精密磨抛机

磨抛机适用于对金相试样的预磨、研磨和抛光，是金相制样中必不可少的设备。适应于经过切割，镶嵌后的各种金属试样，如钢、铜和铜合金等试样制备。Chiron 250D金相磨抛机采用单片机控制，集污盘和安全罩为ABS材料整体制作，外形新颖美观。双盘均采用无级调速，也可四速控制，且磨盘转数独立操作；磨抛方向可选择正向或反向旋转，确保了试样的平整与光洁。设备采用高清LCD触摸屏，使操作更加便捷、直观；电机采用直流无刷电机，无需频繁更换电刷，且使用时间长；地盘为精密铸铁所浇铸，可确保设备运行时的回转平衡度及加强稳定性；主轴采用防漏设计，确保轴承不被损坏；设备支持快速换盘，垫板喷涂特氟龙，更换砂纸或抛布确保无残留；噪声低、操作简便、安全。Chiron 250D金相磨抛机技术参数（1） 磨抛盘直径：254mm（2） 砂纸直径：250mm（3） Z周磨削深度：0.1mm，步进0.1mm（4） 磨抛方向：正向/反向（5） 转速：无级调速100~1000r/min（10r/min步进）/也可四档速250 r/min、500 r/min、750 r/min、1000 r/min（6） 供水管外径：6mm（7） 供水压力：40~100psi（8） 电动机：直流无刷电机, 220V, 1.1kw（9） 外形尺寸：725×900×360mm（10） 净重：95kg。

磨抛机适用于对金相试样的预磨、研磨和抛光，是金相制样中必不可少的设备。适应于经过切割，镶嵌后的各种金属试样，如钢、铜和铜合金等试样制备。 Chiron 300D金相磨抛机采用单片机控制，集污盘和安全罩为ABS材料整体制作，外形新颖美观。双盘均采用无级调速，也可四速控制，且磨盘转数独立操作；磨抛方向可选择正向或反向旋转，确保了试样的平整与光洁。设备采用高清LCD触摸屏，使操作更加便捷、直观；电机采用直流无刷电机，无需频繁更换电刷，且使用时间长；地盘为精密铸铁所浇铸，可确保设备运行时的回转平衡度及加强稳定性；主轴采用防漏设计，确保轴承不被损坏；设备支持快速换盘，垫板喷涂特氟龙，更换砂纸或抛布确保无残留；噪声低、操作简便、安全。Chiron 300D金相磨抛机技术参数（1）磨抛盘直径：300mm （2）砂纸直径：300mm （3）Z周磨削深度：0.1mm，步进0.1mm （4）磨抛方向：正向/反向（5）转速：无级调速100~1000r/min（10r/min步进）/也可四档速250 r/min、500 r/min、750 r/min、1000 r/min（6）供水管外径：6mm（7）供水压力：40~100psi（8）电动机：直流无刷电机, 220V, 1.1kw（9）外形尺寸：725×900×360mm（10）净重：95kg。

Chiron 250DA的集污盘和安全罩均采用ABS材料一体成形，并且采用单片机控制方式，磨盘可无级调速，高清LCD触摸屏显示并控制磨盘转速，清晰直观而又方便简单；电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，机台烤漆安全无毒，牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度，强大的电机扭力带来强大的动力，带来高效的研磨抛光体验，主轴防漏设计，防止轴承受损；设备搭载快速换盘系统，使用弹性好，搭配自动研磨装置，能代替手工进行磨抛的各道工序，可定时设定磨头转速，设备搭载照明系统，提高试样的磨抛质量和制作效率；设备可储存高达十余种磨抛程序，针对不同试样设定不同的磨抛参数，后期调用非常简便，同时先进的静音设计可以给您更佳的使用体验，是比较理想的金相制样设备。Chiron 250DA智能全自动金相磨抛机技术参数（1）磨抛盘直径：254mm（2）砂纸直径：250mm（3）Z周磨削深度：0.1mm，步进0.1mm（4）转速：无级调速100~1000r/min（5）磨抛方向：正向/反向（6）电动机：直流无刷电机, 220V, 1.1kw（7）试样夹持数量：6个（8）试样夹持规格：Φ22mm, Φ30mm, Φ45mm 任一规格（9）加压方式：单点气动加压（10）单点加压：0~50N（11）中心加压：0~160N（12）磨头转速：无级调速20~120r/min（13）定时可调时间：0~99min（14）磨头电动机：步进电机, 26V, 200w（15）外形尺寸：725×1200×760mm（16）净重：134kg。

