在使用指定的灯箱 LV-LH50PC 时，通过操作位于显微镜左侧的落射／透射选择开关可在落射照明与透射照明之间选择照明光路。每次您推动该开关，照明即切换，同时所选照明的指示器开启。金相显微镜光控制 在将指定的灯箱 LV-LH50PC 用作光源时，用落射／透射选择开关选择的照明光可通过旋转亮度控制手轮进行控制。* 在使用外部光源时，亮度通过外部光源或显微镜上的 ND 滤光片进行控制。金相显微镜开启／关闭灯具 照明可通过亮度控制手轮来开启／关闭。在使用指定灯箱 LV-LH50PC 的情况下，将亮度控制手轮旋转到远侧（逆时针方向）并设置在 OFF 位置时，用落射／透射选择开关选择的卤素灯将关闭。金相显微镜电源指示器 电源指示器的颜色随卤素灯的状态而变化。当卤素灯亮起时，它为绿色。当亮度控制手轮设置在 OFF 位置时，它则为橙色。
请问国内哪里有锐影的XRD带五轴样品台可以进行掠入射角测试薄膜的？不胜感激
请问各位老师，xrd中x射线的入射方向与其入射深度有什么关系吗？比如平行光，掠入射方式。自己制备的薄膜厚度较薄，用max 2500普通方式测量可能由于衍射强度不够而导致出来的是大包峰（可能是石英基底的峰）但是用smartlab可以测出特征峰，是不是入射方式不同的缘故呢？
各位高手，帮忙看下这个问题。简单介绍：主要用来测量镀膜后玻璃的透射率等参数，因为折射的问题，需要在测量的时候给入射光线一个入射角，一般为14°。背景描述：因为有两台机器，所以做了个比对，比对点是50%的谱线是什么（入射角用软件设定为14°）。发现对于同一块玻璃（同位置），一个测出来是510nm,一个测出来是530nm。相差好多。所以怀疑是不是其中一台的0位入射角不为0.（可以保证的是，软件设定转14°，机器就转14°）问题描述：为了确定初始的入射角是否为0（即垂直入射），选用一块紫玻璃，在入射角为14°是，进行扫描。然后入射角转为-14°，再次进行扫描。理论上两次扫描的结果应该是一样的，但是结果如附件。虽然在光谱位置基本一致，但是在400~500nm透射率又差了好多。结果就不知道怎么办了。 请教哪位达人能给个正解。P.S. 理论上14°和-14°入射角的透过应该是一样的。（这句话对吧？）P.P.S 后来我有一个角度一个角度的对，结果发现在7°和-7°的时候，两次扫描谱线完全一致。唉真的要崩溃了[em53] [em53] [img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2007/06/200706221700_55859_1624235_3.jpg[/img]
用理学Smartlab做掠入射，有一个多功能样品台，安装好后，软件不知道如何具体操作，有没有大牛有具体的操作步骤，望赐教。还有，测试的时候，模式是选择 2theta/omiga还是什么模式，入射角在哪里设置？如能帮小弟解决，以后测试可帮忙～
不知道那位高人对掠入射衍射分析精通，请指点一下那里的掠入射衍射做的比较好？掠入射衍射要怎么分析呢？如果样品的择优取向比较严重的话，只有个别的衍射峰怎么分析？
请教高人：我做了几个X射线小角度掠入射测基体的物相，但是不知道X射线打入基体的深度是多少。请问有公式或者方法来计算吗？
最近刚刚学习测量样品的反射率，很多问题不明白。样品1是铝，样品2是带有氧化膜的铝，在岛津的资料上看到反射率受到入射角影响。积分球的入射角是固定的，反射附件倒是有不同的入射角可以选择，但是不知道应该选什么角度。请问通常的入射角是如何选择的，对于两种样品有什么区别么？另外了解到测镜反射率的标样就是铝镜，请问铝镜是怎样选择入射角的，全角度都可以么？图中就是反射率-入射角关系，这幅图的原文是说有些入射角需要加偏光元件。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/04/201304181656_436020_2714985_3.jpg
在色散系统中，大家一般都只关注入射狭缝、光栅和出射狭缝其实光路中还有入射折射片和出射折射片，其位置见下图中斯派克M9空气光室的图入射折射片与出射折射片的材料是什么，其有何作用？欢迎各位讨论http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/02/201102191635_278467_1604883_3.jpg
