超高真空离子溅射仪

仪器信息网超高真空离子溅射仪专题为您提供2024年最新超高真空离子溅射仪价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括超高真空离子溅射仪参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的超高真空离子溅射仪您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合超高真空离子溅射仪相关的耗材配件、试剂标物，还有超高真空离子溅射仪相关的最新资讯、资料，以及超高真空离子溅射仪相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

超高真空离子溅射仪相关的厂商

  • 贰零壹捌科技（天津）有限公司
    贰零壹捌科技（天津）有限公司是一家专业从事纳米颗粒与纳米薄膜制备设备以及复杂真空系统设计、开发、制造、销售的高科技公司。创始人曾在德国和美国的高水平大学学习与工作，致力于团簇束流沉积技术和质谱、能谱等复杂真空系统的研究和设备开发。因此，公司以纳米团簇束流技术见长，拥有雄厚的复杂真空系统设计、制造及研发能力。开发完成的纳米团簇束流源及质量选择和沉积系统设备达到了国际先进水平，拥有研究型和生产型两个系列。擅长纳米团簇束流沉积技术在工业应用领域的方案设计、技术服务与产品代工，尤其适合于纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程领域提供系统解决方案。公司采用国际上先进的“设备与工艺相结合”模式进行研发、生产与销售，引领世界先进技术。公司拥有良好的售前服务平台、完善的售后服务体系、广泛的技术支持能力，致力于向广大的国内外用户提供性能高、稳定性强、安全可靠的产品。公司配备了优秀的科研人员，为用户提供售前、售后工艺服务与工艺技术支持，包括：设备选型实验、设备考察实验、项目预研与立项、合作攻关、工艺指导、工艺培训等。 广泛应用在光学、半导体、离子束、真空设备、真空机械、科研仪器及相关控制软件。镀膜、沉积设备、超高真空设备、复杂系统联动控制、低维材料制备、石墨烯传感器及系统集成：v v沉积设备：化学（催化）、材料、新材料、电极材料（新能源）（磁控溅射（单靶或多靶）、热型、电子束轰击型） v复杂真空系统：超高真空环境下，材料制备、原位表征、材料转移、集成LEED，角分辨激光光电子能谱（磁瓶和动量谱仪型）、高分辨质谱、医用质谱、各类离子与团簇源（离子源包括高电荷态ECR、中等离子态强流ECR离子源、磁控溅射强流团簇源、整发型团簇源）、不同功能光谱、质谱、电子能谱的多功能系统集成。 v抛光：荷能纳米颗粒超光滑表面抛光 v超高真空系统设计、超高真空系统相关联动系统软件、超高真空腔体与部件的加工、离子光学系统的设计 v真空部件加工
    留言咨询
  • 鹏城半导体技术（深圳）有限公司
    鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积（CVD）系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备（科研型、生产型）、超高真空磁控溅射外延设备（10-8Pa）|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备：PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备：热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台：以内置真空机械手的样品传递室为中心（配4～8个进出口），配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
