薄膜纳米孔径分析仪

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理 纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。 纳米观测模块 纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。 顶眼超显微镜 顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。 NTA 软件 上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。 MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。 MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。 纳米颗粒分析仪配件应用 ? 在制药或复合产业研发药物 ? 用于病毒筛查 ? 用于开发纳米生物标记物或毒物筛查 ? 用于蛋白质聚集的动力学模型研究 ? 用于通过膜泡的表征研究疾病 ? 用于促进纳米复合材料的发展 纳米颗粒分析仪配件特色 ? 在同一时间多粒子高通量表征 ? 实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性 ? 方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验 ? 添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件 ? 自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适 ? 超级高效和购买成本低 ? 该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵 ? 激光波长可选择 ? 通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析 纳米颗粒分析仪配件参数 ? 尺寸 10 nm - 2000 nm* ? 浓度 106 - 109 粒子/ mL ? 荧光检测 纳米颗粒分析仪配件规格 温度范围 15-40 °C 电源 230V AC/115V AC, 50/60 Hz 摄像机 USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块 功耗 18W 激光波长 405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色） 尺寸范围 从10 nm到2000 nm (取决于材料) 焦点 电脑控制电动调焦 个人计算机 SDD亿康 II SDSSDHII-120G-G25HDD 西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节 GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM 处理器 英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz 显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB 电源 酷冷至尊 G750M 750w 机箱 酷冷至尊黑 软件 Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电 Mishell是Microptik BV公司的注册商标。 Windows是微软公司的注册商标。 MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子 尺寸（长×宽×高） 20 x 18 x 30 cm 重量 10.5 kg

300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸 3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂（可选）掺镁埋层材料二氧化硅 厚度1000-4000 纳米基底 材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层（可选）材料铂金，金，铬厚度100-400 纳米 位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间 铌酸锂单晶薄膜二氧化硅 硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底 铌酸锂单晶薄膜 金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅 铌酸锂单晶薄膜 金电极或铂金电极 铌酸锂基底 二氧化硅 掺镁铌酸锂单晶薄膜 铌酸锂基底 5-50 微米石英

1850:SpectroSour® 分析仪薄型xrf样品杯，单开口端；1.69”（42.9 mm）直径x 0.77”（19.6 mm）高度，100/pk产品特征：单开口外带贮液器卡环式薄膜附件ThermoPlastic® 密封适用于 XOS "Sindie® " 系统以及酸分析系统Chemplex设计的“咬合环”和单元“珠缩进”几何结构负责这个低剖面样品杯形成拉紧的薄膜样品支撑面和防漏密封。封闭端集成了一个外部溢流储层，用于收集具有膨胀趋势的热敏性流体样品。低剖面Spectro硫® 分析仪样品杯易破裂的热塑性® 密封件提供了通向集成外部溢流储液罐的通风通道。对于拉紧的薄膜样品支撑窗平面，样品杯内部和样品室之间的压差相等。低剖面形状使一些高度有限的仪器样品架能够容纳。开口端：单开口外径：1.69”（42.9 mm）高度：0.77”（19.6 mm）孔径：1.41英寸（35.8毫米）容量（CC）：13

单分散星状介孔二氧化硅纳米球 Monodisperse Mesoporous Silica Nanosphere Stellate MSN制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm 孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nm

COSMOSIL CNT 碳纳米管分离特殊色谱柱 09195-71COSMOSIL CNT 系列色谱柱是理想的基于纳米管尺寸大小而分离的色谱柱。COSMOSIL CNT系列色谱柱填充了亲水基团键合硅胶填料。色谱柱的设计可以避免碳纳米管被硅胶媳妇，并且保证最大的分离能力和回收率。COSMOSIL CNT系列色谱柱有3种不同的孔径可供选择，分别为 300 ?, 1000 ? and 2000 ?。填料特性应用数据● 碳纳米管COSMOSIL CNT 色谱柱通过串联3只不同孔径填料色谱柱，对DNA缠绕碳纳米管提供了出色的分离性能。订购信息● 分析柱 (粒径 5 μm)COSMOSIL CNT-300 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009195-71COSMOSIL CNT-300 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009194-81COSMOSIL CNT-1000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009197-51COSMOSIL CNT-1000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009196-61COSMOSIL CNT-2000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009199-31COSMOSIL CNT-2000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009198-41

