感应等离子体原射仪

拥有突破性的功能和扩展功能，Optima 8x00 系列不仅仅是全球最受青睐的 ICP-OES 的技术革新。它是一场技术革命。Optima 8x00 系列继续延续 PerkinElmer 在 ICP 技术方面的卓越成就和领先地位，秉承一贯的设计，提供最佳的分辨率和线性动态范围。更重要的是，8x00 系统的稳定性和检出限是以往任何ICP 仪器都无法企及的。基于可靠的 Optima 平台设计，在业界领先的 Windows 7 兼容 WinLab32 软件的控制下，8x00 系列将令您对 ICP-OES 刮目相看。 该系列的超凡性能是通过优化进样系统、增强等离子稳定性、简化方法建立和大大降低操作成本的最新技术实现的。革新技术 - 令人瞩目的成就eNeb 进样系统最高效、最稳定的进样系统。通过不断地形成大小一致的液滴，eNeb 选件可令 Optima 提供极佳的稳定性和无可比拟的检出限，非常适用于环境和药物制剂实验室。平板等离子体技术专利的 RF 发生器采用免维护的等离子体感应板，替代传统的螺旋负载线圈。无需冷却，氩耗降低，操作成本大大降低。PlasmaCam 观测相机通过提供连续等离子观测，该彩色内置相机简化方法建立过程，使远程诊断功能成为可能，以最大程度增加正常运行时间。 非常适用于有关食品/产品安全和地球化学的高输出合约实验室。 友情提示：根据型号及配置不同，仪器价格会有不同，欲了解详情请与我司联系。

珀金埃尔默全新Avio 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束专为自动化冷冻电子断层扫描成像样品的制备而设计。用户可以稳定地在原位制备厚度约为 200nm 或更薄的冷冻薄片，同时避免产生镓 (Ga) 离子注入效应。与目前市场上的其他 cryo-FIB-SEM 系统相比，Arctis Cryo-PFIB 可显著提高样品制备通量。与冷冻透射电镜和断层成像工作流程直接相连通过自动上样系统，Thermo Scientific&trade Arctis&trade Cryo-PFIB 可自动上样、自动处理样品并且可存储多达 12 个冷冻样品。与任何配备自动上样器的冷冻透射电镜（如 Thermo Scientific Krios&trade 或 Glacios&trade ）直接联用，省去了在 FIB-SEM 和透射电镜之间的手动操作载网和转移的步骤。为了满足冷冻聚焦离子束电镜与透射电镜应用的低污染要求，Arctis Cryo-PFIB 还采用了全新的高真空样品仓和经过改进的冷却/保护功能。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束电镜的主要特点与光学显微镜术关联以及在透射电镜中重新定位"机载"集成宽场荧光显微镜 (iFLM) 支持使用光束、离子束或电子束对同一样品区域进行观察。 特别设计的 TomoGrids 确保从最初的铣削到高分辨率透射电镜成像过程中，冷冻薄片能与断层扫描倾斜轴始终正确对齐。iFLM 关联系统能够在电子束和离子束的汇聚点处进行荧光成像。无需移动载物台即可在 iFLM 靶向和离子铣削之间进行切换。CompuStage的180° 的倾转功能使得可以对样品的顶部和底部表面进行成像，有利于观察较厚的样品。TomoGrids 是针对冷冻断层扫描工作流程而特别设计的，其上下2面均是平面。这2个面可防止载样到冷冻透射电镜时出现对齐错误，并始终确保薄片轴相对于透射电镜倾斜轴的正确朝向。 利用 TomoGrids，整个可用薄片区域都可用于数据采集。厚度一致的高质量薄片Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜可在多日内保持超洁净的工作环境，确保制备一致的高质量薄片。等离子体离子束源可在氙离子、氧离子和氩离子间进行切换，有利于制备表面质量出色的极薄薄片。等离子体聚焦离子束技术适用于液态金属离子源 (LMIS) 聚焦离子束系统尚未涉及的应用。例如，可利用三种离子束的不同铣削特性制备高质量样品，同时避免镓注入效应。系统外壳的设计考虑到了生物安全，生物安全等级较高的实验室（如生物安全三级实验室）可选用高温消毒解决方案。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜的紧凑型样品室专为冷冻操作而设计。由于缩小了样品室体积，操作环境异常干净，最大限度减少水凝结的发生。通过编织套管冷却样品及专用冻存盒屏蔽样品，进一步提升了设计带来的清洁度，确保了可以进行多日批量样品制备的工作环境。 自动化高通量样品制备和冷冻断层扫描连接性自动上样器可实现多达 12 个网格（TomoGrids 或 AutoGrids）的自动上下样，方便转移到冷冻透射电镜，同时最大限度降低样品损坏和污染风险。通过新的基于网络的用户界面加载的载网将首先被成像和观察。 随后，选择薄片位置并定义铣削参数。铣削工作将自动运行。根据样品情况，等离子体源可实现高铣削速率，以实现对大体积材料的快速去除。自动上样系统为易损的冷冻薄片样品提供了受保护的环境。在很大程度上避免了可能会损坏或污染样品的危险手动操作样品步骤。 自动上样器卡槽被载入到与自动上样器对接的胶囊中，可在 Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜和 Krios 或 Glacios 冷冻透射电镜之间互换。

