霍尔效应磁场检测仪

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  • 山东霍尔德电子科技有限公司是cod检测仪、氨氮检测仪、总磷总氮检测仪、生物毒性检测仪、测油仪、BOD检测仪、水质在线监测设备等生产研发销售集于一体的原厂厂家。公司主营业务是研发、生产和销售应用于水质检测、农业生态、食品快检、植物生理、气象环境、智能物联等仪器设备,在多重相关领域构建起完整的产品体系,将光电技术与物联网和云服务结合,为用户提供更加广泛的应用和深度服务,为农业、林业、科研、畜牧、气象、水利、食药、环境等相关领域提供综合解决方案。公司与全国各大高校和科研院所建立了长久的合作关系,引进先进的高科技成果,研发了众多高性价比高科技产品,广泛应用于各个行业,得到了客户的认可和青睐。
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  • 400-860-5168转4937
    霍尔斯(HOLVES)是一家创新的生命科学公司。自2010年创立至今,聚焦于合成生物学、生物制药、创新生物医疗等新兴领域,研发和生产了多款新型发酵罐、生物反应器、超滤系统、喷雾干燥机等设备,满足从实验到工业生产等各个需求环节。霍尔斯(HOLVES)致力于打造智能自动化系统,赋能生物研究和产业放大领域发展。 发展历程: 2010年创立霍尔斯(HOLVES)品牌,成立北京霍尔斯生物科技有限公司。2012年与美国NBS合作代理生物反应器,与德国GEA合作代理喷雾干燥机,积极学习国外先进的理念和经验。2016年自主研发的首台喷雾干燥机问世,获得市场一致好评,标志着霍尔斯(HOLVES)正式开启自主品牌道路。2017年投入全新现代化工厂基地,成立安徽霍尔斯工程技术有限公司。2020年推出全新设计的Cla系列发酵罐,Eu系列生物反应器,Su系列不锈钢发酵罐,公司和产品双双步入新征程。2021年重磅推出HPB系列平行生物反应器,助力新一代生物智造平台。
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  • 上海柯舜科技有限公司(LINKPHYSICS)于2008年成立,始于代理国外的知名品牌,是国内知名的低温设备制造商,是集研发、生产、销售于一体的高新技术企业,上海市“专精特新”企业、上海市宝山区企业技术中心、拥有ISO9001质量管理系统认证证书、2023年入选宝山区工业新升规快速成长企业,主要为高校、科研院所、制造业研发中心及系统集成企业提供先进的半导体测试系统及科研仪器设备,多年致力深耕低温磁场及探针台技术。公司主营产品有室温探针台、低温探针台、全自动探针台、半自动探针台、科研超导磁体系统、液氦&液氮低温恒温器、闭循环低温恒温器、霍尔效应测试系统、三维磁场测试平台、温控仪等产品。
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霍尔效应磁场检测仪相关的仪器

  • 霍尔效应传感器可为科学研究、医疗健康、航空航天和工业应用提供高性能的模拟磁场测量。 Figure 1. sensor on test assembly 产品特点:• 超高分辨率• 超低噪音性能• 可在极低温条件下使用• 大动态范围• 高线性• 超低功耗运行 简述:利用石墨烯固有的低噪声特性,无需信号调节即可提供出色的场分辨率。石墨烯的二维性质 很大程度地降低了平面霍尔效应,并且石墨烯的稳定性和电子 迁移率提供了 超强的温度和磁场工作范围。 应用包括:• 精密磁场测量• 场梯度和边缘场的精确映射• 高精度位置,旋转和速度感应• 低温下的超低功率场测量 产品优点:可满足各种应用需求。可以利用的优点包括:• 可以在 1.8 K - 353 K的极端温度下运行• 在大磁场范围( 9 T)内ppb磁场变化的分辨率• 低至 10 nA的工作电流,节省了功率,仅产生5 pW的散热• 平面霍尔效应可忽略不计,有助于精确地确定仪器的摆放位置场方向 需要特定要求,请联系我们info 性能特点:ParameterSymbolValue (typical)UnitNotesMaximum operating temperature rangeT1.8 to 353KPerformance guaranteed within this range. Operation 1.8 K is possibleMeasurable field rangeB+/- 9TSee Fig.2. At 1.8K, 0-9 T is possible with reduced linearityOpen Circuit SensitivityS1100V/AT@ room temperature. see Fig 3 for change with temperatureOpen Circuit Hall VoltageVH110mVI=IN and B=1 T, increases with reducing temperature Spectral Noise Density SDT7 μ???