扫描成像射线光电子能谱仪

备受赞誉的Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪（XPS）集合了卓越的性能、快速分析及杰出的化学灵敏度等优势。K-Alpha将前沿的单色化XPS优异性能与全智能自动化完美结合，尤其适合于多用户环境。K-alpha的易操作性，可同时满足经验丰富的XPS分析人员和初学者的需求。分析选项包括用于角分辨XPS数据采集的倾斜模块和用于空气敏感样品传输的可循环惰性气体手套箱。 强大的性能可选面积能谱深度剖析微聚焦单色器高分辨率化学态能谱快照采集绝缘样品分析定量化化学成像 无可比拟的易用性一键式样品导航和实验设定自动样品传输按需校准全能谱仪设定离子枪设定完全计算机操作 世界一流的软件 仪器控制 数据采集 数据解析 数据处理 报告生成 数据存档管理 审查跟踪日志 系统性能日志如您想了解更多关于K-Alpha X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

岛津／Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型，业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一，现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来，岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra，并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器（Delay-Line Detector）的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底，在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪，在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可，在业界处于绝对领先地位。 技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

表面和界面分析充满了挑战，需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪，在保证数据质量和样品测试通量的同时，集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样，Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室，还是在多用户环境中工作，Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性，可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统？高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调，从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配，最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器，可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电，因为使用极低能量的电子，大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS（可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统，所有技术将触手可及，一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站，有助于解决材料分析问题，提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选，以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有：NX 加热台，用于原位的样品加热分析；多触点偏压样品台，可实现样品在真空系统中的施加电压，偏压或循环电极后的XPS原位分析；惰性气体转移腔，可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移；MCA样品台，用于XPS+SEM的关联分析，实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据，并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是最新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是世界级领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。世界领先的分析性能●表面元素定性、定量分析 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求。 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，同时所得数据无探测器背底特 征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室

标准主机包含Mg/Al K&alpha 双阳极非单色化X射线源，可实现高灵敏度大面积XPS分析，可增加高温催化反应池等。●最大300W的大功率上照射X射线源，无阴影的XPS分析 ●锥形块体式阳极靶，抗污染能力极强 ●最佳能量分辨率优于 0.8eV（Mo 3d5/2） ●常规分析能量分辨和灵敏度高达1.15eV@700kcps（Ag 3d5/2） ●结合了数据采集和数据处理的Vision软件，可运行于Windows XP/Vista/7等多种平台下，实现各真空室真空度实时显示，操控真空阀门开关，实验条件设定和全自动无人值守分析等强大功能

