晶片退火炉

实验叉车式快速淬火炉 　　城池牌实验叉车式快速淬火炉又称快速实验淬火炉、实验快速叉车淬火槽、多功能淬火槽等，叉车式快速淬火炉主要由加热炉、小车行进系统、升降系统、淬火槽、搅拌系统、各传感器及控制系统组成。实验叉车式快速淬火炉　　实验叉车式快速淬火炉主要应用于实验室环境下的铝合金、钢材等金属工件进行快速淬火、固溶等热处理之用，目前在在航空、航天、汽车、科研、大专院校、机械制造、船舶及化学工业中已大量应用。实验叉车式快速淬火炉发货　　实验叉车式快速淬火炉有一台箱式电阻炉与一台带小车的淬火槽组合为一个快速淬火生产线，可以根据用户的产量和工艺要求配套几台不同的炉型，炉子的数量和炉型可以自由组合，本生产线可满足不同的生产工艺如：淬火、回火、退火、调质等热处理工艺，炉温有1200℃，950℃，650℃等，每条生产线配有一台快速下水淬火操作车，该操作车可上下、左右、前后六个方向移动，工件热处理完成后，操作车迅速进入炉内将工件从炉膛内叉出，并快速落入水池或淬火槽内，整个过程在1分钟内完成，生产效率高，操作方便，从而保证了工件的淬火质量。 实验叉车式快速淬火炉客户现场　　本淬火炉还可以按照客户要求定作为叉车式快速淬火炉且具体结构简单，直接布置在地面，无需做地基，布置位置可以根据车间规划来重新布置。温度均匀性好，淬火速度快等优点深受用户喜爱。欢迎来电来函订购。

蓝宝石晶片(Sapphire Substrate Discs)蓝宝石晶片由高纯度透明蓝宝石（Al2O3单晶）经双面抛光制得。由于蓝宝石的光学穿透带很宽，从300nm-4500nm都有很好的透光性。晶片是薄膜研究和光学研究的很好基底（衬底）。蓝宝石晶片具有宽范围的抗化学腐蚀，表面可以抛光到微英寸级别。尺寸和厚度偏差±0.025mm，平整度0.0008mm或更高。 订购信息：货号产品描述规格TP-16005-1Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.020"片TP-16005-2Sapphire Substrate Disc, ?0.5" x 0.040" 片TP-16005-3Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.020" 片TP-16005-4Sapphire Substrate Disc, ?0.75" x 0.040" 片TP-16005-5Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.010" 片TP-16005-6Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.020" 片TP-16005-7Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.040" 片TP-16005-8Sapphire Substrate Disc, ?1" x 0.125" 片

晶片切割工具包划线和切割是获得晶片最佳横断面的关键步骤，这套工具适合多种材料的基板和晶圆（硅，砷化镓,玻璃）。标配如下：l 笔式钻石刻刀一把l 直头钻石刻刀一把l 30度斜角钻石刻刀一把l 光纤镊一把)l 晶圆切割钳一把.l 钢尺一把l 钨线l 赠送30X45cm操作垫订购信息：货号产品描述规格7642晶片切割工具包套

参数：硅/二氧化硅（90纳米）晶圆（4英寸直径，N型）氧化物厚度：90纳米颜色：紫色晶片厚度：450微米电阻率：1-10欧姆厘米类型/掺杂剂：氮方向： 100 前表面：抛光背面：蚀刻Parameter:Silicon/Silicon Dioxide (90 nm) Wafers (4" Diameter, n-type)Oxide Thickness：90 nmColor：VioletWafer Tickness：450 μmResistivity：1-10 ohm-cmType/Dopant：NOrientation：100Front Surface：PolishedBack Surface：Etched

