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  • 赛默飞宣布将亮相首届中国国际进口博览会 创新科技及数字化解决方案服务众多垂直市场
    2018年10月11日,上海——科学服务领域的世界领导者赛默飞世尔科技(以下简称:赛默飞)近日宣布将携众多新品亮相于2018年11月5日至10日在上海举办的首届中国国际进口博览会。届时,赛默飞将全面展示其在医疗健康、制药与生物制药、环境监测以及食品安全领域的前沿技术以及数字化解决方案,并借此平台,与政府、企业、科研机构等行业内的众多合作伙伴展开交流,进一步践行赛默飞“扎根中国,服务中国”的郑重承诺。中国是赛默飞最重要的市场之一,赛默飞在中国已经发展了超过35年。在此期间,从供应、生产到研发,本地化的发展战略让赛默飞更好地洞察本土市场的需求,从而得以用全球领先的技术和解决方案,加速本土科学研究、解决研发挑战,提高实验室生产力,助力中国在医疗健康、制药与生物制药、环境监测以及食品安全等众多重点行业的转型和发展。赛默飞大中华区总裁艾礼德(Tony Acciarito)表示:“中国国际进口博览会的举办为赛默飞在科学领域的前沿技术以及数字化解决方案提供了一个绝佳的展示机会——我们非常期待通过这一平台,向中国乃至全世界展示我们在科学领域的创新成果,践行赛默飞帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全的使命。”此次大会,赛默飞在医疗器械及医药保健展区设置了一个近500平米的展台,共分为五大区域,包括产品展示区、热点新闻区、签约区、互动区以及公司介绍区。在产品展示区,此次赛默飞带来的众多产品中不乏如Thermo Scientific™ Orbitrap ID-X™ 、Ion GeneStudio S5、Invitrogen Qubit 4 Fluorometer、Thermo Scientific™ Q Exactive™ 等逾30种重磅新品,它们将以突破性的功能、灵活便捷的设计、高效而稳定的操作体验向在场观众展现赛默飞在医疗健康、制药与生物制药、环境监测以及食品安全领域的创新基因和研发硬实力。同时,现场还设置了热点新闻区,可以帮助观众进一步了解这些产品在我们实际生活中发挥的强大作用。赛默飞展台除了产品展示区,三大互动专区也是本次赛默飞展台的亮点之一。观展人员可以在现场的快检驿站、VR体验区等进行一系列互动,亲自感受赛默飞解决方案在日常生活中的应用。互动专区让观展人员能够深度体验赛默飞的尖端科技创新成果,一起探索科技创新如何改变我们的生活。首届中国国际进口博览会帮助赛默飞搭建了连通国内外政府、展商、客户、行业专家的桥梁,为赛默飞本土化的实践提供更多可能。赛默飞将继续坚持“扎根中国,服务中国”的战略,积极和本土合作伙伴展开更深层的合作,为更健康、更清洁、更安全的中国贡献力量。 关于赛默飞世尔科技赛默飞世尔科技(纽约证交所代码:TMO)是科学服务领域的世界领导者。公司年销售额超过220亿美元,在全球拥有约70,000名员工。我们的使命是帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。我们帮助客户加速生命科学领域的研究、解决在分析领域所遇到的复杂问题与挑战,促进医疗诊断发展、加速药物上市进程、提高实验室生产力。借助于首要品牌Thermo Scientific、Applied Biosystems、Invitrogen、Fisher Scientific和Unity Lab Services,我们领先结合创新技术、便捷采购方案和全方位服务。欲了解更多信息,请浏览公司网站:www.thermofisher.com关于赛默飞世尔科技中国赛默飞世尔科技进入中国发展已超过35年,在中国的总部设于上海,并在北京、广州、香港、成都、沈阳、西安、南京、武汉、昆明等地设立了分公司,员工人数约为4500名。我们的产品主要包括分析仪器、实验室设备、试剂、耗材和软件等,提供实验室综合解决方案,为各行各业的客户服务。为了满足中国市场的需求,现有8家工厂分别在上海、北京、苏州和广州等地运营。我们在全国还设立了6个应用开发中心,将世界级的前沿技术和产品带给中国客户,并提供应用开发与培训等多项服务;位于上海的中国创新中心结合中国市场的需求和国外先进技术,研发适合中国的技术和产品;我们拥有遍布全国的维修服务网点和特别成立的中国技术培训团队,在全国有超过2400名专业人员直接为客户提供服务。我们致力于帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。欲了解更多信息,请登录网站:www.thermofisher.com媒体垂询:赛默飞世尔科技高赫公共关系经理电子邮件:Sura.gao@thermofisher.com电话:(86-21) 6865 4588-2695公关公司爱德曼国际公关艾云飞电子邮件:Levin.ai@edelman.com电话:(86-21) 6193 7536?