仪器简介：2006年12月一推出，立刻受到高校科研单位欢迎。国内用户有 南京大学分析中心 上海师范大学 天津46所技术参数：3、仪器主机功能与附件功能 3.1 单色化XPS，Al K&alpha ，包括： 大面积XPS、小面积XPS、成像XPS、深度剖析XPS和角分辨XPS。 3.2 双阳极XPS，Mg/Al K&alpha 3.3 紫外光电子能谱，UPS 3.4 高压反应室 3.5 分析室样品冷/热台 4、仪器主要部件 4.1 超高真空分析室 180度半球能量分析器， 电子透镜传输系统， １６多通道电子检测器 分子泵，离子泵，钛升华泵 　　　单色化XPS （AlK&alpha ）系统，含内循环水冷却装置， XPS成像系统， 双阳极XPS系统，冷却循环水和单色化系统共用 紫外光源， 荷电中和系统，用于绝缘样品或导电性差的样品的荷电补偿， 5轴样品台， 标准样品托　２个 Recessed样品托　1个 氩离子枪，用于深度剖析， 热双灯丝离子规， 闭路电视显微彩色摄像系统和SXI成像系统， 分析室和进样室都有独立光纤照明系统， 可观察视窗，视窗直径10cm左右, 样品热/冷台,温度可监测。 4.2 样品进样室 机械泵，分子泵 热双灯丝离子规, 可观察视窗，视窗直径10cm左右。 空气压缩机一台，国内采购 4.3 石英高压反应池 程序控温系统 真空监测系统 真空泵系统 进出气系统,参考南京大学用户设计建议。 压力 一个大气压 全石英底座 密封材料 Byton O-ring 最高温度 600度 远红外线加热控温系统 单独石英反应器冷却系统 4 样品磁耦合传输系统 4.5 真空烘烤系统 4.6 主机系统集成，减震装置。 4.7 计算机系统，含数据采集和数据处理软件包。 4.8 与以上所有系统相关联的电子学控制柜。 5、仪器主要技术参数与要求 5.1 仪器主机功能，单色化Al K&alpha 5.1.1 大面积XPS Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM&le 1.00eV时，灵敏度&ge 1,000,000 cps。 Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM&le 0.60eV时，灵敏度&ge 250,000 cps。 5.1.2 小面积XPS，最小分析面积&le 10&mu m ，性能指标应达到： Ag3d5/2，20&mu m， FWHM&le 0.60eV时，灵敏度&ge 15,000 cps。 Ag3d5/2，10&mu m， FWHM&le 0.60eV时，灵敏度&ge 4,000 cps。 Ag3d5/2，10&mu m， FWHM&le 1.00eV时，灵敏度&ge 12,000 cps。 Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree 75degree Ag3d5/2，20&mu m , FWHM&le 0.90eV时,灵敏度&ge 99kcps Ag3d5/2，100&mu m , FWHM&le 0.90eV时,灵敏度&ge 47kcps 45degree Ag3d5/2，20&mu m , FWHM&le 0.90eV时,灵敏度&ge 50kcps Ag3d5/2，100&mu m , FWHM&le 0.90eV时,灵敏度&ge 27kcps 5.1.3 成像XPS 单色化X射线扫描成像，最佳空间分辨率&le 10 &mu m。 5.1.4 深度剖析XPS 聚焦扫描氩离子枪，当working distance为30 mm时.聚焦氩离子束斑&le 150&mu m，当 working distance为60mm时候，聚焦氩离子束斑&le 300&mu m束流密度&ge 0.5 mA/cm2。 5.2 仪器附件功能 5.2.1 双阳极XPS，MgK&alpha ，Ag3d5/2，FWHM&le 1.40eV时，灵敏度&ge 1,000,000 cps。 5.2.2 紫外光电子能谱（UPS） (a) 光源：He紫外光源，HeI:HeII=3:1 (b) 性能指标：分辨率（Ag费米边）&le 120 meV时，灵敏度（Ag4d）&ge 2,000,000 cps。 (c) 最小步长：5meV 5.2.3 高压反应室 (a) 材质：石英 (b) 内胆内压强：&ge 760Torr (c) 最高温度，&ge 600℃ (d) 气体混合仓附计量装置，包括压力表、流量计和针阀等。 5.2.4 分析室样品冷/热台，温度：170 K&ndash 600 K，温度可检测，加热PID控制。 5.3 仪器主要部件参数与要求： 5.3.1 能量分析器 (a) 类型：半球能量分析器 (b) XPS能量范围： 0&ndash 1600 eV（25 meV） UPS ：0～320 eV（5 meV） 5.3.2 超高真空分析室 (a) SUS材质内表面经过特殊处理 (b) 真空：小于6.7× 10-10 mbar 5.3.3 样品进样室 (a) 材质：非磁性不锈钢材料 (b) 真空：小于6.7× 10-9 mba 5.3.4 深度剖析氩离子枪 100eV&ndash 5keV，连续可调，扫描型。 5.3.5 荷电中和系统：双枪中和系统。 5.3.6 样品控制台 (a) 轴向：5轴， (b) 移动：各向移动距离必须与样品台尺寸相匹配，步进步长小于1&mu m， (c) 倾斜：0&ndash 90° 5.3.7 计算机系统 (a) Pentium IV，CPU主频3.0GHz左右； (b) 内存2G, 硬盘250 G； (c) ２个DVD/CD-RW Combo光盘驱动器, (d) 22" 液晶平板显示器； (e) 4个USB2.0接口； (f) 100M以上以太网接口，用于数据传输； (g) 预装Windows XP正版软件； ( h ) 预装仪器操作软件和数据分析软件（含最新的XPS数据库），附安装软件光盘；主要特点：1.世界上独一无二扫描微聚焦X-射线source2..世界上独一无二扫描微聚焦X-射线产生的2次电子成像SXI像和XPS成像，可以帮助客户找到肉眼看不见的微观缺陷。3。可以给出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um 的XPS sensitivity是其他公司同类产品的1倍以上。