1.晶片镊子晶片镊子主要用来拿取精细易脆的硅晶片、光盘、玻片等。Style 2WA: 6.5mm (0.25") B: 5.0mm (0.20") C: 2.5mm (0.10") D: 4.0mm (0.15"货号产品描述规格78410-2WEMS 2W 把 Style 2WFCPRTips are made of PEEK/CF30.These tips offer gently holding wafers.Replacement tips are available. A: 0.25&rdquo (6.6mm) B: 0.41&rdquo (2.0mm) C: 0.08&rdquo (2.0mm) D: 0.14&rdquo (3.5mm) E: 0.18&rdquo (4.5mm)货号产品描述规格78410-2WFCEMS 2WFCPR支78410-2WFRReplacement tips setSet 2.陶瓷镊子Ceramic Tweezers 陶瓷分传统陶瓷和高级陶瓷，传统陶瓷包括粘土、水泥和玻璃等 高级陶瓷包括纯的或部分改良的比如氧化铝或氧化锆陶瓷。陶瓷的一般特性：绝缘绝热、比金属和塑料更强的抵御高温和恶劣环境的能力，硬但很脆。EMS在制造精密工具的时候，选用的是高级陶瓷材料：氧化锆和氧化铝的混合物（ZTA），从而使陶瓷工具的韧性和强度都大大增强。陶瓷镊子非常适合有酸性液体（HF除外）的工作环境，比如SDM、焊接、高温等场合。Zirconia Toughened Alumina (ZTA):特性高强度和硬度的有机结合 表面硬度高，抗磨损 优异的抗热性能和高温稳定性 电力绝缘超强的抗腐蚀性能，几乎是惰性的 良好的抗弯抗断裂性能 低密度、高孔隙率 Style 8501 Straight, tips 1mm wide, serrated. Length: 5" (125mm)货号产品描述规格78126EMS Ceramic Tweezers 8501支 Style 8501 FGGStraight, tips 0.3mm wide, smooth, very fine. Length: 5" (125mm)货号产品描述规格78122EMS Ceramic Tweezers 8501 FGG支

所属类别：? 晶体 ?铌酸锂晶体所属品牌：美国CTI公司美国Crystal Technology公司提供掺MgO铌酸锂晶片（MgO:LN）。 由于没有光折变损伤，具有高纯度与高损伤阈值的掺氧化镁铌酸锂晶体能够承受的光强比一般的非掺杂纯铌酸锂晶体高几百倍。由于MgO的浓度对晶体的性能有很大的影响。因此，需要对MgO浓度进行严格的控制。应用：电光调制器、太赫兹生成、倍频产生蓝/绿光

晶圆加持工具PEEK晶片夹，用于手持式检查晶圆的工具。PEEK晶片夹、硅片镊子可在260C温度下长期使用，在高温下能保持较高的强度，尺寸稳定性较好，线胀系数较小，同时耐滑动磨损和微动磨损、低摩擦系数等性能优异，用PEEK晶片夹夹取晶圆、硅片的时候，不会对晶圆、硅片的表面产生划痕，不会因摩擦而对晶圆、硅片产生残留物，从而提高了晶圆、硅片的表面洁净度。

窗口镜片,激光窗口镜片,镀膜窗口镜由孚光精仪进口，孚光精仪是中国领先的进口光学器件服务商！增透镀膜窗口镜片采用精准镀膜工艺，在某些波长上可以达到剩余反射率几乎为零的优质增透镀膜。镀膜窗口镜镀膜的波段可达190nm--10.6um. 激光窗口镜片采用了离子束溅射技术（Iom Beam Sputtering, IBS)或电子束蒸发技术进行镀膜，这些镀膜技术非常成熟，并且采用多层镀膜技术可以镀膜窗口镜适合高功率应用。激光窗口镜片,镀膜窗口镜镜技术参数 基片尺寸公差：+0/-0.1mm 基片波前畸变：基片表面质量：20/10 SD 镀膜粘附性和耐久性：Per MIL-C-675A 净孔径：90% 剩余反射率：R0.2% 激光损伤阈值：8J/cm2 for 10 ns pulses @1064nm射 The measured residual back reflection curve for AR coating (R0.2% @ 1030 nm)请根据如下格式填写您对激光窗口镜片,镀膜窗口镜的要求发送给我们： Substrate material基片材料 Shape形状RectangularRound Dimensions尺寸mm Thickness厚度mm Central wavelength中心波长nm Coating deposited on单面或双面镀膜One side onlyBoth sides Angle of incidence (AOI)入射角deg Surface figure L/4 L L/2 L/8 Surface quality20/1040/2060/40 Parallelism error10arcsec1arcmin3arcmin WedgeNo wedge30arcmin1deg2deg3deg Comments