  • 半导体情报,科学家提出室温下的氧化铟三维垂直集成新方法!
    【科学背景】三维垂直集成技术是当今集成电路领域的研究热点,通过在单一衬底上堆叠多层器件,可以实现高密度、能效高且低成本的集成电路。然而,开发可扩展的三维薄膜晶体管(TFT)集成工艺面临诸多挑战。传统的制造方法如晶片-晶片结合存在低功率密度、高温处理及缺乏标准化等问题,限制了其广泛应用。为了克服这些挑战,沙特阿卜杜拉国王科技大学Saravanan Yuvaraja,Xiaohang Li等人合作在“Nature Electronics”期刊上发表了题为“Three-dimensional integrated metal-oxide transistors”的研究论文。科学家们提出了在室温下在硅/二氧化硅衬底上单片式三维集成氧化铟(In2O3)TFT的方法。这种方法与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容,能够堆叠多达十层的n型通道In2O3 TFT,并制造不同结构的器件,包括底栅、顶栅和双栅TFT。研究结果显示,双栅器件表现出优异的电性能,如最大场效迁移率达到15 cm2 V&minus 1 s&minus 1,亚阈摆幅为0.4 V dec&minus 1,开关比高达108。通过在不同位置单片集成双栅In2O3 TFT,科学家们还成功创建了具有高信号增益和良好噪声裕度的单极反相器电路。尽管在本研究中尚未制造垂直互连访问,但提出了潜在的制造方法,有望减少制造复杂性。这一研究为三维集成电路技术的发展提供了新的思路和解决方案,推动了在低成本、高效能集成电路领域的进一步探索与应用。【科学亮点】(1)实验首次在室温下实现了单片式三维垂直集成的氧化铟(In2O3)薄膜晶体管(TFT),采用了与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容的方法。(2)实验通过堆叠十层n型通道的In2O3 TFT,在不同层次制造了底栅、顶栅和双栅TFT,展示了多种结构的器件。作者的研究结果表明,双栅TFT器件在电性能上表现出显著的提升,包括最高达到15 cm2 V&minus 1 s&minus 1的场效迁移率、0.4 V dec&minus 1的亚阈摆幅和高达108的开关比。(3)通过在不同位置单片集成双栅In2O3 TFT,作者成功创建了具有约50的信号增益和优良噪声裕度的单极反相器电路。这些双栅器件还允许微调反相器,以实现对称的电压传输特性和最佳的噪声裕度。【科学图文】图1: 氧化铟In2O3薄膜晶体管thin-film transistor,TFT的3D单片集成。图2. 制造垂直集成在10-S器件中的单个薄膜晶体管TFT的工艺步骤及其结构和元素分析。图3. 器件特性。图4. 使用垂直集成的In2O3 薄膜晶体管TFT制造的电压反相器电路和操作特性。图5. 可配置反相器电路的特性图。图6. 基准图表。【科学结论】本文探索并实现了在室温下将氧化铟(In2O3)薄膜晶体管(TFT)单片式三维集成的方法,这一创新不仅突破了传统集成电路制造的温度限制,还展示了可与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺兼容的技术路线。通过这一方法,研究团队成功在硅/二氧化硅(Si/SiO2)衬底上堆叠了多达十层的In2O3 TFTs,实现了各种不同结构的设计。实验结果显示,这些器件具有优异的电性能,包括高达15 cm2 V&minus 1 s&minus 1的场效迁移率、仅为0.4 V dec&minus 1的亚阈摆幅以及高达108的开关比,为未来高密度、能效高且低成本的集成电路提供了新的可能性。特别值得关注的是,通过在不同层次单片集成双栅In2O3 TFT,研究团队成功创建了性能优越的单极反相器电路,展示了高达50的信号增益和优异的噪声裕度。这不仅突显了三维垂直集成技术在电子器件设计中的潜力,还为实现更复杂、功能更强大的集成电路奠定了基础。参考文献:Yuvaraja, S., Faber, H., Kumar, M. et al. Three-dimensional integrated metal-oxide transistors. Nat Electron (2024). https://doi.org/10.1038/s41928-024-01205-0
  • 高能同步辐射光源超导腔垂直测试性能达标