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs

热释放胶带，热剥离胶带，发泡胶。剥离温度为90℃~100℃，120℃，150℃，拍的时候，说明哪种温度，此销售的胶带为单面胶带。用于石墨烯膜、LED、碳纳米管、晶圆研磨定位、二维材料转移等领域。 主要型号：90~100°中粘125-135°中粘125-135°高粘150-160°中粘产 品 名 称：热释放胶带，热剥离胶带（国产胶带），发泡胶带剥 离 温 度：90~100℃/120℃/150℃结 构：两层结构，一层为热剥离胶层，厚度50微米。一层为保护膜，厚度10微米。厚的一层为带胶层，薄的一层为保护膜，使用的时候撕去保护膜即可。剥 离 原 理：热剥离胶带是由一种独特的粘合胶（热敏胶）制成，在常温下有一定的粘合力，可以起到定位的作用，能够满足各种精密加工要求，只要把温度加热到设定的温度，30-50秒钟，那么粘合力就会消失，能实现简单剥离，残留物较少，不污染被粘物。在电子产品生产过程中，能够实现简易自动化。主要使用在MLCC、MLCI、石墨烯膜转移、二维材料转移、纳米管转移、晶圆研磨定位、电路板安装、LED灯制作等定位上。尺 寸：约A4纸大小材 质：热敏胶 使用说明： 1.在一定的温度下有粘性，可以起到定位的作用，能够满足各种精密加工需要。可以用剪刀剪切，根据自己需要的尺寸，自己剪切即可。2.加工完毕后，只需要加热到设定温度，约几十秒到1分钟，粘性消失，实现简易剥离。用 途：用于转移石墨烯膜，碳纳米管，晶圆和研磨加工定位，LED、电路板安装，各种零部件定位以及环形压敏电阻定位、分切定位上。

参数：制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nmParameter:Preparation Method：soft chemistryMonodisperse Mesoporous Silica Nanosphere- Stellate MSNAverage Size：80 nmSpecific Surface Area (BET)：500 m2/gVtotal：~1.4 mL/gPore Size (conical pores of the stellate MSNs)：2.9 nmPore Size (inter particle voids between the packed MSNs)：50 nm

Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件Thermo Scientific Smart SAGA 适用于对金属基上的亚微米薄膜进行掠入射分析。Smart SAGA（高光带孔掠射角）极易操作，性能优异，样品区辨识能力极高。 只需将样品平放在水平采样台上，用激光雕刻隔栅进行定位，如需要则转动转轮以设置孔尺寸，然后扫描。掠射角反射系数是用以分析薄涂层或沉淀物的选择性方法，因为高入射角可以增大穿过感兴趣材料的红外光束的光程长度，从而大大改善灵敏度。 由于高入射角和选择性偏极化，因此可获取单层灵敏度。描述80° 固定入射角全金反射光学器件可以分析 10 埃 至 0.5 微米的薄膜永久性固定的偏光镜可以大大减小无益于表面光谱数据的‘S’偏光，从而可以改善灵敏度和采样速度独特的内部滑孔组件可快速调节至四种不同的样品定义形状与尺寸，无需设置孔径。采样板上的激光雕刻隔栅便于在进行定量分析时，重复进行样品定位和遮盖。SpecificationsAngle of Incidence: 80° 平均固定角度Sampling Area两个圆形活动区域： 5mm和 8mm一个椭圆形活动区域： 16 × 8mm开束Optics: 金反射器件Sample Positioning: 样品台上的激光雕刻测量隔栅Polarizer: 锗超薄涂层金属基上的被吸附物润滑剂表面污染物残留物分子单层订货信息：货号类型0033-197For Nicolet Avatar0033-199Specular Reflectance00331XXSmart SAGA