√????10 Hz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.71 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.310 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.07100 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN) Resolution, based on SDT on a 1 T field RSND7 ppm10 Hz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.71 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.310 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)0.07100 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)RMS noise??T2?40?T0.1 – 10 Hz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)2810 – 100 kHz, 2 VRMS (equivalent to I=IN)Linearity of Hall Voltage% of full scaleFL0.5%-1 to 1 T. See Fig 2 for full 0-9 T rangeCorrected Linearity0.01%-1 to 1 T, after 3rd order correctionPlanar Hall EffectHPL10μTAt I=IN , 1 TNominal Supply CurrentIN0.1mACan be operated down to I=10 nAMaximum Supply CurrentImax1mASupply Side Internal ResistanceRIN22k?B=0 THall Side Internal ResistanceROUT22k?B=0 T Offset Voltage VR08mVTypical offset voltage at I=IN and B=0 T0.6mVMin offset voltage at I=IN and B=0 T34mVMax offset voltage at I=IN and B=0 TTemperature Coefficient of SensitivityTCS-4.7V/AT/K@ room temperature, IN 高场和低温性能 Figure 2. Hall Voltage output at 295 K, from 0 to 9 T Figure 3. Sensitivity as a function of temperature from 1.8 K to 300 K. Measured at 1T. 封装信息有效面积:1.3 x 1.3 mm 位于封装的中心封装类型: 20-pin LCC, 陶瓷,无镍, 表面贴焊。PinNotesVIN+1 or 11Input voltage can be supplied with eitherpolarityVIN-11 or 1VH+6 or 16Hall voltage polarity willdepend on VIN polarity and field polarityVH-16 or 6
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  • 1.设备名称:霍尔效应测试仪2.功能描述:测量半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3.设备明细:3-1测试范围:Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材质的半导体薄膜中载流子类型、载流子浓度、迁移率、电阻率、霍尔系数等参数3-2磁场:3-2-1磁场强度:0.5T 电磁体 (0.5T 永磁体 / 1.4T 电磁体 两种磁场可选)3-2-2磁场类型:电磁体3-2-3磁场均匀性:磁场不均匀性<± 1 %3-3测试样品:3-3-1样品测试仓:全封闭、带玻璃窗口3-4温 度:3-4-1温度区域:80K ~730K3-4-2温控精度:0.1K3-4-3温控稳定性:± 0.1 K3-5电阻率范围:10-6~1013 Ohm*cm3-6电阻范围:10 m Ohms~ 10G Ohms3-7载流子浓度:102~1022cm-33-8迁移率:10-2~109 cm2/volt*sec3-9输入电流:3-9-1电流范围:0.1 pA~10mA3-9-2电流精度:2%3-10输入电压:3-10-1电压范围:± 2.5V,最小可测到6× 10-6V3-10-2电压分辨率:3× 10-7V3-10-3电压精度:2%