Avio™ 200 系统能处理难度最高的、未经稀释的高基体样品，为ICP 带来全新的性能及灵活性。而且，前所未有的性能还带来了无可比拟的易用性。独特的硬件特性与业界最直观易用的软件相结合，使多元素测量变得与单元素分析一样简单。作为市场上最小巧的 ICP，Avio 200 可通过以下性能，提供最高效的操作、最可靠的数据和最低的拥有成本：所有 ICP 中最低的氩气消耗最快的 ICP 启动（从关机状态启动，光谱仪在短短几分钟内即可准备就绪）对所有适用的元素都具有出色的灵敏度与分辨率具有双向观测技术的最宽线性范围性能可靠、功能强大、经济实惠、Avio 200 具备您所寻求的 ICP所具有的一切。既然可以成为开拓者，谁还愿意当操作者？Avio 200 ICP 专为满足最具挑战性的客户需求并超越此类需求而设计，凭借一系列专有独特的功能，可帮助您运行多个样品，所取得的成本效益远超以往任何时候。最低的运行成本借助获得专利的 Flat Plate™ (平板) 等离子体技术，Avio 仅需消耗其他系统一半的氩气量，即可生成强健、耐基体的等离子体，同时赋予您：所有 ICP 中最低的操作成本无需再进行与传统螺旋负载线圈有关的冷却和维护，提供出色的运行时间和生产力另外，为了提高效率，珀金埃尔默仪器具有获得专利的动态波长，稳定功能。可令您从关机状态启动，在短短几分钟内即可进行分析，因而您大可在仪器不使用时随意关掉。强大的双向观测功能与提供轴向和径向观测而牺牲性能的同步垂直双向观测 ICP 系统不同，Avio 200 系统获得专利的双向观测功能，可测量所有波长，不会造成光或灵敏度的损失。即使是波长大于 500 纳米或低于 200 纳米的元素也完全可以测量，即便是在 ppb 的含量水平。该 Avio 系统独特的双向观测设计也提供了可扩展的线性动态范围，确保实现：样品制备和稀释最小化高、低浓度可以在同一运行中进行测量更好的质量控制和更准确的结果减少重复运行集成等离子体观测相机可简化您的开发方法，同时借助 Avio 200 系统的 PlasmaCam™ 技术，尽享远程监控等离子体的便利。作为行业首创，彩色相机可帮助您：实时观测等离子体执行远程诊断查看进样部件革新性 PlasmaShear 系统，可实现无氩干扰消除为了消除轴向观测的干扰，需要消除等离子体的冷尾焰。没有其他同类仪器能比 Avio 200 更有效、更可靠或更经济。其他 ICP 消除尾焰需要消耗高达 4 升/分钟的氩气流量，Avio系统独特的 PlasmaShear™ 技术只需空气即可。无需高维护、高提取系统或锥体。就是一个完全集成的、完全自动化的、能提供无故障轴向分析的干扰消除系统。CCD 检测器，可实现无与伦比的准确度和精密度借助全波长功能，Avio 200 系统的强大电荷耦合器件（CCD）检测器能不断提供正确的答案。Avio 系统的 CCD 检测器可同时测量所选谱线及其谱线附近波长范围，实时扣背景，实现出色的检测精密度。在分析过程中，它还可以同时执行背景校正测量，进一步提高准确度和灵敏度。带有快速转换炬管底座的垂直等离子体，可实现无与伦比的基体灵活性即使 ICP 正在运行，Avio 200 系统的垂直炬管无需工具也能进行简便快捷的调节，可提供更大的样品灵活性并简化维护。炬管底座的设计与众不同，具有以下特点：一个可拆卸的、独立于炬管的中心管，旨在减少维护和破损的可能性自动自对准，即使在拆卸后也能提供一致的深度设置兼容各种雾化器和雾室，可提高灵活性友情提示：根据型号及配置不同，仪器价格会有不同，欲了解详情请与我司联系。

LabICP 1000电感耦合等离子体发射光谱仪，具有非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，非常适合稀土元素合稀土永磁材料的分析。同时也可广泛应用于食品、环境、地矿、有色金属冶炼等各种应用领域。非常高的分辨率，即使谱线非常复杂的稀土元素也可以实现分离，避免光谱干扰，确保分析数据的准确性闭环控制的射频发生器高压供电回路，与传统的升压变压器和高频阻流圈的高压系统相比，功率控制精度提升到优于0.1%高精度分光系统： 反射式分光系统设计，避免引入额外色差； 机械控制精度，确保光谱定位准确； 高分辨率长焦光路设计，实现了优良的信噪比和极低的基体效应；恒温控制光室，提升测量稳定性，光室冲入氩气后可高精度测量 S（180nm）和Sn（190nm）5-6个数量级的动态线性范围，可满足痕量到常量的元素分析优秀的测量精度和元素检出限，ppb量级全面安全保护系统：具有冷却水保护、氩气保护、过压保护、过流保护、灭弧保护等