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

COSMOSIL CNT 碳纳米管分离特殊色谱柱 09195-71?COSMOSIL CNT 系列色谱柱是理想的基于纳米管尺寸大小而分离的色谱柱。COSMOSIL CNT系列色谱柱填充了亲水基团键合硅胶填料。色谱柱的设计可以避免碳纳米管被硅胶媳妇，并且保证最大的分离能力和回收率。COSMOSIL CNT系列色谱柱有3种不同的孔径可供选择，分别为 300 ?, 1000 ? and 2000 ?。填料特性应用数据● 碳纳米管COSMOSIL CNT 色谱柱通过串联3只不同孔径填料色谱柱，对DNA缠绕碳纳米管提供了出色的分离性能。订购信息● 分析柱 (粒径 5 μm)COSMOSIL CNT-300 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009195-71COSMOSIL CNT-300 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009194-81COSMOSIL CNT-1000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009197-51COSMOSIL CNT-1000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009196-61COSMOSIL CNT-2000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009199-31COSMOSIL CNT-2000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009198-41

飞纳孔径统计测量分析系统将飞纳电镜和孔径测量统计分析系统结合在一起，孔径的可视化分析变得非常容易。快速、操作简单并能得到高分辨率图像的飞纳电镜集成孔径分析系统，创造出统计分析孔洞数据的强大工具。孔径测量系统应用领域- 电池薄膜行业- 制药行业- 过滤行业- 筛网行业- 生物行业- 化工行业- 造纸行业- 烟草行业- 纺织行业- 陶瓷行业- 食品行业- 有孔材料行业孔径测量系统功能孔径统计分析测量系统是基于飞纳电镜的孔径分析工具，用户直接从飞纳电镜获取拍摄的图片并对孔洞直径、面积等一系列参数进行统计测量，实现样品孔径可视化分析，并生成数据统计报告。应用该系统，可以在建模、研发和质量控制中有新的发现和创新孔径测量系统优势- 直接从飞纳电镜获取图片- 快速生成分析图像- 便捷的操作，提高工作效率- 无限制的图像采集，可轻松存储于网络或优盘，便于共享、交流- 附有高清图片的统计学数据- Phenom的易用性和对环境的良好适应力，用户可以将试样最大程度视觉化

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度 XT 25 XT 50 XT 2525 XT 5050 Travel Length (mm) 25 mm 50 mm 25 x 25 mm 50x 50 mm Trajectory Control Accuracy Linear Encoder ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 4.0 &mu m Straightness/Flatness ± 1.0 &mu m ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m Yaw/Pitch/Roll 5 arc-sec 5 arc-sec 10 arc-sec 10 arc-sec 2 axis system Orthogonality Standard Grade NA NA 5 arc-sec 5 arc-sec High Precision NA NA 2 arc-sec 2 arc-sec Extra High Precision NA NA 1 arc-sec 1 arc-sec

TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

ACE® 毛细管柱和纳米柱 ACE常规键合相和新型固定相可用于毛细管（500 μm和300μm）和纳米（100 μm和75 μm）尺寸。 100和300两种孔径 柱效高、寿命长、可重现性好 LC-MS和LC-MS/MS相关应用ACE毛细管和纳米HPLC色谱柱能够为LC-MS应用提供高灵敏度 与药物动力学、痕量分析、生物分析和蛋白质组学相关 需要低流速检测器的理想选择，如电喷雾LC-MS细胞外基质中的游离氨基酸测定

1. 用途：用於收集環境納米粒子。2. 直径：47mm3. 材质：高分子聚合物4. 规格：50nm, 25nm, 1 nm 三种孔径，25nm(25纳米)过滤膜 = 11200 ntd(每盒100pcs) 50nm(50纳米)过滤膜 = 15200 ntd(每盒100pcs)

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号 产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

石墨烯纳米薄片（2~10nm） Graphene Nanoplatelets体积特性外观：黑色和灰色粉末碳含量：＞99.5%体积密度：0.10克/毫升水含量：0.5 wt%残留杂质：0.5 wt%物理性质直径：5微米厚度：2-10 nm比表面积：20-40平方米/克电导率：80000秒/平方米拉伸强度：5 GPa结构特点：层状结构与石墨晶体相同产品名称厚度直径规格石墨烯纳米片（2~10nm）2~10nm~5um50g/500g石墨烯纳米片（1~2mm）1~2mm5~10um500mg石墨烯纳米片（1~5mm）1~5mm~5um1g/5g/10gGraphene nanoplatelets consist of stacks of multi-layer graphene sheets in a platelet morphology?with a high aspect ratio (width–to-thickness).True density: 2.3g/cm3

