平面研磨机

美国QMAXIS平面研磨磨石原装进口美国QMAXIS平面研磨磨石，是安装在金相预磨机上，对样品快速研磨的专用磨具。缩短了研磨过程，节约工时，提高制备效率，也减少了相关耗材的使用，降低制样成本。除此之外，平面研磨磨石还能确保试样的边缘保护和平整度。预磨机上的磨石修整棒能按设定的程序对平面研磨磨石进行规律地修整，以保持研磨面清洁和锋利，延长其使用寿命。适用范围产品编号12in平面研磨磨石，直径12in [305mm]，厚度1in [25.4mm]，1块/包适用范围产品编号 氧化铝，用于黑色金属及合金的快速平面研磨，Grit120GS-12-0120A 碳化硅，用于有色金属的快速平面研磨，Grit120GS-12-0120S14in平面研磨磨石，直径14in [356mm]，厚度1.75in [44mm]，1块/包适用范围产品编号 氧化铝，用于黑色金属及合金的快速平面研磨，Grit150GS-14-0150A 碳化硅，用于有色金属的快速平面研磨，Grit150GS-14-0150S

现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，主要特点，咨询热线，15300030867,010-82752485-815，张经理，欢迎您的来电咨询！? 水性或胶性的物质可通过加入水，将其磨碎；? 可选用A 11.4 250 ml研磨杯；? 随机配A 11.5 80ml的研磨杯，研磨杯为Tefel材质（PTFE，经玻璃纤维固化）和高级不锈钢(1.4571)制成，可用于需要液氮的研磨。现货供应艾卡(IKA) A11 分析研磨机，技术参数A11 分析研磨机工序类型分批处理工作原理剪切/冲击电机输入功率160 W电机输出功率100 W最大转速28000 rpm最大圆周速度53 m/s最大使用容积80 ml最大给料硬度6 Mohs最大给料颗粒10 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034研磨室材料不锈钢1.4571工作时间 开1 min工作时间 关10 min研磨室，可用水冷却不研磨物料可在研磨室用干冰冷却是研磨物料可在研磨室用液氮冷却是外形尺寸85 x 240 x 85 mm重量1.5 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %DIN EN 60529 保护方式IP 43电压220 - 240 / 100 - 115 V频率50/60 Hz仪器输入功率160 W

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

MultiDrive MT 150.5 Milling tube, autoclavableMT150.5研磨杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于样品干磨。该塑料研磨杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 MT150.5研磨杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该研磨杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加研磨杯的使用次数。研磨杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：150mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该研磨杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。MultiDrive TC 1 Protective housing组合MultiDrive MT 150和BT 250使用的防护罩MultiDrive BT 250.5 Blending tube, autoclavableBT 250.5 匀浆杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于湿磨工艺。该塑料匀浆杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 BT250.5匀浆杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该匀浆杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加匀浆杯的使用次数。匀浆杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：250mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该匀浆杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC 1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。

产品介绍：　　2.0ml螺帽管，平底带单独旋盖，螺旋盖已旋上，无菌；带O环，防泄漏的螺帽管盖，可承受离心力达20000Xg，可121℃的高压灭菌。可与MP fastprep-24研磨机配套使用。 　　离心管在全球范围内被广泛使用，并已经成为所有实验室、工业和研究领域及日常工作的一个不可缺少的部分。安全的带O形密封圈螺帽管和结实的聚丙烯试管，使该产品成为一个用于离心、运输和存储高质量合成低聚核苷酸、酶、缓冲液等的理想多功能的工具。 产品规格：2.0ml/支，100支/包