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  • 美国 高斯计 数字式霍尔效应电磁场强计产品介绍: 美国 高斯计 数字式霍尔效应电磁场强计代表磁性测量设备的最新设计。该设计采用了数字信号处理技术。动态探头校正允许测量从 0 到 30 kG,基本精度为 1% 。主要功能包括自动零,min./max./peak 保持,自动范围和相对模式。这两种型号都允许用户选择高斯、特斯拉或安培 / 米的读数。5280 和 5270 都具有一个校正后的模拟输出(±3V FS)和一个USB 通信端口。 用户在自定义格式的 LCD 上的提示允许快速,简单的按钮和触摸 操作。所有型号都配备了一个可拆卸的横向探头,零高斯室,使用说明书,硬手提箱,和一个锂离子可充电电池。轴向、超薄横 向和低场探头可作为选择。产品特点:&bull Subark4.3"液晶触摸屏&bull 声音 / 亮度 / 暗模式的控制 &bull 锂离子电池 10 到 14 小时 &bull 通常收费时间为 2 小时&bull 沙痂 USB-C 2.0&bull 远程个人电脑控制选项 &bull 512 kBit 内存(5280)&bull 在范围内时的视听警报(5280)&bull 符合 SubarkCE应用场所:&bull 直流/交流电机测试&bull 磁体测量及分类&bull 磁场分布测试&bull 扬声器品质控制&bull 工具剩磁测量&bull 实验室应用&bull 无损探伤应用&bull 发电厂/变电站干扰磁场测量技术参数:号FWBELL5170FWBELL5180基本精度2% 1%频率范围 DC - 20 kHz DC - 40 kHz屏幕显示采样率4次/秒4次/秒模拟输出采样率-200K次/秒量程 3档3档低量程 200G300G中量程 2KG3KG高量程 20KG30KG分辨率 0.1G 0.1G单位 Gauss, Tesla,A/M Gauss, Tesla, A/M显示位数 3 1/2 LCD 3 3/4 LCD模拟输出 - +3V F.S.模拟输出 -USB工作温度0℃ 至 +50℃储存温度-25℃ 至 +70℃电源 4节AA电池或外接电源尺寸 (长 x 宽 x深) 6.9" (175 mm) x 3.9" (100 mm) x 1.44" (37mm)5180高斯计探头HTD18-0604 4英寸(10.16cm)横向探头STD18-04044英寸(10.16cm)横向探头(标配探头)STD18-04022英寸(5.08cm)横向探头SAD18-19044英寸(10.16cm)轴向探头SAD18-1902 2英寸(5.08cm)轴向探头5170 高斯计探头HTH17-06044英寸(10.16cm)横向探头STH17-04044英寸(10.16cm)横向探头(标配探头)STH17-04022英寸(5.08cm)横向探头SAH17-19044英寸(10.16cm)轴向探头SAH17-19022英寸(5.08cm)轴向探头5170/5180高斯计通用探头 STB1X-0201超薄横向探头(厚度:0.02英寸/0.508mm)MOS51-3204 低场探头5170/5180高斯计通用配件 YA-111校零盒(适用于轴向、横向、低场探头)PSRD-5电源适配器,+5VDC输出、110VAC输入PSRI-5电源适配器,+5VDC输出、220VAC输入
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霍尔效应磁场检测仪相关的资讯

  • 半导体情报,科学家首次在量子霍尔绝缘体中发现奇异的非线性霍尔效应!
    【科学背景】近年来,尽管量子霍尔效应的线性响应特性得到了广泛研究,但高阶非线性响应仍然是一个未被充分探索的领域。特别是在二维材料如石墨烯中,量子霍尔态的非线性响应尚未被深入研究。量子霍尔态不仅具有绝缘体体和导电手性边缘态的特征,而且在不同的量子霍尔态下,可能会表现出复杂的非线性行为,这些行为对于理解边缘态的电子-电子相互作用具有重要意义。为了解决这一问题,为了解决这一问题,复旦大学何攀, 沈健,日本九州大学Hiroki Isobe,新加坡国立大学Gavin Kok Wai Koon,Junxiong Hu,日本理化研究所新兴物质科学中心Naoto Nagaosa等教授合作发现,在石墨烯的显著量子霍尔态下,存在明确的第三阶霍尔平台。