    近日,高能同步辐射光源(HEPS)加速器部高频系统张沛研究团队研制的166 MHz超导腔和500 MHz超导腔在先进光源技术研发与测试平台(PAPS)成功完成了低温下的垂直测试,结果优于HEPS的设计指标,为下一步超导槽腔的研制和超导腔的批量制造奠定了坚实的基础。 测试结果表明:在4.2 K温度下,166 MHz超导腔的加速电压达到1.5 MV时,其品质因数Q0值超过3.8E+9;500MHz超导腔的加速电压达到2.0 MV时,其品质因数Q0值超过3.0E+9。两个频段的超导腔均采用缓冲化学抛光(BCP)处理,测试结果均优于HEPS的设计指标。 166 MHz超导腔是国际上首台用于加速光速粒子(beta=1)的四分之一波长(QWR)主动型超导腔,具有结构复杂、高阶模式频率低、微波功率高等挑战。在2017-2019年HEPS-TF阶段成功研制的超导原型腔的基础上,新腔采用扩大束管实现腔内高阶模式深度抑制的全新设计方案,以满足储存环严格的阻抗要求。设计上,在保持腔结构紧凑的同时,实现了高频参数和机械参数的优化;在制造过程中,与北京高能锐新公司的技术人员联合攻关,解决了大尺寸复杂结构加工和焊接的一系列技术难题;在腔的后处理过程中,成功消除了复杂腔体结构中酸液流速不均导致的酸洗纹路,大幅改善了超导腔的内表面质量。 500 MHz超导腔在BEPCII备用腔成功研制的基础上,根据HEPS的要求进行了机械结构的进一步优化。与北京高能锐新公司的技术人员联合攻关,解决了大尺寸椭球腔冲压、焊接等一系列技术难题;在腔的后处理过程中,与宁夏东方超导公司的技术人员进行联合攻关,通过细致的仿真计算和多轮实验验证,最终确定了优化的酸洗结构,显著改善了超导腔的内表面质量。 HEPS 166 MHz超导腔和500 MHz超导腔垂直测试结果HEPS 166 MHz超导腔和500 MHz超导腔垂直测试结果

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  • 玻璃塑形吹气压力自动控制解决方案

    玻璃塑形吹气压力自动控制解决方案

    [color=#ff0000]摘要:玻璃制品吹塑成型工艺中,始终存在人工吹气和机器吹气气压不稳造成成品一致性差、成品率不高等问题。为解决这些问题,本文提出了一种吹气气压全自动控制解决方案,使得吹气气压可以按照设定曲线进行快速和精密控制,可大幅提高生产效率和产品良率。[/color][size=18px][color=#ff0000]一、问题的提出[/color][/size]玻璃是一个非结晶无定形固体,玻璃制品在加工过程中需要加热软化和吹塑成型,但目前的吹塑成型工艺存在以下几方面的问题需要解决:(1)在目前大多数通过人工用嘴吹气方式向玻璃制品的内部进行吹气的吹塑成型工艺中,需要依靠人力用管吹气然后将熔融的玻璃液塑形。这种工艺方法极大增加了生产者的负担,容易使得生产者因脑部缺氧而产生晕眩,同时降低了工作效率。这种工艺所生产的成品一致性差,且成品率不高,同时对于玻璃制品的生产周期延长,不利于广泛的推广和普及。(2)在玻璃瓶成型工艺中,由于风从吹塑管出来后一直作用于玻璃瓶的瓶底,吹塑气压不够均匀,会导致玻璃瓶成型后瓶底厚薄不一,同时现有的自动吹塑装置在吹塑过程中会出现气压不稳定的情况,不具备自动稳压的功能,导致玻璃瓶质量层次不一。分析现有玻璃制品的吹塑成型工艺可以发现,整个吹塑过程是一个典型的小型密闭空间内的气压变化过程,如果可以精密控制这个气压变化过程,并总能准确重复这个气压变化过程,即可实现玻璃制品吹塑工艺的自动化和质量可靠性,大幅提高成品率和缩短生产周期。本文针对玻璃制品吹塑成型工艺中存在的上述问题,提出了一种吹气气压全自动控制解决方案,吹气气压可以按照设定曲线进行快速和精密控制,由此大幅提高生产效率和产品良率。[size=18px][color=#ff0000]二、技术方案[/color][/size]玻璃塑形吹气压力自动控制的基本原理是按照需要快速控制一个密闭空腔内的气压,用此气压来代替人工吹气时的压力变化。整个控制装置的结构如图1所示。[align=center][img=玻璃塑形吹气压力自动控制,500,386]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/05/202205111628124420_8460_3384_3.png!w690x533.jpg[/img][/align][align=center]图1 玻璃塑形吹气压力自动控制装置结构示意图[/align]吹气压力自动控制装置主要包括腔体、电动针阀、压力传感器、PID控制器和高压气源。