影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨 所谓医药中间体，实际上是一些用于药品合成工艺过程中的一些化工原料或化工产品。这种化工产品，不需要药品的生产许可证，在普通的化工厂即可生产，只要达到一些的别，即可用于药品的合成。 我国每年约需与化工配套的原料和中间体2000多种，需求量达250万吨以上。经过30多年的发展，我国医药生产所需的化工原料和中间体基本能够配套，只有少部分需要进口。而且由于我国资源比较丰富，原材料价格较低，有许多中间体实现了大量出口。那么，我国医药中间体域面临哪些发展机遇呢？我国β－内酰胺类抗生素经过近50年的发展，已经形成了完整的生产体系。2012年几乎所有的β－内酰胺类抗生素（除利期内的品种外）我国都能生产，而且成本很低，青霉素产量居位，大量出口供应国际市场；头孢类抗生素基本能够自给自足，还能争取一部分出口。2012年，与β－内酰胺类抗生素配套的中间体我国全部能够自己生产，除了半合成抗生素的母核7－ACA和7－ADCA需要部分进口外，所有的侧链中间体均可生产，而且大量出口。 以β－内酰胺类抗生素的主要配套中间体苯乙酸为例，我国现有苯乙酸生产厂家近30家，总年产能力约2万吨。但多数企业规模偏小，大的年产2000吨，其他大多年产数百吨。2003年国内苯乙酸总需求量约1.4万吨，消费结构为：青霉素G占85%，其他医药占4%，香料占7%，农药及其他域占4%。随着国内香料、医药、农药等行业的发展，苯乙酸需求量将进一步增加。预计到2005年，我国医药工业将消耗苯乙酸约1.4万吨，农药行业将消费500吨，香料行业约消费2000吨。再加上其他域的消费量，预计2005年国内苯乙酸总需求量将达1.8万吨。 所以上海依肯机械设备有限公司根据日益增长的市场需求结合多年来积累的丰富的行业经验以及成功案例特别推出医药中间体CMD2000系列胶体磨突破传统意义上的粉碎机，是技术上的进一步革新。好的粉碎效果源自硬质刀具的表面结构，三组分散刀头，表面含有不同粒度大小的金属颗粒，这保证了物料在通过各刀头后达到理想的细化效果。该锥体磨独特的锥形设计，增大了冷却表面积，更利于长时间工作。 产品说明：锥体磨CMD2000是CM2000的更进一步。通过减少颗粒粒度和湿磨，可获得更细悬浮液，技术更创新。这是通过将锥形刀具间的间隙调节至小来完成的。间隙可进行无调节。好的粉碎效果亦源于硬质刀具的表面结构。刀具表面含高质材料。 第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验特制工作头来满足一个具体的应用。医药中间体CMD2000系列胶体磨（研磨分散机）的特点：① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。医药中间体CMD2000系列胶体磨设备参数选型表高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。影响医药中间体胶体磨研磨效果的因素其实很简单，医药中间体高速胶体磨，医药中间体湿法超微粉碎机，医药中间体湿磨机，医药高速纳米研磨机 ，化工原料高剪切胶体磨，原料药高速纳米胶体磨，头孢类抗生素纳米胶体磨

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

研磨适配器是应用于高通量组织研磨仪的研磨容器，形状类似离心管，专用于少量多批次样品的研磨。研磨时，将样品和研磨珠放入适配器中，然后盖上盖子，即可放入研磨机中进行研磨。

Allied 金刚石复合研磨剂是专门为金相学样品制备设计的。精确的金刚石颗粒使研磨效果更均匀。它与水、乙二醇、酒精等润滑剂兼容，而且用水就可轻易清除

玛瑙研磨球 玛瑙球磨珠产品具体规格为：3-60mm之间，如需特殊规格可按照客户需求加工任意规格研磨球。玛瑙球：（agate　ball）是由进口玛瑙为原料制成的，不仅具有高强度和高韧性，而且兼备高耐磨性。可用于各种球磨机使用，寿命长且可降低成本、减少生产加工中的球的磨损，对环境的影响也小。采用纯天然的玛瑙石经切割、打磨和抛光等工艺制成。具有结构致密。色泽通透、高弹性模量和优异的耐磨型。适合球磨机对电子材料、陶瓷材料、油墨材料、化工材料、电池材料、稀土材料、等的粉体研磨产品。比重：2.65kg/L, 散重：1.58kg/L,莫氏硬度：7， 颜色：奶白或深蓝；粒径：7-30mm。 比重大、强度高、粉碎效率高、可缩短处理时间。真球度高、表面光滑、直径分布小、可进行高精度产品的破碎和分散。因使用高纯度原料，使其具有高耐磨性、可以最小限度地限制杂质的混入。耐磨性能好、寿命长、不需频繁的补充玛瑙研磨球，减少生产成本。对粘性和比重大的被粉碎物的湿式粉碎和分散、也可发挥较大的威力。使用在搅拌球磨机的粉碎过程中、不需担心球的生锈的腐蚀问题。用途：压电陶瓷、绝缘材料等电子材料、磁性材料的粉碎和分散颜料、油墨（墨水）、涂料等的粉碎和分散药品、食品的粉碎和分散精密陶瓷的粉碎和分散其他：化工、电子、陶瓷、油墨、涂料等多种研磨机械配套的理想研磨介质。

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

金刚石研磨片 金刚石研磨片由精密的分级金刚石组成，统一的聚脂薄膜衬背。它可长久良好的研磨性，并且适应原料种类或硬度的变化。它试用于未封装的横截面，TEM截面/平面观察用抛光，背部抛光，以及用来减薄pre-FIB 样品。ALLIED独特的色码包装可以方便快捷的识别产品的微米级。