Chiron 300DA的集污盘和安全罩均采用ABS材料一体成形，并且采用单片机控制方式，磨盘可无级调速，高清LCD触摸屏显示并控制磨盘转速，清晰直观而又方便简单；电机为直流无刷电机，电机无需更换电刷，使用时间长，机台烤漆安全无毒，牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度，强大的电机扭力带来强大的动力，带来高效的研磨抛光体验，主轴防漏设计，防止轴承受损；设备搭载快速换盘系统，使用弹性好，搭配自动研磨装置，能代替手工进行磨抛的各道工序，可定时设定磨头转速，设备搭载照明系统，提高试样的磨抛质量和制作效率；设备可储存高达十余种磨抛程序，针对不同试样设定不同的磨抛参数，后期调用非常简便，同时先进的静音设计可以给您更佳的使用体验，是比较理想的金相制样设备。Chiron 300DA智能全自动金相磨抛机技术参数（1）磨抛盘直径：300mm（2）砂纸直径：300mm（3）Z周磨削深度：0.1mm，步进0.1mm（4）转速：无级调速100~1000r/min（5）磨抛方向：正向/反向（6）电动机：直流无刷电机, 220V, 1.1kw（7）试样夹持数量：6个（8）试样夹持规格：Φ22mm, Φ30mm, Φ45mm 任一规格（9）加压方式：单点气动加压（10）单点加压：0~50N（11）中心加压：0~160N（12）磨头转速：无级调速20~120r/min（13）定时可调时间：0~99min（14）磨头电动机：步进电机, 26V, 200w（15）外形尺寸：725×1200×760mm（16）净重：134kg。

品牌： GATAN 名称型号：精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商： 美国GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍： 产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点： 精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。 两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热损伤，消除可能的假象。集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（ 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。 图片说明：（A）PECSII 抛光的样品表面的二次电子像，显示出高度孪晶的晶粒（B）PECSII 抛光后的锆合金的菊池花样（C）EBSD欧拉角分布图（D）IPFZ面分而战。照片由牛津大学材料学院Angus Wilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有Bruker Quantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。产品主要技术参数： 离子源*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节离子束能量100 eV 到 8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台样品大小：最大直径 32mm， 最大高度 15mm样品装载： 对于截面样品抛光采用 Ilion™ II 专利的样品挡板，二次再加工位置精确。样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个靶材切换：无需破坏真空，可直接切换样品旋转：1 到 6 rpm 可调束流调制：角度可调的单束调制或双束调制真空系统干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵压力5 x 10-6 torr 基本压力8 x 10-5 torr 工作压力真空规冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵*样品空气锁Whisperlok专利技术，无需破坏主样品室真空即可装卸样品，样品交换时间 1 min用户界面*10 英寸触摸屏操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作*操作界面语言：提供中文、英文等多种选择 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料

产品型号：Unipol-1502产品简介：Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工工位。可研磨抛光直径&ge 100毫米或矩形的平面。采用UNIPOL1502型精密研磨抛光机及选购的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。主要特点：1、超平抛光盘（平面度为每25毫米× 25毫米小于0.3微米） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于8微米） 3、三个加工工件 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵技术参数：电源：交流110V或220V 速度：无级调速 定时器：定时范围为1分钟～99.99小时 外形尺寸：650mm× 510mm× 300mm（长× 宽× 高） 重量：95千克尺寸：810mm x 800mm x800mm 200kgs产品附件：150× 200&ldquo 00&rdquo 级精密花岗岩测厚仪； 自动混料及送液的滴料器； 搅拌循环泵； 各种配重块，以调整抛光和研磨的压力（100克-2000克）； 用于精细研磨抛光的铜及锡合金抛光盘； 易粘贴的抛光垫； 可根据客户要求设计载料块的大小。可选配件：二个直径381毫米的研磨抛光盘（铸铁盘和铸铝盘各一个） 三个修整环 三个载料块 三个支持修整环的支架 一本操作规程手册具体信息请点击查看：

UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：Ø 381mm8、载物盘：Ø 110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了?381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤?110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：起动转速范围10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：?381mm8、载物盘：?110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-802自动精密研磨抛光机适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 203mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 80mm的平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-802自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-50A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。GPC-50A精密研磨抛光仪能严密控制被研磨样品的平面度和平行度。UNIPOL-802精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-802自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-802安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110/220V2、功率：275W 3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~250rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008/180mm7、磨抛盘：Ø 203mm8、载物盘：Ø 80mm产品规格 尺寸：580mm×420mm×350mm；重量：68kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 300mm的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 105mm的圆片或对角线长≤105mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-80A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-80A使用尤其适用于地质薄片样品的研磨与抛光。UNIPOL-1202精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.01mm）。3、设有两个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷。产品名称 UNIPOL-1202自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1202安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：275W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：2个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.008mm/250mm7、磨抛盘：Ø 300mm8、载物盘：Ø 105mm产品规格 尺寸：长550mm×宽700mm×高400mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘2个4修盘环2个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）

UNIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位，是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机，用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 508mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 160mm的圆片或对角线长≤160mm的矩形平面。在研磨过程中三个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。若配置适当的附件（GPC系列精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品，例如直径≤Ø 160mm晶圆样品的研磨与抛光。采用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。产品名称 UNIPOL-2001型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-2001主要参数 1.研磨盘：直径φ508mm（20英寸） 2.载样盘：直径φ160mm（6英寸），厚度35mm3.修盘环：外径φ196mm，内径φ160.5mm，厚度35mm4.摆臂支架：每120°设置1个，共3个5.工位数量：3个6.研磨盘转速：转数：20-120转/分钟7.支架摆动速度档位：10-30档 （参考速度：5.5-13.5次/分钟）8.传动机构电机：变频电机：1.5kW， 220V 9.总功率：1.7kW 220V产品规格 外形尺寸：尺寸：落地式，820*1180*945mm重量：450kg

GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。设备结构及功能GNAD系列精密研磨抛光机包括主机，远程操控系统，夹具，真空系统，填料系统，研磨抛光盘等。主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。夹具配备晶片研磨厚度在线监测装置，数字显示，监测精度1um，夹具自身对晶片的压力连续可调。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。自动填料系统可根据不同的工艺要求，调整滴料速度，并在研磨料用完同时自动停机，以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。设备可支持双多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统，大大提升了磨抛效率的同时，也更好的控制样品平整度。GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却选配功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。设备参数 电源: 240V、10A / 110V、10A 晶圆尺寸: GNAD4 4”x 1/2/3 GNAD6 6”x 1/2 工作盘直径: 300mm-420mm 盘转速: 0-120rpm 摆臂摆动频率: 0-30spm 工作时间: 0-10小时 MCF公司可根据用户需求，提供完整的工艺方案，同时定制匹配方案的设备机型。具体设备详情请咨询MCF中国！

ASAP-1选择性区域精密抛磨机每一个实验室都需要一个精确的，重复性好的开封 , 背面/正面研磨的机器。这对Flip-chip power chip,PQFP S-CSP, BGA, MCM packagestyles and most otherstyles 器件简便和准确的分析更为重要。产品特点:1.Z 方向精度可达 5 微米 (1 微米为可选件 )。2.适用于各种封装形式和 WAFER 水平,各种尺寸的 DIE。3.机械式开封 (on S-CSP, BGA, flip chip, power device, MCM package styles and most other styles)。4.精确的开封后,再精细研磨。5.简便的操作和使用。6.桌面放置，使用安静，方便。

UNIPOL-300小型精密研磨抛光机是我公司专为各大实验室研究人员而设计的一款小型自动金相研磨抛光机，主要用来研磨小型金相试样，尤其适合透射电镜样品的磨抛，最薄可以将样品研磨至50μm。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机通过弹簧对被研磨样品施加压力，可以在一定范围内调节压力的大小，不会因磨抛压力过大而损坏样品。研磨速度可以在一定范围内进行调整，可根据不同样品种类使用不同的研磨速度。研磨过程中可以对研磨时间进行设定，达到研磨时间机器自动停止，可以实现无人看守。UNIPOL-300小型精密研磨抛光机可以研磨的材料范围广，可用于晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料、高分子材料等的研磨抛光，不仅能够进行自动磨抛，而且精度高、速度快，是国内外金相实验室、电镜实验室的通用设备。本机动作模仿人手操作，下盘不动，由上压杆带动试样做“8”字形往复运动。研磨压力、速度均可调整，操作方便简单，可实现无人看守。产品名称 UNIPOL-300小型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-300安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：单相：AC100-240V 50/60Hz 国标二极插座 10A （供电源电压需求是根据使用“电源适配器”输入决定）4、冷却水：标配设备无需求5、气源：标配设备无需求6、辅助设备（另行购买）：推荐：HEATER-3040或250加热平台、SKCH-1精密测厚仪7、工作台：建议在承重 50kg 以上操作台或桌面使用8、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求主要参数 1、设备供电端口：DC24V 2.5A (标配“电源适配器”）2、总功率：25W 3、研抛盘直径：Φ70 mm4、载样盘直径：Φ30 mm5、工位数量：16、主轴驱动电机：DC24V 0.8A 10W 3000/60K=50rpm7、载样盘摆动速度：0-160 次/分（无级调速）8、试样最大直径：Φ50mm9、试样最大厚度≤2mm10、控制方式：定时运行（倒计时）产品规格 尺寸：400mm×200mm×230mm；重量：11kg