腔体内的压力精密控制采用动态控制法,即根据压力传感器的测量值与设定值的比较,PID控制器同时调节进气流量和排气流量,使得腔体内的压力快速达到动态平衡,将压力控制在设定值上。设定值可以是一个不随时间变化的压力恒定点,也可以是根据玻璃吹塑工艺要求设计出来的压力随时间变化的曲线,以此来满足不同压力要求。总之,通过此技术方案,可实现玻璃塑形吹气压力的自动精密控制,并可保证控制精度和重复性,以此保证产品质量和稳定性。[align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align]

  • 低温超导测试系统中实现高精度液氦压力控制的解决方案

    低温超导测试系统中实现高精度液氦压力控制的解决方案

    [color=#ff0000]摘要:针对目前两种典型低温超导测试系统中存在的液氦压力控制精度较差的问题,本文提出了相应的解决方案。解决方案分别采用了直接压力控制和流量控制两种技术手段和配套数控阀门,结合24位AD和16位DA的超高精度的PID真空压力控制器和压力传感器,大幅提高了液氦压力控制精度,最终实现低温超导性能的高精度测试。[/color][color=#ff0000][/color][color=#ff0000][/color][align=center][img=低温超导测试系统中实现高精度液氦温度控制的解决方案,690,411]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/01/202301031120120633_4214_3221506_3.jpg!w690x411.jpg[/img][/align][align=center]~~~~~~~~~~~~~[/align][size=14px][/size][size=18px][color=#ff0000][b]1. 项目概述[/b][/color][/size] 各种超导部件如超导磁铁和超导腔体在装机前都需要在低温超导测试系统中对其性能进行测试,为了使超导部件达到低温环境则需要将被测部件浸泡在液氦介质内,并采用低温杜瓦盛装液氦介质。在整个测试过程中,对低温测试系统内的液氦压力要求极高,即要求杜瓦顶部氦气压强(绝对压力)有极好的稳定性,否则会导致测试不稳定,给测试结果带来严重误差。 目前国内现有的很多低温超导测试系统都存在液氦压力控制不稳定的严重问题,有些客户提出了相应的技术升级改造要求。 如图1所示的低温超导测试系统中,采用了两个不同口径的第一和第二泄压阀来粗调和细调液氦压力,但这种调节方法的液氦压力只能控制在1.2~1.6Bar范围内,对应4.39~4.74℃范围的液氦温度变化,造成0.35℃的温度波动。目前客户提出要设法将温度波动控制在0.1℃以内或更高的稳定性上,以提高超导部件性能测试精度。[align=center][color=#ff0000][b][img=超导试件测试时氦压控制系统,500,356]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/01/202301031123466941_8802_3221506_3.jpg!w690x492.jpg[/img][/b][/color][/align][align=center][color=#ff0000][b]图1 低温超导测试系统液氦压力控制装置[/b][/color][/align] 如图2所示的高场超导磁体低温垂直测试系统,其压力控制范围1~1.3Bar,尽管在图2所示系统中采用了液氦加热器来改变液氦压力,但由于压力控制阀的调节精密度不够,最终造成压力控制精度远达不到测试要求,客户也提出了技术改造要求。[align=center][b][color=#ff0000][img=高场超导磁体低温垂直测试系统,400,557]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/01/202301031123146762_3661_3221506_3.jpg!w522x728.jpg[/img][/color][/b][/align][align=center][b][color=#ff0000]图2 高场超导磁体低温垂直测试系统[/color][/b][/align] 针对上述两种典型低温超导测试系统中存在的液氦压力控制精度不足的问题,本文将提出相应的解决方案。