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激光光刻机
仪器信息网激光光刻机专题为您提供2024年最新激光光刻机价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括激光光刻机参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的激光光刻机您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合激光光刻机相关的耗材配件、试剂标物,还有激光光刻机相关的最新资讯、资料,以及激光光刻机相关的解决方案。
激光光刻机相关的方案
氦质谱检漏仪光刻机检漏
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
氦质谱检漏仪电子束光刻机检漏
上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件, 通信设备等多个领域的研发及生产. 经过伯东推荐采购氦质谱检漏仪 ASM 310 用于电子束光刻机腔体检漏.
MicroWriter ML3无掩膜激光直写光刻机制备分子微纳机电芯片,助力新冠病毒快速检测
由于许多疾病相关生物标志物的浓度超低,所产生的信号往往会被其他高浓度分子所产生的信号所干扰,因此从生物流体中进行超低浓度样品(每100 μ L中有1到10份)的检测一直是医学/生物分析领域的一个难题。近日,复旦大学魏大程教授课题组使用小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3制备了基于石墨烯场效应管的分子微纳机电芯片解决了这一难题。所制备的芯片实现了对低浓度离子,生物分子和新冠病毒(每100 μ L中有1到2份)的快速检测。使用该芯片对新冠病毒进行检测时,仅需鼻咽样本即可,无需RNA提取和核酸扩增,四分钟内就可得到检测结果。相关研究论文已在国际知名期刊《Nature Biomedical Engineering》(IF=25.7)上发表。
小型台式无掩膜光刻机助力开发新型晶体管实现新冠肺炎快速筛选
在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断方法包括血清学和病毒核酸测试,主要是以分析逆转录聚合酶链反应作为金标准,此方法在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求,因此,亟需发展一种快速的监测方法应对新冠疫情。近期,复旦大学魏大程教授课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可灵敏且快速的实现新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向新冠病毒核酸的两个目标基因区域:ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出限(0.03份μ L− 1)。这一检出限比现有的核酸分析低1-2个数量,可避免混检过程中样本病毒载量较低而产生漏网之鱼,实现的混合测试。该传感器也具有快的检测速度,快的核酸检测速度约为1分钟。由于快速、超灵敏、易于操作等特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的应用前景。
纳米粒子光刻需要高度有序的粒子沉积
考虑使用纳米微球光刻技术的人都会很快注意到制备胶体掩膜的一些问题。乍一看,似乎在固体基底上获得纳米颗粒只是将固体浸入到纳米粒子溶液中。对于某些应用来说,这种做法可能是正确的,但对于纳米微球的光刻技术来说,这几乎是不可能成功的。如果要想形成均匀的单层纳米颗粒,则需要一个可控性更好的制备技术。LB膜沉积技术则是首选的方法。
应用MALDI-8030检测光刻胶中酚醛树脂的分子量
本文应用基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪(MALDI-TOF)对光刻胶样品进行分析,采用反-2-[3-(4-叔丁基苯基)-2-甲基-2-亚丙烯基]丙二腈(DCTB)基质,在正离子模式下进行数据采集,结果显示,在m/z 1-3600范围内,检测到一系列不同聚合度的质谱峰,相邻质谱峰平均相差约120 Da,与酚醛树脂单体-(C8H8O)n-分子量相符,聚合物质谱分布模式与酚醛树脂理论结构式相符。结果表明MALDI-TOF适用于光刻胶中酚醛树脂的分子量表征和合成情况确认,分析过程具有无需复杂前处理、分析速度快、分析成本低的特点。
红外光谱法分析光刻胶的主成分