http://www.kepu.net.cn/gb/earth/weather/light/images/lgt00101_pic.jpg 当光线以一定的角度投射在物体表面时，它会以与入射角大小相同的角度被反弹出来。如图4-24所示，光线以入射角“a”投射到物体表面，在以角度“b”由表面反弹出去，而角度“a”等于角度“b”这就是光的反射。
直读光谱的入射狭缝和出射狭缝的宽度是多少？ARL 直读光谱的参数如下：Primary slit 入射狭缝：20μm；Secondary slit 出射狭缝：25μm、 37.5μm、50μm 或75μm；其他直读光谱入射狭缝和出射狭缝的参数有谁知道？
这是一个系列贴火花直读光谱仪属于原子发射光谱仪的一种，通过检被测元素的激发态原子最外层电子跃迁所发射的特征谱线进行定性和定量分析。作为光学检测仪器，光源的重要性不言而喻。光路设计如何能做到将光最大程度的传输到分光系统也至关重要。对于火花直读光谱而言，从电极处激发出的光至光栅前的光路我们称之为入射光路，下面我就美国埃米V-950光谱仪入射光路的设计选择有独到之处的介绍3点。一、入射快门（ENTRNCE SHUTER）火花直读光谱仪激发过程通常分为3段：氩气冲洗，预燃，积分。预燃时间能量较高，这个阶段发出的光很强，光中的紫外光对后面光路的光学镜片有很强的烧蚀。时间久了会在镜片表面形成光斑，严重减弱传入到分光系统的光强。而且预燃期间的光是没有作用的，不作为采集信号。因此在入射光路的入射快门（ENTRNCE SHUTER）见图一，是很好的设计，在氩气冲洗和预燃时间，快门是关闭的，到积分时间快门才打开。能有效的减少光学镜片的烧蚀，保障入射光的传输，有效延长光学镜片的寿命，减少光损失，减少入射透镜的清洗频率。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/03/201603041033_585967_3057315_3.jpg图一、美国埃米V-950激发台一、插拔式入射窗口(ENTRANCEWINDOW)插拔式入射窗口（见图一）设计很巧妙的做到2点，其一、拆卸清洗透镜非常方便；其二、不会泄漏真空，不会污染光室。插拔式的设计使透镜的清理变得非常简便，不需要专业工程师，不需要防真空，操作员即可依据仪器状态定期对透镜进行清洗。同时透镜夹起到隔绝空气作用，不用等待抽真空，大大减少了仪器维护所需时间。透镜清理完，光谱仪立即就可以使用。二、精密描迹组件(PROFILEMECHANISM)V-950的描迹系统（见图二）使用精密轴直接推动狭缝设计，不使用多余的折射镜，最大限度减少光损失。美国埃米的精细工艺能确保描迹的精度达到0.1A。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/03/201603041033_585968_3057315_3.jpg 美国埃米V-950光谱仪是埃米公司（Angstrom Inc.）经50多年技术积淀研制的高端光谱仪，精益求精的制造理念体现在每一个元件。一台好的光谱仪，是可以用30年依然精准的还请大家多多指教~
小角掠入射检测是不是需要在入射线的光路上安装一个附件？
各位前辈，请教分光光度计测量斜入射的问题。之前使用SolidSpe3700积分球只能测量0°和8°斜入射的漫反射率。其他角度只能用可变角测量镜面反射率。请问哪里能做大角度的漫反射测量，需要配合积分球。我们是做光学系统的消杂散光材料，反射率不高，但还是要表征不同入射角的漫反射率。(如有仪器 推荐 0Q 1263455019 有偿)
请问各位专家，如何实现对不同入射角时反射率的测量？主要是如何改变入射角？
做了氧化锌单晶0.3,0.8,2.5,3.0度的掠角入射XRD，主要是为了同处理后的氧化锌薄膜做比较，发现单晶掠角入射XRD的图谱非常奇怪，百思不得其解，求助牛人解答1。为什么掠入射角逐渐增大，氧化锌单晶的峰的位置向高角度方向移动？2。为什么掠入射角小的时候，氧化锌单晶的峰分裂成几个峰；入射角大的时候，如3.0，峰就变得比较规整了？[~71980~]
朋友们，我现在有一种膜，可以选择一定角度的入射角透过，而其他角度全部反射，我不知道这种膜怎么设计，另外我想测试一下，同一波长，列如850nm波长，测试其60-80角度的通过率反射率，该用啥仪器来测试来，用知道的朋友告知一声，比较急，谢谢了在此
最近在一本书上看到“光谱仪上使用的入射狭缝是固定的直缝，但也有使用弯缝的，所谓弯缝就是两刀口不是直的，而是弯的（一般为圆弧弯形），用于补偿由光栅产生的谱线弯曲和光栅的像散。”在我的印象中直读光谱仪的入射狭缝一般都是使用直的，不知道目前市场上有没有哪家仪器的入射狭缝是弯缝的对于使用直缝的仪器，由光栅产生的谱线弯曲和光栅的像散对仪器的性能有多大的影响呢？欢迎各位高手讨论！