    留言咨询
  • 沈阳科友真空技术有限公司
    沈阳科友真空技术有限公司专门从事真空设备和仪器的研究开发和制造。法人代表为渠洪波总经理，公司成立于2006年，前身为沈阳市科友真空技术研究所，经过科友人十几年不懈的努力与奋斗，至今已发展成为集科研开发与设计制造为一体的综合性企业。 企业新址坐落于沈阳市苏家屯区，地靠沈营公路，附近可直接转接桃仙机场、沈环高速等，地理位置优越，交通便利。我公司现有职工50余人，拥有现代化工业厂房、办公搂及其它辅助设施共6200㎡ ，拥有各种先进的加工设备和检测仪器50余台。 公司产品及经营范围主要包括： 真空设备设计解决方案；高真空、超高真空薄膜制备设备 ；真空冶炼和热处理设备 ；飞行时间质谱仪, 光电子成像设备, 激光质谱仪等分析仪器；纳米材料制备设备；工业产品制造设备；离子束刻蚀设备；真空阀门, 真空部件；电控、高压、温控、电源等部件；此外，承接其他真空设备或仪器，设计，产品，技术服务。 公司秉承以技术为优先，实力作为保障，诚挚为客户提供最佳的设计方案、最优良的产品、最满意的售后服务。 企业拥有一批长期从事真空设备研制的专业化队伍，产品主要面向科研院所、大专院校及高新技术企业。十几年来先后为北京大学，清华大学，香港大学，南京大学、中国科学院大连化学物理研究所、化学研究所、安徽光学精密机械研究所等等国际知名学府和科研单位及高新技术企业研制开发各种真空应用设备及仪器几十种类300多台套，有丰富的设计、制造能力和经验。与中国科技大学合作开发的“低温超高真空扫描遂道显微镜（LT-UHV-STM）”，获国家科技部2001年科技型中小企业技术创新基金支持；并已于2006年通过国家验收，与中国科学院大连化物所合作申请的“大气细粒子连续监测技术与设备”获2001年国家技术研究发展计划（863计划）基金支持，现在也已经通过验收；与中国科学院安徽光机所合作申请的“快速测量可挥发性有机污染物的光电离便携式质谱技术研究”获2002年863前沿探索性项目基金支持，也已通过验收。与中国科学院化学所合作申请的富勒烯连续制备和提纯设备获得科学院的资助。 2004年企业通过了ISO9001质量管理体系认证，如今沈阳科友真空技术有限公司已经发展成拥有一支优秀技术队伍和具备一定生产规模的高新技术企业，已经具备在本行业中有较强技术优势和市场认可度的状态。企业的产品随着逐步发展进入国际市场，已经出口到新加坡、美国、澳大利亚、日本等国家。 公司立足点于中小型高新技术企业，始终坚持以技术创新作为企业发展重心，以产品质量作为企业生存根本，大力培养人才作为企业的血液补充。公司拥有多位曾在中国科学院从事十几年、二十几年真空技术工作的同志和一批受过高等院校教育的年青人做为企业的技术骨干，同时又有一支优秀的技术工人队伍作为产品品质的保障。“一定在不远的将来赶上和超过世界先进水平”是科友人致力于真空行业科技研发的终极目标，也是科友人坚持前进不懈的动力。 科友就是科学家之友，科友人将继续秉承奋发向上，不断开拓的进取精神，为用户提供精良的科学仪器。科友乐于，也敢于作为真空行业的一面崭新旗帜，为国家在全国科技大会上提出的加快推进国家创新体系建设做出自己的贡献。
    留言咨询
查看更多厂商