UNIPOL-1202 自动精密研磨抛光机专门为加工制备晶体、陶瓷、玻璃、金属、岩样、矿样、耐火材料、PCB板、复合材料而设计的新一代产品。它配备了300mm直径的研磨抛光盘和两个加工工位，可用于研磨抛光直径≤100mm或矩形的平面。采用本机并选择适当的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。无级调整摆动频率，实现平面磨抛更加平整。技术参数主要特点超平抛光盘（平面度为每25×25mm小于0.0025mm）超精旋转轴（托盘端跳小于0.010mm）两个加工工位带有数字式显示的无级调速可自动停止工作的定时器可配备自动送液的滴料器或循环泵参数研磨盘转速：0—125转/分工位：2个载料盘摆动次数：9次/分研磨盘直径：300mm载料盘直径：105mm交流电源：110/220伏主电机功率：245瓦产品规格体积：700 x475x300mm 重量67kg 可选配件 SKZD-2自动滴料器（点击图片查看详细资料）YJXZ-12搅拌循环泵GPC-50精确磨抛控制仪“00”级精密测厚仪 质保期一年质保期，终身维护质量认证 CE Certified操作视频与UNIPOL-802的操作视频相仿

UNIPOL-810精密研磨抛光机用于磨抛晶体、金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及密封件等，如光学元件、化合物半导体基片、陶瓷基片、蓝宝石、钒酸钇、铌酸锂、砷化镓。本机配有桃形孔载物盘，更加方便了对镶嵌的或圆形的金相试样的磨抛。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以进行手动磨抛也可以用机械臂控制载样块进行自动磨抛，研磨抛光样品的方向不改变，是一款可以多用的研磨抛光设备。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、配有滴料装置，可实现自动滴加研磨液。2、无级调速，数字显示。3、操作简单快捷。4、配有一个摆臂，可不用手动磨抛。产品名称 UNIPOL-810精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-810安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/240V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A（插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、HEATER-3040 或 250 加热平台、 2、SKCH-1 型精密测厚仪 3、GPC-系列精确磨抛控制仪（机械手） 4、SZKD-系列滴料器 5、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：175W3、磨抛盘直径：Φ203 mm4、平板载样盘直径：Φ80 mm5、桃型孔载样盘直径：Φ80 mm，桃型内孔 3xΦ26 mm6、工位数量 （定位机械臂）：1 工位7、滴料桶容积：1L8、主轴驱动电机：DC110V 165W9、研抛盘转速：20-600rpm（无级调速）备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 11、产品规格：尺寸：L450×W500×H600mm净重：≈35Kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铝合金磁力盘1个3载物盘1个4修盘环1个5桃型孔载物盘1套6磁力片2片7研抛底片5片8砂纸8片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏1支11刚玉研磨微粉0.5kg12石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

ASAP-1选择性区域精密抛磨机每一个实验室都需要一个精确的，重复性好的开封 , 背面/正面研磨的机器。这对Flip-chip power chip,PQFP S-CSP, BGA, MCM packagestyles and most otherstyles 器件简便和准确的分析更为重要。产品特点: * Z 方向精度可达 5 微米 (1 微米为可选件 )。 * 适用于各种封装形式和 WAFER 水平,各种尺寸的 DIE。 * 机械式开封 (on S-CSP, BGA, flip chip, power device, MCM package styles and most other styles)。* 精确的开封后,再精细研磨。* 简便的操作和使用。* 桌面放置，使用安静，方便。

锻磨针仪（Microforge-Grinding System）锻磨针仪作为玻璃微管再加工设备，具备对玻璃微管进行精细研磨和锻造抛光等功能，其特点为一个显微观察系统中，具有磨针模块和锻针模块。MPI微科精密锻磨针仪，既可以实现对玻璃微针精细研磨斜切口、平口等，也可以实现对玻璃针尖热断口、电极抛光、弯曲针尖、锐化拉尖、热封接等操作。锻磨针仪PGF-22C的磨针模块中提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C的锻针模块中，加热丝和玻璃微针夹持杆均可以多角度调节和三维移动，加热量通过数显直观实时显示，更加精准。配备脚踏开关，方便操作。双LED照明光源，背景亮度和微针轮廓亮度独立可调，使得微针加工过程中在显微镜观察系统100倍以上的放大倍率下，依然可清晰操作。

新升级的美国ALLIED MultiPrep高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg)产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

新升级的美国Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能 顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造 项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg) 产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

