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研磨抛光机

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研磨抛光机相关的资讯

  • 普锐斯发布PRESI普锐斯-自动研磨抛光机-MECATECH 250 SPI新品
    设备型号:MECATECH 250 SPI设备名称:自动研磨抛光机 设备简介: 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数: 1)底盘: 电机功率:750 瓦。 底盘转速:20-700 转/分钟。 底盘转向:顺时针或逆时针。 扭矩补尝:变频电机自动补偿。 工作盘尺寸:200-250 毫米。 工作模式:研发模式(R&D) – 所有参数可调; 程序模式(Program) – 只允许按预定参数工作。 2)自动工作头: 结构:齿轮箱传动。 电机功率:180 瓦。 工作头转速:20-150 转/分钟。 工作头转向:顺时针或逆时针。 压力模式:单点力。 样品数量:单点力时1-4个。 样品压力:1-200牛,设备启停时自动减小。 自动给液:200毫升蠕动泵滴液器2只,流量流速可控。 功能特点:1.电机变频器,充分保证转速/扭矩恒定,满足对大尺寸/高硬度样品的制备。2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。3.分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。研发模式与程序模式可供选择:A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。4.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器,可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率;另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本。5.底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入;附带防溅环;结构简单,方便维修。6.可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养。7.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。8.磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存。9.自动工作头180度旋转,方便内侧样品装夹。10.安全装置:一侧紧急停车按钮;工作状态时,工作头自动位置锁定;全面符合安全标准。创新点:全新设计外观,运行时更加稳定。大功率变频马达给工作头和工作盘充足动力PRESI普锐斯-自动研磨抛光机-MECATECH 250 SPI
  • 标乐发布AutoMet™ 250 研磨抛光机新品
    AutoMet™ 250 研磨抛光机面向严苛的生产实验室环境的高性能设备AutoMet 研磨抛光机是兼具可靠性、灵活性和易用性的高性能设备。凭借 Pro 型号的智能编程和功能确保用户获得可重复的结果,适用于需要处理大量样品的高要求客户环境。AutoMet 250 研磨抛光机优势制备和清洁过程中可节省时间 直观的薄膜面板控制易于操作。 快速清洁功能包括可伸缩的软水管、一次性碗状内衬和360度冲洗。 D型盘易于更换。选择满足实验室需要的出色方案 无需使用较大的装置时,选择8”和10”尺寸的基座盘可优化砂纸和金刚石成本。先进的编程功能可轻松实现高级的功能【Pro 版】 彩色触摸屏控制增加了多种先进的功能,例如Z轴材料定量去除,以及制备方法存储。 快速切换制备步骤,以便轻松设置流程。 与自动配送系统兼容,可进一步节省成本并获得高度可重复的结果。清洁流程大为简化【Pro 版】 冲洗和旋转功能使您只需按一下按钮即可快速轻松地进行清洁。 伸缩式水管可快捷清洁整个碗型内衬。 碗型内衬可防止盘内区域脏污和碎屑堆积。选择合适的方案,以满足实验室需求【Pro 版】 无需制备较大样品时,选择8”和10”尺寸的磨盘可降低砂纸和金刚石成本。产品规格AutoMet 250 机器电源100-240VAC, 50/60Hz, 单相电机功率1Hp [750W]磨盘直径8in [203mm], 10in [254mm]磨盘转速10-500rpm,调整增量 10rpm磨盘转向顺时针或逆时针供水管外径 0.25in [6mm]供水压力40-100psi [25-60bar]基座耗电量极限1.1kW, 9.6/4.8A @ 115/230VAC基座和动力头耗电量极限1.73kW, 15/7.5A @ 115/230VAC显示面板薄膜面板,显示:3 位 LED 显示, 14 个 LED 状态显示;单位:公制或英制(Pro 版)触摸屏面板,全彩色 LCD 屏 7in [175mm]对角线 防水等级符合 NEMA4 (IP65)基座噪音(在无载荷条件下于 1.5ft [0.5m] 距离处测得)59.5dB @ 100rpm基座与动力头噪音(测得条件同上)61.5dB @ 100/30rpm重量170lbs [77kg]受控标准CE 标志 EC 指令动力头规格AutoMet 250 电机功率0.156Hp [116W]速度30-60rpm,调整增量 10rpm中心力加载5-60 lbs [20-260N]单点力加载1-10 lbs [5-45N]试样尺寸,中心力模式1in, 1.25in, 1.5in, 25mm, 30mm, 40mm 及较大或不规则样品试样尺寸,单点力模式1in, 1.25in, 1.5in, 25mm, 30mm, 40mm压缩空气管外径 0.25in [6mm]压缩空气压力35psi [2.4bar]机器耗电量极限630W, 5.5/2.7A @ 115/230VAC重量70 lbs [32kg]受控标准CE 标志 EC 指令创新点:(1)友好智能化的操作界面; (2)多模式的快速切换,无上限的程序存储功能,程序步骤的自由切换; (3)一键清洗,快速清洁及可更换内衬;(4)Z轴定量磨削模式,内置详细的自动喷液控制系统,真正实现磨抛的自动化操作。AutoMet™ 250 研磨抛光机
  • 上海新昇最终抛光机采购项目,华海清科为中标候选人
    招标平台信息显示,6月17日,上海新昇半导体科技有限公司最终抛光机采购项目评标结果公示。该项目为上海新昇采购1台最终抛光机,中标候选人为华海清科股份有限公司(以下简称:华海清科)。据悉,华海清科是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。6月8日,华海清科在上海证券交易所科创板上市。统计数据显示,上周,华海清科中标华东光电集成器件研究所化学机械抛光系统招标项目2台CMP。
  • 飞纳电镜新搭档——1060 离子研磨抛光仪
    离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气,通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内,通过这种动量转换的方式,氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式,fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具,是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利,是 sem 样品制备完美的工具,正不断用于制备高质量的 sem 样品,满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径,操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面,这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计,这样的设计可以让离子束斑点直径可调,从而离子撞击的时候是直接撞击样品,且只可以撞击样品,同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意,常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展,即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时,样品表面剩余的机械应力损伤,氧化层及残留物层均会被溅出,最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术,可以让 sem 获取更多晶体信息,因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感,任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平,离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中,离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤,这些问题可以通过离子研磨抛光来解决,这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围: 100 ev - 6.0 kev,连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 (仅专业版)样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸:直径 25mm,高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆,从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统:无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm,名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术,实现离子源气流的精密流量控制,含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气;所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏,包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏,包含基本设备功能模块?基于电脑,加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器(选配)辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品;或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统,用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm (宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)专业版107cm*38cm*74cm*51cm (宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)重量73 kg电源100/120/220/240 vac,50/60 hz,720 w
  • 金相样品精细抛光,金相抛光布选配触手可及!
    在材料科学领域,无论教学、科研还是质量控制,金相分析是比较普遍的检测手段之一。随着现代科技的发展,对材料的需求种类越来越丰富,标准越来越高,相应的出现了一些难于制备的材料。这些材料在样品制备过程中,会出现如划痕多、塑变、浮凸、彗星拖尾、倒圆和嵌入等缺陷。这些问题,有些是可以通过合理选配金相抛光布,来解决的。可脉小编将工作中总结的一些经验分享给大家。通常情况下,在粗抛光和中等抛光过程中问题不大,基本上可以将切割产生的变形层,研磨产生的较大划痕去掉,重点是精抛阶段,如果抛光剂和抛光布不匹配,不仅影响抛光剂的性能发挥,可能还会造成抛光剂的浪费。无论从技术和经济效益上都不理想。如何选择精细抛光的金相抛光布呢?请大家看下面的表格,看懂了它,金相样品精细抛光,金相抛光布选配便触手可及!表格所列的这些金相抛光布,均来自美国QMAXIS品牌,应用于精细抛光。由人造纤维编织布、无纺布、植绒布、耐化学腐蚀合成材料等高品质的抛光织物制成,长绒、短绒、无绒等不同编织属性,配合金刚石、氧化铝、氧化硅等3μm及以下的精细抛光液使用。我们一起来看表格,从左至右:首列:应用工艺——精抛,指的就是精细抛光工艺阶段。第2列:产品描述,这一栏,每一种抛光布的材质,编织工艺,能配合的抛光剂种类和粒度,以及适合抛光的材料都做了简明扼要的说明。根据这一栏的说明,就可以给所制备的样品选配恰当的金相抛光布种类了。第3列:背衬,分为带背胶和磁性背衬两种,带背胶的是不干胶,可将塑料膜揭去后,背胶的一面直接贴敷在铁盘上进行应用,磁背衬不同于背胶的特点是粘贴和揭去更方便,更容易更换和清理铁盘表面。这一项可依据个人的习惯来选择。第4列:包装规格,有10片/包、5片/包,依据用量确定购买数量。第5-7列:5列是直径8in(203mm)的抛光布型号,6列是直径10in(254mm)的抛光布型号,7列是直径12in(305mm)的抛光布型号,可依据所使用的金相抛光机的磨盘直径选配合适的型号。美国QMAXIS金相抛光布,用于精细抛光的共有四种材质,按照表格从上到下顺序,依次为人造纤维长绒的,天鹅绒短绒的,软的带长绒的,耐化学腐蚀合成织物的。这些抛光布的特点是质地柔软,不卷边、不掉毛、不染色。根据不同材料、抛光剂种类来合理匹配,就可以分发挥抛光剂的磨削性能,从而获得理想的抛光效果。看懂了表格,明白了这些方法,金相样品精细抛光,金相抛光布选配便触手可及!你学会了吗?如有疑问,欢迎联系可脉检测工程师,获得更详细的解决方案。
  • 乘势而上的国产SiC抛光设备厂商
    在半导体硅片的制造过程中,抛光是一个至关重要的步骤,它使用高速旋转的低弹性材料抛光盘,如人造革或棉布,或低速旋转的软质弹性或粘弹性材料抛光盘,并添加抛光剂以获得光滑的表面。对于碳化硅(SiC)晶片而言,抛光不仅是研磨后的必经阶段,而且对于去除由研磨引起的表面损伤和硬粒至关重要,这些损伤和硬粒可能会在切割过程中导致晶片破损。抛光过程通常分为两个阶段:粗抛和精抛。化学机械抛光(CMP)是精抛阶段中最常使用的技术。粗抛主要针对晶片的双面进行,目的是提高抛光效率,并改善衬底表面的总厚度偏差(TTV)、弯曲度(BOW)和翘曲度(Warp),同时提升表面质量粗糙度(Ra)。CMP则专注于单面抛光,目的是消除碳化硅晶片表面的划痕,实现极高的表面光洁度。作为SiC单晶衬底加工的最后一步,CMP确保最终表面达到超光滑、无缺陷和无损伤的质量标准。随着碳化硅材料在半导体行业的应用日益广泛,对于高质量的SiC晶片的需求也在不断增长。高质量的抛光设备对于确保SiC晶片满足高性能电子器件的要求至关重要。国内SiC抛光设备厂商通过技术创新和工艺改进,已经能够提供与国际标准相媲美的抛光解决方案,这些解决方案不仅提高了生产效率,还确保了晶片的加工质量。本文将介绍国内在SiC抛光设备领域表现突出的厂商,让读者更全面地了解碳化硅材料的加工技术和产业链的发展情况。晶亦精微:深化 CMP 技术在第三代半导体材料领域的应用晶亦精微科技股份有限公司,作为北京烁科精微电子装备有限公司的延续,承载着推动科技成果转化的重要使命。公司自2019年成立以来,就专注于化学机械抛光(CMP)技术的研发与应用,特别是在第三代半导体材料领域的深耕。作为CMP技术的先行者,晶亦精微科技股份有限公司已经成功实现了8英寸CMP设备的境外批量销售,并推出了国内首款具有自主知识产权的8英寸CMP量产设备。此外,公司的12英寸CMP设备在28nm工艺节点的国际主流集成电路生产线上完成了工艺验证,标志着其技术已经达到了国际先进水平。晶亦精微科技股份有限公司紧跟第三代半导体材料的发展趋势,推出了适用于6英寸和8英寸晶圆的CMP设备,这些设备不仅兼容传统的硅材料,还能够满足碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料的抛光需求。这一创新举措,为国内半导体产业的发展提供了强有力的设备支持。公司的6/8英寸CMP设备——Horizon-T,具备全自动干进干出的功能,工艺切换灵活,适用性广泛。该设备特别支持SiC、GaN等第三代半导体材料的平坦化工艺需求,已经在国内实现了批量销售,为半导体制造商提供了高效、可靠的抛光解决方案。众硅科技:聚焦CMP高端设备杭州众硅电子科技有限公司自2018年5月成立以来,专注于高端化学机械平坦化/抛光(CMP)设备及相关产品的开发与制造,其产品线覆盖了从6英寸到12英寸的多种规格尺寸的CMP设备。众硅科技的12英寸高端CMP设备被认定为国内首台(套)产品,技术水平在同类产品中达到国际领先地位。此外,公司研制的8英寸先进CMP设备已获得国际半导体行业的SEMI认证,并在多家知名集成电路制造企业的生产线中得到应用,证明了其设备的可靠性和先进性。针对碳化硅衬底的CMP设备TNTASECMP,是众硅科技的重要创新成果。该设备采用了独特的碳化硅化学机械抛光工艺,区别于传统工艺,它无需使用强氧化剂,提供更为温和的工艺条件,同时保证了出色的抛光效果。TNTASECMP作为全自动CMP设备,省略了封蜡和贴膜的步骤,这不仅提高了去除率和产能,还降低了综合运营成本(COO)。此外,该设备在化学尾液处理上更为简便和环保,符合当下对绿色生产的要求。苏州郝瑞特:从产品制造商向产品服务商转变苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司,前身为国营兰州风雷机械厂,拥有深厚的军工背景,自1969年成立以来,已经走过了超过四十年的发展历程。2010年6月,兰州赫瑞特集团投资转型,将其建设成为一家专注于研发、生产、销售切割、研磨、抛光等专用设备及提供整体解决方案的高科技企业。公司致力于技术创新体系的构建和技术成果的商业化,将科技成果有效转化为市场产品,以此创造客户价值并推动企业的持续发展。凭借四十多年的技术积累,苏州赫瑞特在电子专用设备领域奠定了坚实的产品创新与开发基础。其产品线涵盖研抛(包括双面和单面抛光)、切割(包括多线和单线切割)以及工控等三大类,通过不断的技术创新和突破,其产品已广泛应用于多个行业。特别值得一提的是,公司的X62 S50D-T抛光机,这是一款专为4-8英寸半导体硅片、碳化硅、蓝宝石、锗片、铌酸锂、钽酸锂、玻璃等片状硬脆材料设计的单面高精度抛光加工设备。该设备以其易于操作、高配置和低噪音等特点,满足了市场对于高精度抛光工艺的需求。晶盛机电:专注“先进材料、先进装备”浙江晶盛机电股份有限公司自2006年成立以来,一直专注于先进材料和先进装备的研发与制造。公司以硅、蓝宝石、碳化硅这三大主要半导体材料为核心,开发了一系列关键设备,并将业务范围拓展至化合物衬底材料领域,致力于为半导体和光伏行业提供具有全球竞争力的高端装备和优质服务。在第三代半导体材料领域,晶盛机电取得了显著成就,成功生长出行业领先的8英寸碳化硅晶体。公司还建立了6英寸碳化硅晶体的生长、切片、抛光环节的研发实验线,其产品已经通过了下游客户的验证。晶盛机电将持续加强技术创新和工艺积累,以实现大尺寸碳化硅晶体生长和加工技术的自主可控,进一步巩固其在行业中的领先地位。晶盛机电还研发了碳化硅、半导体硅、蓝宝石三大领域的研磨抛光设备,这些设备能够满足从6英寸到12英寸多规格的高质量研磨抛光需求。这些设备以其高产能、高精度和高稳定性的特点,满足了市场对高性能半导体材料加工设备的需求。特思迪:探索8英寸SiC衬底的磨抛加工工艺北京特思迪半导体设备有限公司,自2020年成立以来,便致力于半导体领域表面加工设备的研发、生产与销售。公司总部位于北京,产品线覆盖了减薄机、抛光机、CMP设备以及贴蜡、清洗、刷洗等机器,服务于半导体衬底材料、半导体器件、先进封装、MEMS等多个领域。在2023年,特思迪在碳化硅衬底行业的磨抛设备出货量实现了显著增长,同比增长达到87.5%。公司不仅加速了新产品的研发,还成功推出了8英寸碳化硅全自动减薄设备,以及新款双工位单面抛光机、全自动CMP后清洗机和金刚石抛光机等。这些新设备在功能和工艺指标上均达到了国际先进水平,展现了公司在技术创新上的雄厚实力。特思迪在技术创新和产品开发上的成就得益于其强大的研发能力。公司目前拥有100余项自主知识产权的专利申请及授权,其主要产品的核心部件已实现国产化,并已规模化量产化合物半导体专用的减薄和抛光设备。特思迪不断推进新品研发,其产品线得到了进一步的扩充和完善。在碳化硅衬底领域,公司推出的新款双工位单面抛光机,相较于传统单机,效率提升了100%。此外,公司自主研发的全自动CMP后清洗机,以及为满足市场对金刚石衬底加工需求而研发的金刚石抛光机,都标志着特思迪在高端半导体设备制造领域迈出了坚实的步伐。上海致领:8吋SiC晶片全自动抛光线推出上海致领半导体科技发展有限公司自2011年成立以来,专注于精密平面加工领域,提供全面的解决方案,包括设备、配件、辅材、工艺研发及服务。公司在半导体晶片化学机械抛光机领域取得了显著成就,其产品已获得Semi认证,并成功替代了国内头部芯片厂商的进口设备,展现了其在半导体设备国产化方面的重要贡献。2023年,上海致领完成了一项重要的技术突破,开发了HCP-1280R2-SIA重型化学机械抛光机,这是一款专为6寸和8寸碳化硅晶片设计的高效率、高精度抛光设备。该设备能够实现超过10PSI的抛光压力,配备了先进的压力头往复摆动功能和分区加压功能,这些特性使得HCP-1280R2-SIA能够提供卓越的产品精度,满足高精度抛光工艺的需求。上海致领的这一创新成果不仅提升了公司在半导体设备领域的技术实力,也为碳化硅晶片的加工提供了强有力的支持。随着碳化硅材料在半导体行业的应用日益广泛,上海致领的HCP-1280R2-SIA抛光机有望在提高生产效率和产品质量方面发挥重要作用。小结单晶碳化硅以其卓越的物理和化学性质,在半导体行业中扮演着越来越重要的角色。然而,正是这些特性也给碳化硅的加工带来了挑战。单晶碳化硅的莫氏硬度高达9.5,表明它具有极高的硬度,这使得加工过程需要更为先进的技术和设备。同时,碳化硅的化学稳定性意味着它在常温下不会与大多数化学物质发生反应,进一步增加了加工的复杂性。碳化硅的压缩强度远大于其弯曲强度,这一特性使得材料在加工时更易碎裂,特别是在抛光过程中。为了实现高质量的抛光效果,需要施加更大的压力,这就要求抛光设备具备更高的负载能力和更精确的压力控制功能。尽管碳化硅的加工存在诸多挑战,但随着第三代半导体技术的快速发展,国内外设备制造商正在积极寻求突破。目前,长晶设备的国产化已经取得了显著进展,但切磨抛等加工设备的国产化程度相对较低,这些领域仍然是国内设备厂商需要重点攻克的方向。为了减少对进口设备的依赖,国内厂商正在加大研发投入,推动技术创新,以期在切磨抛等关键加工设备上实现国产化。通过不断的技术积累和市场验证,国内设备制造商有望逐步提升产品的技术水平和市场竞争力,满足国内半导体产业对高性能加工设备的需求。
  • QMAXIS金相抛光液,让我对样品有了期盼
    我们都知道在实验室进行金相磨抛时,想要得到一个自己满意,客户认可的样品,需要使用到多种金相磨抛耗材,在金相磨抛机上经过多次磨抛才能完成。所以,毫不夸张的说,选择什么样的金相磨抛耗材就决定了你可以收获到什么样的样品。 可脉小编今天就为大家带来金相磨抛过程中不可或缺的一款耗材,一款可以让你轻松高效且满意的磨抛耗材。它就是来自美国QMAXIS原装进口的金相抛光液,是用于高品质的金相制样抛光的,微米级、纳米级的金相抛光液。 美国QMAXIS金相抛光液,分为金刚石研磨抛光液和氧化铝/氧化硅抛光悬浮液。详情介绍如下: 金刚石抛光液:为金相制样研磨、抛光工序常用的微米级的金刚石抛光剂,手工抛光、自动抛光均适用。有单晶、多晶;水基、油基;浓缩型,常规型等多种型号可供大家选择,无毒环保,基本可以满足各种材料的研磨抛光需求。 氧化铝/氧化硅抛光悬浮液:为高品质纳米级氧化物抛光材料,包括氧化铝、氧化硅、硅-铝混悬浮液,是各种材料的抛光理想抛光剂,可以精致地再现材料微观结构。 美国QMAXIS的原装进口金相抛光液不光好用,性价比也很高。而且种类多,型号全,真正做到了可以满足各种材料的金相抛光所需。所以,有需要金相抛光液的小伙伴们赶紧来可脉检测选购吧!