ICP3600型全自动发射光谱仪是由射频发生器、试样引入系统、扫描分光器、光电转换、计算控制系统和分析操作软件组成。它的分析过程是：射频发生器产生的高频功率通过感应工作线圈加到三同心石英炬管上，在石英炬管的外层通入氩气并引入电火花使之电离形成氩等离子体，这种氩等离子体的温度可达6000K～8000K。待测水溶液试样通过喷雾器形成的气溶胶进入石英炬管中心通道，受到高温激发后，以光的形式放出特征谱线，通过透镜进入扫描分光器，分光器将待测元素的特征谱线光强，准确定位于出口狭缝处，光电倍增管将该谱线光强转变成光电流，再经电路处理和模数变换后，进入计算机进行数据处理，最后由打印机打出分析结果。由于仪器的稳定性好，测量范围宽，检出限低，因此广泛地应用于稀土分析、环境保护、水质检测、合金材料、建筑材料、医药卫生等科学领域作元素定量分析。

珀金埃尔默Optima 8000等离子体发射光谱仪继续延续 PerkinElmer 在 ICP 技术方面的卓越成就和*地位，秉承一贯的设计，提供分辨率和线性动态范围。更重要的是，8x00 系统的稳定性和检出限是以往任何ICP 仪器都无法企及的。基于可靠的 Optima 平台设计，在业界*的 Windows 7 兼容 WinLab32 软件的控制下，8x00 系列将令您对 ICP-OES 刮目相看。 该系列的超凡性能是通过优化进样系统、增强等离子稳定性、简化方法建立和大大降低操作成本的新技术实现的。珀金埃尔默Optima 8000等离子体发射光谱仪革新技术 - 令人瞩目的成就eNeb 进样系统高效、稳定的进样系统。通过不断地形成大小*的液滴，eNeb 选件可令 Optima 提供很好的稳定性和无可比拟的检出限，非常适用于环境和药物制剂实验室。平板等离子体技术RF 发生器采用免维护的等离子体感应板，替代传统的螺旋负载线圈。无需冷却，氩耗降低，操作成本大大降低。PlasmaCam 观测相机通过提供连续等离子观测，该彩色内置相机简化方法建立过程，使远程诊断功能成为可能，以大程度增加正常运行时间。 非常适用于有关食品/产品安全和地球化学的高输出合约实验室。

射频感应耦合 等离子源 电离层环境模拟器| 介绍低温氩气源（LTA）是一种紧凑的一种等离子设备，设计用于在发射之前进行空间等离子体物理研究或对空间硬件进行测试。它可以人为地模拟较高的电离层条件，这意味着它可以以非常低的电子温度（0.5 eV），低离子能量（比等离子推进器低两个数量级）和相对较高的电子密度产生等离子流。 （?10 11 m -3）。该流的速度也与在轨道上遇到的离子流（?8 km / s）相似。| 应用电离层模拟研究ThrustMe的离子源和等离子体诊断工具可帮助研究人员在地面上进行电离层研究。LTA可以模拟类似于高层大气中的粒子环境，从而为研究人员提供了进行实验的机会，而这种实验对于使用ThrustMe的等离子体诊断技术发送到太空或校准自己的探头和传感器而言过于昂贵。测试您的太空硬件再现高空电离环境可以使卫星集成商和子系统制造商在发射前测试其太空硬件。在系统级别，ThrustMe的LTA可用于研究卫星的充电并预测飞行过程中可能出现的任何问题。在子系统级别，在地面上重现电离层可以为天线制造商提供机会来研究其天线在不同高度或不同太阳活动水平下的信号传播。太空环境测量ThrustMe的MD-1探针是前所未有的小.绝.对电子密度探针。它很小的3x50mm尺寸几乎可以安装在任何小型卫星上。将此探针用于高层大气和太空天气研究目的。

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；主体尺寸：约170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