一、仪器介绍MT-PM100电极探针精密抛光仪是一款满足石英及玻璃材质探针以及超微电极抛光需求的精密抛光仪，配备高精密电动直线滑台控制探针（或超微电极）的上下移动，通过可调速微型电机驱动磨盘均匀且稳定地旋转，实现探针（或超微电极）针尖的精密抛光。还配备了电子显微镜和高清显示器，实时监控抛光过程，确保针尖抛光的精确性。另外，配置了高灵敏度阻抗检测单元，可以用来原位监测玻璃封装（尖端绝缘）的金属纳米电极的导电暴漏。二、主要参数抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调 阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极（≥20 nm）；空心管（≥1 um）步进速度0.001~30 um/s可调显微镜HDMI接口，含位置测量软件，可观测10 um的物体三、仪器构成及使用方法电极探针精密抛光仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：电子显示屏（1）；电源开关（2）；磨盘正反向旋转按钮（3）；磨盘转速显示器（4）；磨盘转速调节器（5）；磨盘停止旋转按钮（6）；触屏显示器（7）；皮带（8）；光源（9）；步进电机（10）；电动直线滑台（11）；探针固定器（12）；抛光磨盘（13）；滤纸（14）；滤纸固定器（15）；电极夹（16）；电子显微镜（17）。电极探针精密抛光仪的触屏显示器页面如上图所示，包括手动模式和阻抗模式两种模式。“手动模式”使用系统配备的测量工具，手动测量探针需抛光的长度，设定步进距离控制探针的抛光，主要用于空心石英管/玻璃管的抛光。“阻抗模式”使用系统检测并响应阻抗的变化以控制超微电极的抛光，主要用于玻璃封装的金属电极、碳纳米电极的抛光。“Z轴回原”使探针/超微电极回到系统设定的初始高度。手动模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，通过按钮使磨盘开始正向旋转，将配套的滤纸用去离子水润湿（通过虹吸作用在磨盘上形成一层水膜，并阻拦抛光过程中产生的碎屑），再通过按钮使磨盘停止转动以便于后续观察。将探针尾部插入通有氩气的通气管，固定在探针固定器凹槽内，设置步进距离，通过高精密电动直线滑台控制探针向下移动，直到在显微镜下观察到探针针尖及其在磨盘上的影像。使用显微镜工具页面中的“测量工具”测量并计算步进距离，下移探针至探针尖端与磨盘接触。启动磨盘转动，根据需求调节磨盘转速、探针移动速度以及步进距离，开始抛光。待剩余距离和时间归零，探针停止下移，抛光结束。阻抗模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，将待抛光的超微电极和镍丝固定并连接电极夹，设置步进距离，步进电机向下移动，直到在显微镜下可以观察到超微电极尖端及其在磨盘上的影像。当超微电极尖端与其影像的距离接近5 um时，滴加KCl电解质溶液以覆盖超微电极和镍丝尖端。根据需求调节磨盘转速、超微电极移动速度以及步进距离，开始抛光。当仪器检测到超微电极阻抗时，会立即停止抛光并自动回原。

UNIPOL-1503型精密多功能研磨抛光机设有三个加工工位，是可进行大尺寸样品磨抛的桌面型磨抛机，适用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。 本机设置了Ø 381mm的研磨抛光盘和三个加工工位以及一个蓝牙机械手，两套滴料系统，非常适用于晶圆样品（≤Ø 100mm）的减薄抛光，蓝牙功能可对材料厚度的数值进行检测，达到目的数值自动停止，控制系统可自由设定和储存工艺参数，实现自动化研磨抛光。产品名称 UNIPOL-1503精密多功能抛光机产品型号 UNIPOL-1503安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、水：要求设备使用现场具备自来水要求设备使用现场具备下水排污管线4、电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座10A 必须有良好接地5、气：空负压（真空泵） 抽气流量不小于70L/M 压缩空气（空压机） 工作压力：≤ 0.2MPa 主要参数 1、供电接口：三极电源插头：AC220V 50Hz 10A2、主体构成：铝合金+钣金封闭壳体3、研磨盘驱动电机（主轴）：交流伺服电机4、研磨盘转速（r/min）：5-125rpm5、研磨盘旋转方式：单向：逆时针旋转6、研磨盘直径（mm）：φ381mm7、最大研磨样品尺寸（mm）:100mm/4＂8、摆动研磨工位:3个（含一个蓝牙精确磨抛控制仪工位）9、摆臂驱动电机:永磁直流电机10、摆臂最大摆动次数:10次/min 11、摆臂主动轮驱动电机:步进电机12、主动轮转速:1-100rpm 可调13、搅拌工位:2个14、搅拌桶容积:1.2Lx215、搅拌滴液工位:2个16、悬浮滴液工位:2个17、悬浮液储液瓶容积:500mLx218、排风系统:高速排风系统19、控制方式:一体式控制，PLC编程器+10寸触摸屏备注：1、设备供电为国内标准AC220V 50Hz供电，实际供电以产品后部标牌参数为准.必须有安全可靠保护地线。2、蓝牙功能：蓝牙连接后可进行实时数据反馈，样品研磨到设定尺寸机器自动停止工作。产品规格 20、产品规格：尺寸：1030mmX790mmX1050mm