PHIGENESISModel 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

PHIGENESIS Model 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析 在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域 主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

Thermo Scientific K-Alpha，一体化结构的X射线光电子能谱仪（XPS）。性能先进、高性价比、操作简便、结构紧凑，是现代实验室和企业的shou选仪器。采用全新的生产技术,在K-Alpha的设计中集合了所有这些优势。K-Alpha X射线光电子能谱仪Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的单色化小光斑X射线光电子能谱（XPS）系统。性能卓越，拥有成本降低，易用性提高和尺寸紧凑使得K-Alpha成为许多现有以及新研发的表面分析应用领域理想解决方案。K-Alpha是专为多用户环境推出的di一款XPS工具，从样品进入到报告生成完全实现自动化工作流程。专为生产率而设计，从研究分析到日常测试Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射线光电子能谱。获奖的zui新版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高，提供更高计数率和更快分析时间，改善化学探测能力。分析选配件包括一个角分辨XPS倾斜模块和一个循环惰性气体手套箱，用于转移空气敏感样品。K-Alpha带来一系列激动人心的新软件特征，旨在进一步增强用户体验。K-Alpha是专为多用户环境而设计，先进的单色X射线光电子能谱性能与智能自动化及直观控制相结合，同时满足有经验XPS分析人员及新人对此项技术的需求。强大的性能 可选区域光谱 深度剖析刻蚀 微聚集单色器 快照采集 高分辩率化学态光谱 绝缘样品分析 定量化学成像 无与伦比的易用性Avantage，完整XPS软件包具备： 控制——Avantage软件控制所有硬件 界面——点击样品实验导航 定义——自动化样品传送 采集——谱图、成像、剖析和线扫描 诠释——元素和化学态识别 过程——定量、峰拟合和实时剖析显示 光谱——成像处理，PCA，相分析，TFA、 NLLSF、PSF删除，光学/XPS像叠加 报告——自动化报告生成，简易输出至其它软件包 Avantage索引数据档案管理 审计跟踪记录 系统性能记录 校准要求——全谱仪源除气和设置 全遥控操作主要特征分析器——180°双聚集半球分析器-128通道检测器X射线源——铝Ka微聚集单色器-可获取的光斑大小（5微米步长30至400微米）离子枪——能量范围100至4000 eV电荷中和——又束流-超低能量电子束样品安装——四轴样品台-60 x60毫米样品区域-zui大样品厚度20毫米真空系统——2个220 l/s涡轮分子泵用于进样室和分析室–自动开机，3灯丝TSP数据系统——Avantage数据系统–过程许可–计算机选配件——倾斜角分辨XPS模块–惰性气体手套箱用于空气敏感样品安装产品应用领域氧化石墨烯的物理化学变化测控、半导体晶片上的超薄薄膜结构分析、分层太阳能电池、触摸屏复合涂层的检测评估、等离子表面改性、钢铁表面钝化工艺评估、BN玻璃、MEA燃料电池、耐磨镀层石油催化剂成像、食品安全——聚合物包装材料、MAGCIS深度剖析单一头发纤维。

