激光光刻机

无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸：925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源：375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度：500mm/s重复精度： 100nm晶圆写取面积：1—6英寸衬底厚度：250微米-10毫米激光点大小：1-100微米准直精度：500nm

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

超快非晶硅激光刻膜机配件是特别为太阳能产业光伏工业而设计的整套晶圆激光加工系统。可用于光伏电池激光加工,去除氮化硅膜氮化硅膜蚀刻,晶圆边缘隔离，有可以当作激光刻膜机,激光划片机使用。 提供如下四合一服务：SiNx/SiO2去除,去除二氧化硅,去除氮化硅 边缘隔离晶圆 背接触激光烧结和激光刻槽 激光打标 其中紫外飞秒激光用于SiNx/SiO2的选择性烧蚀或切除(氮化硅膜蚀刻),配备的紫外飞秒激光可以非常精密地剥蚀SiNx(去除氮化硅膜),同时在Si层的直接或热效应降低到最低，从而增加载流子寿命（少子寿命）,避免微裂纹。而配备的1064nm的纳秒激光工作非常稳定而快速，将用于晶片的快速激光边缘隔离，激光打标和激光烧结。 非晶硅激光刻膜机配备自动处理和扫描系统，支持5’’和6’’直径的硅晶片加工。同时配备机械视觉系统以随时调节激光束扫描,保持高度重复性和可靠性。配1级激光安装防护装置和灰尘消除系统，营造无尘加工环境，以保证飞秒激光的精密烧蚀和热效应影响的最小化。 非晶硅激光刻膜机配件特色 配备的激光器处理能力高达800个晶片/小时或350000px/s 加工量为425个晶片/小时,优化后可用于2.5MW/a产品的生产线 适用5' ’和6' ' 硅晶片 紫外飞秒激光和红外纳秒激光光源 机械视图系统可调节激光扫描场 精密激光光束定位 激光划线激光剥蚀激光熔化 为用户提供了无银敷金属技术生产太阳能电池 成功地装配到生产能力高达2.5MWp/a的生产线上。 使用飞秒激光对晶圆wafer的发射端进行介电层（SiNx)的选择性移除。SiNx厚度为50-90nm,覆盖发射端，必须精确移除而不伤害发射层。一种应用是消蚀SiNx层的同时，也产生bus bars和fingers开口，下一步,这些开口将被镍覆盖，这样就形成了高质量的前接触。它使用振镜扫描器控制激光束切割发射端，独具的机械视图功能能够探测晶圆位置。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机； 7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

产品特点采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机，365nm波长直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件全自动化的对焦和套刻，易于使用晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um 套刻精度： 0.2um500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟500um最小线宽可灰度曝光（128阶）尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间 通用参数应用 微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作 教学、科研 参数MCML-110AMCML-120AWavelength 波长365nm365nmMax. frame 最大帧100mm x 100mm 100mm x 100mmResolution 分辨率1.0um500nmGrayscale lithography灰度光刻64 levels128 levels Max exposure最大曝光量500mJ/cm22000mJ/cm2Alignment accuracy对准精度200nm100nmfield curvature场曲率 1 um 1 umSpeed速度5mm2 /sec2.5mm2 /secInput file输入文件BMP, GDSIIBMP, GDSIIZ level accuracyZ级精度1 um1 umEnvironment环境20~25℃20~25℃ 样品

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型： 1.紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。 3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件：密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）

Femtosecond Laser Optics-飞秒激光光学镜片Besides our customer specific products we can offer you various standard products from stock.

ML4515 M2激光光束质量分析仪1秒内的M2激光光束质量分析仪是用于测量连续及脉冲激光光束质量参数M2的。它运用高分辨率数字摄像头精确的测定激光光束直径。 beamlux II高级软件包里新M2模块评测出M2为± 3%精度。为预调整产品且易于匹配。当高测量率 5Hz时，激光的测试，调整及优化都可在线进行。规格 CW-扫描测量激光线的整套系统CW扫描系统包括beamlux II CW扫描软件，ML3743摄像头，ML8010电机控制器及一个线型工作台。 FM100焦点监测器适用于高功率密度激光光束及激光光斑FM 100焦点监测器是一个小型光束质量分析仪系统，它由标准ML3743摄像头，ML1201 beamlux II 高级软件及高功率衰减器组成。可高精度地评估高达100W的激光光束及激光光斑。中性密度滤光镜可轻易的变换，以便降低功率来适应CCD摄像头的标准（滤光轮可选）。放大率在5x, 10x, 20x的近场透镜适用于Nd Yag和准分子激光器。特点高功率激光器适用高功率密度激光光斑适用紧凑型装置中性密度滤光镜可互换高放大倍数及高数值孔径的近场透镜规格