这一平台在广泛的温度、磁场和电流范围内保持稳定,并且在不同几何形状和堆叠配置的石墨烯中均可观察到。第三阶霍尔效应的高度对环境条件不敏感,但与器件特性相关。此外,第三阶非线性响应的极性受磁场方向和载流子类型的影响。作者的研究揭示了量子霍尔态的非线性响应是如何依赖于器件特性的,并提出了一个新的视角来理解边缘态的性质。【科学亮点】(1)实验首次观察到石墨烯中量子霍尔态的第三阶霍尔效应,获得了第三阶霍尔效应的清晰平台。该平台在显著的量子霍尔态(\( \nu = \pm 2 \))中展现出,且在广泛的温度、磁场和电流范围内保持稳定。 (2)实验通过测量不同几何形状和堆叠配置的石墨烯器件,发现第三阶霍尔效应的平坦值与环境条件无关,但与器件特性相关。具体结果包括:&bull 第三阶霍尔效应的电压平台高度与探针电流的立方成正比,而第三阶纵向电压保持为零。&bull 该效应在磁场变化(至约5T)和温度变化(至约60K)下保持稳健。&bull 第三阶非线性响应的极性依赖于磁场方向及载流子类型(电子或空穴),并且其值在反转磁场方向时会改变符号。&bull 非线性霍尔平台的稳健性提供了关于边缘态的新见解,并可能违背量子霍尔电阻的精确量化。【科学图文】图1:在经典和量子域中,线性霍尔效应和非线性霍尔效应示意图。 图2:在量子霍尔态quantum Hall states,QHSs内,三阶非线性霍尔平台的观测结果。图3:在量子霍尔态QHSs内,三阶霍尔效应的立方电流依赖性。图4:磁场和温度,对量子霍尔态QHS三阶非线性响应的影。【科学启迪】本文的研究为量子霍尔效应(QHE)中的非线性响应提供了新的视角,揭示了量子霍尔态(QHSs)中第三阶霍尔效应的显著平台。这一发现不仅扩展了作者对量子霍尔现象的理解,也对探索二维材料中的非线性电输运提供了新的途径。首先,实验首次在单层石墨烯中观察到稳定的第三阶霍尔效应平台,表明在量子霍尔态下,电子之间的相互作用可能导致非线性现象的出现。这种非线性响应在不同环境条件(如磁场和温度)下保持稳定,且在多种几何形状和堆叠配置的石墨烯器件中均能观察到。这表明该效应具有较强的普适性和稳健性。其次,研究发现第三阶霍尔效应的电压平台与探针电流立方成正比,而其幅度对环境条件变化表现出较强的稳健性。这一特性挑战了量子霍尔电阻的精确量化,提示作者在量子霍尔态的研究中需要考虑更高阶的非线性效应。这种非线性响应的发现不仅提供了关于边缘态性质的新见解,还可能揭示出与传统线性量子霍尔效应不同的物理机制。此外,本文的研究结果对未来探索量子霍尔系统的高阶响应具有重要启示。其他填充因子的量子霍尔态中的非线性响应,以及在其他量子霍尔系统中的应用,仍需进一步研究。这一发现为理解电子-电子相互作用、边缘态带曲率等物理现象提供了新的方法,也可能为研究分数量子霍尔效应的非线性响应开辟新的方向。原文详情:He, P., Isobe, H., Koon, G.K.W. et al. Third-order nonlinear Hall effect in a quantum Hall system. Nat. Nanotechnol. (2024). https://doi.org/10.1038/s41565-024-01730-1
  • 中国科学家首次发现量子反常霍尔效应 影响重大
    图一,量子反常霍尔效应的示意图,拓扑非平庸的能带结构产生具有手征性的边缘态,从而导致量子反常霍尔效应     图二,理论计算得到的磁性拓扑绝缘体多层膜的能带结构和相应的霍尔电导     图三,在Cr掺杂的(Bi,Sb)2Te3拓扑绝缘体磁性薄膜中测量到的霍尔电阻  中新社北京3月15日电 (记者 马海燕)北京时间3月15日凌晨,《科学》杂志在线发文,宣布中国科学家领衔的团队首次在实验上发现量子反常霍尔效应。这一发现或将对信息技术进步产生重大影响。  这一发现由清华大学教授、中国科学院院士薛其坤领衔,清华大学、中国科学院物理所和斯坦福大学的研究人员联合组成的团队历时4年完成。在美国物理学家霍尔1880年发现反常霍尔效应133年后,终于实现了反常霍尔效应的量子化,这一发现是相关领域的重大突破,也是世界基础研究领域的一项重要科学发现。  由于人们有可能利用量子霍尔效应发展新一代低能耗晶体管和电子学器件,这将克服电脑的发热和能量耗散问题,从而有可能推动信息技术的进步。然而,普通量子霍尔效应的产生需要用到非常强的磁场,因此应用起来将非常昂贵和困难。但量子反常霍尔效应的好处在于不需要任何外加磁场,这项研究成果将推动新一代低能耗晶体管和电子学器件的发展,可能加速推进信息技术革命进程。  美国科学家霍尔分别于1879年和1880年发现霍尔效应和反常霍尔效应。1980年,德国科学家冯克利青发现整数量子霍尔效应,1982年,美国科学家崔琦和施特默发现分数量子霍尔效应,这两项成果分别于1985年和1998年获得诺贝尔物理学奖。  