光刻胶是微电子制造的核心材料之一,具有极高的技术壁垒,其成分配方工艺对光刻产品的性能具有重大影响。本文探索建立红外光谱定性分析光刻胶主要成分的方法,通过测试烘干光刻胶溶剂前后的红外光谱图,结合标准谱库和官能团分析等手段,可获得光刻胶中主要成分信息。该法具有分析速度快、操作简单、成本低和结果可靠等优势,可作为分析光刻胶成分的手段之一。
液体颗粒计数器在光刻胶检测中的应用
检测仪器:电子级光刻胶的级别判定有线宽、金属杂质、颗粒数和大小,4个指标。其中颗粒检测用的是液体颗粒计数器。采用光散射法的原理来对光刻胶里的粒子大小和多少进行检测。通常会检测0.1um、0.2um、0.3um、0.5um这4个粒径值。普洛帝测控PMT-2 光刻胶液体颗粒计数器,可以测高粘度和低粘度的光刻胶。在光刻胶行业里有一定的应用。
通过激光直写技术制造光子设备:SEM如何作出贡献
光子设备被广泛应用于自然科学中,用于制造,操作和探测光。在未来,制造先进的光子设备将是一种挑战,并需要灵活性和可调谐性。因为它们需要先进的三维光刻技术, 制造这些设备并非易事。激光直写技术(DLW)是一种有趣的方式,它的目标是运用液态晶体光刻胶作为感光材料。
使用 Agilent 7500cs ICP-MS 直接分析光刻胶及相关溶剂
本文介绍了一种使用反应池电感耦合等离子体质谱分析光刻胶的简单方法。利用配备高灵敏度八极杆反应池系统 (ORS) 的 Agilent 7500cs ICP-MS 分析光刻胶中的所有元素。ORS 消除了 B、Mg、Al、K、Ca、Ti、Cr、Fe 和 Zn 等元素测量时的所有等离子体和基质多原子离子干扰,否则这些干扰物质将限制标准四极杆ICP-MS 在本应用中的操作。在样品前处理过程中,只需用合适的溶剂将光刻胶样品(30% 树脂)稀释10 倍,然后即可利用 7500cs 直接进行分析
液体颗粒计数器在光刻胶颗粒管控中的应用
为了减少光刻胶中的颗粒数量,我们可以采取以下措施:1. 选择质量优良的光刻胶,并在使用前进行严格的的质量检测,确保光刻胶的颗粒数量在允许范围内。2. 确保操作环境清洁,定期进行环境清洁和检测,使用无尘手套等工具,减少环境中的颗粒对光刻胶的污染。3. 采取正确的操作流程,如使用前对光刻胶进行充分搅拌、储存和运输,确保光刻胶的质量稳定。4. 使用滤网、滤芯等过滤设备,对光刻胶进行过滤,进一步减少光刻胶中的颗粒数量。光刻胶中的液体颗粒管控方案,对于提高芯片的质量和性能有着重要的作用。通过选择优质的光刻胶、保持操作环境的清洁、采取正确的操作流程,以及使用过滤设备等措施,可以有效减少光刻胶中的颗粒数量,提高产品的质量和性能。希望这个短视频能帮助大家更好地了解光刻胶中的液体颗粒管控方案。
利用MProbe Vis系统进行光刻胶厚度测量
使用MProbe-Vis系统可以轻松测量光刻胶厚度。实际上,任何光刻胶都可以快速可靠地测量:烧结或部分烧结,薄的或厚的。尽管如此,第一次测量可能会令人困惑——光致抗蚀剂的类型和处理条件多种多样。本应用说明试图通过烧结和两个部分烧结的光致抗蚀剂样品来阐明测量过程。使用500nm-1000nm波长范围进行光致抗蚀剂测量,以最小化吸收的影响。
MC方案:实时监控由于环境光暴露引起的光刻胶膜的光谱灵敏度
通常,普通光刻胶的光谱灵敏度范围从DUV到光谱的短波VIS部分。 如果没有合适的黄色/橙色滤光片,人造光和日光都会在几秒钟内使涂有光刻胶层的基材曝光,从而使可重复的光刻工艺变得不可能。 在我们的研究中,研究了在显微镜玻璃上涂覆的?3μ m厚的AZ5214光致抗蚀剂上的标准室内曝光量。
液体颗粒计数器在光刻胶纯度判定中的应用
在半导体制造这一科技前沿领域,光刻胶作为连接设计与制造的桥梁,其纯度的微小波动都可能对最终芯片的性能产生深远影响。因此,采用先进的液体颗粒计数器进行检测,成为了确保光刻胶质量不可或缺的一环。
TDLAS半导体激光光源测氨气浓度(NH3)
TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)它是利用激光器波长调制通过被测气体的特征吸收区,在二极管激光器与长光程吸收池相结合的基础上,发展起来的新的气体检测方法。TDLAS技术采用的半导体激光光源的光谱,宽度远小于气体吸收谱线的展宽,得到单线吸收光谱,因此TDLAS技术是一种高分辨率吸收光谱技术。
MC方案:光刻胶溶解的实时监测
为了优化半导体和光子器件的图形制作工艺,对光刻胶溶解过程的表征进行了不断的研究。溶出度的实时监测可为此类表征提供必要的信息。在本应用中,通过使用FR-Pro VIS/NIR和FR液体附件,对标准显影剂(AZ726MIF)中的抗蚀剂(AR-N7520.18)薄膜的溶解过程进行实时监控。
LCMS-QTOF用于光刻胶中感光树脂轮廓分析
树脂是光刻胶的主要成分之一,本文采用岛津高效液相色谱—四极杆飞行时间质谱联用系统,建立了光刻胶中酚醛树脂的轮廓分析方法。光刻胶原液经四氢呋喃稀释,C18色谱柱分离,LCMS-QTOF正负离子模式同时采集,LabSolutions Insight Explore软件解析。结果显示,该树脂正离子模式以[M+NH4]+、[M+Na]+为主,负离子为[M-H]-峰,是一种以甲酚或二甲酚为起始,二甲酚或三甲酚为延长单元的聚合物,端聚合度(DP)2-10。该方法灵敏度高,分离度好,适用于光刻胶树脂成分分析。