日本Ushio 公司是全球领先的半导体光刻设备光源供应商，占有最大份额。 特点： ◆生产工艺精湛； ◆产品稳定性高； ◆具有长寿命高光强维持率。 应用： ◆ASML、CANON、Ultratech、Nikon等大型光刻机； ◆Suss、NXQ等小型光刻机。

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

特点：• 用于亚微米精细结构加工、掩膜板制作、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 高分辨率、高对比度、优异的结构稳定性，可用于亚微米精 细结构的加工旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于掩膜板制作、精细结构加工、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 可得到非常薄且均匀的膜• 高灵敏度、高分辨率• 良好的粘附能力，可用于耐干法和湿法刻蚀工艺 旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

410nm/413nm 2W 多模光纤耦合激光器系统/多模尾纤激光系统产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-413-002-M中心波长：413nm 功率：0~2W可调光纤类型：多模光纤光纤芯径：400um数值孔径：0.22N.A.光纤长度：＞80cm光纤接口：FC-PC/FC-APC/SMA905/SC/LC/ST,输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin, 15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

本系列其它产品型号 共3条 名称货号货期 描述参数Bristol 671A-IR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 1-5um671A-IRD80010016波长范围：1-5um；激光类型：连续波和准连续波（重复频率10 MHz）； 测量精度：± 0.0002 nm @ 1000 nm；测量速率：4Hz；最大带宽：1GHz； 光学输入：准直光束 2-3mm直径孔径工作波长: 1-5µ m Bristol 671B-NIR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 520-1700nm671B-NIR-FC/UPCF80010048波长范围：NIR 520-1700nm；激光类型：连续波和准连续波（重复频率10 MHz）； 测量精度：± 0.0008 nm @ 1000 nm；测量速率：10Hz；最大带宽：10GHz； 光学输入：预对准FC/UPC工作波长: 520-1700nm Bristol 671A-NIR 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计 520-1700nm671A-NIR-FC/UPCF80010049波长范围：NIR 520-1700nm；激光类型：连续波和准连续波（重复频率10 MHz）； 测量精度：± 0.0002 nm @ 1000 nm；测量速率：4Hz；最大带宽：1GHz； 光学输入：预对准FC/UPC工作波长: 520-1700nm 总览Bristol Instruments的671系列激光波长计使用经验证的基于迈克尔逊干涉仪的技术来精确测量从可见光到中红外的连续激光的波长有两种版本可供选择。 671A型是精确的，测量波长的精度为±0.2百万分之一（1000 nm时为±0.0002 nm）。对于不太严格的实验，671B型是一种价格较低的替代品，精度为±0.75百万分之一（1000 nm时为±0.0008 nm）为了保证波长测量的准确性，671激光波长计采用内置HeNe激光器进行连续校准。这是一个理想的参考源，因为它的波长是众所周知的，并且是由基本原子结构固定的。为了实现高精度，671A系统使用单频HeNe激光器，该激光器使用精确的平衡纵模技术进行稳定。在型号671B中，使用标准的HeNe激光器作为波长参考。Bristol 671系列 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计,Bristol 671系列 高精度激光光谱分析仪及高精度波长计通用参数产品优点波长精度高达±0.0001 nm。使用内置波长标准进行连续校准。可在375 nm至12μm范围内进行操作。方便的预对准光纤输入，波长高达2.6μm。自由空间光圈输入，具有红外/中红外波长的可见对准辅助功能。使用USB或以太网直接操作电脑。提供显示软件，用于控制测量参数和报告波长数据。使用自定义或LabVIEW编程的自动数据报告消除了对专用PC的需求。方便的平板电脑/智能手机应用程序可在实验室的任何地方报告测量数据。 五年保修涵盖所有零件和劳动。型号671A671B激光类型连续波和准连续波（重复频率10 MHz）波长波长范围VIS: 375 - 1100 nmNIR: 520 - 1700 nmNIR2: 1 - 2.6 μmIR: 1 - 5 μmVIS: 375 - 1100 nmNIR: 520 - 1700 nmNIR2: 1 - 2.6 μmIR: 1 - 5 μmMIR: 1.5 - 12 μm精度 1，2± 0.2 ppm ± 0.0002 nm @ 1000 nm± 0.002 cm-1 @ 10,000 cm-1± 60 MHz @ 300,000 GHz± 0.75 ppm (± 1 ppm for MIR) ± 0.0008 nm @ 1000 nm± 0.008 cm-1 @ 10,000 cm-1± 225 MHz @ 300,000 GHz重复性 3、4、5VIS/NIR/NIR2: 0.03 ppm (0.03 pm @ 1000 nm) IR: 0.06 ppm (0.2 pm @ 3 μm)0.1 ppm (0.1 pm @ 1000 nm)标定连续内置稳定单频HeNe激光器连续内置标准HeNe激光器显示分辨率9 digits8 digits单位 6nm, μm, cm-1, GHz, THz功率 (VIS / NIR) 7校准精度± 15%分辨率(Resolution)2%单位mW, μW, dBm光输入信号最大带宽81 GHz10 GHz最小输入9、10VIS: 10 - 500 μWNIR: 5 - 225 μWNIR2: 125 - 500 μWIR: 