  • 工业纯钛样品制备,用这两种金相抛光布,效果很稳定!
    工业纯钛是非常软的易延展的金属,金相样品制备非常困难,在样品研磨和抛光过程中,容易生成机械孪晶,塑性变形、研磨颗粒嵌入、划痕去除不完全等缺陷。使用手动研磨抛光方法制备时,更容易出现样品表面不平整,导致无法呈现真实微观组织。因此,欲快速方便制备组织清晰、无划痕、无变形、无嵌入的钛金相样品,不仅需要成熟的技术,也需要选择好每一步制备所使用的耗材。我们实验室,在抛光步骤中所选用的两种金相抛光布,配合金刚石抛光液使用,对工业纯钛样品抛光,效果一直都非常稳定,现分享给朋友们,愿能给做金相的朋友一些帮助。当然,我们使用的是自动磨抛机研磨抛光样品,通常采用四步法来制备,分别选用了美国QMAXIS(可脉)的SatinCloth 金相抛光布和MicroMet 金相抛光布。► SatinCloth 金相抛光布配合3µm 金刚石悬浮液,采用抛光冷却润滑液冷却► MicroMet 金相抛光布配合1µm 金刚石悬浮液,采用抛光冷却润滑液冷却具体制备方法如下:切割:精密切割机/砂轮切割机,QMAXIS 切割有色金属的金刚石切割片和砂轮切割片镶嵌:热压镶嵌机METPRESS A,PhenoPowder 酚醛树脂磨抛:自动研磨抛光机METPOL-A,P240和P1200金刚石磨盘,3μm和1μm金刚石悬浮液,SatinCloth和MicroMet 金相抛光布。小贴士:因工业纯钛研磨抛光的速率较低,在精细抛光步骤中应添加侵蚀抛光剂,以获得理想的抛光效果。如果对样品制备的要求较高时,可在精细抛光时使用振动抛光,以去除样品表面浅表层的内应力。 经验证明工业纯钛样品制备,用QMAXIS的这两种金相抛光布,效果很稳定!关于所选用的SatinCloth 金相抛光布和MicroMet 金相抛光布的详细信息和其他方面的应用,可联系可脉检测的应用工程师咨询,这里不做介绍了,他们更专业。
  • 快速掌握使用氧化铝抛光液制备铝合金样品
    铝合金在工业应用中十分广泛,作为有色金属结构材料,在航空航天、机械、汽车、船舶等工业中被大量应用。铝合金材料的研究和应用需求不断发展,金相分析作为对材料检测的重要手段和步骤之一,也随之更加深入,可脉检测金相工程师将快速掌握使用氧化铝抛光液制备铝合金样品的经验分享给朋友们,为提高我们的工作质量和效率提供参考。铝合金的金相样品制备,通常情况,在用四步法或五步法的制备时,使用MgO做精细抛光剂是非常理想的,但由于MgO很难以非常细小的粒度提供,实际上使用起来并不容易,所以,采用氧化铝抛光液来代替MgO是不错的方法。但,需要提示的是:标准的煅烧氧化铝抛光介质不适合铝合金金相样品的制备,而胶体三氧化二铝悬浮液才是铝合金样品制备非常理想的抛光剂。在铝合金家族中,许多铝合金的金相样品是通过四步制备法制备的,采用氧化铝抛光液配合短绒/中绒抛光布,对样品进行精细抛光,不仅可保留铝合金中全部的金属间化合物微粒,还能有效控制浮凸缺陷。可脉检测金相工程师的铝合金样品四步制备法如下表所示:温馨提示:在使用6μm和3μmd金刚石抛光液进行中等研磨时,可能会发生嵌入现象,这时,可用金刚石抛光膏替代金刚石抛光液研磨,会有效改善嵌入缺陷。快速掌握使用氧化铝抛光液制备铝合金金相样品的方法简单介绍这些,以上方法采用的是美国QMAXIS研磨抛光耗材,仅供参考!如您还有疑问或未解决的问题,欢迎联系可脉检测金相工程师,共同探讨更适合您的解决方案。
  • 飞纳电镜携帕纳科 XRF 及台式离子研磨抛光仪 1060 参加慕尼黑上海分析生化展
    慕尼黑上海分析生化展(analytica China)是亚洲最大的分析和生化技术领域的国际性博览会,是业内领军企业全面展示最新技术、产品和解决方案的最佳平台。慕尼黑上海分析生化展(analytica China 2016)将于 2016 年 10 月 10 - 12 日在上海新国际博览中心 N1,N2,N3 馆举行。飞纳电镜携帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪 1060 在 N3.3205 展出,欢迎广大参加本次慕尼黑上海分析生化展的观众们前来参观,体验飞纳台式扫描电镜,帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪三款台式科学仪器带来的突破与惊喜。一、台式扫描电镜: 飞纳电镜来自于世界领先的扫描电镜制造商 Phenom-World,是快捷、出众、可靠的电镜成像分析设备,主要应用于材料科学,生命科学,工业制造,地球科学,电子,鉴定,教育等领域。飞纳台式扫描电镜自推出以来,深受广大高校老师和学生的欢迎。 飞纳电镜独特的集成化设计,体积小巧,主无需配备专业的实验室,提供在诸多领域中要求的高分辨率以及高质量分析成像。高性价比、操作简便、快速成像的飞纳台式扫描电镜成为工程师,技术员,研究员以及科教专家观测微米以及纳米结构的首选。飞纳电镜具有以下主要优点:1)15 秒抽真空,30 秒快速成像,无需喷金,可直接观测样品;2)独家配置光学导航,方便用户实时定位扫描样品的位置;全触控界面及自动马达样品台,操作便捷;3)是世界上唯一采用 CeB6 灯丝的台式扫描电镜,寿命长(1500 小时,是普通钨灯丝寿命的 20-30 倍)、亮度高、色差低,图像细腻;4)独有的防震设计,能够最大限度的减小外界环境对电镜的干扰,采用软件保护硬件模式,对于电镜起到很好的保护作用;5)功能多样化的样品杯及软件拓展功能;应用软件终生免费升级,国外工程师可 24 小时通过网络对电镜的性能进行监测和调试,后期维护简单。 二、台式X射线荧光光谱仪 作为元素成分分析的一种方法,帕纳科台式 XRF 在环保领域、食品领域、材料领域、化学化工等众多领域有着广泛的应用。XRF 是一种物理分析方法,相比于化学方法,XRF 无需强酸消解等样品前处理步骤,不会产生二次污染,操作简单,检出限可达到 ppm 级。 帕纳科作为飞利浦的分支机构,现已成为全球最大的 X 射线分析仪器生产厂家,是专业的 X 射线仪器制造商。帕纳科台式 XRF 继承了飞利浦节能高效的传统,采用最新一代硅漂移探测器,具有优越的性能。其主要特点如下: 1.提供快速简单精确的元素分析方法,一般 3 分钟即可得到检测结果;2.超高的分辨率(135eV)以及优秀的检出限(ppm 级到亚 ppm 级),可检测元素范围 C(6)-Am(95);3.对样品状态的强大兼容性,可以测试规则、不规则样品、粉末样品、熔融样品以及液体样品等;4.超快学习上手性能,仅需简单培训即会操作使用;5.自主提供的独特的陶瓷光管,实现完美的仪器匹配和光管超长寿命;6.超小占地面积,占地面积不超过 0.2 平米;7.无损分析,无需强酸消解。在测定中不会引起化学状态的改变,同一试样可反复多次测量,重现性好。 三、台式离子研磨抛光仪:台式离子研磨抛光仪一台高质量的 SEM 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有材料应用的样品制备。Fishione 具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。可用于制备各种材料的高质量扫描电镜样品,满足苛刻的成像及分析所要求的样品制备。台式离子研磨抛光仪进行加工的材料来源种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝焊缝截面、集成电路焊点、芯片 BGA 切片、多层薄膜截面、颗粒纤维断面、复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的 SEM 样品。台式离子研磨抛光仪具有以下特点:1、具有高能量双离子束源,可同时聚焦在样品表面,大大提高了研磨抛光速度;2、具有预真空锁,将真空舱体与外部环境隔离,保证样品转移过程中极佳的真空环境;3、可以对样品进行实时的原位观察;4、具有高度自动感应功能,同时可利用编程对样品进行重复定位、调节旋转速度和往复摆动角度。
  • 解决镁合金样品制备的浮凸问题,用这种金相抛光布很有效!
    镁及其合金材料,由于其基体硬度较低,延展性强,而沉淀相相对硬度又较高,因此,在金相样品制备过程中,样品是很难制备的。主要表现在浮凸现象较为突出。解决这个问题,一般的方法是适当减少抛光时间,或者抛光时用金刚石抛光膏替代抛光液。我们实验室,除了采用以上两种方法外,同时使用美国进口ChemoCloth金相抛光布配合抛光剂进行精细抛光,这种方法很有效。可脉检测工程师的建议我们,在镁及其合金样品的制备时,精细抛光步骤使用美国QMAXIS的ChemoCloth 抛光布,浮凸问题轻松可以解决。来自美国QMAXIS的这款ChemoCloth金相抛光布,使用耐化学腐蚀合成织物制成,无绒的表面,适用于配合1µm及以下的Al2O3、SiO2 抛光液,对钛、镁及其合金、不锈钢、铅 / 锡焊料、电子封装、软的有色金属和塑料等类材料的精细抛光。这款金相抛光布,对于我们制备镁合金样品非常适用。其多孔的纤维结构能更好地Hold住研磨介质颗粒,良好的耐化学腐蚀性,以及软硬适度的特性。这些特性使磨料可深入到织物内部,虽然抛光时去除率小了一些,但能有效避免浮凸现象产生,进而达到样品制备的技术要求。 除此之外,ChemoCloth 金相抛光布,非常耐腐蚀,一点也不会出现掉毛,掉色,和卷边的现象。使用了很久,除了表面自然磨耗外,没有给所制备的样品表面带来污染和二次损伤的现象,它比普通金相抛光布要耐用很多,使用寿命长的特点也很突出。解决镁合金样品制备的浮凸问题,用这种金相抛光布的确很有效!了解更多详情,随时联系可脉检测的金相工程师,会获得更专业的帮助。
  • 第三代半导体材料化学机械抛光(CMP)工艺的检测难点
    近年来随着5G通讯技术以及新能源汽车行业已成为当前投资热点,而5G基站和电动汽车都使用了功率半导体器件,开发出符合市场要求的功率半导体器件成了半导体行业的又一重要方向。以硅作为衬底的传统的半导体芯片因为材料本身的局限性已难满足要求,以碳化硅、氮化镓为代表的宽禁带第三代半导体材料具有击穿电场高、热导率高、电子饱和速率高、抗辐射能力强等优势,因此采用第三代半导体材料制备的半导体器件不仅能在更高的温度下稳定运行,适用于高电压、高频率场景,还能以较少的电能消耗,获得更高的运行能力。第三代半导体材料虽然具有很多优点,但是其加工难度也是极大的。以碳化硅为例,其硬度世界排名第三,莫氏硬度为13,仅次于钻石(15)和碳化硼(14);而且其化学稳定性高,几乎不与任何强酸或强碱发生反应。晶体碳化硅还需要通过机械加工整形、切片、研磨、抛光等化学机械抛光和清洗等工艺,才能成为器件制造前的衬底材料。化学机械抛光(CMP)化学机械抛光(或化学机械平坦化)通常是使用专用抛光机在晶圆表面用抛光垫不断地旋转抛光并在过程中添加抛光液磨料以获得平坦光滑的衬底表面的工艺。为了获得均匀平坦的晶圆衬底,厚度监测作为常用的评价手段之一。但是第三代半导体材料由于硬度高,化学机械抛光的效率比较低,部分材料抛光过程的厚度变化甚至低于数十纳米常规的位移计等监测手段已经无法达到要求,而因为材料的特殊性一般也不会使用接触式或者破坏式的测量手段。大塚电子的SF-3系列膜厚计通过光干涉法原理,对晶圆界面之间干涉光信号进行计算从而获得晶圆的厚度信息。SF-3膜厚计 光干涉法由于采用了光学测量原理,SF-3系列膜厚计具有极高的频率5KHZ,因而可以对晶圆厚度进行在线实时监控;同时具有高精度以及可以有效避免晶圆翘曲对结果的影响。晶圆厚度实测CMP抛光液CMP抛光液作为化学机械抛光的辅助耗材,起到研磨腐蚀等作用,近年来CMP抛光液的国产化程度正在逐步提高。CMP抛光液的主要成分包括水、研磨颗粒(二氧化硅、金刚石、氧化铈、氧化锆)、氧化剂、分散剂等。不同的工艺步骤和不同的产品对CMP抛光液产品有不同的要求,通过对CMP抛光液的粒径监测、zeta电位监测可以评价CMP抛光液是否符合工艺要求以及在存储运输过程当中的稳定性。大塚电子ELSZ-neo系列纳米粒度zeta电位仪对抛光液的粒径和zeta电位检测均有大量应用。 ELSZ-neo以下考察了CMP抛光液在不同PH值的zeta电位,并记录了不同磨料的等电点(zeta电位为零),根据抛光液的粒径和zeta电位可以选择最优的PH值从而获得稳定的产品。晶圆清洗在晶圆的研磨和化学机械抛光处理以后,需要对晶圆进行清洗以避免污染物的附着。一些晶圆的颗粒污染物数量要求少于10个,然而由于静电作用力,颗粒污染物与晶圆在特定的PH值环境下容易吸附,颗粒污染物通常来源于抛光液当中研磨颗粒的残留。因此,评价晶圆表面和颗粒污染物的电性对于清洗工艺有重要作用。Zeta电位(Zeta potential)作为衡量固体电性或液体的稳定性的主要指标,通常使用电泳光散射法进行测量,然而在测量固体表面zeta电位时必须要充分考虑电渗作用的影响。(1)样品池内的粒子的电泳以负电荷的粒子为例,理想状态下粒子无论在cell 的什么位置,都以相同的速度向正电极侧电气泳动。(2)样品池内的电渗流通常cell(材质:石英)带有负电荷。所以,正电荷的离子、离子聚集在cell壁面附近,施加电场的话,壁面附近 正离子会往负极方向移动。Cell中心部为了补偿这个流动,产生相反方向的对流,这种现象叫做电渗流。(3)样品池内可观测粒子的电泳粒子分散在溶媒中,cell内粒子电气泳动的外观是算上这个电渗的抛物线状的流动。为此、cell内电气浸透流的速度为零的位置,即在静止面进行测定可以得出真正粒子的电泳速度,从而得出真实的泽塔电位值。大塚电子的ELSZ系列纳米粒度zeta电位仪使用了森岡本电渗校正专利,充分考虑了材料的电渗对电泳速度的影响。另外专用的平板样品池可选用电荷为0的涂层,并且使用中性的观测粒子,在不同PH值下测量不必考虑观测粒子电性带来的影响。大尺寸的平板样品池,可适用不同规格的晶圆测量实测应用时,通常会对晶圆表面和CMP抛光液的zeta电位同时进行测量。以下图为例,分别测量了硅晶圆(蓝色)和污染物粒子(红色)的zeta电位,在PH=4~8.5之间,晶圆表面与污染粒子的电性相反,因而污染粒子会依附在晶圆表面难以去除。总结大塚电子自1970年以来一直专业研究光学检测技术,秉承「多様性」「独創性」「世界化」的理念,大塚的光散射以及光干涉制品一直在包括FPD行业、半导体行业、新材料行业等专业领域占据领先地位。凭借对光学技术的深耕,大塚将继续为过国内客户提供专业的设备以及服务。
  • 延后至明年6月!晶盛机电半导体材料抛光及减薄设备项目建成时间延期
    6月15日,晶盛机电发布公告称,审议通过了《关于部分募集资金投资项目延期的议案》,同意将向特定对象发行股票募集资金投资项目“年产80台套半导体材料抛光及减薄设备生产制造项目”达到预定可使用状态日期由原定的2024年6月30日延期至2025年6月30日。项目延期的主要原因为加强提升自动化和智能化,推进新质生产力建设,实施精细化生产管理,提升设备装配制造效率。2022年4月,晶盛机电发布公告称,公司拟向特定对象发行募集资金总额不超过14.2亿元(含本数),扣除发行费用后投向12英寸集成电路大硅片设备测试实验线项目、年产80台套半导体材料抛光及减薄设备生产制造项目、补充流动资金。根据公告,年产80台套半导体材料抛光及减薄设备生产制造项目计划投资总额5亿元,原定建设期2年。建成后将形成年产35台半导体材料减薄设备、年产45台套半导体材料抛光设备的产能。项目所生产的8-12英寸减薄设备可应用于硅片端和封装端,边缘抛光机、双面抛光机、最终抛光机专注于硅片制造端,所对应下游客户为硅片厂以及封测厂、IDM厂等。
  • 制备好镁合金样品的原因:除了技术,还有这两款金相抛光布!