晶片清洗培养皿，用于导电玻璃，硅片，晶片腐蚀性清洗，要求的是没有杂质溶出，本产品采用的是PFA材质，本底值低，化学耐受性好，耐受强酸强碱，低金属杂质析出，无污染实验样品和清洗的硅片，晶片等。PFA的产品可定制，欢迎选购。

太阳能电池硅片清洗花篮PFA四氟清洗花篮 ITO、FTO导电玻璃、硅片PFA清洗架、F4硅片花篮 品牌：瑞尼克型号：RNKHL加工定制：是 用途：清洗 别名：花篮、承载篮 用于半导体硅片,晶片,玻璃,液晶屏等清洗、腐蚀设备的承载花篮，太阳能电池片花蓝、太阳能硅片花蓝_太阳能硅片承载器、光伏电池片花蓝、光伏硅片花蓝，用于太阳能电池硅片清洗设备中,用于承载方形太阳能电池硅片，材质为PFA，本产品即在100℃以下的NaOH溶液、HCl溶液、HF等溶液中对硅片进行清洗、转换，且长期使用不变形、不污染硅片.目前的尺寸有，6寸25片、4寸25片，2寸25片的清洗花篮，单梁双梁提手，目前花篮形式有很多种，我公司也是可以定制方形，圆形晶片清洗花篮。

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基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100 前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

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硅/二氧化硅晶片（5片）Wafers - Silicon/Silicon Dioxide Wafer常用石墨烯基底硅/二氧化硅（90纳米）晶片（4英寸直径，N型）氧化物厚度：90纳米颜色：紫色晶片厚度：450微米电阻率：1-10欧姆厘米类型/掺杂剂：氮方向： 100 前表面：抛光背面：蚀刻

这些擦布适用于清洁各种光学镜片，如物镜、双筒镜、放大镜、眼镜以及光纤长丝。光学镜片擦镜纸长度×宽度 包装规格 包装规格 VWR目录号100×150 mm 25×25片 625VWRI111-5004 80×100 mm 1×500片 500VWRI111-5003 更多规格请与美同达联系

低群延迟色散镜片/分光镜波长：375nm-1100nm反射/透射比:50%-50%、30%-70%等 GDD = 0 ± 10 fs2低群延迟色散镜片标准尺寸：25.4 mm x 3.0 mm 不支持定制

我公司提供OPTOLITA公司生产的镜片，材料为BK7，FS，UV FS，LiF，MgF2,CaF2,BaF2,Al2O3,ZnS,Cu,Ge等。质量可靠，性价比高。

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基于SiO2/Si晶片的CVD石墨烯/CVD六方氮化硼异质结石墨烯/h-BN薄膜的性质：单层h-BN薄膜上的单层石墨烯薄膜转移到285nm（p掺杂）SiO2/Si晶片上尺寸：1cmx1cm 4片装每个薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的覆盖率约为98％薄膜是连续的，有小孔和有机残留物高结晶质量石墨烯薄膜预先单层（超过95％），偶尔有少量多层（双层小于5％）薄层电阻：430-800Ω/平方石墨烯薄膜以及h-BN薄膜通过CVD方法在铜箔上生长，然后转移到SiO2/Si晶片上。硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米 型号/掺杂剂：P /硼方向：100前表面：抛光背面：蚀刻