65 - 750 μWMIR: 120 - 925 μW测量速率4 Hz (VIS / NIR / NIR2) 2.5 Hz (IR)10 Hz (VIS / NIR/ NIR2) 2.5 Hz (IR / MIR)输入/输出光学输入11VIS/NIR：预对准FC/UPC或FC/APC连接器（芯径9μm）-可选自由光束到光纤耦合器NIR2：预对准FC/UPC或FC/APC连接器（芯直径7μm）-可选自由光束到光纤耦合器IR/MIR：准直光束，2-3mm直径孔径，可见示踪光束，便于对准仪表接口USB和以太网接口，带有基于Windows的显示程序和基于浏览器的显示应用程序使用任何PC操作系统进行自定义和LabVIEW编程的命令库（SCPI）计算机要求 12运行Windows 10的电脑，1 GB可用RAM，USB 2.0（或更高版本）端口，显示器，定点设备环境 10预热时间 15 minutesNone温度|压力|湿度+15°C to +30°C (-10°C to +70°C storage) | 500 – 900 mm Hg | ≤ 90% R.H. at + 40°C (no condensation)尺寸和重量尺寸（高x宽x深）13VIS / NIR / NIR2: 5.6” x 6.5” x 15.0” (142 mm x 165 mm x 381 mm) IR / MIR: 7.5” x 6.5” x 15.0” (191 mm x 165 mm x 381 mm)重量14 lbs (6.3 kg)功率要求90 - 264 VAC, 47 - 63 Hz, 50 VA max担保5 Years (parts and labor) （1） 定义为测量不确定度或最大波长误差，置信度≥99.7%。（2） 可追溯到公认的物理标准。（3） 对于671A，仪器达到热平衡后10分钟测量周期的标准偏差。（4） 对于671B，仪器达到热平衡后1分钟测量周期的标准偏差。由于HeNe参考激光器的纵向模式漂移引起的长期测量变化小于±0.4 ppm。（5） 波长分辨率大约是可重复性的两倍。（6） 以nm、μm和cm-1为单位的数据以真空值的形式给出。（7） NIR2、IR和MIR版本不测量绝对功率。强度计显示相对功率。（8） 带宽为FWHM。当带宽较大时，波长精度会降低。（9） 特定波长下的灵敏度可以从671系列产品详细资料手册中提供的图表中确定。（10） 特性性能，但无担保。（11） IR和MIR要求的光束高度为5.4±0.25“。（12） 用于基于Windows的显示程序。与SCPI的接口可以使用任何PC操作系统来完成。（13） IR和MIR仪器高度可调（7.25±0.25“），用于校准。Bristol Instruments保留根据需要更改规格的权利，以改进其产品的设计。 规格如有更改，恕不另行通知 公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年,是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m² 的办公区域，建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来,依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器）气体激光器（HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器）光纤激光器（连续激光器、超短脉冲激光器）光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪，激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机

特点：• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 高分辨率、高对比度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

473nm/475nm/480nm 20mW 保偏光纤耦合激光器系统/ 保偏尾纤激光系统/产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-473-020m-PM中心波长：473nm功率：0~20mW可调光纤类型：保偏光纤光纤芯径：3um数值孔径：0.12N.A. 光纤接口：FC-PC/FC-APC对齐方向：慢轴对齐消光比：upto 20dB输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统自动电流控制 (ACC控制) 威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。 威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin, 15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

Negative PhotoresistsPositive PhotoresistsResist RemoversResist DevelopersEdge Bead RemoversPlanarizing, Protective and Adhesive CoatingsSpin-On Glass CoatingsSpin-On Dopants曝光应用特性对生产量的影响i线曝光用粘度增强负胶系列在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮（Polyioprene-Bisazide）的负胶。在湿刻和电镀应用时超强的粘附力；很容易用去胶液去除。 单次旋涂厚度范围如下：﹤0.1～200 μm可在i、g以及h-line波长曝光避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势：控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁单次旋涂即可获得200 μm胶厚厚胶同样可得到优越的分辨率150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间优异的感光度进而增加曝光通量更快的显影，100 μm的光刻胶显影仅需6 ～ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡可将一种显影液同时应用于负胶和正胶不必使用增粘剂如HMDSg和h线曝光用粘度增强负胶系列