超高真空离子溅射仪相关的仪器

  • 超高真空系统溅射离子泵与钛升华泵串联
    超高真空系统：1、极限真空：单台分子泵极限真空-6Pa2、可PLC自动控制——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品；我公司采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。为了生产出最匹配客户需求的产品，需要告知我公司以下几个问题点：1、产品在使用过程中是否有温度产生，高温和低温分别是多少摄氏度，是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求，真空领域腔体常用材质为：碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求，腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能：材质：304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围：-190℃~+1200℃密封方式：氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈超高真空系统溅射离子泵与钛升华泵串联
    留言咨询
    厂商： 郑州克普斯机械设备有限公司
    品牌： 艾锐/Airy
    型号： CF
    价格： 1元
  • 高真空离子溅射仪 400-860-5168转1115
    2 0 8HR 高分辨离子溅射仪是场发射扫描电子显微镜（FESEM）样品表面导电处理的理想设备。FESEM制样要求导电镀层在保持连续均匀的条件下，镀层粒子的粒径尽量的小，进而不会影响样品表面精细微观结构的观察。为了得到高质量的镀层， 208HR提供了所需的溅射沉积条件。其中，208HR的真空系统配备了前级机械旋片式真空泵或者无油隔膜泵，二级真空为涡轮分子泵作来提高样品室的真空度，从而使溅射镀层的粒度均匀细小，满足FESEM的制样要求。此外，自动智能的控制系统，使得操作更加简单容易，并且有很好的重复性。常用的溅射镀膜材料：Pt/Pd: 多用途的高质量的非导电样品的溅射镀膜材料Cr: 半导体材料和高分辨背散射电子成像的理想材料Ir:高性能、粒径均一的镀膜材料主要特点：1、配合不同的靶材可溅射多种材质的薄膜2、高精度的膜厚控制（选配MTM-20 膜厚监控仪）3、多角度的旋转样品台支架，使得成膜更加均匀4、多孔样品台支架行星式旋转样品台5、高度可变的真空腔，使得成膜速率在1.0nm/sec到0.002nm/sec之间可调。6、0.2 - 0.005 mbar大范围的工作气压7、紧凑、现代、桌式设计节省了空间8、操作简单安全，抽气、溅射、放气智能一体化程序设计 Specifications 溅射磁头Sputter head低电压平面磁控管Low voltage planar magnetron快速方便靶材装卸Quick target change环绕暗场保护Wrap-around dark-space shield遮板调试靶材Shutter for target conditioning靶材Targets标配：Cr, Pt/Pdor IR (Iridium coater)选配： Au, Au/Pd, Cu, Ni, Pd, Pt, Ta, Ti and W 溅射配套系统Sputter supply微程序处理器Microprocessor based安全联锁装置Safety interlock不受真空度影响的恒电流控制系统Constantcurrentcontrol independent of vacuum数显可选电流Digitally selectable current (20, 40, 60 or 80mA) 样品台Sample stage行星式0-90°手动旋转样品台Non-repetitive rotary, planetary motion with manual tilt 0-90°转速可调Variable speed rotation4样品台支架Crystal head 4 sample holders仪表Analog metering真空度：大气压-0.001mbVacuum Atm - .001mb工作电流：0-100mACurrent 0-100mA 控制模式Control method自动抽放气Automatic operation of gas purge and leak functions全自动溅射操作Automatic process sequencing可暂停数显时间设置 Digital timer(0-300 sec) with pause自动放气 Automatic venting真空系统Pumping System涡轮分子泵和旋片式机械真空泵Turbo drag / rotary pump combination抽气速率Pumping speed300 l/min at 0.1mb抽气时间Pumpdown Time1 min to 1 x 10-3mb极限真空Ultimate pressure1 x 10-5mb
    留言咨询
    厂商： 北京中镜科仪技术有限公司
    品牌： Ted Pella
    型号： 208HR
    价格： 36万元
  • 高真空磁控离子溅射仪 400-860-5168转6180
    全自动知识产品没有热损伤，效率更高，颗粒度更细，更适合高分辨电镜镀金仪应用领域1、高分辨扫描电镜样品制备（实际放大倍数≥100K）2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极高真空磁控离子溅射仪(镀金仪)配置与技术参数名称&型号高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T真空系统涡轮分子泵（进口 ）：德国莱宝90i （单磁悬浮分子泵，抽速为90L/s）旋片式真空泵：浙江飞越VRD-4 （抽速为 1 .1L/s）真空测量全量程复合真空规（进口）：1.0E5Pa-1E-4Pa系统极限真空≤5E-3Pa溅射电源磁控溅射电源,最大功率150W可用靶材所有金属靶材，ITO靶材溅射电压300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化溅射电流0-200mA连续可调,步长5mA溅射时间0-9999s, 连续可调步长1s操作界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480操作方式一键操作抽气节拍＜15分钟控制方式只需设定溅射电流和时间即可，全自动控制具备预溅射挡板（预溅射时间可设定),全自动控制保护功能软硬件互锁、防止误操作，具备电流、真空保护等样品台直径φ125mm，可自转，可自动手动控制，转速4-40rpm可调真空室高硅硼玻璃，规格尺寸约φ200×130mm电源供电220V 50Hz 最大功率800W尺寸&重量重量 424（长) ×345（深) ×420mm（高）、 25 kg （净重)冷却方式内部风冷选配样品台选择、膜厚控制、温度监测等镀膜样品示例： 靶材-银 靶材-钨 靶材-铬 靶材-镍 靶材-钒 靶材-锡 靶材-铜 靶材-钽 靶材-贴 靶材-钛 靶材-铅 靶材-钼 靶材-铝 靶材-铂 靶材-金 靶材-锆 靶材-铒 靶材-ITO
    留言咨询
    厂商： 北京格微仪器有限公司
    品牌： 格微仪器/GEVEE
    型号： GVC-2000T
    价格： 面议
查看更多仪器

