm的金刚石悬浮液一起使用。Paran-S是一种无纺涤纶cloth，可用于软质材料的精细研磨和抛光硬质材料。建议与15 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。丝绸是一种100%编织的丝绸抛光布，可用于黑色金属的精细研磨以及抛光，包括对较硬材料和涂层的最终抛光和氧化物抛光。建议与9 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Ramda是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Daran硬。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Daran是一种醋酸编织cloth，可用于所有材料的抛光。它比Ramda柔软，也可用于氧化物抛光。建议与6 – 0.25 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran-U是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光和最终抛光。建议与6 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Moran是一种100%羊毛编织布，可用于有色金属和黑色金属的抛光。建议与6 – 3 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Plural是一种植绒粘布，可快速地一步抛光钢铁、烧结碳化物和其他硬质材料。它还可以用于抛光未经镶嵌的样品。建议与3 – 1 μm的金刚石悬浮液一起使用。Napal是一种植绒粘布，可对所有材料进行最终抛光，包括氧化物抛光。建议与1 – 0.025 μm的金刚石悬浮液一起使用。 Chemal是一种合成泡沫布，与氧化物悬浮液一起，用于对所有材料进行化学/机械最终抛光。 常见问题解答：如何清除制备盘上抛光布的胶水残留物？我们的Aka-polishing cloths配有低粘性胶水，不会在制备盘上留下任何残留物如果抛光布脏了，可以清洗吗？如果您在抛光后遇到划痕，而这在实际的步骤中并不常见，那么这可能是抛光布被某些外来颗粒或较早之前的步骤中遗留的磨料颗粒污染的迹象。对于非常细的颗粒（1 μm或更细），清洗抛光cloth几乎是不可能的，但是对于较粗的颗粒（3 μm），则应该是可行的。您可以利用指甲刷或类似工具，在流动的温水下仔细刷洗抛光布，将所有碎屑清除掉。清洗后，利用机器旋转甩干抛光cloth。当抛光cloth完全干燥后，您可以再次使用它，将它视为新布，并进行所有的涂底处理。如果污染物来自较早的制备步骤，则必须确保样品在从一个步骤到下一个步骤时是绝对干净的。您还需要确保样品已正确镶嵌（使用冷镶嵌环氧树脂），以免碎屑夹在树脂和样品之间的镶嵌间隙中。

胶状二氧化硅悬浮液，非结晶0.02微米的胶状二氧化硅的配方用于SEM / TEM分析，可满足超细表面光洁度的要求。它是非结晶的，PH值为9.8。0.05微米的胶状二氧化硅的配方可满足多种材料的最后抛光优秀光洁度的要求，特别是有色金属，印刷电路板和集成电路。它是非结晶的，PH值为9.8。 编号产品描述180-400150.02 um, 16盎司(480 mL)180-400100.02 um, 32盎司(950 mL)180-400000.02 um, 128盎司(3.8 L)180-200150.05 um, 16盎司(480 mL)180-20010 0.05 um, 32盎司(950 mL)180-200000.05 um, 128盎司(3.8 L) 胶状二氧化硅悬浮液，不粘/可冲洗配方可用于大多数材料的最后抛光的悬浮液，该pH值为10的专有配方的特点是即使它干了以后也非常容易从样品和设备进行清洗。干燥的较慢，使它成为需要长时间抛光如EBSD的理想选择。与化学溶剂混合可能会使pH值改变以提高显微结构的对比度。 编号产品描述180-250150.04 um, 16盎司(480 mL)180-250100.04 um, 32盎司(950 mL)180-250000.04 um, 128盎司(3.8 L) 胶状二氧化硅/氧化铝悬浮液 独特的胶状二氧化硅和氧化铝的混合物，pH值为8.5。与单独胶状二氧化硅相比，添加伽马氧化铝可以提高机械抛光性能。用于黑色金属和有色金属、金属基复合材料和各种非金属材料的最后抛光 编号产品描述180-700150.05 um, 16盎司(480 mL)180-700100.05 um, 32盎司(950 mL)180-700000.05 um, 128盎司(3.8 L) 胶状氧化铝悬浮液pH值为3.5的酸性氧化铝悬浮液用于抛光有色金属和陶瓷。不会堵塞的配方使它很容易通过自动输配液系统，可以用去离子水稀疏到3∶1 编号产品描述180-300000.05 um, 128盎司(3.8 L)180-300100.05 um, 32盎司(950 mL)180-300150.05 um, 16盎司(480 mL) 180-800000.03 um, 128盎司(3.8 L)180-800100.03 um, 32盎司(950 mL)180-800150.03 um, 16盎司(480 mL)