1.应用范围：ICP-7800型全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪，具有突出的抗干扰和分析检测性能，应用于研发、检测等高端分析需求， 可方便进行定性、半定量和精确定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。2.工作环境电压：220V AC±10%\\MKJ 室温：环境温度（10-30）℃ 相对湿度：（20-80）%RH3.技术规格3.1.等离子体射频源：3.1.1：全数字控制的双电源设计射频电源，更宽功率范围500-1600W，功率可调，具有更强的样品适应性； 3.1.2：自激式RF射频发生器：自激式电源匹配速度快，功率负载能力强，可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐，水冷散 热，适应复杂样品分析功率切换，无运动部件，抗震抗干扰，更加可靠；3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待机，降低氩气消耗50%以上，待机时氩气用量≤5L/min；3.1.4：等离子体观测方式：可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积，延长炬管使用寿命， 降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰，获得较高的灵敏度，无需配置空气压缩机，节省外部配件及消耗。径向观 测的等离子观测位置可调，针对不同元素的分析需求，具有更强的抗干扰能力； 3.1.5：智能衰减：具有轴向衰减和径向衰减功能，可衰减100倍以内浓度的样品，使得样品高含量元素，能够一次分析完成，不 需要反复稀释，降低样品前处理难度，支持简化分析； 3.1.6：RF射频频率：27.12MHz，耦合效率大于80%；3.1.7：RF功率稳定性: ≤0.1%；RF频率稳定性：≤0.01%； 3.2.光学系统： 3.2.1：恒温三维光学系统，反射次数少，光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中，主机与光室热隔 离设计，更好的抵御外界环境温度变化。光室：精密恒温36℃±0.1℃，驱氩气；3.2.2：稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统，无运动部件，抗震强，稳定可靠； 3.2.3：波长范围：165-900nm，全波长覆盖；3.2.4：单色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱镜二维色散系统；3.2.5：中阶梯光栅：53.6L/mm，63.5度闪耀，刻数越多，分辨率越高； 3.2.6：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液；3.2.7：全谱实时校准技术（TARC）：利用无干扰的氖特征谱线，对光谱的细微偏移进行实时校正，实现光谱的最 优积分，确保长期稳定性，良好消除光谱漂移对于测量的影响。 3.2.8：吹扫型光室：对189nm以下波长测定，选择氩气进行光路吹扫，无需使用真空泵，避免真空返油，污染光 室； 3.2.9：杂散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm处测定）； 3.2.10：光学分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和检出限须在相同条件获得）； 3.2.11：可扩展深紫外Cl/Br分析功能：双光栅设计，使得光谱分析下限达到130nm深紫外区域。3.3.检测器：像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器 3.3.1：检测单元：1024*1024像素大面阵CCD检测器，一次曝光；3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面阵成像感光单元，采用24×24um大像元，带来高灵敏度的响应，整 体面幅大，能够在高分辨率的同时，获得更宽的光谱范围； 3.3.3：像元级制冷：封装在传感器内部的TEC制冷，直接作用像元，制冷温度大于-10℃，有效防止CCD表面冷 凝，无需气体吹扫保护；3.3.4：防饱和溢出：针对每一个像素进行背泄式防溢出保护设计，彻底消除谱线饱和溢出问题，无需担心谱线饱 和对邻近谱线的影响；3.3.5：智能积分设计：信号背景同步采集，曝光时间取决于谱线的光强，自动计算谱线最佳曝光时间，同时以最 佳信噪比获得高强度信号和弱信号，拓宽的动态范围，使高低含量元素可以同时检测，避免试样反复稀释；3.3.6： 检测器表面无任何光转换化学涂膜，不会因为涂层老化而导致检测器损坏更换。 3.4.样品导入系统： 3.4.1：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液； 确保稳定进样的同时，可支持进样管、内标管、废液管和辅助试剂进样管（氢化物发生器）同时运行，有利于复杂 样品分析； 3.4.2：气路控制：采用精密质量流量控制器控制多路气体流量，最多可控制五路，包括雾化气、辅助气、冷却气 和可扩展的附加气体（O2和Ar），精度0.01L/min。 - 3.5. 软件性能：3.5.1：图形化操作界面，软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能； 3.5.2：基于分类和版本的方法库管理软件，便于方法的管理、维护和传承；内置部分标准方法，有助于提高分析 效率； 3.5.3：具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能，数据可安全存储，支持分析数据保存和检索功能，方便日 后再分析；3.5.4：具有50000条以上的谱线库，每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量；3.5.5：具有全谱采集功能，软件上可直接获取完整全谱图，了解样品光谱及光谱干扰状态；3.5.6：具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能：如标准比较法、内标法、干扰元素校正系数法（IEC）、标 准加入曲线法等，丰富了用户多种分析研究的手段； 3.5.7：具有仪器校准功能，支持炬管准直、光源优化等功能，方便用户日常维护；具有可视化的仪器运行状态监 控； 3.5.8：具有登录口令保护，多级操作权限设置和网络安全管理，永久历史记录保存； 3.5.9：具有可视化炬焰观测模块；3.5.10：同时具有中英文版本软件；3.5.11：具有网络远程服务功能，自带远程服务助手，远程诊断，4G网络数据连接技术服务部门对于仪器实现远 程诊断维修； 3.5.12：软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规，软件具有三级管理权限和审计追踪功能， 符合3Q认证等法规要求； 3.5.13：可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。3.6.分析性能： 3.6.1：分析速度：约每分钟200条谱线； 3.6.2：样品消耗量：仅需2ml ；3.6.3：测定谱线的线性动态范围：≥105（以Mn257.6nm 来测定，相关系数≥0.999）；3.6.4：精密度：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液，重复测定十次的RSD≤0.5%； 3.6.5：稳定性：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液， 8小时的长时间稳定性RSD≤1%； 3.6.6：检出限：(单位ug/L，按JJG768-2005规定的元素) 可对分析元素的任何一条谱线进行定性、半定量和定量分析，支持内标法、标准加入法、干扰元素校正等 方法；3.6.7：预热时间：从待机状态到等离子体点燃时间小于5分钟。 3.7. 仪器接口（含联用分析软件）： 3.7.1可实现自动化消解样品处理工作站联用(消解系统采用石墨消解电热模式，实现消解、定容、进样自动化操作， 支持48位以上样品同时处理） 3.7.2具有有机样品直接进样分析系统接口（提供样品制冷功能，温度小于-15摄氏度以下）； 3.7.3具有在线消解模块接口（支持在线全自动电热消解和浓度控制、进样管路自动清洗功能）；3.7.4具有在线氢化物发生分析系统接口（支持反应液体自动添加和浓度控制、进样管路自动清洗功能）； 3.7.5可连接离子交换工作站进行价态分析或低浓度富集高基体去除的分析；3.7.6可连接自动进样器进行分析（支持样品位240以上可配置）；4附件系统：4.1计算机系统 4GB内存，500G硬盘，配DVD和键盘鼠标。 4.2冷却循环水系统 制冷量1490W，温度范围5-35℃。4.3激光打印机 黑白激光打印机 4.4单相交流稳压器 10KVA，精度1%，输入电压160V-280V，输出电压220V。