超高真空离子溅射仪相关的资讯

  • Science Bulletin：超高真空机械剥离和堆垛技术取得进展
    近年来，二维材料及其异质结构由于在电子、光电及自旋器件领域展现出巨大的应用潜力而得到了人们的广泛关注。然而，制备表面高度洁净的二维材料以及界面原子级平整干净的二维异质结仍然十分困难，尤其对于表面敏感的二维材料而言更是如此。制备二维材料的方法主要分为两大类：以分子束外延（MBE）和化学气相沉积为代表的“自下而上”法和以机械剥离为代表的“自上而下”法。其中，“自下而上”法由于受到生长动力学的制约，仅能在特定衬底上制备特定的二维材料，并且制备出的二维材料通常具有确定的取向，因此极大地限制了可获得的二维异质结的种类。相比于“自下而上”的材料合成策略，以机械剥离为代表的“自上而下”方法具有操作简单、灵活性强的特点，对于范德瓦尔斯材料而言可以很容易地制备传统生长方法难以实现的少层样品和转角结构。然而，传统的机械剥离方法是在大气或手套箱中进行，仍然存在很多问题：（1）环境的污染将引入大量的杂质或缺陷。即使对于稳定的二维材料（比如石墨烯），这种方法制备的样品，如未经退火处理，传入真空后，由于表面吸附了大量的杂质，难以利用ARPES、STM等表面敏感的技术进行测量，而高温退火可能引入更多的杂质或缺陷。（2）很多单晶表面在空气中甚至低真空环境下不能稳定存在，比如Si(111)-7×7、Cu(111)、Fe(100)等，这些材料的表面必然会被氧化并吸附大量的杂质。因此，传统的机械剥离方法无法制备二维材料与这类衬底构筑的异质界面。最近，中国科学院物理研究所/北京凝聚态物理国家研究中心SF9组的冯宝杰特聘研究员、陈岚研究员、吴克辉研究员与SC7组周兴江研究员、北京理工大学的黄元教授合作，指导博士生孙振宇、韩旭等，自主设计并搭建了一套超高真空环境下的二维材料机械剥离-堆垛系统。他们将机械剥离技术与超高真空MBE技术结合到一起，在本底真空10-10 mbar量级的环境中，利用MBE技术制备了多种原子级平整、洁净的表面，并利用机械剥离技术在这些衬底上成功剥离了多种单层和少层二维材料。设备的工作原理图如1所示，所有操作均在超高真空中完成。首先，他们利用高温退火、离子溅射、等离子体刻蚀、MBE生长等多种表面处理技术获得原子级平整、洁净的表面。表面的质量可以通过原位的扫描隧道显微镜、低能电子衍射、角分辨光电子能谱等超高真空表面分析手段进行确认。然后，他们在超高真空中将二维材料进行解理，获得新鲜的表面，并轻压到衬底表面上。最后，他们将系统加热并分离，获得了多种单层和少层二维材料。利用该方法，他们不仅重复了大气下的金辅助剥离技术，而且成功获得了多种以前未报道过的二维异质结，包括Bi-2212/Al2O3、Bi-2212/Si(111)、MoS2/Si(111)、MoS2/Fe、MoS2/Cr以及FeSe/SrTiO3（任意角度）等。图1 超高真空中机械剥离二维材料图2 在单晶衬底上获得的超薄二维材料为进一步展示该系统的能力，他们选择了两个体系作为示例。（1）利用金辅助剥离技术，他们在超高真空中制备出了毫米级的单层黑磷样品，并利用原位的低能电子衍射、角分辨光电子能谱对样品进行了表征，观察到了清晰的衍射斑点和沿高对称方向的空穴型能带（图3）。这是国际上首次对单层黑磷进行的相关测量。（2）为了揭示不同金属衬底对二维材料物性的影响，他们研究了单层MoS2和WSe2在不同金属表面的光学性质（图4）。通过测量不同金属上单层WSe2的荧光光谱，他们意外地发现，除了Au衬底以外，剩下的Ag、Fe、Cr等表面均不淬灭WSe2的特征A激子发射，且峰位略有偏移。通过拉曼光谱，他们发现在Au和Ag表面上的MoS2，其特征拉曼峰E2g和A1g除频率移动外，展现出了奇特的劈裂行为。图3 大面积单层黑磷的真空原位LEED和ARPES表征图4 不同金属表面单层WSe2和MoS2的光学响应本工作为进一步制备高质量的二维材料及异质结样品、研究材料的本征物性以及界面演生现象提供了一种全新的方法。相关成果以“Exfoliation of 2D van der Waals crystals in ultrahigh vacuum for interface engineering”为题发表在Science Bulletin上（doi.org/10.1016/j.scib.2022.05.017）。该工作得到了国家自然科学基金委、科技部、北京市自然科学基金、中科院国际合作项目以及中科院先导B等项目的资助。