解决方案将分别采用直接压力控制和流量控制两种技术手段和配套数控阀门,结合超高精度的PID真空压力控制器和压力传感器,可大幅度提高液氦压力控制精度,最终减小低温超导性能测试误差。[b][size=18px][color=#ff0000]2. 解决方案[/color][/size][/b] 在图1和图2所示的两种典型低温超导测试系统中,它们各自的液氦压力变化起因不同,因此要实现液氦压力准确控制的技术手段也不同。以下是解决方案中对应的两种不同技术途径。[b][color=#ff0000](1)直接压力调节法[/color][/b] 在图1所示的低温超导测试系统中,造成液氦蒸发的因素并不可控,只能通过调节液氦上方的氦气压力来使得测试系统保持稳定。因此,为了实现液氦上方的压强控制,解决方案采用了直接压力调节法,如图3所示,即采用数控压力控制阀代替图1中的第一和第二泄压阀。此压力控制阀与高精度PID控制器和压力传感器构成闭环控制回路,实现自动泄压和高精度压力控制。[align=center][color=#ff0000][b][img=纯压力控制结构,500,350]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/01/202301031124390427_8017_3221506_3.jpg!w690x483.jpg[/img][/b][/color][/align][align=center][color=#ff0000][b]图3 直接压力调节法控制装置结构[/b][/color][/align] 数控压力控制阀是一种数控正压减压控制阀,正好可以满足低温超导测试系统的微正压控制需求。通过氦气源和减压阀提供的驱动压力,可在控制阀出口处实现高精度的压力控制,同时还保持很小的漏气以节省氦气。 另外,此数控压力控制阀具有很高的控制精度,结合高精度的压力传感器和PID真空压力控制器,可将液氦压力控制在0.1%的高精度水平。[b][color=#ff0000](2)流量调节法[/color][/b] 在图2所示的低温超低测试系统中,其不同之处之一是具有液氦加热器,即通过液氦加热器和压力控制阀构成的控制回路可进行不同液氦压力的控制,由此实现不同液氦温度的控制。 为实现不同液氦压力的精密控制,解决方案在此采用了流量调节法。如图4所示,解决方案采用了电动针阀作为图2中的压力控制阀,电动针阀与双通道高精度PID控制器、压力传感器和液氦加热器构成闭环控制回路,可以按照任意设定值进行高精度的压力控制。[align=center][color=#ff0000][b][img=流量控制结构,500,290]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/01/202301031125069440_4211_3221506_3.jpg!w690x401.jpg[/img][/b][/color][/align][align=center][color=#ff0000][b]图4 流量调节法控制装置结构[/b][/color][/align] 电动针阀是一种数控的微小流量调节阀,可通过PID压力控制器自动调节针阀开度,流出的氦气可通向氦气回收气囊。电动针阀同样具有很高的控制精度,结合高精度的压力传感器和PID真空压力控制器,同样可将液氦压力控制在0.1%的高精度水平。[b][size=18px][color=#ff0000]3. 总结[/color][/size][/b] 通过上述解决方案的技术手段,可实现低温超低测试系统中液氦压力的准确控制,控制精度最高可达±0.1%。 按照绝对压力进行计算,饱和蒸气压为1.2Bar时,液氦温度为4.4K。由此,如果压力控制精度为±0.1%,液氦压力的波动范围为±1.2mBar(相当于绝对压力±120Pa),对应的液氦温度波动范围为4.4mK,即所控的液氦温度为4.4±0.0044K。 由此可见,通过本文所述的解决方案,仅通过采用工业级别较低造价的PID真空压力控制器和压力传感器,结合数控压力控制阀和电动针阀,就可实现很高精度的液氦压力控制,温度控制精度可达到mK量级,完全能满足绝大多数低温超导测试系统的需要。[align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align]

  • 垂直管理要解决那些问题?