请教大家 关于稳态荧光的问题，入射激发光的功率是否可调？范围大概在多少？谢谢！
ICP6300光谱仪，P强度降低，清理了入射狭缝，所有元素强度降低10倍，入射狭缝怎么清理，能清理吗？
直读光谱中 光路为：入射狭缝--入射折射片--光栅--出射折射片--出射狭缝--光电倍增管（对于PMT位置重叠时还可能需要在PMT前加一个反射镜）入射狭缝的作用：描迹就是通过调整入射折射片的角度位置来校正狭缝的偏移出射折射片的作用：由于斯派克M9的出射狭缝是死缝（缝的位置是通过理论计算后整体定位的，位置不可改变），因此在实际的装配中，可能出现机械误差（如：光栅进光入射角的偏差，光栅本身球面误差等等），这些机械误差可能会造成实际谱线偏离理论位置，而做好的出射狭缝无法调节位置，因此用折射板把谱线从偏离位置上折射到出射狭缝上。此外，提到的PMT位置重叠的时候加反射镜，也是由于光电倍增管本身的体积决定，两个光电倍增管很难放置在如此小的空间之内，因此需要放置小反射镜将其中谱线反射到其他有空间的位置，在那个位置放置此通道的光电倍增管。光路当中，这些折射板，反射镜都不是随便增加的，因为光信号每一次的透射和反射都会造成一定比例的光损耗，因此需要慎重处理。
前不久，看到一篇文章介绍，说在分分光度计中：入射光= 吸收光+出射光+比色池的折射光我的疑问：这个折射光存在吗？如果存在是符合上述公式吗？
怎么通过TEM图片知道入射方向？
膜层的厚度是1微米，大家帮分析一下是否还有必要再做一个角度稍大些的掠入射呢？已经做过普通的xrd，由于衬底的信息非常强，很难分清膜层和衬底的信息。图为掠入射角为1°的xrd谱图。膜层为氧化铝。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/10/201010090911_250167_1818490_3.jpg
能从下列SAED花样看出入射束的方向吗？入射束方向是不是晶带轴？（这是镁合金长周期方面的）求指教http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/04/201204041406_359045_2486284_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/04/201204041408_359046_2486284_3.jpg
大家都知道，功率提高可能导致形成双电核，致使分子结果偏低。问题如上，比方说入射射频功率为1550W，对应多大电离能呢？或者说，能使多大电离能的元素电离呢？谢谢大家啦
XRD掠入射衍射是分析薄膜表面结构的极为有效的放发，可以对薄膜进行深度分层分析，其参与散射的晶面接近垂直于薄膜表面。采用位敏探测器，可以在固定的入射角度同时记录散射强度随出射角的变化，等同于晶体截断杆扫描，扫描时晶体绕平行于表面法向的轴转动，因而可以记录在不同Qz处QxQy面内的散射强度分布。那么可不可以采用掠入射衍射方法表征垂直于薄膜便面的结构呢？比如说一个1-3型的薄膜样品，一相以柱状结构embedded in另外一相的matrix中。可不可以这样：扫描不同Qz层的强度分布，如果每层的分布强度一样或者接近，则可认为存在这样1-3型的柱状结构？
请问在衍射花样标定时，电子束入射方向[uvw][uvw]=[-2 2 -1]与[2 -2 1]是不是等价另外我在对面心结构标定的时候，其中hkl=【1 -3 -1】 【3 1 1】和【4 -2 0】我发现我按照：u=k1l2-k2l1； V=l1h2-l2h1； w=h1k2-h2k1方法我求出来的[uvw]=【1 2 - 5】，而我查《金属物理研究方法》附录7的时候发现【uvw】的值全为正值，请指点一下我是不是错了
红外吸收光谱中出现了别的光谱条纹，分析应该是干涉条纹，然后我们将产生条纹的器具倾斜后条纹消失，有的论文上解释是入射角变大投射干涉光强变小。有没有具体书籍或者相关理论讲解呢？我觉得和我看到的理论有些出入
记得一次不知从那篇文章还是讲义里看到有一个好像是日本人做的单晶硅的沿多个方向入射的电子衍射花样图，依稀记得好像各带轴的衍射图像呈扇形排列，看着很漂亮。就是一时找不到了，不知道哪位仁兄手头有现成的，发出来让我瞅瞅，谢谢了！[em0909]
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