裕隆时代MCP100精密切抛一体机产品简介 精密切抛机是一款可对样品目标区域进行全方向、多角度精确定位的表面处理工具，特别适合SEM，TEM，AFM和LM观察之前对样品的前处理，主要包括切割﹑抛光﹑冲钻﹑铣削。技术优势 进口高精密轴，样品定位精确稳定。触摸屏全自动操作系统，方便快捷。配备体视镜套装，环形LED照明灯，及切抛压力反馈系统仪器参数 技术参数：※工具轴承转速500-30000rpm可调※工具前后移动范围(马达驱动)30mm，具有开机初始化归位功能工具左右移动范围(手动模式)75mm※工具前进步进精度100um，5um，1um及0.5um可选※切抛压力反馈系统有冷却液流速自动控制，流速1-100ml/min※观察系统参数：体视镜放大倍数20-90X 体视镜标尺12mm，120分格环形LED照明有对样品观察角度0-90°摄像头选配样品臂参数：样品臂倾斜角度±60°样品夹具自由度：0-360°样品切抛参数切割尺寸φ25mm切割精度1-500um抛光尺寸φ25mm抛光砂纸9、3、0.5um电源参数：电源110-240VAC，50/60Hz功率90W尺寸与重量：长宽高重量主机45cm55cm55cm35kg裕隆时代裕隆时代MCP100精密切抛一体机 产品简介 精密切抛机是一款可对样品目标区域进行全方向、多角度精确定位的表面处理工具，特别适合SEM，TEM，AFM和LM观察之前对样品的前处理，主要包括切割﹑抛光﹑冲钻﹑铣削。 技术优势 进口高精密轴，样品定位精确稳定。触摸屏全自动操作系统，方便快捷。配备体视镜套装，环形LED照明灯，及切抛压力反馈系统 仪器参数 技术参数：※工具轴承转速500-30000rpm可调※工具前后移动范围(马达驱动)30mm，具有开机初始化归位功能工具左右移动范围(手动模式)75mm※工具前进步进精度100um，5um，1um及0.5um可选※切抛压力反馈系统有冷却液流速自动控制，流速1-100ml/min※观察系统参数：体视镜放大倍数20-90X体视镜标尺12mm，120分格环形LED照明有对样品观察角度0-90°摄像头选配样品臂参数：样品臂倾斜角度±60°样品夹具自由度：0-360°样品切抛参数切割尺寸 φ25mm切割精度1-500um抛光尺寸φ25mm抛光砂纸9、3、0.5um电源参数：电源110-240VAC，50/60Hz功率90W尺寸与重量：长宽高重量主机45cm55cm55cm35kg

GTI气溶胶专用油PAO-4气溶胶专用油PAO-4（气溶胶原液、检漏仪专用油） PAO（聚-α烯烃）是由乙烯经聚合反应制成α烯烃，再进一步经聚合及氢化而制成。它具有良好的粘温性能和低温流动性，PAO-4在特定情况下会冷凝成小液滴，计数中位径约为0.18um。一般情况高效过滤器的检漏通常采用PAO-4在过滤器上游发生足够浓度的气溶胶后，使用光度计检测过滤器上、下游气溶胶浓度来判定滤器是否泄漏。GTI气溶胶专用油PAO-4吉泰精密仪器

GTI气溶胶专用油PAO-4气溶胶专用油PAO-4（气溶胶原液、检漏仪专用油） PAO（聚-α烯烃）是由乙烯经聚合反应制成α烯烃，再进一步经聚合及氢化而制成。它具有良好的粘温性能和低温流动性，PAO-4在特定情况下会冷凝成小液滴，计数中位径约为0.18um。一般情况高效过滤器的检漏通常采用PAO-4在过滤器上游发生足够浓度的气溶胶后，使用光度计检测过滤器上、下游气溶胶浓度来判定滤器是否泄漏。GTI气溶胶专用油PAO-4吉泰精密仪器