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头； 管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接氩等离子体发射光谱分析模块24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理氩等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱氩等离子体发射光谱分析模块

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；尺寸：170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

一、产品简介：常压室温等离子体(ARTP)同传统的低压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪(ARTP　Mutagenesis Breeding Machine)。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。二、应用领域原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）及植物细胞。 截止到2022年10月21日，中文文献411篇，英文文献169篇，专利269篇，学位论文176篇，共计1025篇。三、产品参数分类技术参数整机功率300W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm样品处理系统单样品处理冷却系统外接制冷系统等离子体射流温度≤37℃四、应用案例案例一：放线菌抗生素产量显著提高突变率、正突变率分别为30%、21%，获得一株阿维菌素B1a产量提高23%。（常压室温等离子体对微生物的作用机理及其应用基础研究[D].王立言.清华大学 2009）等离子体诱变前后阿维链霉菌的形态变化（注：W为野生菌株；G1-8为典型突变菌株）案例二：藻类正突变率高、突变库表型丰富总突变率和正突变率在特异增长率上分别达到45%和25%，并且突变库中表型丰富。（PLOS ONE，2013,8（10）：1-12）案例三：应用ARTP诱变大肠杆菌，提高苏氨酸产量获得一株苏氨酸高产菌株，摇瓶产酸达到50.6 g/L，与出发菌相比，提高了99.6%，经50次传代，遗传性稳定。（现代食品科技，2013，29(8)：1888-1892） a1 a2出发菌株与1905#突变菌的菌体形态

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iPfor III-V semiconductors (GaN, GaAs, InP)概要RIE-400iP是用于ø 4 "晶圆的负载锁定型蚀刻系统，可对各种半导体和绝缘膜进行高精度、高均匀性加工。采用独特的龙卷风线圈的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma)作为放电形式，可产生均匀、高密度的等离子体。另外，可以根据加工材料和加工内容选择合适的等离子体源。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测　干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度蚀刻。生产半导体激光器和光子晶体。选项干涉式端点监测器 可进行高精度的端点检测，并可将蚀刻深度控制在所需深度。

珀金埃尔默全新Avio 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iPC节省空间的生产设备概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的专用系统，可以在最小的洁净室空间内安装。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测　干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工SiC、SiO₂ 的高速加工蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料

常压室温等离子体（ARTP）同传统的低气压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪（ARTP Mutagenesis Breeding Machine）。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。非转基因手段，保证生物的安全性使用范围广，突变性能高专有氦气等离子体诱变技术，能量高，基因损伤强度大操作简便安全，易维护、运行费用低 截止到2022年08月29日，中文文献404篇，英文文献167篇，专利230篇，学位论文165篇，共计966篇。分类技术参数整机功率1000W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm操作室环境洁净室（百级洁净无菌风）样品处理系统7个样品连续处理和自动收集冷却系统内置制冷系统等离子体射流温度≤37℃工作环境要求温度15~25℃，湿度≤60%应用范围原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等)应用案例案例一：应用ARTP筛选耐高盐环境突变菌株经等离子体处理后，阴沟肠杆菌在含有7.5% NaCl的培养基中培养时出现耐盐突变株，对TPH的降解百分数比出发菌株高2.5倍，而且将突变株培养于LB + 9.0% NaCl条件下时，可快速地将K+积聚于细胞内、将EPS积聚于细胞外。（耐盐阴沟肠杆菌的选育及其在油盐污染土壤修复中的应用[D].花秀夫.清华大学 2009）案例二：细菌领域成果多、效果显著筛选到高产L-亮氨酸的突变株，产量达到18.55 mg/g，比出发菌株提高2.91倍。（Nature Communications，9（2018））案例三：霉菌产色素能力大幅度提升突变菌株产橙、黄色素能力比出发菌株分别提高136%、43%。（核农学报，2016,30（4）：654-661）