    时间： 2022-06-15
    作者： 葱头
  • 牛津仪器收购超高真空仪器供应商Omicron公司
    世界领先的科学仪器跨国集团公司牛津仪器公司日前宣布收购Omicron公司，并将其纳入公司的纳米科学部门，而该部门已汇集了纳米分析技术、等离子技术与纳米科学等先进产品。 　　据了解，Omicron纳米科技公司前身为Omicron Vakuumphysik有限公司，成立于1984年，总部位于德国Taunusstein市，是国际著名的专业开发和生产超高真空表面分析和扫描探针显微学系统的公司。 　　在过去的28年中，Omicron公司已发展成为纳米技术研究部门提供超高真空科学仪器和系统的领先供应商。通过该公司的扫描隧道显微镜以及电子能谱系统，OMICRON为科学家们提供了观察纳米世界的“眼睛”。今天，OMICRON公司的业务和价值观念都反映在其“前沿技术”、“德国制造”的质量标准以及全球的客户关系中。 　　由于两家公司的客户群体大致相同，再加上完美的技术合作，牛津仪器纳米科学部与Omicron公司在技术与业务上实现共享，并期望双方紧密合作，为客户创造更高价值的优秀产品。 　　牛津仪器纳米科学部总经理Jim Hutchins先生评价说：“对于Omicron公司的加入，牛津仪器纳米科学部的每一位员工都表示热烈欢迎，而这次业务合并的效果也是显著的。我们预计，二者世界领先技术的结合，将会为迅速发展的纳米技术市场提供一系列新式而独特的解决方案。例如将Omicron公司的探针显微技术与牛津仪器公司的低温强磁装置结合，将是一个很不错的集成方案。” 　　牛津仪器公司（www.oxford-instruments.com） 　　牛津仪器公司于1959年创建于英国牛津，现已成为世界领先的科学仪器跨国集团公司，拥有分布于英国、美国、德国、芬兰和中国的十几个工厂以及遍及全球的分公司或办事处，其产品和服务已经延伸到了一百多个国家和地区。本公司属于高科技行业，其产品包括高精度的分析仪器、半导体设备、超导线材、超导磁体、超低温设备、低温泵等。 　　Omicron公司(www.omicron.de)： 　　Omicron创建于1984年，拥有20多年开发和创新的经验，是国际著名的专业开发和生产超高真空表面分析和扫描探针显微学系统的公司。Omicron的产品显示出卓越的多功能和实用性，在全球众多研究单位，尤其是在一流重点实验室中得到普遍应用。例如，Omicron超高真空扫描隧道显微镜目前全球销售量接近1000台；而新开发的系统如NanoESCA、NanoSAM等产品一次次将纳米领域研究推到更高水平。
    时间： 2011-06-20
    作者： 刘玉兰
  • Edwards收购超高真空泵制造商Gamma
    2013年8月9日，Edwards集团宣布，它已经签订了一项最终协议，收购Gamma Vacuum(以下简称为：Gamma)业务及若干资产。Gamma Vacuum是超高真空(UHV)泵设计、制造和服务的市场领导者。Gamma成立于2003年，在离子泵和钛升华泵制造和分销方面具有很好的声誉。 　　Gamma的两位创始人将继续留在位于明尼苏达州现有工厂，负责业务和制造。该交易预计将在2013年9月完成。 　　Gamma的产品范围包括主要适用于研发领域的超高真空泵，如高能物理，及科学和工业应用等。 2012年Gamma的收入超过900万美元，客户超过350个，主要分布在美国和欧洲和日本。这些客户包括范围广泛的政府实验室、大学和专业制造商。(编译：杨娟)
    时间： 2013-08-12
    作者： sunny
查看更多资讯