    金相样品制备中,镁和镁合金由于基体硬度较低而沉淀相硬度较高而很难制备,容易出现浮雕现象,研磨抛光过程载荷太大又可能造成机械峦晶等缺陷。因此,在抛光过程中,应设法恰当选用金相抛光布。我们实验室制备美镁合金样品通常使用的是四步法,其中第三、四步分别选用了两种材质的金相抛光布。无绒的SatinCloth抛光布和长绒的MicroMet抛光布,这两种金相抛光布均为QMAXIS的抛光布,下面分别介绍一下。SatinCloth金相抛光布:在中等抛光步骤,使用3μm金刚石抛光液,配合使用这款抛光布。其材质是由人工合成丝和蚕丝紧密编织而成,属无绒抛光布,其编织纹理适合配合9µm及以下的金刚石、Al2O3、SiO2 抛光液使用,不但能很好的Hold住研磨介质微粒,还可以使磨料颗粒分布均匀,与样品表面充分接触,达到快速磨削、去掉变形层,表面平整的效果。这款金相抛光布可应用于各种金属、岩相、陶瓷和涂层等材料样品的制备。用它来配合金刚石抛光液给镁合金样品做中等抛光,效果不错。MicroMet 金相抛光布:在精细抛光步骤,使用1μm金刚石抛光液,配合使用这款抛光布。其材质是由人造纤维与棉背衬编织而成,属长绒的抛光布,纤细的绒毛表面,对微细的研磨微粒有很好的分布和承载作用,主要应用于材料的精细抛光步骤,配合3µm及以下的金刚石、Al2O3、SiO2 抛光液使用,令抛光更加柔和细密,有效的去掉样品表面细微划痕,表面平整度和光洁度更佳,用它来配合金刚石抛光液给镁合金样品做精细抛光很是非常理想的。注意:抛光过程加载力不要过大,避免浮雕、机械孪晶等缺陷。温馨提示:由于镁合金容易被水侵蚀。制备步骤中尽量不用水,可将1到3份的甘油混合到酒精中作为润滑剂,也可在研磨制备步骤中都使用配制的甘油酒精混合液。 切记抛光时一定要用冷却剂,因为细的镁粉是火灾隐患,千万注意哦。镁合金样品制备难度大,要制备好,除了具备熟练的制备技术外,还要有无绒的SatinCloth和长绒的MicroMet这两款金相抛光布提供助力!需了解更多制备方法,欢迎与可脉检测的应用工程师联系,愿为您提供更快捷的解决方案。
  • 背照式CMOS图像传感器工艺中_硅晶圆背面抛光的新技术!
    新加坡科技研究局微电子研究所Institute of Microelectronics Agency for Science的Venkataraman等人与奥地利Nexgen Wafer Systems公司以及新加坡格罗方德公司GlobalFoundries的工程师组成研究团队,共同开发出一种新的晶圆背面抛光技术。在光检测与测距(LiDAR)等各种应用中,背照式三维堆叠CMOS图像传感器备受该领域专家们关注。这种三维集成器件的重要挑战之一,是对单光子雪崩二极管(SPAD)晶圆的精确背面抛光,该晶圆与CMOS晶圆堆叠,晶圆背面抛光通常通过背面研磨和掺杂敏感湿法化学蚀刻硅的组合来实现。研究团队开发了一种湿法蚀刻工艺,基于HF:HNO3:CH3COOH定制化学试剂,能够在p+/ p硅过渡层实现蚀刻停止,掺杂剂选择性高达90:1。他们证明了全晶圆300mm内厚度变化仅约300nm的可行性。此外,也对HNA蚀刻硅表面的着色和表面粗糙度进行了表征,最后,提出一种湿法锥蚀方法来降低表面粗糙度。该研究成果发表于2023年5月30日至6月2日在美国佛罗里达州奥兰多召开的第73届电子组件与技术会议(ECTC)上。论文录用日期为2023年8月3日,并被IEEE Xplore 收录。这项突破将有可能推动背照式CMOS图像传感器在汽车智能驱动等领域的应用。
  • 干货!CMP抛光垫的作用和种类
    CMP 技术是目前国际公认唯一可以提供全局平坦化的技术,它是半导体技术中的重要应用突破,而CMP抛光垫(Chemical Mechanical Polishing Pad,CMP Pad)正是这一工艺中的重要耗材。1、CMP抛光垫的作用CMP技术是使被抛光材料在化学和机械的共同作用下,材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化学反应,形成易抛光的软化层,抛光垫和抛光液中的研磨颗粒对材料表面进行物理机械抛光将软化层除去。在CMP制程中,抛光垫的主要作用有:①使抛光液有效均匀分布至整个加工区域,且可提供新补充的抛光液进行一个抛光液循环;②从工件抛光表面除去抛光过程产生的残留物(如抛光碎屑、抛光碎片等);③传递材料去除所需的机械载荷;④维持抛光过程所需的机械和化学环境。除抛光垫的力学性能以外,其表面组织特征,如微孔形状、孔隙率、沟槽形状等,可通过影响抛光液流动和分布,来决定抛光效率和平坦性指标。抛光垫必须对抛光液具有良好的保持性,在加工时可以涵养足够的抛光液,使CMP中的机械和化学反应充分作用。为了保持抛光过程的稳定性、均匀性和可重复性,抛光垫材料的物理性质、化学性质以及表面形貌等特性,都需要保持稳定。 2、CMP 抛光垫的种类抛光垫种类可按材质结构主要有:聚合物抛光垫、无纺布抛光垫、带绒毛结构的无纺布抛光垫、复合型抛光垫。 ①聚合物抛光垫聚合物抛光垫的主要成分是发泡体固化聚氨酯,聚氨酯抛光垫具有抗撕裂强度高、耐磨性强、耐酸碱腐蚀性优异的特点,是最常用的抛光垫材料之一。图 聚氨酯抛光垫微观结构在抛光过程中,聚氨酯抛光垫表面微孔可以软化和使抛光垫表面粗糙化,并且能够将磨料颗粒保持在抛光液中,可以实现高效的平坦化加工。聚氨酯抛光垫表面的沟槽有利于抛光残渣的排出。但聚氨酯抛光垫硬度过高,抛光过程中变形小,加工过程中容易划伤芯片表面。粗抛选用发泡固化聚氨酯抛光垫。②无纺布抛光垫无纺布又称不织布,由定向的或随机的纤维构成,微观组织对抛光垫性能产生重要影响。无纺布抛光垫的原材料聚合物棉絮类纤维渗水性能好,容纳抛光液的能力强,但是其硬度较低、对材料去除率低,因此会降低抛光片平坦化效率。常用在细抛工艺中。 图 无纺布抛光垫微观结构 ③带绒毛结构的无纺布抛光垫带绒毛结构的无纺布抛光垫是以无纺布为基体,中间一层为聚合物,表层结构为多孔的绒毛结构,绒毛的长短和均匀性影响抛光效果。当抛光垫受压时,抛光液进入空洞中,压力释放时恢复原来的形状,将旧的抛光液和反应物排出,并补充新的抛光液。图 带绒毛的无纺布抛光垫微观结构图带绒毛结构的无纺布抛光垫硬度小、压缩比大、弹性好,在精抛工序中常被采用。 ④复合型抛光垫复合型抛光垫采用"上硬下软"的上下两层复合结构,兼顾平坦度和非均匀性要求。复合型抛光垫含有双重微孔结构,将目前抛光垫的回弹率大幅降低,减少了抛光垫的凹陷和提高了均匀性,解决了因抛光垫使用过程中易釉化的问题。 图 复合型抛光垫微观结构基体中加入了能溶于抛光液的高分子或无机填充物,如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮等,这些填充物在抛光过程中溶于抛光液,形成二级微孔,延长抛光垫的使用寿命并降低缺陷率,减少抛光液的使用量。随着半导体产业的高速发展,使得 CMP 技术应用显著增加,对 CMP 抛光垫的需求量也显著增长。然而CMP抛光垫的制备技术门槛高,涉及力学、界面化学、摩擦学、高分子材料学、固体物理和机械工程学等诸多学科领域。目前,全球抛光垫生产几乎都被美日韩企业所垄断,国产替代加速。
  • 湖北省集成电路CMP用抛光垫三期项目拟购置43台仪器设备
    2021年1月5日,湖北鼎龙汇盛新材料有限公司就集成电路CMP用抛光垫项目(三期工程50万片/年)情况进行公示。项目建设地点位于湖北省潜江市江汉盐化工业园长飞大道1号,总投资高达1.67亿元。据了解,CMP即化学机械抛光(Chemical-MechanicalPlanarization),是在晶圆制造过程中使用化学及机械力对晶圆进行平坦化处理的过程。相关数据显示,CMP材料在半导体材料中整体占比高达7%,其中抛光垫在CMP材料中的价值量占比约60%。目前为止,我国集成电路制造环节所使用的CMP抛光垫几乎100%依赖进口,国产化势在必行。据悉,该项目拟新建车间占地面积6000平方米,建筑面积16500平方米,购置并安装湿法线、片皮机器、压花机、贴合机、抛光机等仪器设备共43台,完善配套设施。建成后将拥有年产50万片CMP用抛光垫生产能力。
  • 低场核磁是如何助力国产CMP抛光液成功打破国外垄断?
    近年来,随着中国科技的发展,美国对中国实行了史上最严的科技制裁,最近的俄乌战争又再一次提醒中国人我们只能发展自己的核心科技才能创造更美好的家园。然而在西方列强众多的科技制裁中半导体成为了重中之重,半导体设备与工艺国产化刻不容缓,令人欣喜的是通过众多科研工作者的努力安集微电子已经实现了化学机械抛光(CMP)中铜/铜阻挡层抛光液、钨抛光液、氧化物抛光液、硅抛光液的国产化。什么是CMP抛光液?CMP全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光。该技术是半导体晶圆制造的必备流程之一,对高精度、高性能晶圆制造至关重要。抛光液的主要成分是研磨颗粒,PH值调节剂,氧化剂,分散剂;从成分中我们就大概知道了抛光液是一种对分散要求很高的纳米材料悬浮液,所以对颗粒的尺寸及其在溶液中的分散性都有着极其严苛的要求。低场核磁是如何检测这种悬浮液中颗粒的尺寸和分散性呢?低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子,从而推导出溶剂覆盖在颗粒表面的比表面积,从而评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性。传统的氮气吸附方法测量比表面积难道不行?其实在核磁技术还没被应用于抛光液领域之前,大家都是用气体吸附这种方法来表征颗粒的比表面积,几乎是行业的金标准,但是在实际的研发与生产过程中发现就算确保了研磨颗粒的比表面积稳定还是会发生抛光液性能不稳定的情况,这种情况很可能是研磨颗粒在溶剂中发生了团聚,从而发生了尺寸上的变化而导致最终研磨性能的问题。低场核磁弛豫技术正是因为解决了溶液体系里颗粒的分散性而被广泛应用于CMP抛光液的研发与生产控制中。低场核磁技术还能用在哪些领域呢?除了半导体CMP抛光液,还有国家大力扶持的新能源电池浆料,光伏产业的导电银浆,石墨烯浆料,电子浆料等新材料都非常适合采用核磁技术来研究其分散性稳定性。
  • 这款金刚石抛光液,给盛夏的实验室带来了清凉!