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

西班牙Micrux 薄膜微电极SE 电化学传感器 金属微电极 生物传感器 Micrux薄膜金属微电极是采用薄膜技术在玻璃基质上制造而成，SU-8树脂保护层限制电化学池大小，主要特点是低试剂消耗，适合1-5ul样品。其工作原理是采用三电极体积，具有工作电极，参比电极和辅助电极。 Micrux薄膜微金属电极性能参数 标准尺寸：10×6×0.75mm 基质：玻璃 保护层：SU-8 树脂 电化学池：2mm 或3.5 mm直径 样品体积：1-10μL 电极材料：珀或金 Micrux薄膜微金属电极特点：低成本效益，可重复使用，制造精度高，灵敏度高。 薄膜金属电极包括薄膜单金属电极和薄膜双金属电极，薄膜单金属电极的电极材料是铂金或者黄金，薄膜双金属电极的工作电极是黄金，参比电极和辅助电极是珀金。薄膜金电极可用作酶和生物传感器开发，适合硫醇类、DNA等物质的检测，薄膜铂金电极适合气体传感器的开发，如氧气、氨气的检测等。而双金属电极可用于工作电极表面选择性的修饰而不影响参比电极和辅助电极的情况。 Micrux薄膜微金属电极应用包括电化学分析，流动化学，纳米技术，化学传感器，生物传感器，也适合流动系统的检测，如FIA, HPLC, CE等。薄膜单金属电极每包50个，薄膜双金属电极每包25个。 Micrux 薄膜微电极的连接器包括液滴池接口和多功能一体化平台，其中液滴池接口（drop-cell connector）可以容纳金属微电极并连接到恒电位仪上，适合标准薄膜（微型）电极（10x6mm）。 多功能一体化平台（All-in-One Platform），提供薄膜微电极和电化学工作站的接口，可轻松更换使用标准薄膜电极，可在在静态下使用（液滴池）或者动态下（流动池）下使用，满足多种电分析应用的需求。可提供不同标准的PMMA材质的流动池和液滴池附件（add-on），透明的PMMA 材料适合大多数的分析应用，也可根据需求提供PEEK 材料的附件，提供高的机械性和耐化学性。

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

产品名称：Chemplex1540系列带微孔薄膜Chemplex提供哪些产品？迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 预切圆（圆形）：( 直径：2.5" (63.5mm)；500片/盒)用于美国热电公司、美国PE公司、美国瓦里安公司、美国利曼公司、日本岛津公司、天瑞仪器、德国斯派克公司、法国JY公司、精谱、帕纳克、精工、牛津、安捷伦、堀场、（随机排名~）等等~……的XRF分析仪器使用。Chemplex样品盒，Chemplex样品杯系列 北京美同达供应标准油和相关耗材的提供。包括：CANNON标油，CONOSTAN标油，TEKMAR吹扫，VHG标油，ASI标油，CEC参考油，TMC参考油，油料光谱仪耗材(盘电极，棒电级)，X荧光样品膜，样品杯等等。

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

制备方法：层间催化裂解法厚度：1~5nm直径：~5um比表面积：90-130 m2/g外观：黑色粉末产品名称厚度直径规格石墨烯纳米片（2~10nm）2~10nm~5um50g/500g石墨烯纳米片（1~2mm）1~2mm5~10um500mg石墨烯纳米片（1~5mm）1~5mm~5um1g/5g/10g Typical TEM Image of ACS Material Graphene nanoplatelets (1-5nm)

制备方法：层间催化裂解法厚度：~2nm直径：5~10um纯度：98%含氧量：1.44%电导率：~2597 s/cm 产品名称厚度直径规格石墨烯纳米片（2~10nm）2~10nm~5um50g/500g石墨烯纳米片（1~2mm）1~2mm5~10um500mg石墨烯纳米片（1~5mm）1~5mm~5um1g/5g/10gTypical SEM Image of ACS Material Graphene Nanoplatelets (1-2nm)

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。