超高真空离子溅射仪相关的方案

查看更多方案

超高真空离子溅射仪相关的资料

查看更多资料

超高真空离子溅射仪相关的试剂

查看更多试剂

超高真空离子溅射仪相关的论坛

  • 关于E-1010离子溅射仪的问题

    （1）在较长时间抽真空后，日立E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

  • 关于E-1010离子溅射仪

    （1）在较长时间抽真空后，E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

  • 关于离子溅射仪问题请教

    我们的离子溅射仪在每次换Pt靶材之后总是会出问题，会提示你由于真空度的原因或者chamber内contamination的原因不能进行discharge，为什么呢？各位有没有遇到过此类问题呀？检查真空度也达到了要求，内部也擦过很多了，貌似也擦干净了吧，还是不行。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

查看更多帖子

超高真空离子溅射仪相关的耗材

  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。
    供应商： 牛津仪器科技（上海）有限公司
    品牌： Agar Scientific/牛津仪器
    价格： 面议
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地：英国品牌：Cressington类型：Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象，而国产靶材由于杂质多（虽然宣称纯度优于4个9），质量次会导致镀膜效果不均匀，污染溅射头等问题，主要区别：1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装，而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装；2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌，而进口靶材有明显的产品信息和编号；
    供应商： 溢鑫科创科技集团
    品牌： Cressington
    价格： 面议
  • 磁控溅射靶材
    高纯度的金属溅射靶材适用于多种品牌的离子溅射仪： 包括PELCO® , Cressington, Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.这些磁控溅射靶材的直径分为60,57,54,50和19mm。1、高纯60mm金属靶材：适用于Denton DESK II / DESK III / DESK IV/ DESK V, Edwards 150 B / SCANCOAT, Emitech K500/K550/K650和Emscope SC500离子溅射仪。货号产品描述单位91217铜靶, 99.99% Cu (?60mm x 0.076mm)块91210金靶, 99.99% Au (?60mm x 0.1mm)块91212金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?60mm x 0.1mm)块91216镍靶, 99.98% Ni (?60mm x 0.1mm)块91214铂靶, 99.95% Pt (?60mm x 0.1mm)块91219钯靶, 99.95% Pd (?60mm x 0.1mm)块91229银靶, 99.99% Ag (?60mm x 0.1mm)块2、高纯57mm金属靶材：适合于 Agar, Cressington 108/208, Emitech SC7620/SC7610/K575X/K575XD, ISI 5400, JEOL JFC 1200/1300/1400/1600/2300HR, PELCO® Model 3, SC4/SC5/SC6/SC7, Polaron 5000/5400/SC7610/SC7620, Quorum Q150, 和 SPI Module/Super离子溅射仪货号产品描述单位8074铬靶, 99.95% Cr (?57mm x 3.2mm) (208HR only)块91117铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.1mm) 块8077铜靶, 99.99% Cu (?57mm x 0.3mm)块91110金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.1mm)块8071金靶, 99.99% Au (?57mm x 0.2mm)块91112金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.1mm)块91111金钯合金靶, 99.99% Au:Pd 60/40 (?57mm x 0.2mm)块91132-B铟锡氧化物靶 , 99.99% ITO, In2O3/SnO2 90/10 wt % 背面有1mm 铜片, (?57mm x 3mm 总厚)(208HR only)块91120铱靶, 99.95% Ir (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91124铁靶, 99.5% Fe (?57mm x 0.12mm) (208HR only)块8073钼靶, 99.95% Mo (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91116镍靶, 99.98% Ni (?57mm x 0.1mm) (208HR only)块8079铌靶, 99.95% Nb (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块91119钯靶, 99.95% Pd (?57mm x 0.1mm)块91114铂靶, 99.95% Pt (?57mm x 0.1mm)块8076铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.1mm)块91115铂钯合金靶, 99.99% Pt:Pd 80/20 (?57mm x 0.2mm)块91118银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.1mm)块91129银靶, 99.99% Ag (?57mm x 0.3mm)块8075钽靶, 99.95% Ta (?57mm x 0.3mm) (208HR only)块91123钛靶, 99.6% Ti (?57mm x 0.2mm) (208HR only)块8078钨靶, 99.95% W (?57mm x 0.25mm) (208HR only)块3、高纯54mm金属靶材，适合于Bal-Tec SCD005/040/050/500, MED10/20 和LEICA EM SCD 005/050/500, MED 020 离子溅射仪。4、高纯50mm金属靶材，适合于Anatech/Technics Hummer I, II, III, Fullam EffaCoater 和 Fullam EMS-76离子溅射仪。 5、高纯38mm金属靶材，适合于Cressington 308HR离子溅射仪。6、高纯19mm金属靶材，适合于Gatan Model 681 and 682 PECS 离子束溅射仪镀非导电SEM样品时，如何选择相应靶材：Gold黄金优良的靶材，广泛应用于标准SEM镀膜。对于冷镀膜离子溅射仪(如Cressington 108auto)，对于热敏性样品几乎不会产生任何热量. 在高倍SEM下可看到颗粒尺寸. Gold/Palladium金钯合金溅射率低于纯黄金. 与Au相比，Au/Pd 的颗粒更小,但由于其有两个峰，所以不是很适合EDS分析，也不是很适合热敏性物质镀膜。Palladium钯成本低，可用于中低放大倍数场合，具有更低的SE信号Platinum铂金具有比Au 或 Au/Pd更小的溅射颗粒。但溅射率更低。如果有氧气，则应力开裂的敏感性。有更高的SE产出。Platinum/Palladium铂钯合金颗粒大小与Pt差不多，但应力开立的敏感性较小。非常适合FESEM，但更适合高分辨率镀膜仪208HR.Silver银成本低，可用于中低放大倍数场合，颗粒比Au大. 适合于小型SEMs。与Au或Pt相比，SE产出更低。. 如果样品没有放在真空环境下，则镀膜表面易氧化. 可用于特殊的EDS工作.Chromium铬非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM. 为避免氧化，需用于208HR一样的高真空镀膜仪。镀膜后的样品只能存放在高真空环境中. 溅射离子直线下落。适合生物样品的BE成像，溅射产率低。Iridium铱非常细的溅射颗粒，适合于 FESEM，需用于208HR一样的高真空镀膜仪，溅射产率低。Tungsten钨可替代Cr.颗粒非常细，但氧化非常快，溅射产率低。 Nickel镍可作为特殊的EDS应用, 不适合SE成像.适合BE成像，溅射产率低，镀膜易氧化。Copper铜适用于EDS. 适合中/低放大倍数场合，BE成像.Note 1:铝的溅射产率非常低，对于SEM离子溅射不适用，且氧化非常快。Note 2:碳最适合于EDS应用，但很难溅射。碳的蒸发产率非常好。 金靶种类选择厂家型号60mm57mm54mm50mm38mm19mmAGAR手动型离子溅射仪XAGAR自动型离子溅射仪XAnatech/TechnicsHummer IXAnatech/TechnicsHummer IIXAnatech/TechnicsHummer IIIXAnatech/TechnicsHummer Jr.XBal-TecSCD 005XBal-TecSCD 040XBal-TecSCD 050XBal-TecSCD 500XBal-TecMED 10XBal-TecMED 20XBio-RadSC 5200XBio-RadSC 502XCressington108 manualXCressington108 autoXCressington108/auto/SEXCressington208HRXCressington308HRXDentonDESK IIXDentonDESK IIIXDentonDESK IVXDentonDESK VXEdwards150 BXEdwardsScancoatXEmitechSC7620/SC7610XEmitechK500X/K550X/K650X XEmitechK575/K575XD/Q150 XEmscope/PolaronSC 502XFullamEMS-76XGatanISI 5400XJEOLJFC-1200XJEOLJFC-1300PELCO® SC6X
    供应商： 广州竞赢科学仪器有限公司
    品牌： Ted Pella
    价格： 面议
查看更多耗材

看了这个的用户还看了

Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ，All Rights Reserved版权所有，未经书面授权，页面内容不得以任何形式进行复制