产品名称：ShakIR Sample Grinder-For Optimized Sample Mixing品牌：美国PIKE公司产品价格：面议(RMB) PART NUMBERDESCRIPTION161-1070ShakIR, Heavy Duty Sample Grinder, 110/220VSample Grinder Vials161-1035Stainless Steel Vial with Ball, 1" long x 0.5"Options and Replacement Parts for Sample Grinders161-1037Spare Stainless Steel Ball160-8010KBr Powder, 100 g

陶瓷研磨盘采用高级陶瓷材料制作而成，适合于晶体、陶瓷、玻璃等脆性材料的研磨。主要特点耐磨性好，平面度高，容易清洗，不会将磨料嵌入盘内。技术参数Φ203mm、Φ300mm

标准级再生纤维素透析膜： Spectra/Por 1-7 标准级再生纤维素（RC）透析膜采用经再生处理的天然棉绒纤维制成，膜透明、柔韧，性能稳定，孔径精确，是实验室常规脱盐、换液以及大分子纯化等透析处理的理想选择。标准级RC膜具有良好的化学耐受性，可耐受低浓度的强酸/碱溶液、高浓度的弱酸/碱溶液、醇及温和有机溶剂，包括DMSO。长时间接触强有机溶剂可能造成膜损坏。标准级RC膜适用pH范围为2-12，适用温度范围为4-121℃。标准级RC膜仅含有极低水平的重金属杂质，一般不会影响实验结果；如实验样品较为敏感，可使用重金属漂洗液于使用前进行预处理。标准级RC膜提供多种包装规格，包括卷式透析膜管（干型或预处理型）、透析试验包、即用型透析袋以及平面膜片。 Repligen提供7种不同规格的标准级RC膜，Spectra/Por 1-7，以满足不同应用需求。 标准级再生纤维素平面透析膜片 Repligen提供方形和圆形两种形状的不同规格平面透析膜片，以配用不同类型的透析器或超滤杯。 产品规格： 5种膜类型： Spectra/Por 1、2、3、4和5 3种圆形膜片直径： 33、47 & 100mm 5种方形膜片尺寸： 见订购信息 特性： 亲水、精确孔径 包装： 干型包装，含甘油（使用前纯水漂洗）或不含甘油 数量： 50片/包（圆形）、25片/包（方形）

产品简介：陶瓷研磨盘采用高级陶瓷材料制作而成，适合于晶体、陶瓷、玻璃等脆性材料的研磨。 产品型号陶瓷研磨盘主要特点耐磨性好，平面度高，容易清洗，不会将磨料嵌入盘内。技术参数?203mm、?300mm如需特殊尺寸请与我司销售人员联系！

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

产品及型号：编号型号凸缘内径× 凸缘外径× 高（mm）主管（TS）侧管（TS）RMB（含税）1-7806-01005610-1（单口）&phi 85× &phi 115× 11624/40－¥ 1000.001-7806-02005620-1（双口）&phi 85× &phi 115× 11624/4019/38¥ 1,280.001-7806-03005630-1（三口）&phi 85× &phi 115× 11624/4019/38× 2¥ 1,650.001-7806-04005640-1（四口）&phi 85× &phi 115× 11624/4019/38× 3¥ 1,900.001-7802-01005710-1（单口）&phi 120× &phi 150× 12229/42－¥ 1,560.001-7802-02005720-1（双口）&phi 120× &phi 150× 12229/4224/40¥ 1,790.001-7802-03005730-1（三口）&phi 120× &phi 150× 12229/4224/40× 2¥ 2,170.001-7802-04005740-1（四口）&phi 120× &phi 150× 12229/4219/38× 1、24/40× 2¥ 2,580.005-5670-01烧瓶夹（3个一套）¥ 400.00规格 1. 材质：硼硅酸玻璃1 2. 支管：锥形配研接头 3. 凸缘面：平面研磨

极紫外平面反射镜1.zui大可实现 13.5nm 反射2.专为极紫外线光束转向和谐波分离而设计5°和45°自动光学检验的可用版本极紫外平面反射镜是多层反射镜，在其设计波长和入射角下实现zui大反射率。这些反射镜的特点是反射涂层沉积在一个超抛光的单晶硅基板上，表面粗糙度小于3? RMS. 45°自动光学检验反射镜可用于转向s偏振光束，而 5° 自动光学检验反射镜可用于非偏振光束. 极紫外线反射镜的应用包括相干衍射成像 (CDI) 和材料科学研究。极紫外平面反射镜也可用作高次谐波 (HHG) 光束的谐波选择器. 注意:附带每个反射镜运行样本的测试数据.通用规格基底:Single Crystal Silicon涂层:Mo/Si MultilayerTop Layer: Silicon 表面粗糙度（埃）:3 RMS厚度容差 (mm):0.508直径 (mm):25.40 ±0.25镀膜类型:Metal/Semiconductor厚度 (mm):6.35表面平整度 (P-V):λ/10 @ 632.8nm订购信息： 涂层规格AOI (°)产品号R 60% @ 13.5nm5#38-759R 65% @ 13.5nm45#38-760