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPCExcellent process repeatability and stability概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电极升降机构　晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iP卓越的重复性和稳定性概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电极升降机构　晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

壹壹7000型电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES），应用于研发、检测等分析需求，可方便进行定性、半定量和精确定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。具有仪器校准功能，支持炬管准直、光源优化等功能，具有可视化的仪器运行状态监控，方便用户日常维护；可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。软件主界面集成软件的主要功能，包括控制等离子体状态、仪器状态、分析参数、分析谱线、波长谱图显示、曲线拟合、数据处理、历史谱图、历史数据、用户管理等诸多功能；电压： 220V AC±10%室温： 环境温度（25-50）℃ 相对湿度：（50-70）%RH

PlasmaQuant 9100 系列洞察秋毫 还原本真最值得信赖 - 高分辨光学系统带来业内最高光学分辨率功能强大 -多领域应用和卓越的分析性能灵活的观测方式 -根据分析要求最有化观测方式提高检测能力 -稳定强劲的等离子体轻松应对各种复杂基体让您更加高效、自信、从容地完成精密的分析工作精益求精超高分辨率分光系统、强劲稳健的等离子体射频系统、智能化矩管设计、灵活的增强型双向观测等业内领先的分析技术智能的与PlasmaQuant 9100融为一体，为PlasmaQuant 9100卓越的分析性能奠定了优异的硬件基础。在超高光学分辨率、强大的基体耐受性、独有的分析灵敏度的相互增益作用下，PlasmaQuant 9100为ICP-OES分析技术在复杂样品基体中痕量元素分析开辟了新纪元。超高分辨率光学系统使得在各种应用中均可使用最适宜的发射谱线；强大的基体耐受性使PlasmaQuant 9100可以轻松应对各种样品的消解溶液，甚至是未经任何稀释的有机样品和高浓度盐溶液；独有的分析灵敏度确保最佳光通量和理想信背比的获得。创新的分析技术带来值得信赖的分析结果德国耶拿PlasmaQuant 9100系列是一款功能强大的电感耦合等离子体发射光谱仪，融合多项创新技术于一身，以卓越的分析性能助力你的常规样品检测和复杂样品分析。PlasmaQuant 9100系列ICP OES有两个型号，分别为高灵敏度ICP-OES PlasmaQuant 9100和高分辨率 ICP-OES PlasmaQuant 9100 Elite。它包括四个突出的创新设计以及灵活可选的分析选项，以涵盖所有应用领域。其主要特点是：长寿命V Shuttle矩管：缩短清洗频率和样品沉积速率，最小化维护成本强劲稳健的等离子射频发声系统：从容应对最复杂样品基体，最大程度拓展测试的应用范围增强型双向观测：最大限度地减少样品前处理的复杂程度，高效便捷的完成测试工作超高分辨率光学系统：轻松应对各种复杂样品基体的光谱干扰，在任何样品类型中均可获得出色的高精度分析数据PlasmaQuant 9100PlasmaQuant 9100专注于拓展常规分析的适用性、提高易用性和降低分析成本。其特点为：适应于各类样品基体，出色的基体耐受性和高灵敏度。因此满足第三方实验室对分析结果准确性的要求，轻松应对质控过程对分析数据可靠性的需求及特殊应用领域对合规的要求。开机预热时间短，方法设置和切换迅速灵活，适合复杂基体连续进样分析，极大的体高了分析效率和生产效率。PlasmaQuant 9100 Elite超高光谱分辨率使PlasmaQuant 9100 Elite在型号繁多ICP-OES中脱颖而出。PlasmaQuant 9100 Elite揭示光谱细节，通过超高光谱分辨率消除光谱干扰，几乎每一个样品都可以使用最灵敏的发射谱线，结合其出色的基体耐受性和高灵敏度使得PlasmaQuant 9100 Elite精密度、准确性和检出限等关键性指标均达到了ICP-OES历史的新高度。当面临复杂基体样品同时对分析检出限和灵敏度又有特殊要求时，PlasmaQuant 9100 Elite是当仁不让的不二之选。PlasmaQuant 9100系列ICP-OES可以根据实际应用需求灵活配置，丰富可选的升级附件各种应用需求、简化样品前处理并提高样品通量。可根据样品基体类型选择不同的进样附件，例如高盐高基体进样组件、耐HF酸进样组件、有机样品直接进样组件等。多种自动进样器可选，实现不同样品基体的全自动进样功能，样品基体类型可以是各种类型水溶液也可以是不同粘度的有机样品。选配全自动稀释工作站后可实现实验室分析流程全自动化。PlasmaQuant 9100配置超快速进样系统后明显缩短分析时间提高分析效率。PlasmaQuant 9100预热时间短，通过内置氖灯实时进行自调节确保在冷开机几分钟内即可进入正常工作状态，大大缩短由于分析前的长时间等待导致的分析成本。工矿企业的质量控制和研发过程中以及对分析数据要求极为严苛政府监管实验室常常会面临复杂高基体样品所带来的严重光谱干扰， PlasmaQuant 9100Elite凭借超高的光学分辨率为该类样品准确定量分析提供了新的途径和方法，并获得出色的分析性能和精度，获得了石油、天然气、地矿、冶金、化工等行业用户的青睐。PlasmaQuant 9100通过不断提升光谱分析能力并降低分析成本，助力您在分析工作中始终领先一步。