658nm/660nm/665nm 1W 多模光纤耦合激光器系统/多模尾纤激光系统产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-660-001-M中心波长：660nm 功率：0~1W可调光纤类型：多模光纤光纤芯径：105um数值孔径：0.22N.A.光纤长度：＞80cm光纤接口：FC-PC/FC-APC/SMA905/SC/LC/ST,输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin, 15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

658nm/660nm/665nm 3W 多模光纤耦合激光器系统/多模尾纤激光系统产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-660-003-M中心波长：660nm 功率：0~3W可调光纤类型：多模光纤光纤芯径：300um数值孔径：0.22N.A.光纤长度：＞80cm光纤接口：FC-PC/FC-APC/SMA905/SC/LC/ST,输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin,15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

445nm/450nm/455nm 50mW 保偏光纤耦合激光器系统/ 保偏尾纤激光系统产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-445-050m-PM中心波长：445nm功率：0~50mW可调光纤类型：保偏光纤光纤芯径：3um数值孔径：0.12N.A. 光纤接口：FC-PC/FC-APC对齐方向：慢轴对齐消光比：upto 20dB输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统自动电流控制 (ACC控制) 威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin, 15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

445nm/450nm/455nm 40mW 保偏光纤耦合激光器系统/ 保偏尾纤激光系统产品型号和主要参数如下：产品型号：WSLS-445-040m-PM中心波长：445nm功率：0~40mW可调光纤类型：保偏光纤光纤芯径：3um数值孔径：0.12N.A. 光纤接口：FC-PC/FC-APC对齐方向：慢轴对齐消光比：upto 20dB输入电压：90V～240VAC内置TEC制冷系统自动电流控制 (ACC控制) 威创激光可以提供的激光产品波长范围: 375nm~1920nm，包含单模激光二极管、多模激光二极管，光纤耦合激光模块、光纤耦合激光器系统、医疗激光模块、RGB白光激光器等，光纤类型：单模光纤、多模光纤、保偏光纤可选，可以根据客户的要求进行特殊定制（波长/功率/封装/光纤类型/光纤芯径等），如有需求 欢迎商洽！威创激光可以提供波长选择：375nm, 395nm,405nm, 445nm/450nm, 465nm, 488nm, 495nm, 505nm/510nm, 515nm/520nm/525nm, 633nm, 635nm/638nm/640nm/642nm, 650nm/658nm/660nm, 670nm, 685nm/690nm, 705nm, 730nm, 755nm/760nm/770nm, 780nm/785nm, 795nm, 800nm/808nm/810nm, 820nm/830nm, 840nm/850nm/860nm, 880nm, 905nm,915nm, 940nm, 976nm/980nm, 1060nm/1064nm, 1210nm, 1270nm, 1280nm, 1290nm, 1310nm, 1330nm, 1350nm, 1370nm, 1390nm, 1410nm, 1430nm, 1450nm, 1470nm, 1490nm, 1510nm, 1530nm, 1550nm, 1570nm, 1590nm, 1610nm, 1625nm, 1650nm, 1720nm, 1900nm, 1920nm．威创激光可以提供产品类型包含：单模激光二极管，多模激光二极管，单模光纤耦合激光二极管／单模尾纤激光器，单模保偏尾纤激光二极管／单模保偏光纤耦合激光器，多模光纤耦合激光模块／多模尾纤激光二极管，光纤可插拔激光模块／激光二极管，准直激光模组，RGB白光光纤耦合激光模块，RGB白光光纤耦合激光器系统，光纤耦合激光器系统，３波长光纤耦合激光器系统，３通道光纤耦和激光器，用于CTP印刷使用的405nm激光二极管／激光模块等。威创激光可以提供产品封装类型包含：TO18, TO5,C-mount, TO3, E-mount, H-mount, COS, 2-pin, 4-pin, 9-pin, 8-pin, 11-pin, 15-pin等。威创激光可以提供产品光纤芯径包含：3um, 4um, 5um, 6um, 9um, 10um, 25um, 40um, 50um, 60um, 62.5um, 105um, 200um, 400um, 600um, 800um, 1000um等。

功能概述：用于透射电镜、扫描电镜、聚焦离子束、电子束光刻机、电子束焊接机、电子束3D打印、电子束蒸镀等领域；主要性能：真空范围：≤2.7 x 10∧-7Pa，温度范围：1750～1850K，针尖曲率半径：0.4~0.9um