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

氧化铝磨料系列（抛光用品）一、氧化铝粉（Alumina powder）EMS公司生产的氧化铝粉严格控制粒度分布和质量，确保用户得到最好的抛光效果。现有三种粒度供用户选择：0.05um、0.3um、1.0um。 应用领域：精密光学；金相断面抛光；光学晶体；硅片；铁矿石；宝石；丙烯酸有机玻璃透镜 氧化铝粉有改良型和未改良型之分，货号分别是50361和50360。货号产品名称规格50360-01Type N, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50360-05Type N, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50360-10Type N, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅50361-01Type DX, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50361-05Type DX, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50361-10Type DX, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅 二、氧化铝膏（Alumina slurry）氧化铝的水悬浮液，没有添加任何粘性物质。货号产品名称规格50368-10Alumina Slurry, 0.05μm6 oz.50368-20Alumina Slurry, 0.3μm6 oz.50368-30Alumina Slurry, 1μm6 oz. 三、氧化铝抛光粉（Aluminum Oxide Powder - Al2O3 ）货号产品名称规格50362-03Aluminum Oxide Powder, 3.0μm1磅50362-05Aluminum Oxide Powder, 5.0μm1磅50362-09Aluminum Oxide Powder, 9.0μm1磅50362-15Aluminum Oxide Powder, 15.0μm1磅 四、胶体氧化铝（colloidal Alumina）作为酸性的胶体，胶体氧化铝在研磨中具有化学和机械的双重功效。锗、硅、砷化镓、硫化锌、氟化物、蓝宝石、铁酸盐、碳化硅等物质的表面均可以得到很好的抛光效果。也可以用于镍、钨、铜、钢铁、铝等金属的低光泽度加工。另外，此通用型的胶体氧化铝还可用于环氧树脂和塑料的抛光。胶体特性：PH3-3.5，固体20％，粘性，摇溶性的应用：根据需要，可以打开即用，也可以稀释后使用。稀释用去离子水即可，稀释比例为1：1或者更高。 产品选购：货号产品名称规格50365-05Colloidal Alumina胶体氧化铝0.473L 货号产品名称规格91045Carbon String 碳绳1m91046Carbon Cord 碳绳 （主要配套250，450机型）1m91046-SPCarbon Cord 碳绳 20m

ALLIED抛光布（Polishing cloths） 美国Allied High Tech公司生产的系列抛光布分为三种类型，分别为编织布、无纺布和植绒抛光布，可用于所有材料的精细或粗研磨、半成品和成品的抛光。提供标准研磨盘上使用粘性背胶抛光布。1.编织抛光布（woven polishing cloths）:具有低应压力的特点，施加有效的压力即可达到最大化的材料去除率和平面度。交叉式的编织方法是精细或粗研磨、半成品抛光的理想选择.常用到的是Nylon编织抛光布，与15-3um金刚石配合使用，对于大部分材料抛光都能够达到良好的平整度和边缘保持性。2.无纺抛光布（non-woven polishing cloths）:对于柔软的表面也具有低应压力的特点，更适合软的非金属、铁合金和高分子材料/塑胶的半成品和成品抛光。常用到的是Kempad无纺抛光布，与9-1微米的金刚石配合使用，提供良好的去除率和平整度。3.植绒抛光布（napped (flocked) polishing cloths）:用不同长度的纤维和刚性布料制作而成，像植绒的“刷子”一样对成品进行抛光清理以及对半成品和粗抛样品的划痕进行清除抛光。Glenco植绒抛光布，硬绒合成人造纤维，与3-1微米金刚石或氧化铝配合，可以提供卓越的中间或最终抛光效果，尤其用于抛光软性金属和材料。Spec-Cloth植绒抛光布，柔软的中绒合成纤维，与1-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，可用于各种材料的普通抛光。Final B植绒抛光布，柔软的低绒人造纤维，与3-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，提供卓越的完成度和平整度，尤其是坚硬材料、含铁材料和玻璃货号产品名称规格50314-05Nylon编织抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50310-05Kempad无纺抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50318-05Glenco植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50320-05Spec-Cloth植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50344-05Final B植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张 价格仅供参考，详情请致电010-52571502

专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳，抛光布质地结实、外表美观大方，结实耐用，适用于各种岩石薄片制备时使用，一包10张，各种尺寸抛光布：分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