日本Advance Riko 公司致力于电弧等离子体沉积系统（APD）利用脉冲电弧放电将电导材料离子化，产生高能离子并沉积在基底上，制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量，可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛，可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳，纳米钻石，碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。 主要应用领域： 1、制备新金属化合物，或制备氧化物和氮化物薄膜（氧气和氮气氛围）；2、制备非晶碳，纳米钻石以及碳纳米管的纳米颗粒；3、形成新的纳米颗粒催化剂（废气催化剂，挥发性有机化合物分解催化剂，光催化剂，燃料电池电极催化剂，制氢催化剂）；4、用热电材料靶材制备热电效应薄膜。 技术原理：1、在触发电极上加载高电压后，电容中的电荷充到阴极（靶材）上；2、真空中的阳极和阴极（靶材）间，电子形成了蠕缓放电，并产生放电回路，靶材被加热并形成等离子体；3、通过磁场控制等离子体照射到基底上，形成薄膜或纳米颗粒。 材料适用性：APD适用于元素周期表中大部分高导电性金属，合金以及半导体。所用原料为直径10mmX17mm长圆柱体或管状体，且电阻率小于0.01 ohm.cm。下面的元素周期表显示了可制备的材料，绿色代表完全适用，黄色代表在一定条件下适用。 设备特点： 1. 系统可以通过调节放电电容选择纳米颗粒直径在1.5nm到6nm范围内。2. 只要靶材是导电材料，系统就可以将其等离子体化。（电阻率小于0.01ohm.cm）。3. 改变系统的气氛氛围，可以制备氧化物或氮化物。石墨在氢气中放电能产生超纳米微晶钻石。4. 用该系统制备的活性催化剂效果优于湿法制备。5. Model APD-P支持将纳米颗粒做成粉末。Model APD-S适合在2英寸基片上制备均匀薄膜。 APD制备的Fe-Co纳米颗粒的SEM和EDS图谱 系统参数： 1. 真空腔尺寸：400X400X300长宽高2. 抽空系统：分子泵450L/s3. 电弧等离子体源:标配一个，最多3个4. 沉积气压：真空或者低气压气体（N2， H2，O2，Ar）5. 靶材：导电材料，外径10mm，长17mm6. 靶材电阻率：小于0.01欧姆厘米7. 电容：360uF X5 （可选）8. 脉冲速度：1,2,3,4,5 Pulse/s9. 操作界面：触摸屏10. 放电电压：70V-400V （1800uF下最大150V） APD-P 粉末容器：直径95mm 高30mm形成粉末的速度：13-20cc （随颗粒尺寸和密度变化）旋转速度：1-50rpm

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头；管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-350iPC最大ø 350毫米的托架概要RIE-350iPC是一种盒式装载电感耦合等离子体(ICP)蚀刻设备，可处理多达ø 350毫米的载盘，用于多晶圆批量处理。该系统为各种蚀刻应用提供了坚固可靠的硬件和卓越的工艺控制，具有较高的生产率，如功率器件、微型LED、VCSEL、LD、电容器和射频滤波器。主要特点和优点最大加工范围：ø 350 mm (ø 3" x 12, ø 4" x 8, ø 12" x 1)先进的ICP源HSTC&trade （Hyper Symmetrical Tornado Coil）能有效地提供均匀的高密度等离子体，并在大面积上具有优异的蚀刻均匀性。对称的疏散设计与TMP相结合，形成了高效的流动。优化的气体歧管，提供工艺气体的均匀性。可选的光学/干涉式端点检测系统可实现对多个工艺运行的精确蚀刻深度控制。应用GaN、GaAs、InP和SiC的高精度蚀刻SiN和SiO2的蚀刻电介质和金属的蚀刻用于HBLED的PSS（图案化蓝宝石衬底）加工