简介PHI Genesis 500是最新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速精准深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案。关键技术易操作式多功能选配附件全自动样品传送停放高性能大面积和微区XPS 分析快速精准深度剖析为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案 简单易操作PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像精准定位等功能。简单友好的用户界面PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。 多功能选配附件原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。全面的优良解决方案：高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。多数量样品大面积分析把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内可同时使用三个样品托80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品独一无二的可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、精准零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。大幅提升的二次电子影像（SXI）二次电子影像（SXI）精准零误差定位，保证了所见即所得。卓越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。 快速深度剖析PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。 高性能的深度剖析能力( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中，使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。角分辨XPS 分析PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的卓越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。 PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用电池 (AES + Transfer Vessel)“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如LiPON，对电子束辐照敏感。PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取AES 化学成像。有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构（1）C60 薄膜表面（2）C60 薄膜表面清洁后（3）C60 薄膜/Au 界面（4）Au 表面通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 (XPS + HAXPES)半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的GaN，使用HAXPES 是非常有必要的。微电子 (HAXPES)微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速准确深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面的解决方案。关键技术易操作式多功能选配附件全自动样品传送停放高性能大面积和微区XPS 分析快速准确深度剖析为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面解决方案 简单易操作PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像准确定位等功能。简单友好的用户界面PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。多功能选配附件原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。优良解决方案：高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。多数量样品大面积分析把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内可同时使用三个样品托80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、准确零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。大幅提升的二次电子影像（SXI）二次电子影像（SXI）准确零误差定位，保证了所见即所得。优越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。快速深度剖析PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子设备和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。高性能的深度剖析能力( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中，使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。角分辨XPS 分析PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的优越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用电池 (AES + Transfer Vessel)“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如LiPON，对电子束辐照敏感。PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取AES 化学成像。有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构（1）C60 薄膜表面（2）C60 薄膜表面清洁后（3）C60 薄膜/Au 界面（4）Au 表面通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 (XPS + HAXPES)半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的GaN，使用HAXPES 是非常有必要的。微电子 (HAXPES)微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

PHI Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器，其超卓技术包括有：一个独创微集中扫描的X射线来源，专利的双光束的电荷中和技术，在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析，一个五轴精密的样品台和负责全自动样品传送的机械手臂，与及一个完全自动化且可支持互联网远程控制的仪器操作平台。Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪（XPS）增加了这些技术性能和生产力，再一次提供了zui高性能的XPS系统，以满足您当前和未来的XPS需要。X射线光电子能谱仪（XPS）优点：容易使用：无论您是在分析一个薄膜样品、有机聚合物、一个大的塑料镜片，不锈钢刀片又或是焊锡球 所有的仪器设置和设定都是完全相同的。用者只需用鼠标点在一个光学图像单击选择一个或多个分析地区，加上双光束中和系统和自动Z-轴高度调整功能，就可以透过仪器软件的自动队列执行所有分析。整个操作流程不需要任何的设定调整，不用因不一样样品成份而有任何顾虑，甚至也不需要有操作员整天待在仪器旁边；一切的操作都可以自动的完成。薄膜分析：Quantera II 不仅提供了无机薄膜样本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60离子枪对有机薄膜得出非常优越的深度分析结果。扫描 ：PHI使用了独创的聚焦扫描X射线源，使XPS微区分析变得更高效。如图4所示，X射线源是经由聚焦电子光栅扫描并撞击在铝阳极上所产生的，而此产生的聚焦铝X射线会再透过椭球形状的单色器反射在样品表面上。当电子束扫描在铝阳极上时，所产生的X射线束在样品上也会作出同步的扫描。X射线束的直径大小可调范围为7.5微米以下到400微米以上。微区光谱：在光学显微镜，在这透明的聚合物薄膜表面上是没有发现任何污染物的。但是如以下图５中所示，使用二次电子影像时就立即显示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短几分钟内，Quantera II仪器就可以利用一个直径为20微米的X射线束得到确定的氟碳污染物。

Escalab 250Xi型电子能谱仪是一台多功能高性能的表面分析仪器，它可以用于研究各种固体材料样品表面（1-10nm厚度）的元素种类、化学价态以及相对含量。结合离子刻蚀技术还可以获得元素及化学态深度分布信息；通过成像技术可以获得元素及化学态的面分布信息；利用微聚焦X射线源或电子束可以获得微区表面信息。在金属、玻璃、高分子、半导体、纳米材料、生物材料以及催化等领域有广泛应用。本仪器以X射线光电子能谱为主要功能，还带有俄歇电子能谱、紫外光电子能谱、反射电子能量损失谱及离子散射谱等附件功能。主要功能特点如下：1． 常规XPS，鉴别样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量。双阳极XPS，更适合用于不同的特殊过渡金属元素的研究，如催化领域。2． 微区XPS分析（单色化XPS），用于样品微区（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化学态分析3． 深度剖析XPS，结合离子刻蚀技术对样品（如薄膜等）进行成分深度分布分析。通过角分辨XPS还可以进行非损伤成分深度分布分析。4． XPS成像，可以对元素或化学态进行表面面分布分析，使一些分析结果更直观。5． 反射电子能量损失谱REELS技术，可实现氢元素的检测。6． 离子能量损失谱ISS，可实现样品表面元素信息的检测7． 场发射俄歇AES，可实现样品表面100nm尺寸下的元素信息检测。可以进行成分分析、形貌像分析及扫描俄歇像分析等。8． 紫外光电子能谱（UPS），可以获得样品价带谱信息，对导体、半导体的能带、带隙等分析提供主要数据。还可以分析样品逸出功等。