    垂直管理要解决那些问题? 根据环境保护部副部长李干杰对外的解读是:根据重点解决“4个突出问题”:一是难以落实对地方政府及其相关部门的监督责任,二是难以解决地方保护主义对环境监测监察执法的干预,三是难以适应统筹解决跨区域跨流域环境问题的新要求,四是难以规范和加强地方环保机构队伍建设。 所以要通过改革实现“4个有利于”:一是有利于解决“4个突出问题”;二是有利于环保责任目标任务明确、分解及落实;三是有利于调动各方面积极性形成合力;四是有利于环境保护新老体制平稳过渡。

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  • 对于出售前需要预先包装的产品,产品的装填量不能少于相关法规的规定,同时也不希望由于过量装填而增加成本。所以,装填的均匀性是控制的关键!SQC-XP就是一种可以为您提供优化支持以满足法规要求和GMP规范的工具。仪器特点/功能:ž 1. 降低装填成本 (轻松实现 ROI)ž 2. 符合规范一致性ž 3. 无差错结果记录 (自动数据获取)ž 4. XP天平配备彩色触摸屏实现便捷的操作(SQC-XP)ž 5. 最小可读性1mg到最大称量值64kg的全面解决方案6. 低廉的培训成本 (熟悉一台,熟悉所有)ž 技术参数:ž 单机(紧凑)系统,软件选件;ž 适用于所有型号的XP天平:可读性最小 1µ g称量范围最大可达 64kgž 管理多达100个样品ž 多种公差系统EU欧盟标准 (e.g. 食品行业, 化妆品行业)欧洲药典 (制药行业)3 个自由公差系统ž 可直接通过XP天平彩色触摸屏进行各项参数设置ž 第二公差系统产品符合2个国家的不同法规多种功能支持+/- 称量单个皮重平均皮重违规检查提醒及警告信息应用领域:梅特勒托利多统计质量控制(SQC)解决方案在制药行业压片片重控制、食品行业灌装净重控制等方面有着广泛的应用。主要型号:超越系列XP天平,配合SQC-XP软件。查看更多信息咨询电话:4008 878 788
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  • UPLC氨基酸分析解决方案
    UPLC氨基酸分析解决方案沃特世公司进入氨基酸分析领域已经超过25年,所提供的应用方案一直处于业界领先地位。首先是基于OPA(邻苯二甲醛)反应、用于伯胺分析的Auto Tag方法,继而开发出基于PITC(异硫氰酸苯酯)反应的第一个完整氨基酸分析Pico Tag方法包,至1993年沃特世公司又开发出基于专利衍生试剂AQC的AccQ Tag方法。今天,沃特世通过整合最具突破性和最受欢迎的技术而继续保持领先,这就是第二代AccQTag Ultra方法包的UPLC氨基酸分析解决方案。UPLC 氨基酸分析解决方案专为氨基酸分析而进行了全面设计和优化。衍生后氨基酸在ACQUITY UPLC系统上获得分离,提高的分辨率能确保定性和定量结果的精准性。同样重要的是,我们的解决方案提供了满足分析性能要求的方法学,方法被设计具有耐用性与可靠性,从而确保在日与日间、不同仪器之间、不同实验室之间、甚至全球各地的不同分部,化学家们都能在沃特世的专业支持下获得可重现的结果。UPLC氨基酸分析解决方案充分运用了沃特世在分离科学、衍生化学和信息管理方面的经验。这是一个经过优化的总体应用解决方案,可提供准确、可靠、重现性好的氨基酸分析结果。基于沃特世AccQ Tag Ultra化学产品并结合我们优秀的ACQUITY UPLC分离技术,分析工作者可对其在蛋白质鉴定、细胞培养监测以及食品和饲料营养分析方面的可靠性能充满信心。UPLC氨基酸分析解决方案包括:1、ACQUITY UPLC系统和双波长紫外可见检测器(也完全支持选配的荧光检测器和PDA检测器)2、AccQ Tag Ultra 衍生化学产品包括色谱柱、试剂和洗脱液(所有产品均经过了质控测试)3、Empower 预配置项目、方法和报告模板4、包括安装和应用培训以及技术支持 5、特定应用的性能确认 6、接口INSIGHT智能服务ACQUITY UPC 2 色谱柱 (*需配合ACQUITY UPC 2 系统使用)规格 BEH 2-EP1.7 μm BEH1.7 μm CSH氟苯基1.7 μm HSS C 18 SB1.8 μm2.1 x 50 mm 186006576 186006558 186006567 1860066172.1 x 75 mm 186006577 186006559 186006568 1860066182.1 x 100 mm 186006578 186006560 186006569 1860066192.1 x 150 mm 