    8月的夏日,骄阳似火,蝉鸣蛙叫,南京的这个夏天酷热难挡,空气里带着热浪,炽热的太阳,照着烈日下每个忙碌的身影,人们穿梭在高楼林立的城市水泥森林中,赶路,上班,送快递,送外卖,即便是挥汗如雨,也不能停下脚步。带着满脸汗水,走进实验室,今天要给一家研究所做个电路板的金相试样,看到实验台上的金刚石抛光液,立刻忘记了炎热,心情倍感清新凉爽,有了这瓶金刚石抛光液,制备这个试样,就放心、安心、省心了。分享一下这个产品吧,希望也给你的夏日实验室带去一缕清凉。这款原装进口美国QMAXIS(可脉)金刚石抛光液,金刚石浓度高,纯度高,微粉粒径一致,分散均匀,性能稳定,且无毒环保。金刚石抛光悬浮液磨削能力强,去除率高,表面一致性效果好,抛光表面效果好,能满足各种材料的金相研磨、抛光需求,使金相试样的研磨和抛光既有速度,又有质量。手动抛光和自动抛光均适用,这款金刚石抛光液有多种规格型号可选:PolyDia 水基多晶金刚石抛光液MonoDia 水基单晶金刚石抛光液ComboDia 水基单晶金刚石混合抛光液OilDia 油基单晶金刚石抛光液手动抛光和自动抛光均适用。 八月里,这瓶经济又实用的,原装进口美国QMAXIS(可脉)金刚石抛光液,滴入飞速旋转的湿润的抛光布上,仿佛是给被抛光的试样注入了一丝清凉,也给整个实验室带来了盛夏里的凉爽,更是激发出了老师和同学们的工作热情。经历火热的八月,体会盛夏的味道,成就不一样的自己,一定会有更多的收获。
  • OPTON的微观世界|第15期 氩离子抛光制样经验分享
    概 述欧波同材料分析研究中心分析测试业务于年初正式上线,受到业内广泛关注。近期中心收到很多客户的咨询,询问一些特殊样品的制样方法或解决方案。我们根据客户咨询和反馈,整理了相关的案例分享给大家,希望能给大家点思路。一、微纳米颗粒 (针对200μm以下样品) 应用范围:微纳米材料内部结构分析例 如:锂电池阳极材料、微纳米颗粒颗粒类的样品多数利用扫描电镜检测形貌、粒度统计、能谱并做一些长度测量,但是一旦涉及内部结构观察普通制样方式很难达到要求。制样方式缺点研钵研磨/刀片压碎只能看到断面的情况,而且成功率不高,电镜观察需要费时寻找镶嵌包埋需要机械抛光,容易脱落;耗时;需考虑镶嵌料对样品影响举例来讲,图1是客户要求观察颗粒表面和断面形貌,研钵研磨后,结果并不理想,视野内可见大量碎裂颗粒,且断面情况各异更无法进行测量等工作。图 1图2是用Gatan Ilion II设备抛光后结果,可见视野内颗粒全部切开,截面平整,易于观察测量;图3为局部放大,颗粒内部结构一览无余。图 2图 3二、多层复合材料/镀层/高分子薄膜应用范围:分层材料、薄膜或其他柔性材料例 如:锂电池隔膜、镀层等多层复合材料其实在我们生活中应用极为广泛,比如各种触摸屏。这类材料主要看截面分层情况,但是由于其柔性大,普通方式比如剪切、液氮脆断等都会导致分层扭曲、断面不齐整等问题,影响后续用电镜进行分层测量。举个例子-样品为电池极板(图4、图5):图4是剪刀剪切后的电镜结果,可以看到由于剪切力的影响,层次不够分明,无法进行精确测量,无法提供有效的信息。图 4图5为Gatan Ilion II抛光后结果,层次清晰,可进行精确测量。图 5三、电子元器件应用范围:各类微元器件电子元器件由于其越来越微小、越来越复杂,其失效时很难定位,也很难用普通手段看清其内部结构(图6)。图中结果用Ilion II 进行处理,局部放大图片能够看到几十个nm结构,后续进行分析带来极大便利。图 6我们再来看一例(图7)图 7红框1局部放大,可见有10层结构图 8红框2局部放大,一目了然图 9后 记以上是小编本期分享的内容,希望对大家有帮助。
  • 专注生产抛光产品的国内新势力普瑞昇新材料完成数千万元PreA轮融资
    据中南创投基金消息,2024年5月30日,无锡普瑞昇新材料科技有限公司(简称“普瑞昇新材料”)完成数千万元PreA轮融资。本次投资中,老股东诺延资本、中南创投基金、无锡云林基金继续增持。目前,普瑞昇新材料高端氧化铝抛光磨料、抛光液已具备量产条件,本轮融得资金将进一步夯实其运营能力,保障其在得到下游客户验证后能迅速扩产。普瑞昇新材料成立于2023年4月,致力于成为国内一流的高端抛光方案供应商,专注于高端氧化铝抛光液、氧化铝抛光磨料等产品的研发,其产品可应用于集成电路、化合物衬底、漆面、光学镜头、金属等领域的抛光。2023年6月,普瑞昇新材料成立全资子公司——美科瑞(江苏)先进材料科技有限公司。美科瑞官方消息显示,公司专注于第三代化合物半导体SiC及GaN衬底CMP抛光材料的开发及服务,由视光类、汽车漆面处理、金属、光电子研磨抛光材料先进创新团队及美国资深技术团队合作创建,致力于先进研磨、抛光、纳米及光电子表面处理材料的研发、生产与销售,项目总投资1.5亿,由国内知名半导体产业投资基金、地方发展基金等共同发起投资。据中南创投基金消息,2024年以来,美科瑞已完成产线建设并具备量产条件,同时得到了下游标杆客户的积极反馈。
  • 欧波同第三方检测|氩离子抛光技术在镀膜样品中的应用
    氩离子抛光技术是对样品表面或者截面进行抛光,得到表面光滑无损伤的样品,能够观察到样品内部真实结构。Gatan公司生产的精密刻蚀镀膜系统——PECS II 685(图1),是集抛光和镀膜于一体的氩离子抛光设备,它采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光。685可以做普通的抛光方法无法解决的问题:a.氩气的工作氛围,可以有效保护容易氧化或者对水蒸气特别敏感的材料;b.样品台采用液氮制冷方式,可以有效的保护热敏感的样品,避免离子束热损伤;c.685自带的精确到纳米级别的镀膜功能,可以有效解决容易氧化且导电性特别不好材料的SEM/EDS/EBSD等的分析。下面我们通过两个案例来说明为什么氩离子抛光技术在镀膜领域的应用是无可替代的。图1 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685 例1:光伏作为我国战略性新型产业,其发展牵动着我国的方方面面。光伏玻璃为目前光伏产业链上电池组件封装环节使用的必须辅助材料之一,整个光伏玻璃的发展与光伏产业的发展密切相关。所谓光伏玻璃是指在超白压延玻璃上镀一层减少反射的材料即减反膜,作用是减少或者消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,增加这些原件的透光量。因此对减反膜的研究显得尤为重要。图2是观察某公司生产的光伏玻璃上减反膜的厚度。图2(a)显示普通制样无法准确观察到减反膜厚度,而利用精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制备的样品不仅可以准确测量膜的厚度还可以观察到其真实形貌:这是一种厚度约180 nm的具有多孔结构的膜,见图2(b)。 图2 普通制样及氩离子抛光制样观察减反膜(a普通制样;b PECS II 685制样)例2:以聚碳酸酯为基底,在上面包覆TiO2/SiO2交替膜共8层,每层膜厚度只有50 nm左右,普通制样根本无法观察到膜结构,更无法观察8层交替膜。我们同样使用PECS II 685进行制样,由于样品不导电且容易被氩离子束打伤,故同时利用PECS II 685的冷台、刻蚀、镀膜功能,在同一真空环境下对样品进行抛光和镀膜,利用蔡司的Sigma 300场发射扫描电镜清晰观察到8层TiO2/SiO2交替膜,见图3。 图3 PECS II 685制备TiO2/SiO2交替膜
  • 显微镜下看金相抛光布,就是这么清晰!
    金相抛光布是金相实验室常用好耗材之一,金相工程师都特别熟悉,尼龙的、无纺布的,真丝的,羊毛的......等各种材质;表面看有无绒的,短绒的,长绒的,带孔的等等。金相抛光布之所以有这么多种类,是与其不同的应用相对应的。分辨一款金相抛光布的质量优劣,除了用眼看,用手摸,还可以通过实验来验证。可脉检测的金相抛光布,种类全、型号多,为了给那些还没有使用过的用户展示QMAXIS金相抛光布的真实清晰的细节,每一款都用显微镜拍下来,一起看一下有多清晰!QMAXIS的金相抛光布共分三大类,分别为粗抛光、中等抛光和精细抛光。我们逐一看看到底有多清晰! 粗抛光金相抛光布共三种材质,分别如下:►PlanCloth 金相抛光布,尼龙无纺布,无绒►PerfoCloth 金相抛光布,硬的合成化纤无纺布,带孔►NylonCloth 金相抛光布,尼龙织物,无绒PlanCloth 金相抛光布显微镜下看PlanCloth 金相抛光布,这种尼龙无纺布材质的抛光布经纬线编织细密、均匀,没有瑕疵,无绒,质地清晰可见。它是用于铁基、热喷涂涂层和硬的材料的粗抛光,配合15µm-3µm的金刚石抛光液使用。PerfoCloth 金相抛光布显微镜下看PerfoCloth金相抛光布,这种硬的合成化纤无纺布材质均匀、致密,布满排列整齐的小孔,质地清晰可见。它是用于陶瓷、碳化物、岩相、硬质合金、玻璃和金属等材料的粗抛光的,配合9µm及以下的金刚石抛光液使用。NylonCloth 金相抛光布显微镜下看NylonCloth 金相抛光布,这种斜纹编织的尼龙织物细密、均匀,找不到任何瑕疵,无绒,质地清晰可见。它是用于铁基、烧结碳化物和铸铁等材料的粗抛光,配合15µm-3µm的金刚石抛光液使用。中等抛光金相抛光布共三种材质,分别如下:►DuraCloth 金相抛光布,硬的合成压缩无纺布,无绒►SatinCloth 金相抛光布,人工合成丝和天然丝,无绒►SilkCloth 金相抛光布,纯丝,无绒DuraCloth 金相抛光布显微镜下看DuraCloth 金相抛光布,这种硬的合成压缩无纺布表面非常平整,不规则纹理但很均匀,无绒,质地清晰可见。它是用于黑色金属、有色金属、电子封装、印刷电路板、热喷涂涂层、铸铁、陶瓷、矿物、复合材料和塑料等材料的中等抛光,配合9µm及以下的金刚石抛光液使用。SatinCloth 金相抛光布显微镜下看SatinCloth 金相抛光布,这种由人工合成丝和真丝编织的材质,纹理细密,均匀,无绒,质地清晰可见。它是用于金属、岩相、陶瓷和涂层等材料的中等抛光,配合3µm及以下的金刚石抛光液使用。SilkCloth 金相抛光布显微镜下看SilkCloth 金相抛光布,这种由纯丝紧密编织的材质,有重磅真丝的质感,无绒,质地清晰可见。它是用于金属、微电子、涂层和岩相等材料的中等抛光,配合9µm-3µm金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。当然,这款抛光布非常适合配合抛光膏及液体抛光蜡使用,效果更好。 精细抛光金相抛光布共四种材质,分别如下:►MicroMet 金相抛光布,人造纤维与棉背衬编织,短绒►VelCloth 金相抛光布,软的人造天鹅绒,短绒►FlocCloth 金相抛光布,软的织物,长绒►ChemoCloth 金相抛光布,耐化学腐蚀合成织物,无绒MicroMet 金相抛光布显微镜下看MicroMet 金相抛光布,这种由人造纤维与棉背衬编织的合成织物,基底有一定的硬度,表面柔软细密,短绒,质地清晰可见。它是可以用于所有材料的精细抛光的,配合1µm及以下的金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。VelCloth 金相抛光布显微镜下看VelCloth 金相抛光布,这种由软的人造天鹅绒材料制成,绵软细密,短绒,质地清晰可见。它是用于软的金属和电子封装等材料的精细抛光,配合1µm及以下的金刚石抛光液、氧化铝抛光液和氧化硅抛光液使用。FlocCloth 金相抛光布显微镜下看FlocCloth 金相抛光布,这种由软的长绒织物制成,非常细、软,质地清晰可见。它是用于金属和烧结碳化物等材料的精细抛光的,配合3µm及以下的金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。如果配合氧化铝抛光粉使用,则可用于所有材料的精细抛光。此外,这款抛光布很适合手动抛光和未镶嵌试样的精细抛光。ChemoCloth 金相抛光布显微镜下看ChemoCloth 金相抛光布,这种由耐化学腐蚀合成织物制成的抛光布,表面非常细密,看似绒毛的纹理,实际上是织物表面密布的微小凸起,实际是无绒的,质地清晰可见。它是用于钛合金、不锈钢、铅/锡焊料、电子封装、软的有色金属和塑料等材料的精细抛光,配合1µm及以下的金刚石抛光液、氧化铝抛光液和氧化硅抛光液使用。以上就是QMAXIS金相抛光布在显微镜下的形貌,显微镜下看金相抛光布,就是这么清晰!能由里至外感受到产品的良好质量。无论您所制备的试样是什么材质,也无论哪一个抛光工序,总有可以满足技术需要的一款可选。手动、自动抛光都能用,不挑机器、不挑人,联系可脉检测工程师帮您选型,并为您提供快捷制样解决方案,赶紧联系吧。
  • 一文看懂不同材料如何使用氧化铝抛光液抛出理想表面!
    铝合金、镁合金、硬钢、软钢、陶瓷涂层,印刷线路板?这么多种类材料的金相样品制备,精细磨抛如何用氧化铝抛光液抛光?只知道一般情况,末道工序要使用0.05μm的氧化铝抛光液。但是需要抛光多长时间呢?加载力是多少N呢?是否需要加水?......。对于刚入行的金相小白,对如何使用氧化铝抛光液抛光还真是一头雾水,有点懵圈......,只有恰当使用氧化铝抛光液抛,才能快速抛光出理想表面!可脉检测小编让您一文看懂,不同材料如何使用氧化铝抛光液抛出理想表面,希望能帮到你。在氧化铝抛光液的家族中,粒度径有0.05μm、0.3μm和1μm等多个粒度径型号,其中0.05μm的使用较多,主要用于金相样品的末尾一道抛光工序,可有效去除微小划痕,理想再现材料的微观组织形貌。依据各种类材料的性质不同,氧化铝抛光液在使用方法上略有差别。小编依据日常实验经验,整理出常见材料制备时的具体使用方法,列表如下:以上是0.05μm氧化铝抛光液,在对不同材料样品抛光时的使用方法,供大家参考。温馨提示:1、抛光过程中,当磨盘相对转数500转以上快速抛光时,则需要添加抛光冷却润滑液或者 水。 添加时,注意流速要慢些再慢些,以确保氧化铝磨料颗粒不被水流冲离抛光布而造成浪费。2、对于易氧化的材料,千万不可加水,换成酒精作为冷却润滑剂是不错的方法。介绍这么多对氧化铝抛光液的使用方法,你看懂了吗?如有疑问可随时联系可脉检测的应用工程师咨询。
  • 中电科8英寸抛光设备进入中芯国际、华虹宏力等大线
    7月8日,在北京亦庄创新发布会上,中电科电子装备集团有限公司发布了离子注入机、化学机械抛光设备、湿法设备等多项技术上的创新成果,为国内外芯片制造企业提供一站式解决方案。作为集成电路制造前道工序中的关键设备,离子注入机的研发难度仅次于光刻机。由于离子注入机对洁净度要求很高。在芯片制造过程中,通常有70多道离子注入工序,因此,这种装备的注入能量要控制得很精准,还要在很多工艺技术上精益求精。据中电科电子装备集团有限公司战略计划部主任李进透露,中电科已实现了离子注入机全谱系产品国产化,可为芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案。此外,中电科的化学机械抛光设备(CMP)和湿法设备作为集成电路制造核心、关键设备,也取得了新突破。北京亦庄发文称,中电科200mm抛光设备已经进入到中芯国际、华虹宏力、台积电、联电等大线,被中芯国际誉为“唯一置换率100%的国产设备供应商”。并且,中国电子科技集团自主研发的湿法设备和先进封装设备也取得了多项突破。据李进介绍,电科装备8英寸CMP设备国内市场占有率已达70%,12英寸CMP进入客户验证阶段,性能表现优异;湿法设备已进入到8英寸集成电路外延片加工和芯片制造领域。多年来,中国电子科技集团攻克了数百项集成电路制造装备关键技术,支撑了半导体和新兴电子元器件产业的快速发展,为国内外用户提供了1万多台(套)电子制造装备。
  • 上海光机所在数字化子孔径抛光中中频误差的研究方面取得进展
    近期,中国科学院上海光学精密机械研究所研究人员在数字化子孔径抛光中中频误差的研究方面取得进展,研究首次证明工具与光学元件间接触压强分布是影响中频误差不可忽视的重要因素,并提出旋转卷积模型(RPC),实现了受该因素影响下中频误差定量解耦;研究成果进一步深化了对子孔径抛光中频误差产生机制的理解,也为中频误差的进一步抑制提供了新的研究思路。相关研究成果发表于《光学快报》(Optics Express)。随着现代光学系统的快速发展,高功率激光、大型望远系统、光刻系统等对光学元件精度及产能提出了极高的要求,尤其是中频误差指标已成为制约各系统进一步提升的关键瓶颈问题。在高功率激光系统中,中频误差会引起焦斑拖尾和近场调制,甚至会损坏光学元件;在成像系统中,中频误差会引起小角度散射,降低光束质量和成像对比度。在数字化子孔径抛光制造过程中,普遍认为路径及去除函数的形貌是影响中频误差的关键影响因素;但随着制造精度不断提升,很大比例的反常中频误差浮出水面,现有理论的局限性已逐渐暴露。针对该瓶颈问题,研究发现子孔径加工过程中以去除函数为最小计算单元的不完备缺陷,工具与表面接触压强分布的非对称性会在运动过程中不断引入额外中频误差。为定量解析该过程引入的中频误差分布规律,研究基于空变压强分布旋转不变特性修正了Preston经典方程,得到了以实际接触压力分布为最小计算单元的旋转卷积(RPC)模型;通过该模型分析得到了接触压强分布、转速比(自转速度/进给速度)等关键参数对中频误差的定量影响关系;首次提出基于Zernike多项式的接触压强分布不对称性正交解耦算法,实现了接触压强分布对中频误差影响的直观指标分解。实验验证中,该模型对中频误差的预测准确度优于85%。相关研究成果将应用于ICF装置中大口径光学元件工艺优化,可为数字化子孔径抛光中频误差的抑制提供新的手段。相关工作得到国家重点研发计划、国家自然科学基金、上海市扬帆计划、中国科学院青年创新促进会的支持。图1(a)表面压强分布与中频误差的关系。(b)不同路径间隔中转速比与中频误差的关系。图2 (a)不同瓣数的表面压强分布与转速比耦合作用原理。(b)不同瓣数的表面压强分布与转速比耦合作用对中频误差的影响。图3 实验与仿真的对比图。