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。入围优秀新品获奖理由：先进的成像探测器设计，用于定量XPI成像： 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术，一方面使得XPI成像分辨率达1um，另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器，实现体相分析技术和表面分析技术的结合： 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子枪结合，可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析，EDS可探测微米深度的元素组成，可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术，用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析： REELS可以探测材料的能级和带隙结果，并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息，并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+，设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统，高温高压催化还原反应系统和样品退火系统，满足不同的科研项目需求。配备为提供最佳 XPS 性能而设计的单色化X射线源，确保ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针有最高的样品测试通量。多技术能力、一系列灵活的样品制备室及样品处理设备，使该仪器在解决任何表面分析问题时都能游刃有余。利用先进的 Avantage 数据采集和处理系统，从测试数据中挖掘尽可能多的信息。ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针的特点：高灵敏度能谱小面积 XPS深度剖析能力角分辨 XPS标配离子散射能谱 (ISS)功能标配反射电子能量损失谱 (REELS)功能标配“样品预处理”室多技术分析的多功能性多个样品制备技术可选全自动无人值守式分析多样品分析单色化X射线源双晶体微聚焦单色器配备一个 500 mm 直径的罗兰圆，使用铝阳极靶样品 X 射线光斑尺寸可选择范围为 200 至 900 μm透镜、分析仪和检测器透镜/分析器/检测器一体化使 ESCALAB 250Xi XPS 能谱仪同时具备成像和小面积 XPS 分析能力的独特性两种类型的检测器可以确保为每种分析提供最佳检测——二维检测器用于成像，基于通道电子倍增器的检测器则用于需要检测高计数率的能谱分析透镜配备了两种电脑控制的光阑组件，一套视场光阑用于控制低至 20 μm 的分析区域，适用于小面积分析；另一套光阑则用于控制透镜的接收角，对于高质量角分辨 XPS 至关重要180° 半球型能量分析器深度剖析数控式 EX06 离子枪是一款高性能的离子源，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能提供方位角样品旋转多技术能力可配备其他分析技术而不降低 XPS 检测性能使用 EX06 离子枪时透镜组和能量分析仪的电源可反向（确保离子散射能谱 (ISS) 可用）电子枪可加压升至 1000 V，为 REELS 提供优异的离子源技术选项非单色化 X 射线光源的XPS分析AES（俄歇电子能谱）UPS（紫外光电子能谱）真空系统5 mm 厚高导磁 金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳样品制备系统标配一体化的快速进样室和制备室额外的制备室可选Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告导出的整个分析过程

AXIS NOVA X射线光电子能谱仪标准主机包含单色化Al Kα X射线源，可实现大面积XPS分析、小面积XPS分析和ISS分析以及XPS快速平行成像等功能。 可提供高的分析灵敏度。 确保高能量分辨XPS分析和高空间分辨的XPS成像。 荷电中和器，完美解决绝缘体XPS分析。技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取极高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得极高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

X 射线光电子能谱（XPS）是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定，从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析，样品例子如催化剂，金属和电子设备，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和组织等等。VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力，包括扫描和聚焦 X 射线，专利的离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪；另有可选项配置C60离子枪，提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力；另外，一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”的能力，可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。最后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中，对VP-II 的性能有着明显的提高。

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

AXIS SUPRA X射线光电子能谱仪Axis Supra 的设计理念是将样品自动载入、光学显微镜辅助定位样品分析位置和智能的数据采集、处理等易用性集成于高端XPS，并未由于高度自动化而丧失高性能。超高的灵敏度、杰出的能量分辨和快速、高空间分辨的成像满足绝大多数高要求的应用 技术特点大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取高的检测灵敏度。大平均半径的双聚焦半球能量分析器，可以获得高的谱线能量分辨。专利二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。专利的同源中和器，具备无阴影荷电中和能力，且对于表面凸凹不平的样品，可实现精确电荷中和。标配单色化Al阳极，亦可选购单色化的Al/Ag双阳极，并且单色化阳极靶可以更换多个新鲜靶点，极大地延长了阳极靶的使用寿命。标配进样室定位光学显微镜，可以在进样预抽真空时定位多样品的分析位置，然后转入分析室实施自动分析。