相关链接  “量子反常霍尔效应”研究获突破  中国科学网  由中国科学院物理研究所和清华大学物理系的科研人员组成的联合攻关团队,经过数年不懈探索和艰苦攻关,最近成功实现了“量子反常霍尔效应”。这是国际上该领域的一项重要科学突破,该物理效应从理论研究到实验观测的全过程,都是由我国科学家独立完成。  量子霍尔效应是整个凝聚态物理领域最重要、最基本的量子效应之一。它是一种典型的宏观量子效应,是微观电子世界的量子行为在宏观尺度上的一个完美体现。1980年,德国科学家冯克利青(Klaus von Klitzing)发现了“整数量子霍尔效应”,于1985年获得诺贝尔物理学奖。1982年,美籍华裔物理学家崔琦(Daniel CheeTsui)、美国物理学家施特默(Horst L. Stormer)等发现“分数量子霍尔效应”,不久由美国物理学家劳弗林(Rober B. Laughlin)给出理论解释,三人共同获得1998年诺贝尔物理学奖。在量子霍尔效应家族里,至此仍未被发现的效应是“量子反常霍尔效应”——不需要外加磁场的量子霍尔效应。  “量子反常霍尔效应”是多年来该领域的一个非常困难的重大挑战,它与已知的量子霍尔效应具有完全不同的物理本质,是一种全新的量子效应 同时它的实现也更加困难,需要精准的材料设计、制备与调控。1988年,美国物理学家霍尔丹(F. Duncan M. Haldane)提出可能存在不需要外磁场的量子霍尔效应,但是多年来一直未能找到能实现这一特殊量子效应的材料体系和具体物理途径。2010年,中科院物理所方忠、戴希带领的团队与张首晟教授等合作,从理论与材料设计上取得了突破,他们提出Cr或Fe磁性离子掺杂的Bi2Te3、Bi2Se3、Sb2Te3族拓扑绝缘体中存在着特殊的V.Vleck铁磁交换机制,能形成稳定的铁磁绝缘体,是实现量子反常霍尔效应的最佳体系[Science,329, 61(2010)]。他们的计算表明,这种磁性拓扑绝缘体多层膜在一定的厚度和磁交换强度下,即处在“量子反常霍尔效应”态。该理论与材料设计的突破引起了国际上的广泛兴趣,许多世界顶级实验室都争相投入到这场竞争中来,沿着这个思路寻找量子反常霍尔效应。  在磁性掺杂的拓扑绝缘体材料中实现“量子反常霍尔效应”,对材料生长和输运测量都提出了极高的要求:材料必须具有铁磁长程有序 铁磁交换作用必须足够强以引起能带反转,从而导致拓扑非平庸的带结构 同时体内的载流子浓度必须尽可能地低。最近,中科院物理所何珂、吕力、马旭村、王立莉、方忠、戴希等组成的团队和清华大学物理系薛其坤、张首晟、王亚愚、陈曦、贾金锋等组成的团队合作攻关,在这场国际竞争中显示了雄厚的实力。他们克服了薄膜生长、磁性掺杂、门电压控制、低温输运测量等多道难关,一步一步实现了对拓扑绝缘体的电子结构、长程铁磁序以及能带拓扑结构的精密调控,利用分子束外延方法生长出了高质量的Cr掺杂(Bi,Sb)2Te3拓扑绝缘体磁性薄膜,并在极低温输运测量装置上成功地观测到了“量子反常霍尔效应”。该结果于2013年3月14日在Science上在线发表,清华大学和中科院物理所为共同第一作者单位。  该成果的获得是我国科学家长期积累、协同创新、集体攻关的一个成功典范。前期,团队成员已在拓扑绝缘体研究中取得过一系列的进展,研究成果曾入选2010年中国科学十大进展和中国高校十大科技进展,团队成员还获得了2011年“求是杰出科学家奖”、“求是杰出科技成就集体奖”和“中国科学院杰出科技成就奖”,以及2012年“全球华人物理学会亚洲成就奖”、“陈嘉庚科学奖”等荣誉。该工作得到了中国科学院、科技部、国家自然科学基金委员会和教育部等部门的资助。(中科院物理研究所 作者:薛其坤等)
  • 仪器新应用,科学家首次揭示双层石墨烯中的分数量子霍尔效应!
    【科学背景】分数量子霍尔效应是一种在强磁场下发生的量子相变,其中电子在二维材料中以特殊的方式组织,表现出量子化的电导特性。此效应下的准粒子称为任何子,它们具有分数量子电荷,并在交换位置时显示出分数统计,这为研究量子物理的基本问题提供了独特的视角。阿贝尔任何子表现出简单的分数统计,而非阿贝尔任何子则具有更复杂的交换行为,这些特性可以通过量子干涉实验进行探测。然而,尽管已有大量研究探索了量子霍尔状态下的电子干涉,实际操作中仍存在一些问题。例如,传统的GaAs/AlGaAs基干涉仪在调节干涉状态和处理库伦相互作用方面存在局限,这限制了对分数量子霍尔态的深入研究。为了解决这些问题,研究者们将目光转向了具有更高调节能力的石墨烯基干涉仪。双层石墨烯的高迁移率和电气调节特性使得其在分数量子霍尔效应研究中表现出色。近期,以色列魏茨曼研究所Yuval Ronen教授团队在双层石墨烯平台上成功构建了Fabry-Pérot干涉仪(FPI),该装置能够在单一Landau能级内通过精确的电静态调节动态地切换干涉状态,从库伦主导状态到Aharonov-Bohm干涉状态。本研究解决了在分数量子霍尔态下量子干涉的具体实现问题。通过在双层石墨烯基FPI中进行实验,作者能够在填充因子ν=1/3的分数量子霍尔态下观察到纯净的Aharonov-Bohm干涉模式。