186006579 186006561 186006570 1860066203.0 x 50 mm 186006580 186006562 186006571 1860066213.0 x 75 mm 186006581 186006563 186006572 1860066223.0 x 100 mm 186006582 186006564 186006573 1860066233.0 x 150 mm 186006688 186006686 186006687 186006685VanGuard 186006575 186006557 186006566 186006616保护柱,2.1 x 5 mm,3/pk规格 BEH 2-EP3.5 μm BEH3.5 μm CSH氟苯基3.5 μm HSS C 18 SB3.5 μm2.1 x 50 mm 186006652 186006634 186006643 1860066252.1 x 75 mm 186006653 186006635 186006644 1860066262.1 x 100 mm 186006654 186006636 186006645 1860066272.1 x 150 mm 186006655 186006637 186006646 1860066283.0 x 50 mm 186006656 186006638 186006647 1860066293.0 x 75 mm 186006657 186006639 186006648 1860066303.0 x 100 mm 186006658 186006640 186006649 1860066313.0 x 150 mm 186006659 186006641 186006650 186006632VanGuard 186006651 186006633 186006642 186006624保护柱,2.1 x 5 mm,3/pkUPLC AAA(氨基酸分析)应用包,配用于ACQUITY UPLC系统产品描述 数量 部件号UPLC AAA应用包 — 176001279氨基酸标准品 1 WAT088122样品衍生管,72/pk 4 WAT007571全回收样品瓶,带盖 3 186000384C配件包,柱稳定器,150mm 1 205000494AccQ?Tag Ultra衍生化试剂包 1 186003836AccQ?Tag Ultra C 18 1.7um, 2.1x100mm柱 1 186003837AccQ?Tag Ultra洗脱液A,1L瓶 1 186003838AccQ?Tag Ultra洗脱液B,1L瓶 1 186003839Assy. Tube Inlet .0025 ID PEEK Nut PDA(柱后连接检测器所用管路,体积最小化) 1 4300017832uL Sample Loop 1 430001264柱在线过滤器 1 205000343信息包,UPLC AAA解决方案 1 716002024初始测试,UPLC AAA应用解决方案 1 741000299* 此应用包用于既有的ACQUITY UPLC系统用于氨基酸分析。初次进行氨基酸分析时,购买此应用包,包含应用所需的管路配件以及指导手册等。之后常规消耗所需,可购买“氨基酸分析化学品补充包”。UPLC AAA(氨基酸分析)应用包,配用于ACQUITY UPLC H-Class系统产品描述 数量 部件号UPLC AAA H-Class应用包 — 176002983氨基酸标准品 1 WAT088122样品衍生管,72/pk 4 WAT007571全回收样品瓶,带盖 3 186000384CAccQ?Tag Ultra衍生化试剂包 1 186003836AccQ?Tag Ultra C 18 1.7um, 2.1x100mm柱 1 186003837AccQ?Tag Ultra洗脱液A,1L瓶 1 186003838AccQ?Tag Ultra洗脱液B,1L瓶 1 186003839Assy. Tube Inlet .0025 ID PEEK Nut PDA(柱后连接检测器所用管路,体积最小化) 1 430001783柱在线过滤器 1 205000343信息包,UPLC AAA H-Class解决方案 1 716003230初始测试,UPLC AAA H-Class应用解决方案 1 741000299
  • 解决方案套柱 ASTM D4815