马弗炉,高温炉，箱式炉，台车炉，退火炉，管式炉，升降路中的热电偶有K型、S型、R型 B型…等等不同规格,两种不同成份的导体（称为热电偶丝材或热电极）两端接合成回路，当接合点的温度不同时，在回路中就会产生电动势，这种电动势称为热电势。热电偶就是利用这种原理进行温度测量的，其中，直接用作测量介质温度的一端叫做工作端（也称为测量端），另一端叫做冷端（也称为补偿端）；冷端与显示仪表或配套仪表连接，显示仪表会指出热电偶所产生的热电势。 热电偶测温的应用原理 热电偶是工业上zui常用的温度检测元件zhi一。其优点是： 测量精度高。因热电偶直接与被测对象接触，不受中间介质的影响。 测量范围广。常用的热电偶从-50~+1600℃均可边续测量，某些特殊热电偶zui低可测到-269℃（如金铁镍铬），zui高可达+2800℃（如钨-铼）。 构造简单，使用方便。热电偶通常是由两种不同的金属丝组成，而且不受大小和开头的限制，外有保护套管，用起来非常方便。 热电偶实际上是一种能量转换器，它将热能转换为电能，用所产生的热电势测量温度，对于热电偶的热电势， 应该注意以下基本概念： 热电偶的热电势是热电偶两端温度函数的差，而不是热电偶两端温度差的函数； 热电偶所产生的热电势的大小，当热电偶的材料是均匀时，与热电偶的长度和直径无关，只与热电偶材料的成份和两端的温差有关； 当热电偶的两个热电偶丝材料成份确定后，热电偶热电势的大小，只与热电偶的温度差有关；若热电偶冷端的温度保持一定，这热电偶的热电势仅是工作端温度的单值函数。 　 常用热电偶丝材及其性能 １、铂铑10-铂热电偶（Ｓ型，也称为单铂铑热电偶）Orton使用的就是这种热电偶 该热电偶的正极成份为含铑10%的铂铑合金，负极为纯铂；它的特点是： 热电性能稳定、抗氧化性强、宜在氧化性气氛中连续使用、长期使用温度可达1300℃，超达1400℃时，即使在空气中、纯铂丝也将会再结晶，使晶粒粗大而断裂； 精度高，它是在所有热电偶中，准确度等级zui高的，通常用作标准或测量较高的温度； 使用范围较广，均匀性及互换性好； 主要缺点有：微分热电势较小，因而灵敏度较低；价格较贵，机械强度低，不适宜在还原性气氛或有金属蒸汽的条件下使用。 2、镍铬-镍硅（镍铝）热电偶（Ｋ型） 该热电偶的正极为含铬10%的镍铬合金，负极为含硅3%的镍硅合金（有些国家的产品负极为纯镍）。可测量0～1300℃的介质温度，适宜在氧化性及惰性气体中连续使用，短期使用温度为1200℃，长期使用温度为1000℃，其热电势与温度的关系近似线性，价格便宜，是目前用量zui大的热电偶。 Ｋ型热电偶是抗氧化性较强的jian金属热电偶，不适宜在真空、含硫、含碳气氛及氧化还原交替的气氛下裸丝使用；当氧分压较低时，镍铬极中的铬将择优氧化，使热电势发生很大变化，但金属气体对其影响较小，因此，多采用金属制保护管。 Ｋ型热电偶的缺点： 热电势的高温稳定性较Ｎ型热电偶及贵重金属热电偶差，在较高温度下（例如超过1000℃）往往因氧化而损坏； 在250～500℃范围内短期热循环稳定性不好，即在同一温度点，在升温降温过程中，其热电势示值不一样，其差值可达2～3℃； 负极在150～200℃范围内要发生磁性转变，在室温至230℃范围内分度值往往偏离分度表，尤其是在磁场中使用时往往出现与时间无关的热电势干扰； 长期处于高通量中系统辐照环境下，由于负极中的锰(Ｍn)、钴(Ｃo)等元素发生蜕变，使其稳定性欠佳，致使热电势发生较大变化。 3、镍铬硅-镍硅热电偶（Ｎ型） Orton的低温膨胀仪上使用的就是这种热电偶 该热电偶的主要特点是：在1300℃以下调温抗氧化能力强，长期稳定性及短期热循环复现性好，耐核辐射及耐低温性能好，另外，在400～1300℃范围内，Ｎ型热电偶的热电特性的线性比Ｋ型偶要好；但在低温范围内（-200～400℃）的非线性误差较大，同时，材料较硬难于加工。 4、铂铑30-铂铑6热电偶（Ｂ型） 该热电偶的正极是含铑30%的铂铑合金，负极为含铑6%的铂铑合金，在室温下，其热电势很小，故在测量时一般不用补偿导线，可忽略冷端温度变化的影响；长期使用温度为1600℃，短期为1800℃，因热电势较小，故需配用灵敏度较高的显示仪表。 Ｂ型热电偶适宜在氧化性或中性气氛中使用，也可以在真空气氛中的短期使用；即使在还原气氛下，其寿命也是Ｒ或Ｓ型的10～20倍；由于其电极均由铂铑合金制成，故不存在铂铑－铂热电偶负极上所有的缺点、在高温时很少有大结晶化的趋势，且具有较大的机械强度；同时由于它对于杂质的吸收或铑的迁移的影响较少，因此经过长期使用后其热电势变化并不严重、缺点价格昂贵。