当电荷密度和磁场变化时,作者不仅观察到常数填充条件下的干涉现象,还在常数密度条件下发现了相位跳跃。这些跳跃表现出准粒子在干涉回路中积累的相位与回路内电子数的关系,验证了e/3准粒子的分数统计特性。【科学亮点】(1)实验首次构建并测量了基于范德华力的双层石墨烯Fabry-Pérot干涉仪(FPI),在分数量子霍尔效应(FQHE)中实现了从库伦主导到Aharonov-Bohm(AB)干涉的动态调节。该装置利用高迁移率双层石墨烯导电层,通过精确的电静态调节,允许在单一Landau能级内实现这一调节。(2)实验通过调节磁场和电子密度,探测了填充因子ν=1/3的分数量子霍尔态下的AB干涉现象。在保持常数填充因子的情况下,作者观察到纯净的AB干涉模式,确认了准粒子电荷为e/3。(3)当实验从常数填充的条件转向常数密度的条件时,干涉模式中出现了相位跳跃的演变。这些相位跳跃对应于准粒子在干涉回路中添加或去除的离散事件。(4)作者还发现,干涉准粒子所积累的相位可以表示为2π〈N〉,其中〈N〉为回路内的电子数。这个观察验证了准粒子遵循分数统计的预期,并为研究阿贝尔任何子提供了新的平台。【科学图文】图1: 基于双层石墨烯的法布里-珀罗干涉仪Fabry–Pérot interferometer,FPI。图2:可调谐整数量子霍尔效应 integer quantum Hall effect,IQHE干涉态,从库仑作用主导Coulomb-dominated,CD到阿哈勒诺夫-玻姆Aharonov–Bohm,AB态。图3:在1/3分数填充处的AB干涉。图4:恒定填充和恒定密度之间可调性。【科学结论】本文的研究通过在高迁移率双层石墨烯的基础上构建并测量范德华力Fabry-Pérot干涉仪(FPI),作者成功地在一个Landau能级内动态调节了从库伦主导到Aharonov-Bohm(AB)干涉的状态。这一实验不仅验证了在填充因子ν=1/3下的Aharonov-Bohm干涉模式,还揭示了在常数填充条件下的纯净干涉图样和在常数密度条件下的相位跳跃现象。这些发现表明,干涉准粒子所积累的相位可以被理解为2π〈N〉,其中〈N〉为回路内电子数,这为理解准粒子的分数统计特性提供了新的视角。通过这种精确的调节能力和测量手段,作者为研究阿贝尔任何子和探索更复杂的非阿贝尔统计奠定了坚实的基础。双层石墨烯所展示的偶数分母分数量子霍尔态的潜力,预示着未来在这一领域的广泛应用前景,为进一步的研究和技术发展提供了有力的支持。参考文献:Kim, J., Dev, H., Kumar, R. et al. Aharonov–Bohm interference and statistical phase-jump evolution in fractional quantum Hall states in bilayer graphene. Nat. Nanotechnol. (2024). https://doi.org/10.1038/s41565-024-01751-w

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  • 我科学家首次发现量子反常霍尔效应

    美妙之处或可加速推进信息技术进步的进程 新华社北京3月15日电 (记者李江涛)由清华大学薛其坤院士领衔,清华大学、中科院物理所和斯坦福大学研究人员联合组成的团队在量子反常霍尔效应研究中取得重大突破,他们从实验中首次观测到量子反常霍尔效应,这是我国科学家从实验中独立观测到的一个重要物理现象,也是物理学领域基础研究的一项重要科学发现。 该成果于北京时间3月15日凌晨在美国《科学》杂志在线发表。 据介绍,美国科学家霍尔分别于1879年和1880年发现霍尔效应和反常霍尔效应。在一个通有电流的导体中,如果施加一个垂直于电流方向的磁场,由于洛伦兹力的作用,电子的运动轨迹将产生偏转,从而在垂直于电流和磁场方向的导体两端产生电压,这个电磁输运现象就是著名的霍尔效应。而在磁性材料中不加外磁场也可以观测到霍尔效应,这种零磁场中的霍尔效应就是反常霍尔效应。反常霍尔电导是由于材料本身的自发磁化而产生的,因此是一类新的重要物理效应。 量子霍尔效应之所以如此重要,一方面是由于它们体现了二维电子系统在低温强磁场的极端条件下的奇妙量子行为,另一方面这些效应可能在未来电子器件中发挥特殊的作用,可用于制备低能耗的高速电子器件。 例如,如果把量子霍尔效应引入计算机芯片,将会克服电脑的发热和能量耗散问题。然而由于量子霍尔效应的产生需要非常强的磁场,因此至今为止它还没有特别大的实用价值,因为要产生所需的磁场不但价格昂贵,而且其体积庞大(衣柜大小),也不适合于个人电脑和便携式计算机。 据了解,量子反常霍尔效应的美妙之处是不需要任何外加磁场,因此,这项研究成果将会推动新一代的低能耗晶体管和电子学器件的发展,可能加速推进信息技术进步的进程。

  • “量子反常霍尔效应”离诺贝尔物理奖有多近?