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束专为自动化冷冻电子断层扫描成像样品的制备而设计。用户可以稳定地在原位制备厚度约为 200nm 或更薄的冷冻薄片，同时避免产生镓 (Ga) 离子注入效应。与目前市场上的其他 cryo-FIB-SEM 系统相比，Arctis Cryo-PFIB 可显著提高样品制备通量。与冷冻透射电镜和断层成像工作流程直接相连通过自动上样系统，Thermo Scientific&trade Arctis&trade Cryo-PFIB 可自动上样、自动处理样品并且可存储多达 12 个冷冻样品。与任何配备自动上样器的冷冻透射电镜（如 Thermo Scientific Krios&trade 或 Glacios&trade ）直接联用，省去了在 FIB-SEM 和透射电镜之间的手动操作载网和转移的步骤。为了满足冷冻聚焦离子束电镜与透射电镜应用的低污染要求，Arctis Cryo-PFIB 还采用了全新的高真空样品仓和经过改进的冷却/保护功能。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束电镜的主要特点与光学显微镜术关联以及在透射电镜中重新定位"机载"集成宽场荧光显微镜 (iFLM) 支持使用光束、离子束或电子束对同一样品区域进行观察。 特别设计的 TomoGrids 确保从最初的铣削到高分辨率透射电镜成像过程中，冷冻薄片能与断层扫描倾斜轴始终正确对齐。iFLM 关联系统能够在电子束和离子束的汇聚点处进行荧光成像。无需移动载物台即可在 iFLM 靶向和离子铣削之间进行切换。CompuStage的180° 的倾转功能使得可以对样品的顶部和底部表面进行成像，有利于观察较厚的样品。TomoGrids 是针对冷冻断层扫描工作流程而特别设计的，其上下2面均是平面。这2个面可防止载样到冷冻透射电镜时出现对齐错误，并始终确保薄片轴相对于透射电镜倾斜轴的正确朝向。 利用 TomoGrids，整个可用薄片区域都可用于数据采集。厚度一致的高质量薄片Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜可在多日内保持超洁净的工作环境，确保制备一致的高质量薄片。等离子体离子束源可在氙离子、氧离子和氩离子间进行切换，有利于制备表面质量出色的极薄薄片。等离子体聚焦离子束技术适用于液态金属离子源 (LMIS) 聚焦离子束系统尚未涉及的应用。例如，可利用三种离子束的不同铣削特性制备高质量样品，同时避免镓注入效应。系统外壳的设计考虑到了生物安全，生物安全等级较高的实验室（如生物安全三级实验室）可选用高温消毒解决方案。Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜的紧凑型样品室专为冷冻操作而设计。由于缩小了样品室体积，操作环境异常干净，最大限度减少水凝结的发生。通过编织套管冷却样品及专用冻存盒屏蔽样品，进一步提升了设计带来的清洁度，确保了可以进行多日批量样品制备的工作环境。 自动化高通量样品制备和冷冻断层扫描连接性自动上样器可实现多达 12 个网格（TomoGrids 或 AutoGrids）的自动上下样，方便转移到冷冻透射电镜，同时最大限度降低样品损坏和污染风险。通过新的基于网络的用户界面加载的载网将首先被成像和观察。 随后，选择薄片位置并定义铣削参数。铣削工作将自动运行。根据样品情况，等离子体源可实现高铣削速率，以实现对大体积材料的快速去除。自动上样系统为易损的冷冻薄片样品提供了受保护的环境。在很大程度上避免了可能会损坏或污染样品的危险手动操作样品步骤。 自动上样器卡槽被载入到与自动上样器对接的胶囊中，可在 Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜和 Krios 或 Glacios 冷冻透射电镜之间互换。

简介Online 5100 MP多参数重金属在线分析仪使用发射光谱来分析溶液中的元素含量。高温状态下，处于基态的原子或离子跃迁到激发态，处于激发态的原子回到基态时又发射出不同波长的光，发射谱线的波长与特定元素有关，而谱线的强度与浓度有关，Online 5100 MP就是基于这一原理进行分析的。功能特点 ▲ 原子发射光谱原理，方法成熟▲ 分析元素包括金属和非金属▲ 多元素同时分析，可扩展应用，多达70多种元素▲ 宽线性范围：ppb~ppm▲ 宽波长范围：176nm~780nm▲ 检测限低：与实验室ICP-AES相当▲ 耐盐高：可耐受高达3%TDS▲ 工业电脑控制，人性化操作界面▲ CCD固态检测器：可同时进行背景及干扰校正▲ 低运行成本：从空气中提取氮气，不使用昂贵气体▲ 安全：无需易燃或氧化气体，消除安全隐患▲ 快速：只需数分钟即可分析多个元素▲ 整体式矩管：省略了矩管调整和气体管路的繁琐连接▲ 氮气等离子体：温度控制在5000K技术参数 分析元素：用户选择 (多达70多种元素可选)测量原理：原子发射光谱准 确 度：优于±2% (标准样品)重 复 性：优于2%线 性：优于0.9999分析时间：约1min/单元素（不含预处理）仪器校准：自动电 源：220V±10% VAC，50±1Hz预 处 理：根据用户情况配置