UNIPOL-1204自动精密磨片机，适合医学硬组织切片的研磨，尤其适用于研磨带有嵌入物（金属、陶瓷、塑料、矿物质等）的医学组织切片研磨抛光。自动化磨片，且在磨片过程中对研磨厚度进行实时数字化监测；自动化磨片，且在磨片过程中对研磨厚度进行实时数字化监测；可以对包埋样本进行粘接面的研磨修饰，使其平整，为薄片切割做准备；可以对薄切片进行研磨抛光，达到染色和其它显微分析的要求；高的平整度和精度；压力可调节、厚度实时检测；安全稳定，无噪音，配件耗材更换方便；产品名称 UNIPOL-1204自动精密磨片机产品型号 UNIPOL-1204主要参数 1、电源：220V，500W（不含真空泵）2、磨片最小厚度：≤10μm3、磨片最大尺寸：100×50mm4、初始片厚度：≤1㎜5、数字显示精度：1μm6、进给方式：重力进给（进给量≤0.001mm）7、磨盘转速：10-200rpm8、样品台摆动档位：20档（20种摆动速度）9、磨盘直径：300mm (金刚石磨片或砂纸更换400#、600#、800#、1000#、1500#)10、配重：450g11、样品固定方式：载玻片真空吸附12、设备尺寸：652×700×640mm13、设备重量：70kg

ULTRA TEC切磨抛机 抛磨机ASAP-1选择性区域精密抛磨机每一个实验室都需要一个精确，重复性好的开封 , 背面/正面研磨的机器。这对Flip-chip power chip,PQFP S-CSP, BGA, MCM packagestyles and most otherstyles 器件简便和准确的分析更为重要。 产品特点:* Z 方向精度可达 5 微米 (1 微米为可选件 )。* 适用于各种封装形式和 WAFER 水平,各种尺寸的 DIE。* 机械式开封 (on S-CSP, BGA, flip chip, power device, MCM package styles and most other styles)。* 精确的开封后,再精细研磨。* 简便的操作和使用。* 桌面放置，使用安静，方便。 ULTRAPOL advance样品制备抛磨机新一代的为显微镜或SEM等高科技微细观察进行样品制备的研磨机.它将先进的精密控制和简便操作融于一身,为现代的IC等产品样品制备提供了一个良好的解决方案和系统. 设备主要特点:1 顶部方便快捷的光学对准装置,比其他的和以往的此类机器有了很大的性能提升.2 各种封装 DIE 的截面抛(Cross-sectioning of die) 都可适用.3 各种封装形式和硅片等背面样品制备都可适用.4 SEM Stub Holder 和其他的夹具，很方便地使用.5 可以重复使用些研磨液和冷却剂.6 对于比较难的研磨 (such as the back-thinning of larger flip chips), 设备提供另外的&lsquo Power polish' mode选件. ULTRATRIM 样品切割机ULTRATRIM 样品切割机是一种低成本、初级的精密切割机，主要用于生产快速的横切面为显微镜和质量控制检查。　　该切割机包括一件简单的冷却水储存器,切片下降进入储层进行有效的冷却和润滑刀片。一个精心设计,手动操作的切割平台，使操作起来更加快速方便。该切割机刀片速度可调、设备尺寸小。　产品特点：接受4英寸o.d,以标准化0.5英寸叶片轴安静,强大的电机的速度控制手动工作平台快捷、方便的切削样品&hellip .方便的储藏盒为叶片储存润滑液竞争力的价格。

安徽格楠智能科技有限公司深耕研磨机行业十多年，拥有多项研磨机专利，格楠牌研磨机在用户中有良好的口碑，研发有数控单双面研磨机，数显陶瓷平面研磨机等多种智能研磨机。　　安徽格楠智能科技有限公司是专业生产研磨机、单双面研磨机、数显精密双面研磨机、平面抛光机、金钢石平面磨床、超声波清洗机、内外圆倒角机、小内圆磨床等产品的企业。本公司引进最先进的生产设备和质量检测设备，从原材料的购入、生产、检测、销售全过程的管理均采用严格的质量标准。本公司从创建伊始即以稳定可靠的产品质量、高效科学的管理、诚信优质的服务深受业内关注，在业内拥有良好的口碑，被称为研磨专家。 　　格楠公司拥有先进的生产设备及专业技术工程人员。产品由设计、生产到交付使用，均有经验丰富的技术员直接参与，确保质量，务求精益求精。本公司在全国的销售网络不断拓展和延伸的同时，在同行业中较早采用区域特许经营的模式，本着“务实，诚信，创新，高效”的企业精神和“互利互惠，共同发展”的经营理念，开拓创新，精工细作，铸造高品质品牌研磨机械。我公司以品质为尊、不断拓展、出精品、创名牌，立足国内，走向世界，我们愿以更精湛的技术，更优良的质量，更先进的管理，更满意的服务与您精诚合作共创美好未来。　　格楠公司对外加工陶瓷磨片、瓷管外圆抛光、工程塑料、汽车油泵密封件等。