HSQ (Hydrogen Silsesquioxane Polymers) 是⼀ 种半导体级纯度的氢倍半硅氧烷聚合物。作为半导体⾏ 业的⼀ 种重要材料应⽤ 于超⾼ 分辨EUV光刻、电⼦ 束光刻，以及作为旋涂玻璃层（SOG）应⽤ 于半导体⾏ 芯⽚ 表⾯ 平坦化层和介电层以及中间层等。为了满⾜ 各位⽼ 师对⾼ 品质电⼦ 束光刻胶的需求，汇德信与加拿⼤ AQ Materials建⽴ 深度合作关系，旨在为各位⽼ 师提供灵活且易于存储的H-SiOx（HSQ）超⾼ 分辨率电⼦ 束负胶产品。AQM开发了⼀ 种⽅ 便且通⽤ 的⽅ 法来合成电⼦ 级倍半硅氧烷基（由硅和氧核，H-SiOx组成）树脂。这类聚合物/树脂是⼀ 款超⾼ 分辨率的电⼦ 束负胶⽤ 于纳⽶ 电⼦ 器件制造过程。我们的H-SiOx聚合物具有最佳的分⼦ 量，可以在普通有机溶剂（例如甲苯和甲基异丁基酮）中制成均匀的溶液，获得⾼ 质量薄膜。可以获得具有⼩ 于10 nm半周期（视光刻胶厚度）的密集图案。 图1 H-SiOx粉末，便于存储产品特点： 图2 H-SiOx制成的菲涅⽿ 波带⽚ ①成膜性好高分辨率（10 nm特征尺寸）优异的线条边缘粗糙度良好的耐干蚀刻性能粉末形式可灵活配制不同厚度在20°C下具有非常长的保存周期（粉末形式）H-SiOx具有与经典HSQ相同的超⾼ 分辨率和优异的耐⼲ 法刻蚀能⼒ 。但相⽐ 于经典HSQ产品以粉末形式存储，保质期更⻓ ，可根据应⽤ 灵活配置浓度获得不同胶厚的薄膜。可使⽤ 通⽤ TMAH显影液或者盐显影液进⾏ 显影⼯ 艺，分别可获得⾼ 灵敏度（对⽐ 度约为4.8）或低灵敏度⾼ 对⽐ 度（约为8.7）的结果②，可满⾜ 不同应⽤ 场景的需求。为了更好的服务⼴ ⼤ 客户，我们针对H-SiOx产品采取粉末形式交货，延⻓ 产品的使⽤ 寿命，客户可根据⾃ ⼰ 的实际膜厚需求配置，为⽅ 便⼤ 家使⽤ ，我们免费赠送MOS级MIBK溶剂，以及过滤器，⽅ 便客户使⽤ ！ 关于H-SiOx超⾼ 分辨率电⼦ 束负胶产品，如果您有任何问题或者需要产品资料，请随时联系我们！参考文献：① Application of HSQ electron beam resist for silicon photonic applications, courtesy of Applied Nanotools Inc.② https://doi.org/10.1116/1.5079657

深紫外调Q激光器IMPRESS 213应用布拉格光纤光栅的制作波长敏感的过程立体光刻显示器维修微加工半导体检验双倍氩离子激光器的频率更换光荧光测量 特性非常短的紫外波长激光二极管泵浦槽安装的激光二极管优良的光束轮廓高功率脉冲超低维护成本“绿色光子学”24 / 7连续的工业应用模型IMPRESS 213波长213 nm平均功率150 mW脉冲持续时间 7 ns单位脉冲能量 15 μJ重复率0.1-30 kHzM2 1.6 IMPRESS 224应用布拉格光纤光栅的制作氩离子激光器的频率更换微材料加工＜1μm拉曼光谱光荧光波长敏感的过程特征非常短的紫外波长激光二极管泵浦密封外壳机动5HG位移槽的激光二极管模块优良的光束轮廓RS-232接口超低维护成本24 / 7连续的工业应用模型IMPRESS 224波长224 nm平均功率300 mW脉冲持续时间 9 ns单位脉冲能量 30 μJ重复率0.1-30 kHzM2 1.6

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs， 放大器280fs)，飞秒激光器具有更高的平均功率（振荡器高达2W, 放大器为6W），而且激光重复频率可调，计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs， 放大器280fs)，飞秒激光器具有更高的平均功率（振荡器高达2W, 放大器为6W），而且激光重复频率可调，计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺• 可替代SU8胶 旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514