产品及型号：编号型号容量（mℓ ）凸缘内径× 凸缘外径× 高（mm）最大外径（mm）RMB（含税）1-7803-01005660-300300&phi 85× &phi 115× 100&phi 100800.001-7803-02005660-500500&phi 85× &phi 115× 110&phi 108860.001-7803-03005660-10001000&phi 85× &phi 115× 140&phi 135920.001-7803-04005660-20002000&phi 85× &phi 115× 180&phi 1701,300.001-7803-05005660-30003000&phi 85× &phi 115× 215&phi 2001,980.001-7803-06005660-50005000&phi 85× &phi 115× 245&phi 2252,790.001-7800-01005760-10001000&phi 120× &phi 150× 140&phi 1401,290.001-7800-02005760-20002000&phi 120× &phi 150× 180&phi 1702,070.001-7800-03005760-30003000&phi 120× &phi 150× 215&phi 2002,930.001-7800-04005760-50005000&phi 120× &phi 150× 245&phi 225代替品规格 1. 材质：硼硅酸玻璃1 2. 凸缘面：平面研磨

产品及型号：编号型号形状容量（mℓ ）凸缘内径× 凸缘外径× 高（mm）瓶体外径（mm）RMB（含税）1-7804-01005670-200筒形200&phi 85× &phi 115× 60&phi 94¥ 840.001-7804-02005670-500筒形500&phi 85× &phi 115× 115&phi 94¥ 860.001-7804-03005670-1000筒形1000&phi 85× &phi 115× 210&phi 94¥ 1,250.001-7805-01005670-2000瓶形2000&phi 85× &phi 115× 250&phi 138¥ 2,020.001-7801-01005770-1000瓶形1000&phi 120× &phi 150× 116&phi 146¥ 1,610.001-7801-02005770-2000瓶形2000&phi 120× &phi 150× 250&phi 146¥ 2,790.001-7801-03005770-5000瓶形5000&phi 120× &phi 150× 250&phi 220¥ 4,620.005-5670-01烧瓶夹（3个一套）¥ 400.00规格 1. 材质：硼硅酸玻璃1 2. 凸缘面：平面研磨

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸 2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。 货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

MultiDrive BL 2000 Blender vesselBL 2000匀浆杯与IKA MultiDrive basic 配合使用，特别适用于各类样品的湿磨处理，如肉类、香肠、大豆、青贮饲料、蔬菜等。 该容器所有零件均可用洗碗机清洗。匀浆刀头易于拆卸，以方便对其进行彻底清洁。 该匀浆杯标准不锈钢刀头。技术参数工序类型分批处理工作原理混合速度范围3000 - 20000 rpm最大圆周速度78.5 m/s最大使用容积2000 ml最大给料颗粒30 mm冲击/剪切刀头材料不锈钢1.4034材料(其他)不锈钢、PCTG、聚四氟乙烯、硅胶、碳化硅工作时间 开30 min工作时间 关10 minFDA合规性是多次使用是可洗碗机清洗是数据传输驱动器/容器无线射频识别监控维护时间是温度测量是温度测量精度0.1 K温度测量精确性±1 K最低温度限制。-50 °C最高温度限制。80 °C刀头/刀具直径75 mm外形尺寸180 x 280 x 220 mm重量1.25 kg允许环境温度5 - 40 °C允许相对湿度80 %

产品简介 该产品采用近红外640×512红外焦平面读出电路芯片与近红外640×512红外焦平面元光敏芯片倒焊互联，实现对探测器信号的积分、存储和输出。光敏芯片采用背照射结构，中间距25×25um2。电路工作模式为先积分后读出模式，读出速率（Pixel Rate）20KHz～10MHz，建议初次调试驱动波形时，时钟采用500KHz。性能参数器件规模近红外640×512红外焦平面像元尺寸/um225×25像元中心距/um25光谱响应/um0.9～1.7功耗/mW100峰值探测率/cmHz1/2/W≥ 1×1012@5℃,1.55 μm峰值量子效率/%≥ 80@1.55μm满阱容量/Me-0.6动态范围/dB≥60工作温度范围/℃-20～60贮存温度范围/℃-40～70