玻璃毛细管锻针仪（Microforge）锻针仪提供了多种功能，如切割、弯曲、火抛光、前端拉伸、顶部大小修正和形成尖峰等，用来锻造移液管前端、显微注射针、细胞吸附针、玻璃微电极、膜片钳电极、玻璃喷头等。此系列锻针仪（抛光仪）有一个方便使用的微操作器可以用来移动加热器和移液管（玻璃毛细管），并且显微镜的三维操作移动也有对应的微动旋钮控制。单独的垂直和水平运动旋转机制允许移液管放置于需要的角度，并且固定加热器部分的机械装置可以形成所需形状的加工样品。微科精密MPI提供的锻针仪与传统处理手段尺度一样，显微镜的目镜上安装了量角器用来测量微针的角度。加热器的开启和关闭通过脚踏开关控制执行，由于加热器部分已集成到显微镜模块上，使得所有的操作程序行为简单并且准确，保证了质量的可靠性和准确性。锻针仪用于电化学、膜片钳技术研究中探测电极的高阻封接，显微注射操作中玻璃注射针头处理以减少胞内（幼体）物质回流、针头锐化、细胞固定针，动物体外受精吸管的制作等。

东京精密减薄研磨机PG3000RMX为将晶圆减薄到一定厚度,晶圆的图形面会贴上一层保护胶带,然后用磨轮和抛光材料对晶圆背面进行研磨.由于半导体材料用晶圆越来越薄,传统的研磨机已经不能满足使用要求.Accretech的PG系列可以抛光超薄晶圆,和RM系统的连接,可以在下料时给晶圆背面自动贴上切割胶带.实现15um厚度晶圆量产的高度集成化一体机PG3000RMX丰富的选配■NCIG非接触式在线测量和自动TTV控制现在的接触式测量系统可测量包含BG胶带的晶圆厚度.BG胶带的厚度偏差会影响到晶圆厚度的测量精度.比如,如果BG胶带的厚度公差是+/-5μm,如果晶圆的厚度是25um的话,结果会有20%左右的测量偏差.非接触式在线测量系统仅测量晶圆厚度,因此BG胶带的厚度公差可被过滤掉.自动TTV控制功能可以很好的补偿晶圆形状.■EGF(外部电荷聚集功能)当晶圆背面同时进行研磨和应力释放工艺时,被捕获层就被去除掉了.东京精密可用纹理工艺得到电荷聚集层.实现了电荷聚集功能,提高了超薄芯片的抗折强度.■WCS(晶圆清洗系统)东京精密为CMOS图像传感器,LCD驱动器和TSV等提供各种清洗系统.■和激光切割机的集成系统东京精密将激光切割机与研磨机集成为一体机,实现了25um厚度芯片的无损加工.

一、产品概述：SL-1023化学机械磨抛机，适用于 CMP 平坦化和平滑化工艺技术， 整机研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀，配置自动滴料器和精密磨抛控制仪，全自动触摸屏面板，从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。二、设备特点：超平不锈钢抛光盘（平面度为每 25mm×25mm 小于 0.0025mm）。超精旋转轴（托盘端跳小于 0.01mm）。 设有两个加工工位，可分别进行控制。配有全自动控制触摸屏面板，可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。 配置自动滴料器，流量速率可视化调整， 自动研磨和抛光。配置 GPC-100A 精密磨抛控制仪，可调节压力，修整面型，使磨抛更加方便快捷。 研磨部分采用防腐材料，耐化学腐蚀。 三、主要技术指标：安装条件本设备要求在海拔 1000m 以下，温度 25℃±15℃ , 湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及下排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无 4、工作台：尺寸 800mm×600mm×700mm，承重 200kg 以上5、通风装置：不需要主要参数主机部分GPC-100A 精密磨抛控制仪自动滴料器1、电源:220V2、功率:450W3、磨抛盘转速:10-240rpm4、磨抛工位:2 个5、摆臂调节档位:1-15 档6、托盘端跳:0.008/250mm7、不锈钢磨抛盘: φ300mm8、载样盘 : φ 105mm9、修盘环 : φ 127.5mm 1、载样盘直径：Ø 103mm2、载样盘轴向行程：12mm3、数显表精度：0.001mm4、载样盘可调加载压力： 0.1kg-2.1kg5、压力确认仪有效量程： 1g-5000g6、样品装卡方式：真空吸附7、承载样件尺寸：直径≤103mm、厚度≤12mm8、尺寸：外径 146mm，高 266mm SKZD-2 滚筒滴料器1、容积：1.5L2、流量：0-35ml/min3、尺寸：170×290×350mm； 重量：3kgSKZD-4 自动滴料器1、加液泵：4 个2、料液瓶：600ml/瓶3、计时范围：1-999min4、流量：0.1ml/min-10ml/min5、尺寸：230×370×450mm； 重量：10kg 产品规格：尺寸：550mm×700mm×420mm 重量：74Kg