以C8氧化物为燃料的类柴油射流结构的激光光谱研究
采用LaVision公司的高速激光器和高速图像增强器IRO构成的高速图像成像测量系统研究了以C8氧化物为燃料的类柴油射流结构的激光光谱。
动态激光光散射仪表征pH对蛋白质复合物稳定性和均匀性的影响
动态激光光散射仪(Dynamic light scattering,DLS)测量蛋白及其及其聚集状态,纳米颗粒,囊泡等流体力学半径。使用标准比色杯测试。
共聚焦显微镜+光刻胶+形状
共聚焦显微镜和干涉仪是常用的表面形状测量仪器,具有无损,高精度等特点。然而对于基板上的透明薄膜的凹凸形状,对于较薄的膜(1um上下),测量是受到基板反射光的影响,会导致测量失败。如,在测量Si晶圆上的光刻胶的形状时。为解决上述问题,我们推荐反射分光法,测量光刻胶的膜厚,从而得到表面形状信息。
液体颗粒计数器解决高粘度光刻胶检测方案深度剖析
在微纳米制造领域,高粘度光刻胶作为精密图形的关键转移媒介,其纯净度直接关系到最终产品的性能与良率。针对这一挑战,我们精心设计了基于先进液体颗粒计数器的检测方案,旨在精准捕捉并量化光刻胶中的微小颗粒,确保生产过程的无瑕衔接。
QCM-D研究光刻蚀分解
光响应高分子(光刻胶)材料被广泛的应用于工业处理,如电子器件和刻蚀。他们对光敏感,并且大量使用在表面上。本文主要采用QCM-D技术对光响应高分子的性能进行了研究。
准分子激光器及离子激光器在FBG刻写方向上的应用
在FBG以及其他布拉格光栅刻写领域,先锋科技可提供深紫外准分子激光器、深紫外连续激光器、深紫外准连续脉冲激光器以及超快直写平台。无论是掩膜干涉刻写、全息刻写、深紫外直写、超快直写,先锋科技都可为您提供性能优越稳定、使用成本优化的激光器
螺栓检测应用方案——手持式LIBS激光光谱仪
除了通过提高螺栓材料的强度和韧性改善螺栓的寿命和使用性能外,成品螺栓的检测方法也是影响高强度螺栓可靠性的重要因素。Calibus 5手持式激光光谱仪是一种新型的成品检测技术,可以解决目前市场上出售的螺栓配件质量良莠不均,假冒伪劣配件鱼目混珠以及库房混料管理的问题。
瑞典百欧林:光刻胶薄膜的溶涨性能研究
采用具有耗散功能的石英晶体微天平(QCM-D)和红外光谱技术研究了不同类型光刻胶薄膜的溶涨性能及其影响因素。
如何在光刻胶产线用液体颗粒计数器检测固态粒子粒径方案
摘要:在光刻胶产线中,液体颗粒计数器的应用对于监控和控制固态粒子的粒径至关重要。以下是使用液体颗粒计数器检测固态粒子粒径的详细步骤。光刻胶检测一般采用实验室离线监测的方式。
ATAGO爱拓多波长阿贝折光仪 DR-M4 应用于半导体光刻胶折射率检测
在微电子制造中,光刻胶是一种重要的材料,用于制作芯片上的微笑结构,光刻胶的折射率对于芯片制造过程中的图案精度和成像效果有着重要的影响 。 因此,在实际应用中,需要选择适合类型与参数的光刻胶,以获得最佳的成像效果。
采用热扫描探针光刻和激光直写相结合的方法快速制备点接触量子点硅基晶体管
1、高分辨和高直写精度 (XY: 高可达10nm, Z: 1nm)以及高直写速度(20mm/s 与EBL媲美);2、实时形貌探测的闭环刻写技术;3、无需标记拼接与套刻;4、避免对基底材料的损害;5、使用和维护成本低,易操作.
准连续突发模式运行激光用于高速激光照明平面成像
采用一种特殊的激光光源,该光源工作在准连续模式之下。采用光纤振荡器和半导体泵浦的固体放大器。激光器线宽2 GHz@1064.3 nm。10K赫兹重复频率下单脉冲能量达到150 mJ,三倍频输出的354.8 nm用于举升甲烷/空气火焰中激发甲醛,实现高速平面激光诱导荧光测量。突发式工作总脉冲数为100 和 200 幅顺序图像(分别运行在10K和20K赫兹重复频率下)。获得非稳定流体-火焰相互作用的动态图像信息。
液体颗粒计数器对光刻胶的颗粒管控
SJ/T 11638 电子化学品中颗粒的测试方法ISO 21501.2-2007 DETERMINATION OF PARTICLE SIZE DISTRIBUTION SINGLE PARTICLE LIGHT INTERACTION METHODS PART 2 LIGHT SCATTERING LIQUID-BORNE PARTICLE COUNTER本标准规定了用激光粒子计数法测定液体电子化学品中颗粒的方法。本标准适用于液体电子化学品中颗粒的连续式或单次检测计数,测定的粒径有0.1μ m-1.0μ m可选。测定的电子化学品的颗粒浓度为(0-10000)每毫升/个,其他粒径的可参考执行。
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