    我国科学家首次发现“量子反常霍尔效应”这一科研成果离诺贝尔物理奖有多近2013年04月11日 来源: 中国科技网 作者: 林莉君 李大庆 http://www.stdaily.com/stdaily/pic/attachement/jpg/site2/20130410/051365597244421_change_wtt3427_b.jpg量子反常霍尔效应的示意图,拓扑非平庸的能带结构产生具有手征性的边缘态,从而导致量子反常霍尔效应 http://www.stdaily.com/stdaily/pic/attachement/jpg/site2/20130410/051365597244437_change_wtt3428_b.jpg理论计算得到的磁性拓扑绝缘体多层膜的能带结构和相应的霍尔电导 “这个研究成果是从中国实验室里,第一次发表出来了诺贝尔物理奖级别的论文,这不仅是清华大学、中科院的喜事,也是整个国家发展中喜事。”4月10日,诺贝尔物理奖得主、清华大学高等研究院名誉院长杨振宁教授高度评价了我国科学家的重大发现——量子反常霍尔效应。 由清华大学薛其坤院士领衔、清华大学物理系和中科院物理研究所组成的实验团队从实验上首次观测到量子反常霍尔效应。美国《科学》杂志于3月14日在线发表这一研究成果。由于此前和量子霍尔效应有关的科研成果已经3获诺贝尔奖,学术界很多人士对这项“可能是量子霍尔效应家族最后一个重要成员”的研究给予了极高的关注和期望。那么什么是量子反常霍尔效应?对它的研究为什么引起世界各国科学家的兴趣?它的发现有什么重大意义? 重要性 突破摩尔定律瓶颈 加速推动信息技术革命进程 在认识量子反常霍尔效应之前,让我们先来了解一下量子霍尔效应。量子霍尔效应,于1980年被德国科学家发现,是整个凝聚态物理领域中重要、最基本的量子效应之一。它的应用前景非常广泛。 薛其坤院士举了个简单的例子:我们使用计算机的时候,会遇到计算机发热、能量损耗、速度变慢等问题。这是因为常态下芯片中的电子运动没有特定的轨道、相互碰撞从而发生能量损耗。而量子霍尔效应则可以对电子的运动制定一个规则,让它们在各自的跑道上“一往无前”地前进。“这就好比一辆高级跑车,常态下是在拥挤的农贸市场上前进,而在量子霍尔效应下,则可以在‘各行其道、互不干扰’的高速路上前进。”薛其坤打了个形象的比喻。 然而,量子霍尔效应的产生需要非常强的磁场,“相当于外加10个计算机大的磁铁,这不但体积庞大,而且价格昂贵,不适合个人电脑和便携式计算机。”薛其坤说,而量子反常霍尔效应的美妙之处是不需要任何外加磁场,在零磁场中就可以实现量子霍尔态,更容易应用到人们日常所需的电子器件中。 自1988年开始,就不断有理论物理学家提出各种方案,然而在实验上没有取得任何进展。2006年, 美国斯坦福大学张首晟教授领导的理论组成功地预言了二维拓扑绝缘体中的量子自旋霍尔效应,并于2008年指出了在磁性掺杂的拓扑绝缘体中实现量子反常霍尔效应的新方向。2010年,我国理论物理学家方忠、戴希等与张首晟教授合作,提出磁性掺杂的三维拓扑绝缘体有可能是实现量子化反常霍尔效应的最佳体系。这个方案引起了国际学术界的广泛关注。德国、美国、日本等有多个世界一流的研究组沿着这个思路在实验上寻找量子反常霍尔效应,但一直没有取得突破。 薛其坤团队经过近4年的研究,生长测量了1000多个样品。最终,他们利用分子束外延方法,生长出了高质量的Cr掺杂(Bi,Sb)2Te3拓扑绝缘体磁性薄膜,并在极低温输运测量装置上成功观测到了量子反常霍尔效应。 “量子反常霍尔效应可在未来解决摩尔定律瓶颈问题,它发现或将带来下一次信息技术革命,我国科学家为国家争夺了这场信息革命中的战略制高点。”拓扑绝缘体领域的开创者之一、清华大学“千人计划”张首晟教授说。 创新性 让实验材料同时具备“速度、高度和灵巧度” 从美国物理学家霍尔丹于1988年提出可能存在不需要外磁场的量子霍尔效应,到我国科学家为这一预言画上完美句号,中间经过了20多年。课题组成员、中科院物理所副研究员何珂告诉记者:“量子反常霍尔效应实现非常困难,需要精准的材料设计、制备与调控。