  • 广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院预算1700万采购化学机械研磨机(CMP)
    p 8月17日,广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院发布《广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机(CMP)采购项目单一来源采购公示》,拟采购单一来源的CMP设备。/pp一、项目信息/pp 采购人:广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院/pp 项目名称:广东粤港澳大湾区国家纳米科技创新研究院化学机械研磨机(CMP)采购项目/pp拟采购的货物或者服务的说明:/ptable style="border-collapse:collapse "tbodytr class="firstRow"td style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 包号/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 货物名称/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 数量br//tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 采购预算(人民币)/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top"最高限价(人民币)/td/trtrtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="49" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="161" valign="top" 化学机械研磨机(CMP)/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="67" valign="top" 1/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="163" valign="top" 1700万元/tdtd style="border: 1px solid rgb(0, 0, 0) word-break: break-all " width="123" valign="top" 1200万元/td/tr/tbody/tablep CMP过程是一个动态的微细加工过程,通过化学腐蚀和机械力共同作用实现对待抛光面材料表面的平滑处理。在该过程中,抛光液中的化学组分与待抛光面材料发生反应,在待抛光材料表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物 而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对待抛光材料表面进行微量去除。此外,抛光过程抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。在高端TC-SAW器件的制备过程中,叉指电极的表面粗糙度、以及叉指电极的图案化,在后续的材料生长过程中,由于保型性,最终的覆盖层上表面不是一个平整的表面,会导致波的覆盖层表面的传播特性受到影响,所以,必须要对覆盖层的上表面进行平坦化处理。另外,电极层、以及表面覆盖层的厚度也要精确的控制,从而实现对于器件频率一致性的精确控制。CMP加工的过程中,主要关注的参数包含设备参数、研磨液参数、抛光垫参数、CMP对象薄膜参数等。CMP是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细化工、控制软件等多领城最先进技术于一体的设备,是集成电路制造设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。为了完成本项目,急需采购符合相关技术指标的化学机械研磨机。/pp拟采购的货物或服务的预算金额:1700.0 万元(人民币)br//pp采用单一来源采购方式的原因及说明:/pp (1)、采用单一来源采购方式的原因及相关说明:/pp化学机械抛光(CMP)是芯片制造的五大关键技术之一,其装备与工艺技术在国内长期处于空白。国内近年来也取得了较大的进步,如华海清科等公司只有8寸机, 6寸机需要定制,加价幅度较大(没有明确),没有6寸铌酸锂/钽酸锂工艺经验。/pp 尽管中国大陆地区的CMP设备市场规模较大,但高端CMP设备均依旧依赖于进口,前三大厂家应材公司、荏原公司、东京精密。应用材料的CMP设备是8寸制程开始,6寸制程现阶段只有研磨头,不配备清洗功能,且没有SAW滤波器的经验。荏原(Ebara)公司的CMP设备,有6寸支撑,至今为止,还未在大陆的SAW滤波器厂家有过购买使用经验,国能销售以及技术支持团队不能保证碎片率。东京精密的CMP设备在SAW滤波器行业具有广泛的应用,国外如村田、太阳诱电、RF360等高端滤波器厂家,都在使用其相关设备。/ppTC-SAW器件对于CMP工艺的要求较高,一直也是国内滤波器产业需要突破的技术难题,必须要求厂家具有相关的经验,且对设备具有相关的改造经验。经详细调研,东京精密的CMP设备在SAW滤波器厂家具有广泛的应用,且能够满足研发需求,所以,申请单一来源。/pp (2)各专家对相关供应商因专利、专有技术等原因具有唯一性的具体论证意见,专家的姓名、工作单位和职称:/pp专家1:姓名 蒋侬辉 工作单位 广东农科院 职称 副研 意见: 同意/pp专家2:姓名 丘麒 工作单位 华南农业大学 职称 高工 意见: 同意/pp专家3:姓名 袁敏 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见: 同意/pp专家4:姓名 严丽 工作单位 广东轻工职业技术学院 职称 高工 意见: 同意/pp专家5:姓名 姚宇江 工作单位 华南师范大学 职称 高工 意见: 同意/pp (3)专家小组综合意见:/pp该项目采购设备之化学机械研磨机(CMP),经市场调研,满足采购人技术需求的供应商只有一家,为满足采购人的科研需求,建议使用单一来源采购方式进行。/pp二、拟定供应商信息br//pp 名称:苏州阿尔泰克电子科技有限公司/pp 地址:苏州高新区科发路101号520室/pp三、公示期限/pp 2020年08月17日 至 2020年08月24日 (公示期限不得少于5个工作日)/pp公告链接:a href="http://www.ccgp.gov.cn/cggg/dfgg/dylygg/202008/t20200817_14846803.htm" target="_blank"中国政府采购网/a/ppbr//p
  • 河南:推动半导体封测、切片、磨片、抛光等专用设备产业化
    2月16日,河南省人民政府印发《“十四五”数字经济和信息化发展规划》(以下简称“《规划》”)。《规划》提到,要积极布局半导体材料产业,发展以碳化硅、氮化镓为重点的第三代半导体材料,提升大尺寸单晶硅抛光片、电子级高纯硅材料、区熔硅单晶研发及产业化能力,推进新型敏感材料、复合功能材料、电子级氢氟酸、半导体靶材研发及产业化,提升集成电路设计能力。充分挖掘省内产业基础,发展光通信芯片、电源管理芯片。支持郑州航空港经济综合实验区发展高端模拟与数模混合芯片,提升硅单晶抛光片产能,推进第三代化合物半导体生产线、高可靠集成电路封装测试生产线、工业模块电源生产线建设,加快实现规模化生产,推动半导体封测、切片、磨片、抛光等专用设备产业化。《规划》原文如下:河南省“十四五”数字经济和信息化发展规划  近年来,互联网、大数据、云计算、人工智能、区块链等技术加速创新,日益融入经济社会发展各领域全过程,数字经济发展速度之快、辐射范围之广、影响程度之深前所未有,正在成为重组全球要素资源、重塑全球经济结构、改变全球竞争格局的关键力量。为深入贯彻党中央、国务院关于大力发展数字经济的决策部署,加快推动数字产业化、产业数字化,做大做强数字经济,建设数字河南,推动全省经济社会高质量发展,按照《“十四五”数字经济发展规划》《河南省国民经济和社会发展第十四个五年规划和二○三五年远景目标纲要》总体部署,编制本规划。  一、发展基础和面临形势  (一)发展基础。近年来,我省以建设国家大数据综合试验区为牵引,培育壮大数字经济核心产业,加快推进数字化转型,积极发展新业态新模式,推动数字经济与实体经济深度融合,强化信息化赋能,数字经济发展和信息化建设呈现良好发展态势,正在成为全省经济社会高质量发展的新引擎。  1.政策机制基本建立。制定推进国家大数据综合试验区建设实施方案、若干意见、产业发展引导目录和促进大数据产业发展若干政策等,明确我省大数据发展思路、战略目标、主要任务和产业导向。根据国家数字经济发展战略部署,印发实施数字经济发展实施方案等政策文件,加快发展以数据为关键要素的数字经济。成立省委网络安全和信息化委员会、省建设国家大数据综合试验区领导小组,建立省促进数字经济发展部门协调联动推进机制,我省支持数字经济发展的政策体系基本建立,统筹协调政治、经济、文化、社会等各领域网络安全和信息化重大问题的能力显著增强。  2.数字产业快速发展。全面推进大数据、鲲鹏计算、网络安全、新一代人工智能等数字产业发展,引进华为、阿里巴巴、海康威视等一批龙头企业,搭建互联网医疗系统与应用国家工程实验室等60个省级及以上大数据创新平台和12个大数据双创基地,初步形成以龙子湖“智慧岛”为核心区、18个大数据产业园区为主要节点的“1+18”发展格局,郑州下一代信息网络、信息技术服务产业集群入选首批国家战略性新兴产业集群发展工程。大数据产业。争取获批建设国家社会信用体系与大数据融合发展试点省,交通、扶贫、金融、能源、旅游等领域大数据创新应用取得突破性成效,发展了一批行业应用型骨干企业。黄河鲲鹏计算产业。郑州中原鲲鹏生态创新中心、许昌鲲鹏制造基地、新乡鲲鹏软件园快速发展,许昌制造基地已具备年产“Huanghe”服务器36万台、PC机75万台、主板25万片的能力,成为华为鲲鹏国内重要生产基地。第五代移动通信技术产业。聚焦产业链关键环节开展专题招商,培育了5G芯片、智能终端、软件开发、关键材料等特色产品,郑州大学第一附属医院建成国内首个连片覆盖的5G医疗实验网,平顶山跃薪时代“5G+智慧矿山”已实现成熟应用和复制推广。网络安全产业。培育了信大捷安、山谷网安等骨干企业,构建了“芯片+软件+终端+平台+服务”的全产业链条,安全芯片、不良信息监测等领域技术水平全国领先,郑州金水科教园区获批国家网络安全创新应用先进示范区,产业规模达到200亿元。新一代人工智能产业。引进落地科大讯飞、寒武纪、释码大华等龙头企业,建成郑东新区智慧岛未来城市全景实验室等应用场景,其核心及相关产业规模突破300亿元。卫星通信产业。北斗应用已覆盖农业农村、智慧城市等领域,拥有一批高端研发机构,加快推进孵化器基地和产业园建设。区块链产业。全省注册区块链业务的企业达到339家,中盾云安进入全国区块链百强企业名录。  3.产业数字化转型持续推进。新一代信息技术的加速融合应用成为传统行业高质量发展的重要方式。农业数字化转型稳步实施。全省行政村益农信息社覆盖率达到85.8%,农业数字化设施加快部署,建成了一批大田种植、设施园艺等物联网示范基地,鹤壁市入选全国首批农业农村信息化示范基地。工业数字化转型快速推进。实施机器人“十百千”示范应用倍增工程,培育省级智能车间(智能工厂)571个、上云企业超过10万家,中信重工矿山装备、一拖现代农业装备等8个工业互联网平台入选国家工业互联网试点示范项目。服务业数字化转型全面展开。跨境电商、共享经济等新型服务模式特色突出,形成以中钢网为代表的B2B电子商务平台、以UU跑腿为代表的生活服务共享平台等一批平台经济企业,建成龙门石窟全国首个智慧旅游景区,物流信息全程监测、预警及需求对接服务平台覆盖全省国内物流量的86%,2020年全省电子商务交易额突破1.9万亿元,跨境电子商务进出口交易额达到1745亿元。  4.数字化治理能力不断提升。数字技术大规模应用,政府管理效率和服务能力大幅提高,民众满意度和获得感持续提升。数字政府服务高效便捷。建成全省一体化在线政务服务平台、“互联网+监管”平台和贯通省、市、县、乡、村五级的政务服务网,河南政务服务移动端“豫事办”上线运行,“最多跑一次”事项实现率达到90%。新型智慧城市建设提速。制定实施加快推进新型智慧城市建设的指导意见,组织开展郑州等8个新型智慧城市试点,统筹推动各地开展新型智慧城市建设,郑州市生态宜居、驻马店市惠民服务被国家评为新型智慧城市典型优秀案例。数字乡村建设全面推进。建成省、市、县、乡、村五级联网的乡村治理数字化平台,培育了一批数字乡村特色小镇,鹤壁市淇滨区、灵宝市、西峡县、临颍县入选首批国家数字乡村试点地区。  5.数字基础设施加快完善。全省通信网络基础设施全国领先,算力基础设施加快布局,为数字经济发展提供了有力支撑。通信网络基础设施。网络基础设施覆盖率大幅提升,在全国率先实现20户以上自然村4G和光纤接入全覆盖;累计建设5G基站4.5万个,实现县城及以上城区5G网络全覆盖;互联网省际出口带宽达到26416G,居全国第10位;郑州国家级互联网骨干直联点总带宽达到1360G,居全国第3位;郑州、开封、洛阳互联网国际专用通道建设开通宽带达到320G,实现自贸区全覆盖。移动物联网。物联网终端用户达到6655.7万户,居全国第7位,部分省辖市实现县城以上区域窄带物联网连续覆盖。卫星通信基础设施。建成启用建站技术标准最高、站点数量最多、密度最大、完全自主可控的省级北斗地基增强系统,形成由247个站点组成的卫星导航定位基准站网,建立了由1个省级数据中心、28个市级分中心组成的运行架构和数据处理分发服务体系。数据中心。建成国家超级计算郑州中心、中国移动(河南)数据中心、中国联通中原数据基地、中国电信郑州高新数据中心等一批新型数据中心,全省建成大型数据中心3个、中小型数据中心84个。  (二)面临形势。随着物联网、大数据、人工智能等新一代信息技术蓬勃兴起,世界经济已进入以数字化、网络化、智能化为显著特征的发展新阶段,数字经济快速发展,信息化快速推进,引发经济社会各领域数字变革,已成为打造经济发展新高地、应对国际激烈竞争、抢抓战略制高点的重要手段。面对世界经济复杂局面,特别是在新冠肺炎疫情期间,数字经济展现出顽强的韧性,远程医疗、在线教育、共享平台、协同办公、跨境电商等服务广泛应用,对促进各国经济稳定、推动国际抗疫合作发挥了重要作用。主要发达国家前瞻布局数字经济,加快推进信息化进程,加强对国际数字贸易新规则的控制权和话语权,数字与实体深度交融、物质与信息耦合驱动的新型发展模式加速形成,做大做强数字经济已成为构筑国家竞争新优势的战略选择。  发展数字经济和推进信息化建设是党中央、国务院全面分析世界经济格局变革新趋势,着眼中国经济社会迈入新阶段作出的重大战略部署。习近平总书记多次作出指示批示,强调要加快发展数字经济。《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十四个五年规划和二○三五年远景目标的建议》明确提出,“十四五”期间要建设数字中国,发展数字经济,推进数字产业化和产业数字化,推动数字经济和实体经济深度融合,打造具有国际竞争力的数字产业集群。当前,我国数字经济和信息化正在转向深化应用、规范发展、红利释放的新阶段,数字技术快速推动各行业在生产方式、商业模式、管理范式等方面发生深刻变革,数字经济在国民经济中的地位进一步凸显,对经济增长的贡献率达到60%以上,日益成为推动经济快速增长、包容性增长、可持续增长的强大驱动力。  (三)机遇挑战。我省在发展数字经济和信息化方面具有突出的特色优势和较好的实践基础。当前我省正处于经济社会发展加速转型升级的关键时期,人力资源、应用市场、交通物流、产业集群等优势凸显,基础设施支撑和技术创新能力不断提高,为数字经济和信息化发展提供了良好环境。黄河流域生态保护和高质量发展、促进中部地区崛起等重大战略的深入实施,为我省发展数字经济和信息化带来了新的机遇,提供了持久动力,有利于推动构建定位清晰、任务明确、协同有序的数字经济和信息化新发展格局。我省有1亿多人口,以郑州为中心的500公里半径内(高铁1.5小时交通圈)覆盖4亿人口,随着这一区域的内需扩大和消费升级,优越的区位交通、万亿级的大市场、海量的数据资源将为数字经济发展和信息化建设提供巨大空间。  “十四五”时期,我省数字经济发展和信息化建设还面临一些挑战。各地加快抢占数字经济和信息化发展制高点,明确把建设数字经济强省作为重大发展战略,加强新型基础设施建设,布局发展5G、人工智能等新兴产业,全国新一轮竞争格局正在加速形成。