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Spectrocertified® Grinding and Briquetting Additives研磨粉，助磨剂 X-Ray Mix&trade ,研磨粉，助磨剂产品货号产品描述600粉末6251/4 克/片6501/2 克/片SpectroBlend&trade 44µ ( 微米) 研磨粉，助磨剂产品货号产品描述660粉末6901/2 克/片硼酸, 1/2 克/片产品货号产品描述7501/2 克/片

镀金属膜元件；包括圆形镜，椭圆形平面反射镜，离轴抛物镜，柱面凹面镜，直角棱镜反射镜等。材质：主要材质有BK7和UVFS，镀膜有金，银，铝等。规格：直径有12.7mm,25.4mm和50.8mm。椭圆形平面反射镜用途：可用于高反射率要求，

气相色谱仪配件之精密平面六通进样阀六通阀相关知识： 六通阀实现进样实际上就是将对角两点间的气路切换到两侧气路的切换阀，其实现方式有三种，有拉杆式、平面式、膜片式。 在六通阀末端，有一矩型接口，直接插入阀驱动上。驱动阀两端，各有一路进气口，始终是一端带气一端泄压，这样就可以带动阀杆转动和复原。气路上也就是进样和取样。这是自动进样程序。如果是手动六通阀，用手直接转动阀杆即可。六通阀孔是两两相通的。两组不通的孔道，可用短管跨接即可。 在阀体两侧各有一个进气口。气源由一路供应，进入分配器后，分为两路，两路中每一路又一分为二，一路为进气位，一路为出气位。当阀气进入一路的进位时，由于气压的推动，带动阀杆转动，至出气位，压力泄空。表现在六通阀上，阀撞针由初始档到末位档，气路也就切换了；要复位时，二路进位带压，推动阀体带动阀杆转动复位至泄压位。六通阀气路复原。还有一种是单路切换。也就是控制一路进气，一路泄压即可。即进气时，推动阀体转动180度，六通阀切换气路。复原时，只需泄压，弹簧惯性将阀拉回或顶回。两种原理只是我从仪器实际解剖中得来的，我曾多次检修过此类阀，十通阀的原理也是如此，并无理论资料验证，技术术语为个人解释，有不到的地方请原谅。另：这两种驱动阀皆由程序控制的，控制程序可自行设定。精密平面六通进样阀详细参数介绍：产品名称型号规格产地精密平面三通阀KF-3Φ2/Φ3南京精密平面四通阀KF-4Φ2/Φ3南京精密平面六通阀KF-6 Φ2/Φ3南京精密平面八通阀KF-8Φ2/Φ3南京精密平面十通阀KF-10Φ2/Φ3南京精密平面十二通阀KF-12Φ2/Φ3南京

Spectra/Por RC 平面膜片（圆形）标准级再生纤维素（RC）透析膜采用经再生处理的天然棉绒纤维制成，膜透明、柔韧，性能稳定，孔径精确，是实验室常规脱盐、换液以及大分子纯化等透析处理的理想选择。标准级RC膜具有良好的化学耐受性，可耐受低浓度的强酸/碱溶液、高浓度的弱酸/碱溶液、醇及温和有机溶剂，包括DMSO。长时间接触强有机溶剂可能造成膜损坏。标准级RC膜适用pH范围为2-12，适用温度范围为4-121℃。标准级RC膜仅含有极低水平的重金属杂质，一般不会影响实验结果；如实验样品较为敏感，可使用重金属漂洗液于使用前进行预处理。标准级RC膜提供多种包装规格，包括卷式透析膜管（干型或预处理型）、透析试验包、即用型透析袋以及平面膜片。Spectra/Por RC 平面膜片（圆形）规格货号描述132478SpectraPor透析膜片，6000-8000，圆形直径33mm，50片/盒132482SpectraPor透析膜片，12000-14000，圆形直径33mm，50片/盒132488SpectraPor透析膜片，3500，圆形直径33mm，50片/盒132498SpectraPor透析膜片，12000-14000，圆形直径33mm，50片/盒132476 SpectraPor透析膜片，6000-8000，圆形直径47mm，50片/盒132480SpectraPor透析膜片，12000-14000，圆形直径47mm，50片/盒132486SpectraPor透析膜片，3500，圆形直径47mm，50片/盒132496SpectraPor透析膜片，12000-14000，圆形直径47mm，50片/盒132474SpectraPor透析膜片，6000-8000，圆形直径100mm，50片/盒132484SpectraPor透析膜片，3500，圆形直径100mm，50片/盒