美国QMAXIS磨盘更换系统原装进口美国QMAXIS磨盘更换系统，包括铝盘、磁性盘、铁盘、特氟龙特盘、橡胶盘和砂纸卡箍，选择多样，组合灵活，可快速更换不同的研磨、抛光材料，省时、省力。订货信息：类型产品描述包装规格产品编号8in[203mm]10in[254mm]12in [305mm] Aluminum Platen 铝盘 工作铝盘，用于粘贴磁性 盘；不带背胶的砂纸用砂 纸卡箍直接固定在铝盘上1个/包GPA-08GPA-10GPA-12 MagDisc 磁性盘 带背胶，用于吸附铁盘、 特氟龙铁盘或橡胶盘， 也可以直接吸附带磁性背 衬的金刚石磨盘或抛光布1片/包GPM-08GPM-10GPM-12 MetDisc 铁盘 标准金属盘，用于粘贴带 背胶的金刚石磨盘、砂纸 或抛光布5片/包GPI-08GPI-10GPI-12 TefDisc 特氟龙铁盘 带特氟龙不粘涂层，易于 粘贴和移除带背胶的金刚 石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPT-08GPT-10GPT-12 RubberDisc 橡胶盘 磁性/带背胶，与磁性盘配 合使用，用于粘贴不带背 胶的砂纸。替代金属盘， 弥补金属盘盘面易变形、 盘边易出现凸凹或毛刺等 缺陷。防腐、耐用，更经 济5片/包GPR-08GPR-10GPR-12 PaperBand 砂纸卡箍 用于固定不带背胶的砂纸个GPB-08GPB-10GPB-12

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

美国QMAXIS氧化铝/硅/铈精细抛光悬浮液原装进口美国QMAXIS金相精细抛光用氧化物抛光悬浮液，纯度高，分散均匀，稳定性好，与高品质的抛光布配合使用，去除材料的变形层，从而精致地再现材料微观结构。AluminaPrep 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶、热解SilicaPrep 氧化硅抛光悬浮液 胶体Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体 AluminaPrep I 氧化铝抛光悬浮液 溶胶-凝胶溶胶-凝胶氧化铝抛光悬浮液，pH值8.5，适用于矿物、黑色金属、低熔点合金、碳化物、印刷电路板、贵金属和电子元器件等材料的精细抛光订货信息：颜色/pH粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L]白色0.05µ mPA-005-006PA-005-032PA-005-064AluminaPrep II 氧化铝抛光悬浮液 团聚团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAA-005-006PAA-005-032白色0.3μmPAA-03-006PAA-03-032白色1μmPAA-1-006PAA-1-032AluminaPrep III 氧化铝抛光悬浮液 非团聚非团聚的氧化铝抛光悬浮液，中性，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]白色0.05µ mPAD-005-006PAD-005-032白色0.3μmPAD-03-006PAD-03-032白色1μmPAD-1-006PAD-1-032AluminaDia 氧化铝抛光悬浮液 胶体氧化铝+多晶金刚石高效率+无划痕表面的精密光学材料专用抛光液，水基的α氧化铝与多晶金刚石混合抛光液，适用于氟化钙、硫化锌、硒化锌、蓝宝石、碳化钨、单晶硅、陶瓷、热压烧结碳化硅等材料的精细抛光订货信息：名称pH值粒径32oz [950ml]1gal [3.8Ll]AluminaDia8.50.1µ mPAP-01-032PAP-01-128 SilicaPrep 二氧化硅抛光悬浮液 胶体二氧化硅抛光悬浮液，pH值9.5，适用于化学/机械抛光，特别适合金属、矿物、陶瓷、玻璃、宝石、半导体、微电子和聚合物等材料的精细抛光订货信息：颜色粒径6oz [180ml]32oz [950ml]64oz [1.9L] SilicaPrep I白色0.02µ mPS-002-006PS-002-032PS-002-064 SilicaPrep II蓝色0.05µ mPS-005-006PS-005-032PS-005-064 SilicaPrep III白色0.06µ mPS-006-006PS-006-032PS-006-064Al-SiPrep 硅铝混合抛光悬浮液 硅-铝氧化铝和硅胶混合抛光悬浮液，pH值9，适用于化学/机械抛光，协同具有二氧化硅的化学抛光作用和氧化铝的机械抛光作用，特别适合钢铁、铝合金和电子材料等的精细抛光订货信息： 颜色粒径32oz [950ml]蓝色0.05µ mPAS-005-032CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液 胶体CeriumPrep 氧化铈抛光悬浮液，适用于半导体、集成电路、光学镜片、光纤连接器、玻璃陶瓷基板和晶体表面等材料的精细抛光订货信息：名称pH值粒径固体含量（%）32oz [950ml]64oz [1.9L]CeriumPrep I9.71.15µ m15PC-1.15-032PC-1.15-128CeriumPrep II 8.50.95μm10PC-0.95-032PC-0.95-128CeriumPrep III8.51.05μm10PC-1.05-032PC-1.05-128 CeriumUltra8.00.75μm20PC-0.75-032PC-0.75-128CeriumFinish8.20.4μm45PC-0.40-032 PC-0.40-128