虽然近年来我省数字经济发展和信息化建设取得了明显成效,但总体水平不高,与经济总量不匹配,数字经济龙头企业数量少、核心产业规模小、信息化建设相对滞后,缺乏有影响力的研发机构、创新平台和知名高校,大数据、云计算、人工智能等领域拥有核心技术的高端人才和团队数量较少,中小微企业、传统行业企业“不会转”“不能转”“不敢转”等问题比较突出,数据的权属界定、交易流通、开发利用等标准不完善,面临较大竞争压力。  二、总体要求  (一)指导思想。坚持以习近平新时代中国特色社会主义思想为指导,全面贯彻落实党的十九大和十九届二中、三中、四中、五中、六中全会精神,立足新发展阶段,完整、准确、全面贯彻新发展理念,紧抓构建新发展格局战略机遇,以推动高质量发展为主题,以国家大数据综合试验区为牵引,坚持数字产业化、产业数字化、数字化治理、数据价值化,着力实施数字化转型战略,推进“2143”重点工程,加强新型基础设施建设,抢先开展数据价值化试点,全面提升数字经济核心产业发展水平、数字社会和数字政府治理能力,推动数字经济、信息技术和经济社会深度融合,加快建设数字河南,打造数字经济发展新高地。  (二)基本原则。  1.创新引领、融合应用。坚持创新核心地位,加强技术、应用和商业模式协同创新,打造一批创新公共服务平台,强化创新人才引培,推进工业软件、半导体等“卡脖子”领域创新与产业培育,鼓励人工智能、量子信息、区块链等新兴信息技术研发投入和前瞻性布局。强化应用牵引,推动互联网、大数据、人工智能与实体经济、社会治理深度融合,打造一批应用场景,培育数字经济和信息化发展新业态、新模式、新路径。  2.重点突破、整体提升。充分发挥我省人口、交通、产业蕴藏的海量数据和丰富应用场景优势,在重点省辖市、重点领域谋划实施数字经济和信息化重点工程,推进试点示范,培育优势集群,打造典型应用场景。引导各地发挥比较优势,集中要素资源,加快发展特色产业,推动数字化转型,形成差异布局、分工合作、协同共进的良性发展局面。  3.开放带动、合作共赢。坚持以全球视野推进数字经济发展和信息化建设,主动融入国内大循环、国内国际双循环发展格局,在产业转型升级、数字化治理等领域加强与国内外的交流合作。用好数字经济峰会、“强网杯”、世界传感器大会等展示交流合作平台,推进与京津冀、长三角、粤港澳大湾区等优势区域及“一带一路”沿线国家和地区的战略合作,引进一批数字经济龙头企业,培育一批根植性强的数字经济新型市场主体。  4.共建共享、安全可控。坚持省级统筹,建立数字基础设施和数据资源开放共享机制,推进设施、数据、通用技术开放共享,充分发挥数据作为数字经济关键要素的重要作用,以数据资源价值挖掘激发经济发展新活力。建设数字经济安全保障体系,加强数字基础设施网络安全、数据安全防护,积极发展网络安全产业,加强个人信息保护,防范、控制和化解数字化转型过程中的风险。  (三)发展体系。以数字基础设施、数据价值化、数字产业化、产业数字化、数字化治理、网络安全体系为重点,建立数字经济和信息化发展体系。以培育壮大先进计算、智能终端、软件等重点产业为引领补强数字产业化短板,以加速农业、制造业、电商物流、文旅等重点领域智能化发展为突破全面推进产业数字化转型,以强化数字政府、智慧城市、数字乡村建设以及重点领域数字化管理服务为主要途径提升政府数字化治理水平,以高水平新型基础设施体系建设为现代化河南建设提供新平台、新支撑,以数据共享开放为核心推进数据价值化,以安全设施建设、安全技术应用等为重点健全网络安全保障体系,加快建立数字经济和信息化发展生态体系。  1.新型基础设施体系。优化升级5G、千兆光纤、移动互联网、卫星互联网等通信网络基础设施,统筹布局以数据中心、边缘计算中心、人工智能计算中心为核心的算力基础设施和新技术设施,加快推进传统基础设施智能化升级,前瞻布局创新基础设施。  2.数据价值化体系。建立数据标准体系,建设数据资源池,构建数据资源体系,推进数据资源化。健全数据流通机制,推进数据标准制、确权、定价、交易、证券化和监管工作,推进数据资产化和资本化。开展数据采集、存储、清洗、开发、应用等全流程市场化服务,培育数据服务能力。  3.数字产业化体系。以新型显示和智能终端、物联网、网络安全为重点培育壮大优势产业,以先进计算、5G、软件、半导体、卫星和地理信息为重点攻坚发展基础产业,以新一代人工智能、量子信息、区块链为重点积极布局前沿产业。发展在线服务、共享服务、无人服务等服务新模式,培育平台经济新业态。  4.产业数字化体系。建设农业物联网,发展精准种植养殖,推广智能农机和数字营销,建设全国农业数字化发展典范。建设工业互联网,推进智能制造和服务型制造,建立健全工业数据发展体系。加快发展智慧物流、电子商务、智慧金融、智慧文旅、智慧养老等,推进服务业数字化改造。  5.数字化治理体系。加强政务网络、政务云建设,推广“一网通办”“一网通管”“一网通贷”等,持续打造“豫事办”政务服务品牌,建设高效透明的数字政府。建设新型智慧城市、数字乡村,打造利企便民惠民的数字社会。推进智慧交通、智慧健康、智慧教育、智慧养老、智慧人社等建设,提高数字化公共服务效能。推进智慧环保、智慧监管、智慧应急、智慧安防、智慧城管等建设,提升数字治理能力。  6.数字安全保障体系。完善网络安全保障制度,加快重点领域、复杂网络、新技术应用、大数据汇聚、互联系统等各类型条件下网络安全保障制度建设。构建网络安全保障应急体系,建立网络安全事件快速响应和应急处置机制。  (四)主要目标。经过五年努力,全省数字经济和信息化发展水平明显提高,关键技术自主创新能力显著增强,数字经济核心产业规模实现倍增,数据价值化试点在全国率先推进,产业数字化水平进入全国先进行列,数字基础设施支撑和安全保障能力显著增强,数字治理和服务能力大幅提升,数字经济生态系统持续完善,郑州成为国家重要通信枢纽、信息集散中心,郑洛数字经济创新发展试验区成为具有国际竞争力的数字产业集群,基本建成全国数字产业化发展新兴区、产业数字化转型示范区。  1.新要素:数据价值化抢先推进。通过实施数据价值化工程,在全国率先开展数据价值化省级试点,数据价值体系和数据产业生态基本形成,实现政务数据有序开放共享、政企数据高度融通、市级数据全面接入,数据作为生产要素参与生产分配试点有序推进,农业、物流等优势领域数据价值化应用走在全国前列。  2.新产业:数字产业化实现突破性发展。通过实施数字经济核心产业发展工程,数字经济核心产业增加值较2020年翻一番,新一代信息技术产业营业收入突破万亿元,网络安全、先进计算、物联网等产业规模和综合竞争力位居国内前列。  3.新特色:产业数字化特色发展成效显著。通过实施重点领域数字化转型工程,建成全国农业数字化发展典范,打造一个跨行业、跨领域的综合性工业互联网平台,电商物流、智慧文旅、智慧金融等服务数字化水平大幅提升。  4.新治理:数字化治理能力显著提升。通过实施数字化治理工程,政务数据“聚、通、用”成效显著,基本建成利企便民惠民的数字政府和数字社会,新型智慧城市试点成效显著,智慧县城、智慧社区建设有序推进,争取建成一批国家级新型智慧城市、数字乡村试点。智慧交通、智慧教育、智慧健康等重点领域数字化治理能力显著提升。  5.新支撑:新型基础设施和网络安全设施全面领先。全省数字基础设施建设规模和水平位居全国前列,重点区域“公专互补”“固移结合”“天地协同”的一体化网络基本完善,网络基础设施建设全面领先,建成以郑州为中心的数据中心集群;交通、能源、水利等领域基础设施感知网络基本建成,管理智能化水平全面提升。建成网络安全保障应急体系,实现网络安全事件快速响应和应急处置。  (五)空间布局。围绕国家大数据综合试验区建设,统筹规划空间布局、功能定位和产业发展,发挥郑州、洛阳等地的引领和先发优势,支持各地规划建设一批数字经济园区,推动一批传统优势产业开发区数字化转型,构建“一中心多基地”发展布局。“一中心”即创建具有国际影响力的郑洛数字经济创新发展试验区,强化郑州、洛阳对周边城市的引领和辐射带动能力。“多基地”即支持各地根据区域特点和产业特色创建省级数字经济示范园区、省级数字服务出口基地,布局建设“智慧岛”,推动传统产业园区全面升级;支持创建省级数字经济发展示范县(市、区),加快推动县域数字经济发展,提升社会治理能力和数字乡村建设水平。加快推进园区智慧化建设。  1.建设郑洛数字经济创新发展试验区。以打造具有国际竞争力的数字产业集群为目标,建设服务全球数字化转型的“服务车间”“智造工厂”,开展区域级数据价值化示范,打造数据价值化的“试验基地”,推动政策先行、要素集聚、机制创新,建设我省数字经济发展的“先行示范区”。  2.创建省级数字经济示范园区。坚持分类分行业,以服务为着力点,认定一批省级数字化服务企业和数字经济示范园区。积极扩大数字服务出口,加快服务出口数字化转型,认定一批省级数字服务出口基地,申建国家数字服务出口基地。  3.创建省级数字经济发展示范县(市、区)。实施省级数字经济发展示范县(市、区)培育计划,在全省遴选20个左右县(市、区)开展示范,推动县域数字经济特色发展。  4.加快智慧化园区建设。推动先进制造业开发区、现代服务业开发区智能化升级,建设集约共享、泛在先进的信息基础设施,构建智慧园区综合服务平台。建立智慧园区数据资源共享机制,推动园区数据资源整合利用,实现园区内外部资源的多元共享。  三、加快建设新型基础设施,增强发展支撑能力  (一)优化升级网络基础设施。推进郑州国家级互联网骨干直联点、郑汴洛互联网国际专用通道等关键枢纽设施扩容布局,积极申建新型互联网交换中心。实施“双千兆”建设工程,推进“全光网河南”升级,推进超高速、大容量骨干网升级改造和5G独立组网网络规模部署,推进千兆无源光网络规模部署,打造千兆城市和行业千兆虚拟专网标杆,推进农村家庭百兆光纤、乡镇以上区域和重点行政村5G网络全覆盖。加快下一代互联网规模部署,提高互联网协议第六版(IPv6)活跃用户和流量占比。统筹移动互联网和窄带物联网(NB—IoT)协同发展,完善支持NB—IoT的全省性网络。推进区块链与工业互联网协同创新,积极申请“星火链网”超级节点、骨干节点。推动卫星通信、卫星遥感、卫星导航定位基础设施升级换代,积极探索天地一体化、第六代移动通信技术等未来网络布局建设。  (二)统筹布局算力基础设施。积极引进基础电信运营商以及互联网、银行、证券、保险、物流等重点企业的全国性或区域性数据中心,争取在能源、农业种业、交通物流、黄河生态、卫生健康、计量等领域布局国家级行业数据中心,支持在工业、车联网等领域按需布局边缘数据中心,推进云边协同发展。拓展国家超级计算郑州中心特色应用,在生物育种、精准医学、气象环保等领域培育一批超算重大应用,提升运行效能。开展人工智能计算中心布局,搭建公共算力服务平台,优化算力算法,推进人工智能、区块链基础设施建设和集成应用。争取国家工业互联网大数据分中心、国家北斗导航位置服务数据中心和一批国家级行业大数据中心布局,建设国家(郑州)数据枢纽港。支持大数据中心等用电大户配套建设储能设施。  (三)有序建设融合基础设施。推动交通物流、清洁能源、生态环境、城乡发展基础设施智能化改造,集约共建公共服务平台,进一步发挥新一代信息技术对经济社会各领域的赋能作用。推进重要路段和节点的交通感知网络覆盖,建设面向自动驾驶、车路协同、无人运载工具等新技术新装备应用的专用试验场地与平台。建设智慧能源基础设施,完善省能源大数据中心功能,推进能源互联网建设,推动电网基础设施智能化改造、智能微电网和充电桩建设,强化电力、天然气、热力、油品等能源网络信息系统互联互通和数据共享。持续推进防汛、抗旱等水利基础设施智能化改造,加强大数据、人工智能等技术与堤防、闸坝、水库、水文观测站等设施融合。建设“智慧黄河”数字化平台,强化水文、气象、地灾、雨情、凌情、旱情等状况动态监测、数据共享和科学分析。积极谋划布局互联网医院、远程医疗、互联网教育、电子商务平台、数字孪生体等融合基础设施新业态。  (四)前瞻布局创新基础设施。围绕国家战略科技力量建设,集中优势资源,全面加大高水平实验室、大科学装置、产业创新平台建设力度,提高创新基础设施比重。加大省实验室建设力度,重塑重点实验室体系。加快嵩山实验室、神农种业实验室、黄河实验室建设,力争在种质创新等领域创建国家实验室,在网络空间先进防御、黄河流域生态保护和系统治理、药物化学、动物免疫学、极端材料、分子催化与能源转化、纳米光电材料与器件、矿山安全科学与工程等领域择优培育创建5家国家重点实验室。谋划建设超短超强激光平台、量子信息技术基础支撑平台、交变高速加载足尺试验系统、智能医疗共享服务平台、优势农业种质资源库、国家园艺种质资源库等科技基础设施项目,实现大科学装置零的突破。推进国家生物育种产业创新中心、国家农机装备制造业创新中心等重大平台建设,在光通信、诊断检测、地下装备、网络安全、高端轴承等优势领域创建国家工程研究中心、技术创新中心、产业创新中心,支持具备条件的省级创新平台晋升为国家级。  四、抢先培育数据生态,探索数智赋能新领域  (一)努力构建数据资源体系。制定全省统一数据规范和管理标准,建设省大数据中心,以政务数据为基础链接行业、社会数据资源,集约建设省、市两级数据资源池体系,推进数据资源化。到2025年,建成政务数据有序开放共享、政企数据高度融通的省级数据资源池,实现市级数据资源池全面接入,实现政务、工业、农业、交通、教育、医疗、金融、文旅等重点领域数据有序汇聚和安全调用,畅通企业、个人数据汇聚通道。  1.建立数据标准体系。制定全省统一的政务数据规范,明确政务数据技术标准、数据管理标准和数据应用标准,引导行业、社会数据标准化,逐步规范数据采集、汇聚、存储、加工处理、开放共享、数据管理、定价交易以及软硬件服务行为,形成一批地方标准。建设省级大数据标准化服务系统,开展数据标准化评估,发展数据标准化试验验证、检验检测、标准认证等公共服务。支持有条件的地方先行探索建设市级数据标准体系,鼓励建设数据标准化示范基地,重点围绕电子政务、城市治理、产业应用等开展数据标准化试点示范。  2.建设数据资源池体系。基于省大数据中心和各地政务数据中台,支持打造高质量政务数据资源池,鼓励建设一批行业、经济、社会数据资源库,并加强与政务数据资源池的融合对接。按照分领域、分地域原则,支持建设行业级、区域级的“数据字典”,推进数据清洗、去冗余,建立全生命周期的数据治理闭环,提高数据质量和应用效率。推动市级数据资源池与省级数据资源池有效衔接。  (二)探索建立数据价值体系。开展数据要素价值化试点,加强数据标准制定、确权、定价、流通、资本化、监管研究,探索建立数据流通机制、应用体系、监管与安全体系,推进数据由资源化向资产化、资本化过渡,建设数据价值化试验基地。到2025年,数据价值体系基本建成,数据作为生产要素全面参与生产分配,在政务数据开放应用以及农业、物流、文旅等优势行业领域数据价值化应用全国领先。  (三)加快培育数据服务能力。推进数据产业化、产业布局联动发展以及数据技术和工具共研共享,做大做强数据服务业,发展数据采集、存储、清洗、开发、应用等全流程市场化服务。到2025年,全省数据服务能力全面提升,数据标注、数据安全等产业规模全国领先。  1.数据采集与数据存储服务。统一数据采集规范,支持人工采集、系统日志采集、网络数据爬虫、数据库采集等多种技术应用和企业发展,大力发展数据采集产业。结合数据中心发展布局,推进互联网数据中心、内容分发网络、云租赁、数据代维等数据存储服务及关联产业发展。  2.数据处理服务。培育数据清洗中小企业,支持开发专业、细分领域的通用数据清洗技术和工具,提升数据清洗公共服务能力。推广“众包”“众包+工厂”“机器+人工”等数据标注发展新模式,发展数据标注产业。充分发挥人力资源优势,推进数据标注产业集聚发展,建设一批数据标注乡(村)。推动行业数据和城市大数据开发利用,探索建立数据要素开发利用机制,规范有序挖掘数据价值。  3.数据交易服务。以国家大数据综合试验区建设为牵引,依托中原龙子湖“智慧岛”等重点园区,形成涵盖数据工厂、数据加工、数据技术、数据确权、数据定价、数据创业“六数”数据交易生态。支持郑州、洛阳等数据要素活跃地方探索建设数据要素交易流通市场,支持新乡、濮阳等地联合国内成熟大数据交易机构开展数据交易,引导数据要素交易生态加速汇集,形成基础夯实、布局合理、特色鲜明、协同高效数据交易生态圈。  五、提升发展核心产业,夯实数字强省建设根基  (一)培育壮大优势产业。  1.新型显示和智能终端。坚持龙头带动、屏端联动、集群配套,发展新型显示产业,提升智能终端产业发展水平。重点发展高世代薄膜晶体管液晶显示器、大尺寸有源矩阵有机发光二极体面板、中小尺寸柔性折叠屏、车载显示屏等产品。巩固高端手机产能,大力引进知名品牌手机企业,推动智能手机产业高端化、品牌化发展。围绕生产制造、文化教育、医疗健康、娱乐消费等领域智能化发展需求,积极发展基于5G技术的数字影音、智能家居、智能安防、智能可穿戴设备、虚拟现实/增强现实等新型智能终端产品。  2.物联网。巩固提升气体、热释电红外、气象等传感器竞争优势,积极发展基于微机电系统的新型智能传感器,丰富智能传感器、射频卡、嵌入式芯片、传感网络设备等物联网产品体系,做优车联网、医疗物联网、家居物联网产业,协同发展云服务与边缘计算服务,构建信息感知、网络传输、平台建设、应用示范,涵盖“云管端”的物联网闭环生态圈。建设智能传感器产业共性关键技术创新与转化平台,补齐以特色半导体工艺为代表的技术短板。推动智能传感器材料生产、设计制造、封装测试、系统集成和重点应用全产业链发展,打造智能传感器材料、智能传感器系统、智能传感器终端产业集群,建设中国(郑州)智能传感谷和洛阳、新乡智能传感器基地。  3.网络安全。