岛津／Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型，业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一，现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来，岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra，并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器（Delay-Line Detector）的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底，在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪，在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可，在业界处于绝对领先地位。 技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Thermo Scientific&trade Nexsa&trade X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。Nexsa 能谱仪具有灵活性，可zui大限度地发挥材料潜能。在使结果保持研究级质量水平的同时，以多重整合技术选项的形式提供灵活性，从而实现真正意义上的相关性数据分析和高通量。标准化功能催生强大性能：绝缘体分析高性能光谱深度剖析多技术整合双模式离子源，使深度剖析功能得到扩展用于 ARXPS 测量的倾斜模块用于仪器控制、数据处理和报告的 Avantage 软件小光斑分析可选的升级：可将任何全自动化集成技术添加到您的分析中。触动按钮即可运行。ISS：在离子散射光谱技术中，一束离子可被某物体表面散射UPS：紫外光电子能谱是指对吸收了紫外光子的分子所发射的光电子动能谱进行测量，以确定化合价区域中的分子轨道能量拉曼：能谱技术在化学领域被用于提供结构指纹REELS：反射电子能量损失谱借助 SnapMap 的光学视图，聚焦于样品特征。光学视图可以帮助您快速定位感兴趣区域，同时生成完全聚焦的 XPS 图像，以进一步定义您的实验。X 射线照射样品上的一个小区域。收集来自这一小区域的光电子并将其聚焦于分析仪随着镜台的移动，不断采集能谱在整个数据采集过程中监测镜台位置，这些位置用来生成 SnapMap

利用 Thermo Scientific™ Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统采集角分辨能谱，无须倾斜样品即可无损表征超薄薄膜新型技术产品所依赖的是固体近表面区域的设计。对于这种类型的材料，包括自组装单层、表面改性聚合物和半导体设备，确定表面几纳米的成分是关键。通过使用平行角分辨 XPS (PARXPS) 和能够提供准确精密结果的 Avantage 数据系统的先进软件，Theta Probe X 射线光电子能谱仪系统能够帮助您做到这一点。描述Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统特性：专利的弧透镜技术，提供 60° 平行角范围内收集角分辨 XPS 能谱的能力X 射线单色器具有用户可选择的光斑尺寸（15 至 400 μm）系统能够处理大样品或多个样品CCD 样品对齐显微镜与样品表面垂直。透镜、分析仪和检测器弧透镜利用大接收角 (60°) 收集光电子大角度可以最大程度提高灵敏度，并且允许在 PARXPS 测量中收集大角度范围透镜轴与样品法线成 50°，因此可以收集 20 至 80° 角度范围的电子（相对于样品法线）180° 半球型分析器在输出端配备一个二维检测器二维检测器提供多通道检测，多达 112 个能量通道和 96 个角度通道透镜有两种操作方式：传统模式和角度分辨模式X 射线源配备一个微聚焦单色器X 射线光斑尺寸范围 15 - 400 μm深度剖析数控式 EX05 离子枪可用于提供深度剖析，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能深度剖析可使用方位角样品旋转样品处理全电动样品台，能够实现 5 轴移动样品台可容纳大样品——X 和 Y 轴上的移动范围为 70 mm，Z 轴上的移动范围为 25 mm（高度）真空系统5 mm 厚高导磁?金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告生成的整个分析过程