THz反射镜片

单镜片轻质眼镜，带透明聚碳酸酯镜片。? 防刮/防雾涂层? 模制护眉? 软鼻垫? 软橡胶边撑垫重量：25.5 gEN 166, EN 170 1 FT

天津欧捷科技代理销售斯派克产品配件耗材电极刷 80009001石英护套 48207006石英护套 48207013透明镜片 48303014

石英舟最高工作温度可达1200℃，专用于晶片退火，可放置?2"、?3"、?4"、?6"的晶片。 产品型号石英舟技术参数尺寸：420mm×80mm×40mm、300mm×60mm×28mm、100mm×60mm×26mm、100mm×45mm×20mm，分　　　别可放置?2"、?3"、?4"、?6"的晶片，最多可放置25片

Femtosecond Laser Optics-飞秒激光光学镜片Besides our customer specific products we can offer you various standard products from stock.

常规单模光学整形镜片： 光束成形元件是衍射光学元件（DOE），用于将近高斯入射激光束转换成在特定工作平面中边缘清晰的圆形，矩形，正方形，直线或其它形状的均匀强度的斑点。均匀强度的斑点能够对表面进行相同的处理，此外，斑点的特征在于在处理区域和未处理区域之间形成清晰的边界。光束整形有以下几种： 焦点波束成形：混合元件（透镜）或模块，在特定工作距离（镜头的BFL或模块出口位置到TOP-HAT平面的距离）上给出TOP-HAT强度分布。 角度光束成形：光学元件（窗口），可以在无穷远或无像差镜头的焦距下产生TOP-HAT强度分布。M-Shaper：在扫描线上均匀曝光的光学元件（窗口）

产品介绍 使用这些高质量无绒布的纸巾，可以快速、方便地清洁玻璃和塑料镜片。• 不含硅胶• 不会划伤玻璃或塑料镜片• 一包180张• 每张10.8 x 11.4厘米

Superfrost Plus载玻片经过特殊处理，用于冷冻组织切片和细胞制备应用，无需使用特殊的粘合剂和蛋白涂层。通过静电方式将组织切片结合到载玻片上，基本上可以防止在染色期间出现任何脱落。在这些载玻片上进行细胞制备可防止在酶消化、DNA变性和RNA混合期间出现细胞损失。载玻片还能提高微波染色期间的组织粘合效果。对载玻片进行逐个选择，保证质量一致。其四个侧面上均有精密研磨边缘，并经过退火处理，可最大限度减少碎裂。纤薄且扁平，具有抗腐蚀或抗雾性。在载玻片上进行永久性正电荷结合新鲜冷冻组织切片和细胞制备90°磨纱片和彩色磨砂端，用于贴标用于2-5μm厚的组织切片在这些载玻片上进行细胞制备可防止在酶消化、DNA变性和RNA混合期间出现细胞损失。载玻片还能提高微波染色期间的组织粘合效果。对载玻片进行逐个选择，保证质量一致。其四个侧面上均有精密研磨边缘，并经过退火处理，可最大限度减少碎裂。纤薄且扁平，具有抗腐蚀或抗雾性。通过静电方式将组织切片结合到载玻片上，基本上可以防止在染色期间出现任何脱落。 厚度 颜色 长度×宽度 包装规格 VWR目录号1 mm White 75×25 mm 72 VWRI631-0108 1 mm 白色 75×25 mm 72 VWRU48311-703 1 mm Blue 75×25 mm 72 VWRI631-0446 1 mm 粉红色 75×25 mm 72 VWRI631-0447 1 mm Yellow 75×25 mm 72 VWRI631-0448 1 mm Green 75×25 mm 72 VWRI631-0449