建立产学研用一体化网络安全产业生态体系,支持骨干企业建设公共技术支撑平台,搭建高端网络安全产品交易展示中心、网络安全体验中心,加强与重点院校合作,突破低功耗物联网安全芯片设计、安全态势感知、网络主动防御、大数据安全、量子密钥分发等关键核心技术,培育发展安全芯片、安全软件、安全可控智能终端、云安全、工控系统安全等产品和服务,吸引带动产业链关联企业集聚发展,支持郑州建设国家网络安全产业园,打造全国重要的网络安全产业集群。完善网络安全产业发展配套服务,推进网络安全学院、攻防实验室、实战靶场、产品检测认证中心、协会联盟、产业基金等生态体系建设,发展网络安全规划咨询、安全集成、产品检测、风险评估、身份认证、应急响应、容灾备份等安全服务。  (二)攻坚发展基础产业。  1.先进计算。加强基于鲲鹏架构的关键环节核心技术攻关,加快中原鲲鹏生态创新中心建设,做大做强黄河鲲鹏硬件制造基地和鲲鹏软件产业,培育2—3家行业领军企业,打造“Huanghe”本土品牌,构建全国领先的鲲鹏计算产业链和价值链。大力引进培育计算产业优势企业、研发平台和人才团队,建设一批服务器、计算机整机及配套产品生产基地,加快计算产品在政务、基础、产业、社会等重点领域的应用示范,打造千亿级计算产业集群。  2.5G。培育引进一批5G智能终端、通信模组、天馈线、5G小型化基站设备、5G高频元器件等制造企业和项目,加快形成5G关键器件及材料生产能力。建设5G产品监测、认证、入网检测等公共服务平台,搭建5G创新中心,提高产业发展综合服务水平。实施5G融合应用工程,重点推动5G在工业互联网、车联网、智慧城市、智慧农业、智慧医疗等领域融合应用,打造一批5G标杆应用场景。  3.软件。加快软件与互联网、物联网、5G、大数据、云计算、人工智能等新一代信息技术的融合创新应用,围绕政务、金融、医疗、教育、工业等重点行业需求构建软件产业生态体系。提升操作系统、数据库、中间件等基础软件开发能力,布局开发深度学习算法、知识图谱、量子计算等领域软件。推进工业软件发展“云化”新业态,鼓励企业开放应用开发平台,支持有条件的企业发展云原生产品。建设鲲鹏软件小镇等一批软件产业园,引进落地一批行业骨干企业,推动软件产业集聚发展。规范软件园区建设发展,开展首版次软件产品认定,支持有条件的地方创建“中国软件特色名城”。  4.半导体。积极布局半导体材料产业,发展以碳化硅、氮化镓为重点的第三代半导体材料,提升大尺寸单晶硅抛光片、电子级高纯硅材料、区熔硅单晶研发及产业化能力,推进新型敏感材料、复合功能材料、电子级氢氟酸、半导体靶材研发及产业化,提升集成电路设计能力。充分挖掘省内产业基础,发展光通信芯片、电源管理芯片。支持郑州航空港经济综合实验区发展高端模拟与数模混合芯片,提升硅单晶抛光片产能,推进第三代化合物半导体生产线、高可靠集成电路封装测试生产线、工业模块电源生产线建设,加快实现规模化生产,推动半导体封测、切片、磨片、抛光等专用设备产业化。  5.卫星和地理信息。突破位置信息挖掘与智能服务、高性能组合导航等关键技术,研发芯片、模块、天线等关键部件,开发北斗卫星导航定位及位置服务软硬件产品。支持省连续运行卫星定位导航服务系统管理中心、郑州北斗云谷、北斗产业园建设,打造北斗导航产业数据挖掘、研发创新、终端制造和应用服务产业链。推动省自然资源卫星应用技术体系建设,提升卫星遥感应用保障能力,发展高中空飞机、低空无人飞机、地面遥感等遥感系统,建成多源遥感数据一体化综合服务平台。完善基础测绘体系,推进地理信息公共服务平台建设,开展实景三维河南建设,引导测绘地理信息产业融合发展,探索“北斗+5G”示范应用,推进地理信息技术和产品在社会治理、国土空间规划、生态保护、乡村振兴、智慧城市等领域深度应用。  (三)积极布局前沿产业。  1.新一代人工智能。加强人工智能关键共性技术攻关,重点突破图象识别感知、数字图像处理、语音识别、智能判断决策等核心应用技术,引进一批人工智能龙头企业,做强智能网联汽车、智能机器人、智能无人机、智能计算设备等智能产品,加快推进中原人工智能计算中心、中原昇腾人工智能生态创新中心建设。拓展“智能+”应用领域,推进无人驾驶、智能家居、智能农机、智慧物流等示范应用。举办国际智能网联汽车大赛,加快建设国家新一代人工智能创新发展试验区,打造“中原智谷”,建设具有全国重要影响力的人工智能产业创新发展高地。  2.量子信息。建设国际一流的量子制备中心、量子精准测量控制中心、量子技术应用探索平台,建设一批量子信息新型研发机构、创新平台,突破光学芯片、量子密钥分发及管理、量子存储器等关键技术,引进和培育一批量子通信元器件生产、设备制造、网络建设及运营服务企业。建设国家广域量子通信骨干网络河南段及郑州量子通信城域网,推动量子计算在人工智能、材料模拟、云计算、高性能计算和大数据等领域应用,率先在电子政务领域启动量子安全应用试点。  3.区块链。开展区块链技术创新,鼓励面向国产操作系统和芯片的区块链底层技术研发,突破加密算法、共识机制、智能合约、侧链与跨链等核心底层技术。建设一批区块链产业园区、孵化器和实训基地,培育壮大本土区块链龙头企业和研究机构,加快发展企业联盟链、私有链。推进区块链技术在金融、数据交易、信息保护、溯源、政务、物流等领域应用。  (四)大力发展平台经济。抢抓数字经济发展机遇,推广在线服务、共享服务、无人服务等新模式,培育平台经济新业态,构建多主体共治的平台监管模式,推进平台经济健康有序发展。  1.积极培育平台经济新业态。支持开展在线教育、在线办公、互联网医疗等线上服务试点,推动工业企业探索协同制造、柔性制造、个性化定制的商业模式和适用场景,加快共享出行、餐饮外卖、共享住宿等领域产品智能化升级和商业模式创新,推进员工、设备、创新资源、办公资源等生产要素的共享集约利用。支持在高危行业和恶劣工作环境建设智能工厂、无人矿山,探索发展无人配送、无人零售、无人餐厅、无人物流等服务业态,推动适应不同作物和环境的智能农机研发应用,建设一批新技术新装备应用的专用试验平台。支持各地围绕产业发展、交易、社交等引进培育一批平台经济企业,鼓励有条件的传统企业向平台型企业转型。  2.探索推进政府数据与平台企业数据融通发展。推动具有产业带动能力、产业资源集聚能力的平台企业打造数据基础平台,支持各地基于城市数据大脑、政务云等探索建立政务数据与平台企业数据互通机制,研究政府数据向平台企业有序开放机制和模式。加大政务数据推广应用力度,支持平台企业打通产业壁垒,推进重点区域电信、交通、物流、文旅、安全、健康等环节统一调度,推动政务数据公平公正赋能千行百业。  3.构建多主体共治的平台监管模式。坚持包容审慎原则,建立完善平台企业监管机制,明确平台责任,畅通用户和社会组织参与渠道,打造平台自治、政府监管、行业自律、社会监督广泛参与的立体化多元协同共治格局。强化平台企业治理,引导平台经营者切实担负数据安全和隐私保护、商品质量保障、劳动保护等方面责任。保护数字经济领域市场主体尤其是中小微企业和平台内经营者合法权益,规范各类市场行为。  六、加速推动产业数字化,赋能产业结构升级  (一)打造全国农业数字化发展典范。  1.农业物联网。实施农业物联网区域试验工程,加强5G、北斗导航和遥感技术应用,加快智能传感设备部署和改造,开展大田种植、畜禽养殖、质量安全追溯等方面的农业物联网试验,构建“天空地”一体化数据采集和监测预警系统。将农业物联网技术纳入全省农业重大技术推广计划,建设农业物联网应用示范基地,发展数字田园、智慧养殖、数字种业等高端农业,提高农业生产数字化水平。  2.精准种植和养殖。加强农业大数据综合应用,推进农业单品种生产、加工、流通等环节全产业链数据采集,建设智慧农业数据库,开展数据分析预判,指导农业精准生产。实施“一村九园”(数字村庄、数字田园、数字果园、数字菜园、数字茶园、数字菌园、数字药园、数字花园、数字牧场、数字渔场)数字农业示范工程,围绕大田种植、园艺作物、畜禽养殖、林特产品等领域,规划建设数字农业产业园等,提升现代农业精准管理、远程控制和智能决策水平。推进小麦、花生、生猪等领域精准种养试点示范,建设全国综合种养示范区。  3.智能农机。加快农机装备数字化改造,推动5G、北斗导航、智能监控等系统在农机上装载应用,推广农业机器人、植保无人机、无人驾驶拖拉机等新型装备。建设智慧农机平台,推进农机购置补贴、监理办证、农机调度等业务的统一数字化管理。加快国家农机装备创新中心、农业农村部航空植保重点实验室等建设,推进农机装备智能化领域技术创新,打造具有国际竞争力的智能农机装备产业基地。  4.数字营销。推动农村电子商务发展,支持推广村播、“短视频+网红”等新型营销模式,完善农产品网络销售的供应链体系、运营服务体系和支撑保障体系。健全农产品产销一体化信息系统,推动柘城县、淅川县“互联网+”农产品出村进城工程试点县建设,推进农产品产地冷藏保鲜设施建设,支持在豫西南肉牛优势特色产业集群区域建立低温直销配送中心。  (二)深化推进工业数字化转型。  1.工业互联网。加强工厂内外网建设,提高网络传输和感知水平,强化5G网络部署。以装备制造、食品等优势行业为重点推进标识解析二级节点建设,加快洛阳、许昌、漯河、郑州等工业互联网标识解析体系二级节点推广应用。深入实施工业互联网创新发展工程,推动“5G+人工智能+工业互联网”融合应用,建设“1+N+N”工业互联网平台体系,培育建设1个跨行业、跨领域综合性平台,N个细分行业、特定领域平台,N个优势产业集群平台,加快建设国家工业互联网平台应用创新推广中心。推进河南省工业互联网安全技术平台建设,建设工业互联网安全资源库、安全测试验证环境。持续推进“上云用数赋智”行动,鼓励中小企业业务系统向云端迁移,打造资源富集、良性互动的工业互联网平台生态。支持软件企业、工业企业、科研院所等开展合作,培育一批面向特定行业、特定场景的工业APP(应用程序)。建设河南省工业互联网大数据中心,争取建设国家工业互联网大数据分中心。  2.智能制造。研究制定智能制造分级评价指标体系,面向规模以上工业企业探索开展分级评价评估,引导企业制定智能化改造提升方案,推动工业企业智能化水平提档进阶。持续开展智能制造试点示范,大力推进“机器人+”,推动企业数字化、网络化、智能化发展,培育一批智能制造系统集成商。在钢铁、建材、石化、装备、食品、纺织服装等传统行业,加快智能制造单元、智能生产线、数字化车间建设,全面提升企业数字化水平。布局建设区域型、行业型、企业型数字化转型促进中心,培育数字化解决方案供应商。推动先进制造业开发区数字化转型,培育区域化、特色化的数字化平台,带动区域集群整体协同转型。到“十四五”末,全省建设1000个智能工厂(智能车间),培育100家“互联网+协同制造”示范企业。  3.服务型制造。深化制造业与互联网融合发展,推广基于互联网故障预警、远程维护、质量诊断等在线增值服务。发展个性化定制新模式,推动服装、家居等消费品行业引入定制解决方案和柔性生产设备,鼓励电子、汽车、工程机械等企业提升高端产品模块化设计、定制化服务能力。支持骨干企业建设协同研发设计平台,在装备制造、汽车、纺织服装等行业推广网络协同设计、虚拟仿真等新技术、新模式,在钢铁、有色、化工、建材等行业开展基于互联网的供应链管理模式创新试点。到2025年,培育150家服务型制造示范企业(平台、项目)。  (三)加快推进服务业数字化转型。鼓励重点行业领域大型制造企业开放“双创”平台资源,面向行业提供研发设计、检验检测认证、知识产权等社会化专业服务,建设生产性服务业公共服务平台,推动信息服务、研发设计、现代物流等生产性服务业向专业化和价值链高端延伸。加快生活性服务业线上线下融合发展,推动生活性服务业向高品质和多样化升级,培育具有示范带动作用的数字生活新服务标杆城市。推广服务新模式,鼓励大型商超、连锁店等生活服务场所云化改造,发展智慧门店、智慧配送、自助终端等无接触服务,规范推动共享出行、餐饮外卖、网络团购、体验经济等领域商业模式创新。重点推进智慧物流、电子商务、智慧金融、智慧文旅、智慧养老等具有河南特色的服务业数字化水平提升。  1.智慧物流。提升物流行业智慧化水平,建设物流信息化公共服务平台,探索发展“互联网+运力优化”“互联网+运输协同”等智慧物流,打造一批国家级智能仓储物流示范基地。实施物流枢纽智能化建设工程,提升郑州空港型、洛阳生产服务型国家物流枢纽和许昌、鹤壁等区域物流枢纽智能化水平。规划建设数字化供应链服务平台,积极培育无车承运企业,促进传统物流企业向数字物流平台转变。支持物流企业利用数字技术构建城乡高效配送体系,探索发展消费需求预测、无人快递配送等模式。  2.电子商务。加快发展跨境电商、直播电商、社交电商,支持电商企业运营模式创新,构建“多城市协同、进出口并重、线上线下融合”的电商发展新格局。聚焦特色产业、县域经济等方向,支持有基础的地方打造电商区域服务中心,推进“线上引流+实体消费”模式。  3.智慧金融。加快推广金融数据服务,深化大数据、人工智能、区块链等技术在金融服务中的应用,探索建立城市中枢平台与金融企业的数据开放共享机制,逐步实现政府数据向银行有序开放。发展供应链金融,支持建设供应链金融共享服务平台,在保证风险可控前提下有序推进大数据云贷等互联网融资产品。推广“信易贷”模式,建立完善全省一体化“信易贷”平台体系,提升河南省金融服务共享平台功能,提高农户、中小微企业首贷率和信用贷款占比。加快完善现有科技金融服务平台,建设跨境电子商务金融结算平台,扩大金融服务跨境合作,推广使用“信豫融”信用大数据平台、“普惠通”平台,开展智慧金融建设试点,鼓励银行等金融机构建设无人银行、智慧网点。争取开展数字人民币试点。  4.智慧文旅。围绕文旅文创融合发展战略,讲好河南故事、弘扬黄河文化,持续推进景区、酒店、旅行社、乡村旅游点以及文博场馆智慧化改造,打造一批高等级智慧景区、文化场馆和博物馆。全面推动非遗传承、文物古迹线上展示,高质量实施文物活化和数字文化工程。推动5G、物联网、人工智能、云计算等在文化和旅游领域创新应用与示范,加快发展新型文化企业、文化业态、文化消费模式,丰富和优化数字旅游产品与服务供给,构建智慧文旅新体系。利用互联网和新媒体加强文化、旅游宣介。  七、强力推进数字化治理,提升社会治理水平  (一)全面建设高效安全的数字政府。实施数字政府建设工程,打造管理、业务、数据、技术“四位一体”的架构,实现全省数字政府基础设施、公共支撑、数据服务、应用系统等集约化、一体化建设和运行,提升政府服务效能,推动政务数据开放共享。  1.提高政务网络设施水平。提升电子政务外网支撑能力,加快电子政务内外网等政务网络、网站的IPv6升级改造,增加电子政务网络带宽资源,优化组网架构,扩大覆盖面,建成省、市、县、乡四级全覆盖并向村(社区)延伸的高可靠、高性能“一张网”。统筹整合各部门分散部署的业务专网至电子政务网络。  2.完善政务云。构建1个省级主节点加17个省辖市及济源示范区分节点的全省“1+18”云平台架构,实现全省政务云资源的集中调度和综合服务,加快推进各级、各部门政务信息系统向政务云平台迁移和应用接入。依托政务云聚合全省政务数据和应用,提供统一的云计算、云存储、云管控、云安全等云服务。建设云安全资源池,完善政务云安全保障体系。  3.探索建设政务数据管理开放机制。整合现有数据资源,完善自然人、法人、自然资源和空间地理信息、信用信息、电子证照等基础数据库,拓展主题数据库资源。建立全省统一的数据资源目录,建设融合开放的数据服务平台,满足跨层级、跨地区、跨部门政务数据共享交换需求。实行管运分离的数据价值化运营模式,支持政府主导整合、汇聚、管理政务数据,引导汇入行业数据。探索政企数据互通共享,在保证安全的基础上有序开放共享数据。支持社会第三方基于政务数据开发数据产品。  4.提升政务服务能力。以应用为引领,加快省一体化政务服务平台迭代升级,持续提升在线服务成效度、在线办理成熟度、服务方式完备度、服务事项覆盖度和办事指南准确度,提高平台整体服务、创新服务、精准服务、协同服务能力。依托一体化政务服务平台,推进“一证通办”“全程网办”“全豫通办”“无感智办”,实现线上线下政务服务深度融合,不断提升政务服务效率和水平。优化“互联网+监管”模式,聚焦政务服务、公共卫生、社会安全、应急管理等重点领域,推进重大公共事件快速响应和联动处置。积极利用第三方平台开展预约查询、证照寄送、在线支付等服务,探索形成线上线下功能互补、相辅相成的政务服务新模式。  (二)加快建设智慧协同的数字城乡。  1.新型智慧城市。推动新型智慧城市建设,开展新型智慧城市试点示范创建,实现城市治理智能化、集约化、人性化。推进以省辖市、济源示范区为主体的新型智慧城市统一中枢平台建设,整合公共领域信息系统和数据资源,开展智能化创新应用,提升城市综合管理服务水平。支持基础较好的地方率先建设时空大数据平台,全面推进城市信息模型(CIM)基础平台建设,打牢数字孪生城市发展根基。依托CIM平台建立城镇住宅房屋“一楼一档”,对接城镇房屋网格化巡查功能。建立房屋安全在线监测体系,构建智慧物业服务模式,提升房屋使用安全管理水平。推进标准化、规范化智慧小区建设,打造综合集成社区服务和管理功能的一体化智慧社区。加快县城智慧化改造,聚焦补短板强弱项,推进县域新型智慧城市建设全面展开。    2.数字乡村。实施新一代农业农村信息基础设施建设工程,加快宽带通信网、移动互联网、数字电视网和下一代互联网向农村延伸覆盖,大幅提升乡村网络设施水平。实施信息进村入户整省推进示范提升工程,推动农业农村信息化服务平台和应用系统整合,创建60个以上省级数字乡村示范县,培育20家以上数字乡村建设领军企业,建设一批省级数字乡村创新中心。完善农村基层党建信息平台,推进乡村治理能力现代化。