尽管多年来各国科学家提出几种不同的实现途径,但所需的材料和结构非常难以制备,因此在实验上进展缓慢。” “这就如同要求一个运动员同时具有刘翔的速度、姚明的高度和郭晶晶的灵巧度。在实际的材料中实现以上任何一点都具有相当大的难度,而要同时满足这三点对实验物理学家来讲是一个巨大的挑战。”课题组成员、清华大学王亚愚教授这样描述实验对材料要求的苛刻程度。 实验中,材料必须具有铁磁性从而存在反常霍尔效应;材料的能带结构必须具有拓扑特性从而具有导电的一维边缘态,即一维导电通道;材料的体内必须为绝缘态从而对导电没有任何贡献,只有一维边缘态参与导电。 2010年,课题组完成了对1纳米到6纳米(头发丝粗细的万分之一)厚度薄膜的生长和输运测量,得到了系统的结果,从而使得准二维超薄膜的生长测量成为可能。 2011年,课题组实现了对拓扑绝缘体能带结构的精密调控,使得其体材料成为真正的绝缘体,去除了其对输运性质的影响。 2012年初,课题组在准二维、体绝缘的拓扑绝缘体中实现了自发长程铁磁性,并利用外加栅极电压对其电子结构进行原位精密调控。 2012年10月,课题组终于发现在一定的外加栅极电压范围内,此材料在零磁场中的反常霍尔电阻达到了量子霍尔效应的特征值h/e2—25800欧姆——世界难题得以攻克。 课题组克服薄膜生长、磁性掺杂、门电压控制、低温输运测量等多道难关,一步一步实现了对拓扑绝缘体的电子结构、长程铁磁序以及能带拓扑结构的精密调控,最终为这一物理现象的实现画上了完美的句号。 “下一步我们主要的努力方向是全面测量材料在极低温下的电子结构和输运性质,寻找更好的材料体系,在更高的温度下实现这一效应。那时,也许我们能对其应用前景作更好的判断。”王亚愚告诉记者。 外界评说 这是凝聚态物理界一项里程碑式的工作 “实验成果出来以后,量子霍尔效应的发现者给我发了一封邮件。他写道:我深信拓扑绝缘体和量子反常霍尔效应是科学王冠上的明星。”张首晟向记者展示了这封邮件。 《科学》杂志的一位审稿人说:“这项工作毫无疑问地证实了与普通量子霍尔效应不同来源的单通道边缘态的存在。我认为这是凝聚态物理学一项非常重要的成就。”另一位审稿人说:“这篇文章结束了多年来对无朗道能级的量子霍尔效应的探寻。这是一篇里程碑式的文章。” 延伸阅读 霍尔效应与反常霍尔效应 霍尔效应是美国物理学家霍尔于1879年发现的一个物理效应。在一个通有电流的导体中,如果施加一个垂直于电流方向的磁场,由于洛伦兹力的作用,电子的运动轨迹将产生偏转,从而在垂直于电流和磁场方向的导体两端产生电压,这个电磁输运现象就是著名的霍尔效应。产生的横向电压被称为霍尔电压,霍尔电压与施加的电流之比则被称为霍尔电阻。由于洛伦兹力的大小与磁场成正比,所以霍尔电阻也与磁场成线性变化关系。 1880年,霍尔在研究磁性金属的霍尔效应时发现,即使不加外磁场也可以观测到霍尔效应,这种零磁场中的霍尔效应就是反常霍尔效应。反常霍尔效应与普通的霍尔效应在本质上完全不同,因为这里不存在外磁场对电子的洛伦兹力而产生的运动轨道偏转。反常霍尔电导是由于材料本身的自发磁化而产生的,因此是一类新的重要物理效应。 量子霍尔效应的相关研究已3次获得诺贝尔奖 量子霍尔效应在凝聚态物理的研究中占据着极其重要的地位。它就像一个富矿,一代又一代科学家为之着迷和献身,他们的成就也多次获得诺贝尔物理奖。 1985年,诺贝尔物理奖颁给了德国科学家冯·克利青,他于1980年发现了整数量子霍尔效应。 1998年,诺贝尔物理奖颁给了美国科学家:美籍华人物理学家崔琦以及施特默、劳弗林。前两人于1982年发现了分数量子霍尔效应,而后者则对这一效应进一步给出了理论解释。 2010年,诺贝尔物理奖颁给了英国科学家安德烈·海姆和康斯坦丁·诺沃肖洛夫。他们俩在2005年发现了石墨烯中的半整数量子霍尔效应。 此外,量子化自旋霍尔效应于2007年被发现,2010年获得欧洲物理奖,2012年获得美国物理学会巴克利奖。(记者 林莉君 李大庆) 《科技日报》(2013-04-11

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