表面和界面分析充满了挑战，需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪，在保证数据质量和样品测试通量的同时，集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样，Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室，还是在多用户环境中工作，Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性，可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统？高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调，从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配，最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器，可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电，因为使用极低能量的电子，大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS（可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统，所有技术将触手可及，一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站，有助于解决材料分析问题，提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选，以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有：NX 加热台，用于原位的样品加热分析；多触点偏压样品台，可实现样品在真空系统中的施加电压，偏压或循环电极后的XPS原位分析；惰性气体转移腔，可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移；MCA样品台，用于XPS+SEM的关联分析，实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据，并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Thermo Scientific&trade Nexsa&trade X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。Nexsa 能谱仪具有灵活性，可最大限度地发挥材料潜能。在使结果保持研究级质量水平的同时，以多重整合技术选项的形式提供灵活性，从而实现真正意义上的相关性数据分析和高通量。标准化功能催生强大性能：绝缘体分析高性能光谱深度剖析多技术整合双模式离子源，使深度剖析功能得到扩展用于 ARXPS 测量的倾斜模块用于仪器控制、数据处理和报告的 Avantage 软件小光斑分析可选的升级：可将任何全自动化集成技术添加到您的分析中。触动按钮即可运行。ISS：在离子散射光谱技术中，一束离子可被某物体表面散射UPS：紫外光电子能谱是指对吸收了紫外光子的分子所发射的光电子动能谱进行测量，以确定化合价区域中的分子轨道能量拉曼：能谱技术在化学领域被用于提供结构指纹REELS：反射电子能量损失谱借助 SnapMap 的光学视图，聚焦于样品特征。光学视图可以帮助您快速定位感兴趣区域，同时生成完全聚焦的 XPS 图像，以进一步定义您的实验。X 射线照射样品上的一个小区域。收集来自这一小区域的光电子并将其聚焦于分析仪随着镜台的移动，不断采集能谱在整个数据采集过程中监测镜台位置，这些位置用来生成 SnapMap

LE-1低能级反光电子能谱仪以前没有一种合适的方法能够精确地测量LUMO的能级。ALS公司首次研发出一种能够精确测量LUMO能级的系统。LE-1系统是一个理想的有机电子研究解决方案。LE-1的特点和配置1. 降低电子辐照能量，就能够避免对有机样品的损伤2. 能够达到和用光电子能谱仪测量HOMO能级一样的测量精度3. 相当于X射线光电子能谱仪系统（XPS或UPS），LE-1能在相同条件下测量样品4. 即使在超真空条件下，样品、真空和测量也能轻易地自动转换5. 只要使用LEIPS标准软件，电子亲和性等就能很容易计算和得到简易的LEIPS标准软件使用说明 1. 输入测量参数后，开始测量。样品的电流谱和LEIPS光谱就能同时被测出来2. 只要通过简单的操作，就能在测量结果上计算出真空度和电子亲和性3. 在计算屏上，只要通过光标就能直接读出光谱任何一处的能量值4. 测量数据要被用来分析的话，就以csv文档格式保存

产品信息标准主机包含单色化Al Kα X射线源，可实现大面积XPS分析、小面积XPS分析和ISS分析以及XPS快速平行成像等功能业界最大功率的600W单色化Al Kα X射线源，确保最高的分析灵敏度平均半径165mm的双层能量分析器，确保高能量分辨XPS分析和高空间分辨的XPS成像专利的浸入式磁透镜技术，大幅度提高分析灵敏度专利的快速平行X光电子实时成像，空间分辨率优于3μm，最高像素65,536（256×256），可进行微区元素和化学态空间分布分析专利的同轴超低能无阴影单电子源荷电中和器，完美解决绝缘体XPS分析专利的二维阵列延迟线检测器（Delay-Line Detector），同时记录光电子的强度和发射位置，可实现在数秒钟之内获得高能量分辨XPS谱全自动超大样品台，可实现100mm×100mm的大样品分析最佳能量分辨率优于 0.45eV（Ag 3d5/2）常规分析能量分辨和灵敏度高达0.55eV@1.1Mcps（Ag 3d5/2）绝缘体分析的分析能量分辨和灵敏度高达0.68eV@16kcps（PET的C 1s）选配单色化Al/Ag双阳极X射线源，实现高能XPS分析结合了数据采集和数据处理的Vision软件，可运行于Windows XP/Vista/7等多种平台下，实现各真空室真空度实时显示，操控真空阀门开关，实验条件设定和全自动无人值守分析等强大功能

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是最新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是世界级领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。世界领先的分析性能●表面元素定性、定量分析 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求。 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，同时所得数据无探测器背底特 征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室