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格用量计量型抛光膏德国古莎6MMe 10g/支900用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支800用量计量型抛光膏德国古莎3MMe 10g/支700用量计量型抛光膏德国古莎1/4MMe 10g/支600 对于水敏感材质的高效抛光，抛光膏是一个常见选择，根据对水接触的控制要求可以使用702型或者704型润滑冷却剂配套使用。 122型抛光膏可适配全品类预抛光盘和抛光布，磨料含量高，亦分散，好计量，易清洗。 M型用量计量型抛光膏规格颜色粒度原料：单晶高效型金刚石磨料9-122型红色膏体9μm适合高硬度和超高硬度样品材质的试样的预抛光和初抛6-122型黄色膏体6μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的预抛光和初抛3-122型绿色膏体3μm适合需要完美保边和保存夹杂物的制样要求，达成优秀的平整表面的初抛1-122型蓝色膏体1μm适合硬度高难平整或者有韧性特点的样品材质试样的最终抛光0.25-122型灰色膏体0.25μm适用于中硬度的最终抛光

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

Akasel是一家丹麦公司，专门从事开发、生产和销售高质量的金相耗材以及最佳的金相制备方法。 凭借创始人Morten Damgaard在金相学方面的专业知识和实践经验，再加上对可持续性创新解决方案的不懈追求，不断努力，推进金相耗材的开发，提高金相样品制备的效果，创造易于执行的制备方法。经过多年的发展，这个在车库里迈出第一步的公司现在已经成功地将高品质的金相耗材以及高效的制备方法传播到全世界。 如果您为目前样品制备过程的繁琐所累，请联系我们，我们的技术专家将免费为您进行制备流程优化。金刚石抛光膏多晶和单晶金刚石；15 μm至0.25 μm 金刚石抛光膏主要用于手工样品制备，或在使用金刚石悬浮液和金刚石喷雾之前打底新的抛光布。Aka-Paste多晶和Aka-Paste单晶金刚石抛光膏易于分配，均匀且与水、油、甘油和酒精相容。它们最多含0.1%的水，非常适合水敏感材料的制备。可帮助您以最短时间完成样品制备。所有的Akasel diamond polishing pastes均为高度浓缩产品，其金刚石含量为500 ct/l（克拉/升）。常见问题解答：金刚石抛光膏只能用于金相制备吗？我们的金刚石抛光膏具有很高的金刚石浓度以及高粘度，所以它也非常适合用于其他工业用途，例如精密工具零件的研磨或抛光等。在抛光布上涂抹金刚石抛光膏的最佳方法是什么?使用注射器在直径为300 mm的盘片上分大概10个点涂抹少量的约5 mm长的金刚石抛光膏，盘片较小的则少涂一些。使用少许润滑剂，将金刚石抛光膏擦入布中。涂完就可以投入使用了。什么时候使用金刚石抛光膏会更有优势？当需要尽可能高的金刚石浓度时，便可以选用金刚石抛光膏。

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的最后精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的最后精抛。技术参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2、W3、W5、W7、W9、W14、W20、W28、W40、W602、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

晶体抛光工具包起雾的窗片可通过红外光谱晶体抛光工具包而快速复原。该工具包可提供用于对氯化钠、溴化钾或碘化铯窗片进行重新抛光所需的各种部件，具体包括1个磨光盘、抛光用红铁粉、1块海绵、1个光学平整器、1块Selvyt布和1本用来说明再抛光步骤的小册子。晶体抛光工具包订货信息：产品描述部件编号晶体抛光工具包51001188晶体抛光工具包的替换部件产品描述部件编号Selvyt布（5件装）51001324玻璃磨盘51001325光学抛光器51001326清洁海绵（2块装）51001327装在锡罐中的抛光用红铁粉（56 g）51001328抛光器的玻璃板51001329

磨光用抛光布：与金刚石悬浮液配合使用、材料去除率高、边缘保护好。 抛光用抛光布：与氧化物悬浮液配合使用，无材料去除、表面应力划痕去除。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。