    解决方案套柱订货信息:解决方案/方法分析PriceASTM D4815Oxygenates in gasolineQuotePONAC3 to C12QuoteASTM D6730, 6733C3 to C12, oxygenatesQuoteSim-Dis-1polywax 500QuoteSim-Dis-2Polywax 655QuoteSim-Dis-3polywax 850QuoteNGA-1CO, CO2, O2, N2, Sulfurs, C1 to C6+QuoteNGA-2CO, CO2, O2, N2, Sulfurs, C1 to C8QuoteNGA-3CO, CO2, O2, N2, Sulfurs, C1 to C10QuoteRGA-1O2, N2, CO, CO2, H2S, COS, C1 to C6+QuoteRGA-2H2, O2, N2, CO, CO2, H2S, COS, C1 to C6+QuoteRGA-3Fast RGA, C1 to C8QuoteTOGTransformer oil gasQuoteFlute Gas-1O2, N2, CO, CO2, H2O, Sulfurs, C1 to C5QuoteFlute Gas-2O2, N2, CO, CO2, H2O, Sulfurs, C1 to C5, N2O, NO, QuoteAcid GasSulfursQuoteGreen house GasCO2, Methane, SF6QuoteNMPPNon Methane Hydrocarbon C2 to C8/C10QuoteBD1,3- Butadiene residueQuoteEthyleneHCs +OxygenateQuotePropyleneHCs +OxygenateQuoteButenesHCs onlyQuoteHexeneHCs onlyQuote1.3-ButadieneHCs and OxygenatesQuoteLPGO2, N2, CO, CO2, C1 to C6+QuoteLNGO2, N2, CO, CO2, C1 to C6+, sulfursQuoteC5Complete HCsQuoteC6Complete HCsQuoteQuote
  • Rocket和Expedite高通量分析解决方案
    详细介绍: Rocket和Expedite高通量分析解决方案除UHPLC 方法之外其他的高通量分析解决方案方案一:Rocket :配合常规HPLC 系统进行高通量分析的快速分离色谱柱-样品越来越多?时间越卡越紧?面临高通量分析的需求?-暂时没有升级HPLC系统的预算? 无需升级HPLC系统,使用装填1.5μm 或3μm小粒径填料的、内径大而长度短的Rocket柱,为您提供高速度、高通量分析。 -为什么“短胖的”的Rocket?柱能直接配合常规HPLC 系统进行高通量分析而不损失柱效?UHPLC 系统(超高压液相色谱)和HTP LC 系统(高通量液相色谱)都对系统的管路和部件做了各种优化,其中的一个必须措施就是尽可能减少系统死体积,因为系统死体积会损失由小粒径填料填充的高性能短柱的分离效果。而常规HPLC 系统的死体积通常有2mL 之多,这么“大”的系统死体积需要通过较大的柱体积相对抵消,否则小体积的高性能短柱的分离效果就会因为系统死体积扩散而损失。Rocket是专门针对这种情况而设计的产品:小粒径填料如1.5μm 或3μm填料,被填充在大内径7mmID(“大嘴巴”)的短柱内。因其色谱柱截面积较大(截面积正比于柱内径的平方),分析时使用的体积流速较高(2.5-5mL/min),这可以将被测物更快的“扫过”柱外系统死体积,从而减少相应的峰扩散问题。 方案二:Expedite:配合高通量液相色谱系统使用的极小体积快速分离色谱柱-实验室已配置有系统死体积最小化的高通量液相色谱系统(系统前提)-对被测样品进行快速扫描,要求在目前系统配置下达到高通量的“极限”-要求尽可能的节约溶剂运行成本和/或被测样品损耗对于系统死体积最小化的高通量液相色谱系统,直接配用装填1.5μm 或3μm小粒径填料的、内径小、超短的Expedite柱,可以得到最高的分析速度。极短的柱长,仅为10mm 或20mm(两种规格),使分析时间更短、柱清洗和再平衡时间也更短,达到高通量的“极限”。2.1mm i.d. x 10mm 和 x20mm 长度的Expedite柱 Rocket和Expedite是对柱硬件的注册商标,这些高通量分析柱的设计在于独特的柱硬件配合小粒径1.5μm 或3μm填料。具体产品及货号散见于本目录各HPLC 柱系列中。如需咨询推荐,可联系我们

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