繁荣发展乡村网络文化,开展全民数字技能教育和培训,推进农村公共文化产品和服务数字化,缩小城乡数字鸿沟。  3.新型城市基础设施建设。推进城市园林绿化数字化信息平台建设,加强对全省园林绿化资源情况的监管。实施智能化市政基础设施建设和改造,促进物联网在城市市政基础设施领域应用,推动实施一批“物联网+市政基础设施”试点项目。推进城市运行管理平台建设,结合城市体检,全方位、多途径、多层级采集城市体检指标数据,构建城市管理“一张图”。推动智能建造与建筑工业化协同发展,推进智能建造产业体系建设,深化建筑信息模型技术应用,大力发展装配式建筑。  (三)努力提高数字化公共服务效能。  1.智慧交通。推动交通基础设施数字转型、智能升级,加快部署交通感知设施,建设智慧公路、智慧民航、智慧地铁,推进智慧交通设施共建共享。建设综合交通运输监管平台,构建省、市、县三级监管体系,完善综合交通服务大数据平台。结合高速公路“13445工程”,建设智慧高速,开展车路协同技术试点应用,加快推进高速公路管理服务平台和交通建设工程智慧管控平台建设,推动公路规划、设计、建造、养护、运行管理等全要素全周期数字化。建设智慧普通公路,通过布设公路运行监测与服务设施,实现对区域干线路网整体运行态势的实时感知和协同管理,提升公路网运行监测水平和路网整体通行效率。开展智慧航道、智慧港口建设,推进航道运行状态在线监测、船闸智能化升级、码头设施自动化改造等。建设智慧机场,创新服务产品和运营模式,统筹各种运输方式运力衔接。建设智慧地铁,搭建地铁一体化生产和管理信息集成平台,预留自动驾驶地铁技术应用条件。发展智慧化出行服务,推广客运“一票制”“一卡通”,到“十四五”末,郑州都市圈实现客运智能化定制服务。加密交通基础设施配套5G基站,构建“5G+智慧公交”、智慧路口等智慧交通应用场景。推动车联网发展,建设智能网联汽车试验示范基地,支持争创河南(郑州)车联网国家级先导区,开展郑州自动驾驶公交1号线等智能网联汽车示范运行。  2.智慧健康。深入推进“数字化”医院建设,提升医疗机构智慧化服务水平。加快区域全民健康信息平台智慧化升级改造,实现省、市、县、乡、村五级卫生健康信息全覆盖。推进各级医疗机构信息系统互联互通,实现居民健康信息、诊疗信息以及检验检查结果在各级各类医院共享。推进互联网医院建设,促进优质医疗资源下沉和“互联网+医疗健康”便民服务应用。实施“5G+”智慧健康共享示范工程,推进5G医疗示范医院、5G家庭监测服务等示范建设,开展覆盖全生命周期的预防、治疗、康复和健康管理一体化智慧健康服务,建设若干国内领先的智慧健康大数据应用示范场景。  3.智慧教育。深入实施教育信息化2.0行动计划,积极发展“互联网+教育”,加快学习环境智能化改造,鼓励社会力量发展在线教育,提供优质教育服务。以“三个课堂”为重点,完善教育资源和管理公共服务平台,全方位推动优质教育资源共建共享。积极探索课堂教学新方法、新模式,加强线上线下相结合的混合式教学模式改革。建设教育大数据支撑服务体系,通过学情数据采集、汇聚和分析,探索个性化、精准化教学路径。实施教育信息化示范引领工程和本科高等学校智慧教学三年行动计划,遴选一批智慧教育示范(区)、智慧校园示范校、智慧教学示范课,争创国家级“智慧教育示范区”。  4.智慧养老。引进培育一批智慧养老龙头企业,支持模式新颖、竞争力强的中小企业发展,加快形成覆盖智慧养老全链条的产业生态,争创国家智慧健康养老应用试点示范。加快建设省级养老服务“管理+服务”平台,推进智慧养老服务平台建设,创新慢性病管理、居家健康养老、个性化健康管理、互联网健康咨询等服务方式,建立“服务、产业协同发展”的智慧养老新生态。  5.智慧人社。着力抓好“金保工程”二期、社会保障“一卡通”、人力资源社会保障综合信息系统管理平台建设,加快推进数据共享、业务协同、业务流程重塑。推动我省社会保障公共服务平台与全国统一的社会保障公共服务平台有序对接,全面推广应用电子社保卡,完善社会保险公共服务平台。  (四)有序提升重点领域数字化治理能力。  1.智慧环保。加快全省生态保护设施智能化升级,推动智慧环保、水利、气象等基础设施建设,依托5G、物联网、地理信息、卫星影像等技术,构建全面协同、智能开放的生态环境数字化监测、监控体系。建设完善环境生态监管平台,实现环境治理与修复、污染源、生态保护、生态质量监测、生态环境风险预测预警等领域监管全覆盖,强化环境治理与灾害应急的设施支撑。以推动黄河流域生态保护和高质量发展为契机,推进全省水资源、水生态、水环境、水灾害统筹治理,加快省内流域一体化治理与协同发展。探索沿黄数字开放共享廊道建设,促进全流域协同治理。  2.智慧国土。全面建成自然资源数据资源池,打造国土空间基础信息平台、地理信息公共服务平台。有序推进建立以地下资源层、地表基质层、地表覆盖层和管理层为基础的立体时空模型。构建“空天地”一体化的动态监测监管和空间数据获取体系,实现自然资源开发利用保护、自然生态修复治理信息化、智能化。  3.智慧水利。推进覆盖全省的水情、雨情、墒情、工情等全要素水利感知网络建设,构建立体观测、实时感知、时空协同的一体化信息采集和数据汇集系统。依托“水利大脑”赋能,建设水利综合监管一体化平台,提供预测预报、工程调度、行业监管、空间分析等服务,实现河湖水域岸线管理、水土保持、水资源高效利用、水生态保护、水旱灾害防治、移民安置管理、农村安全饮水、水工程建设管理等综合监管智慧化应用。  4.智慧城管。进一步完善数字城管快速反应体制机制,优化综合评价考核体系,构建“一个平台调度、一套流程处置”的数字化城市管理体系,推进数字城管向智慧城管升级。建立完善集感知、分析、服务、指挥、监察于一体的城市综合管理服务平台,全面覆盖城市管理综合执法、市政公用设施、园林绿化、市容环卫、便民惠民服务等领域,实现跨部门数据汇集和联通,加强对城市管理工作的统筹协调、指挥监督和综合评价,促进城市运行“一网统管”。  5.智慧监管。依托河南省信用信息共享平台、国家企业信用信息公示系统(河南)和部门协调监管平台,全面梳理监管事项目录,加强重点领域信用监管,推行企业信用风险分类管理。加强市场监管领域各部门数据融合和数据治理,整合市场准入、食品安全监管、特种设备安全监管等监管业务系统,完善线上线下一体融合的产品质量安全监测监管和服务责任追溯体系,加强食品、特种设备、药品、风险预警等重点领域监管系统建设,打造市场监管领域省级数据中心和智慧监管中心,提升监管科学化水平。  6.智慧应急。建设覆盖省、市、县三级应急管理部门的应急指挥专网,建立基于应急管理“一张图”的应急指挥信息系统,完成省应急指挥平台与应急部、省辖市和济源示范区应急指挥平台上下连通,实现应急救援智能化、扁平化、一体化,提升跨行业、跨部门、跨区域的应急指挥调度能力。构建智能风险预警系统,对危险化学品、尾矿库等重点行业领域以及自然灾害风险源、风险状态和趋势进行综合评估,依据风险分级标准绘制风险分布图。  7.智慧安防。建设省级社会治安防控信息化平台,构建省、市、县、乡、村五级联动的数字化社会治安防控体系。深入推进城市公共安全视频终端建设,织密公共安全视频监控网络,构建“全天不眨眼、重点全覆盖”的公共安全视频监控框架。建设完善公安大数据平台,推进数据资源深度融合,畅通大数据精准赋能基层渠道。建设完善新一代警综、移动警务、政务服务等通用平台和覆盖全警全域的智能化应用,建立完善数据资源对外服务技术体系和共享协同机制。  八、健全信息安全保障体系,营造安全可靠的网络环境  (一)推进重要规章制度落地实施。贯彻落实《中华人民共和国网络安全法》《中华人民共和国密码法》《中华人民共和国数据安全法》《中华人民共和国个人信息保护法》和党委(党组)网络安全工作责任制等法律、法规、制度、标准规范,强化防护责任,加强监督检查。完善网络安全工作统筹协调机制,健全网络安全检查、审查和应急指挥工作机制。  (二)加强关键基础设施安全防护。加强能源、交通、水利、金融、公共服务等重要领域信息基础设施,以及骨干网络、云计算平台、大数据中心、灾备中心、工业互联网平台、重要网络平台等关键信息基础设施安全保护,强化防护责任。组织关键基础设施认定和资产核查,开展网络安全保密隐患排查,提升安全可控和网络抗攻击防御水平。开展关键信息基础设施网络安全隐患排查,保障重点新闻网站、融媒体中心、广播电视播控中心等媒体系统安全。  (三)加强数据安全和个人信息保护。建立数据安全保护体系,落实数据资源分级分类管理和报备制度,加强数据安全保密监管手段和机制建设,加强数据全生命周期安全保密管理,提高数据安全和个人隐私保护能力。加强个人信息保护,强化个人信息收集、使用、共享等环节安全管理,严格规范运用个人信息开展大数据分析行为。加强数据安全监管执法,定期开展数据安全合规评估和违法违规专项治理,督促政府各部门、企业等强化网络数据安全管理,及时消除重大数据泄露、滥用等安全隐患。强化网络数据安全管理制度设计,按照《中华人民共和国网络安全法》、《电信和互联网用户个人信息保护规定》(工业和信息化部令第24号)等法律、法规要求,建立网络数据分类分级保护、数据安全风险评估、数据安全事件通报处置、数据对外提供使用报告等制度。规范商用密码应用和管理。  (四)强化新技术新应用安全保障。充分考虑新技术应用场景及安全性要求,制定完善云计算、大数据、物联网、人工智能、5G、区块链、车联网、移动应用程序等新技术应用规则,制定参数标准、使用环境条件标准、安全保障标准,完善技术测评等相关规范,促进新技术安全合理使用。加强新闻资讯、社交网络等重点领域新技术应用安全评估,统筹考虑技术安全、经济安全、社会安全,加强技术成熟度、脆弱性、风险隐患等评估。引导互联网企业加强内部管理和安全保障,建立健全行业自律互律机制,拓展资源提供者和公众参与治理渠道,探索建立政府、互联网企业、行业组织和公众共同参与的协同治理机制。  (五)推动网络应急体系建设。统筹网络安全应急体系建设,充分利用基础电信企业和云服务提供商网络资源优势,加强网络安全资源共享、态势感知、监测预警、信息共享、应急处置等方面协同。统筹协调有关部门加强网络安全信息收集、分析和通报工作,共建全省网络安全应急体系。建立健全网络安全风险评估和应急工作机制,制定网络安全事件应急预案,定期组织演练。  九、保障措施  (一)加强组织领导。发挥省数字经济发展领导小组作用,加强对全省数字经济发展的组织领导和统筹协调,研究数字经济发展重大政策,协调解决重大问题,统筹各级、各部门力量,形成全省上下协同推进数字经济发展的工作格局。聚焦数字经济核心产业重点领域,建立“一位省领导牵头、一套工作专班、一个产业研究院、一支产业引导基金”的“四个一”工作推进机制,加强政策要素支撑保障,加大资金、技术、人才、土地等关键要素投入。省有关部门要进一步细化工作任务和阶段目标,加强规划指导,完善配套政策。各地要建立相应工作推进机制,统筹推动本地数字经济发展政策落实及项目建设。  (二)加强资金支持。统筹省相关资金,加大对数字经济核心产业、重大项目和应用示范的支持力度,积极引导社会资本投向数字经济和信息化领域。加强政银企合作,建立数字经济项目常态化推介机制,鼓励金融机构加大创新支持力度。推动符合条件的数字经济企业在境内外资本市场上市融资,拓展融资渠道。落实高新技术企业和创业投资企业税收优惠、研发费用加计扣除、股权激励税收优惠等创新激励政策。  (三)强化人才支撑。大力推进柔性引才,将数字经济人才需求统筹纳入“中原英才计划”“招才引智”等重大人才工程,重点围绕半导体、软件服务、信息安全、大数据、人工智能、5G、云计算、区块链等信息技术及细分行业数字化领域,引进一批高端人才。支持企业、园区与高校建立人才输送合作机制,鼓励省内高校设置新一代信息技术相关学科,支持鲲鹏学院模式在全省推广。完善人才激励机制,全方位落实人才奖励补贴、薪酬待遇、社会保险、子女入学、住房需求等政策。“十四五”期间,引进、培养、培训不少于20万名符合产业发展需求的人才。  (四)推进协同监管。建立完善政府、平台企业、行业组织和社会公众多元参与的数字经济治理新格局,形成治理合力。强化数字经济领域跨部门协同监管,明确权责边界。加强互联网平台经营者、平台企业信用协同监管,完善针对失信经营者、失信平台企业的惩戒措施。建立数字经济统计监测机制,建设省、市、县三级数字经济监测平台,加强数字经济统计与考核评价。贯彻落实《河南省数字经济促进条例》,全面推进数字经济规范发展。  (五)优化发展环境。推进“放管服”改革,重点破除体制性、机制性、政策性障碍。实行政府权责清单制度,探索以投资项目承诺制为核心的极简审批模式,提升数字经济企业开办、财产登记、纳税、跨境贸易等便利度。加强对数字经济新业态用工服务的指导,制定完善数字经济新业态劳动保障政策。加强数字经济领域知识产权保护,培育和发展相关知识产权交易市场,探索建立快速维权体系。支持举办、鼓励参加数字经济领域的国内国际会展、论坛、赛事等活动,搭建数字经济展示、交易、交流、合作平台。加强数字经济法律、法规、规章以及技术、知识宣传、教育、培训,提升全民数字素养和技能。
  • 第三方检测 | 科研道路千万条,截面抛光第一条,氩离子抛光技术制备三元前驱体材料
    由于煤、石油、天然气等资源不可再生的特点使得开发可持续性能源成为当务之急。1991年日本索尼公司推出的锂离子电池让世界看到绿色能源电池新契机,其高比能量和高比功能密度已被广泛应用在电动汽车、国防工业、便携式电子设备等领域中。石墨因比容量高、结构稳定、成本低等特点已广泛用作商业负极材料,因此正极材料成为制约锂离子电池发展的重要因素。在众多的正极材料中,三元正极材料镍钴锰Li(Ni1-x-yCoxMny)O2由于其导电性能优良、成本低廉、环境友好等特点成为具有商业应用价值的电池材料。而正极材料能继承前驱体的形貌和结构特点,所以前驱体的结构、制备工艺对正极材料的性能有着至关重要的影响。因此对三元前驱体材料Ni1-x-yCoxMny(OH)2形貌及结构的研究显得尤为重要。为了更好的观察三元前驱体材料Ni1-x-yCoxMny(OH)2的内部结构,我们使用美国GATAN Ilion II 697精密刻蚀仪(图1)对材料进行刻蚀。Ilion II 配备两支无损、能量范围大的(100V-8KV)聚焦离子枪,样品制备时,高低电压的结合可极大提高抛光的速度和质量。同时聚焦离子枪的设计,可以保证低电压下,快速获得高质量的样品表面。 图1 GATAN Ilion II 697精密刻蚀镀膜仪 我们利用Ilion II 697精密刻蚀镀膜仪并配备蔡司Sigma 500场发射电子显微镜实现对三元前驱体材料的制备及观察。697所制备的粉末样品数量足够多,且表面平整度好,不仅可以看到其内部的孔隙大小、结构情况,还可以看到晶粒的大小和分布情况等。如图2(a)可看出材料整体制备平整、完好无损伤,2(b)可清晰观察到材料内部纳米级别孔隙;图2(c)(d)为另一种结构的前驱体材料,孔隙较小且可观察到晶粒。正所谓“工欲善其事,必先利其器”,选择合适的实验仪器和实验方法能让您的科研达到事半功倍的效果。图2 三元前驱体材料刨面结构
  • 沈阳科晶祝贺2018中国国际光电博览会圆满召开
    沈阳科晶祝贺2018中国国际光电博览会圆满召开2018年9月5-8日,2018中国国际光电博览会在深圳会展中心圆满召开,沈阳科晶派遣专业技术代表参加此次会议并在现场布置展位,沈阳科晶诚挚感谢会议期间客户们的莅临参观以及大家的支持,会议圆满成功,沈阳科晶也收获颇丰。中国国际光电博览会规模逐渐壮大,光电行业也在日益发展,技术上的突破是行业内每一家公司所不断追求的,在这样的大背景趋势下,沈阳科晶也带来了自己的突破性产品,此次会议沈阳科晶展示的设备有:STX系列金刚石线切割机 --- 切割材料涵盖晶体、金属、陶瓷、玻璃等、切割直径包含50mm、100mm、150mm、300mm、600mm、1000mm等不同设备型号,标配三维工装夹具,可实现不同角度切割要求,并可选配专用旋转、摇摆等工装夹具,大量节省切割时间,其本身柔性切割的特性能够保证切割的精度与面型,避免脆性材料的切割崩边崩口现象,此次会议也在现场为客户切割镀膜K9玻璃、蓝宝石、石英,可完全满足客户需求。SYJ系列划片切割机 --- 适用于各种晶体、陶瓷、玻璃、金属等材料的划片和切割。本机可用计算机或单片机进行控制,允许自行编制程序,进行切割。步进电机定位精度可达到0.01mm,样品工作台可进行360°旋转,并配有十字夹具(90°定位模)、真空吸盘,是实验室及生产单位理想的精密切割设备之一。 UNIPOL系列自动研磨抛光机 --- 适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃等材料的研磨抛光制样,本系列设置了不同尺寸研磨抛光盘和多个加工工位。若配置适当的附件,可批量生产高质量的平面磨抛产品。此外可选配GPC系列精密磨抛控制仪,配有数显磨抛压力确认仪,实时观测磨抛厚度,并具有修正功能。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 --- 可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。PCE-6小型等离子清洗机、VTC-200PV真空旋转涂膜机、真空干燥箱......再次感谢会议期间客户们的关注与支持,我们会认真聆听客户的每一个声音,开发更多的新产品是我们共同的愿望。科晶人将不断努力,不断前进,争取带给大家更多的惊喜,解决更多的技术难题,我们会带着我们的产品,带着我们的热情期待与各位明年再次相聚。
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