低真空系统

国仪量子低真空钨灯丝扫描电镜SEM3200扫描电子显微镜SEM3200SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深，成像富有立体感。丰富的扩展性，助您在显微成像的世界中尽情探索。产品特点（*为选配件）特色功能丰富拓展性扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察，更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富，除支持常规的二次电子探测器（ETD）、背散射电子探测器（BSED）、X射线能谱仪（EDS）外，也预留了诸多接口，如电子背散射衍射（EBSD）、阴极射线（CL）等探测器都可以在SEM3200上进行集成。背散射电子探测器二次电子成像和背散射电子成像对比背散射电子成像模式下，荷电效应明显减弱，并且可以获得样品表面更多的成分信息。应用案例产品参数型号SEM3200ASEM3200电子光学系统电子枪类型预对中型发叉式钨灯丝电子枪（灯丝电流3档可调，可显示灯丝更换时间）分辨率高真空3 nm @ 30 kV（SE）4 nm @ 30 kV（BSE）8 nm @ 3 kV（SE）*低真空3 nm @ 30 kV（SE）放大倍率1-300,000x（底片倍率）1-1000,000x（屏幕倍率）加速电压0.2 kV～30 kV探针电流≥1.2μA，可实时显示成像系统探测器二次电子探测器（ETD）*背散射电子探测器、*低真空二次电子探测器、*能谱仪EDS等图像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG真空系统真空模式高真空优于5×10-4 Pa*低真空5～1000 Pa控制方式全自动控制样品室摄像头光学导航样品仓内监控样品台配置三轴自动*五轴自动行程X: 120 mmX: 120 mmY: 115 mmY: 115 mmZ: 50 mmZ: 50 mm/R: 360°/T: -10°～ +90°能谱仪能谱仪探测器分析型SDD硅漂移电制冷探测器，有效面积≥30 mm2，晶体面积≥50 mm2，高分子超薄窗设计，无需液氮冷却，仅消耗电能能谱仪能量分辨率Mn Ka保证优于129eV元素分析范围B5～Cf98软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航、可自动叠加电镜图片自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散特色功能智能辅助消像散、*大图拼接（选配软件）安装要求房间长 ≥ 3000 mm，宽 ≥ 4000 mm，高 ≥ 2300 mm温度20 ℃～25 ℃湿度≤50 %电气参数电源AC 220 V(±10 %)，50 Hz，2 kVA

2010版GMP对滴眼液制剂要求按照无菌制剂进行生产，而采用无菌生产工艺对滴眼剂空瓶等包材的灭菌带来了较大的挑战。由于包装物所采用的高分子材料（如PE或PET）只能采用低温灭菌法，而传统的低温灭菌方式，如EO及辐照灭菌，受限于灭菌工艺和设备特点，无法将此灭菌工序整合于滴眼液的无菌生产流程中。为解决此问题，泰林生物专门开发了滴眼液瓶专用灭菌设备——STP2000V型VHPS-真空灭菌无菌传递舱。 STP2000V型VHPS-真空灭菌无菌传递舱采用汽化过氧化氢灭菌技术对滴眼液瓶内外表面进行灭菌，能够使被灭菌的瓶体达到不高于10-6无菌保证水平(SAL)，并具有低温、快速、无毒等特点。性能特点1.采用过氧化氢蒸汽（VHPS）作为生物去污剂，属于低温状态下的去污过程，高效、环保；2.有SIEMENS可编程控制器（PLC）对其进行模块化控制，对整个过程进行控制；3.采用高真空状态下的单向多次给药，在灭菌过程中VHPS有更好的分布均匀性；4.使用抽真空和无菌空气整体置换的方式对过氧化氢气体进行排空，保证其更短的灭菌工艺周期；5.在生物去污完成后排空阶段，送入舱内的空气均通过除菌过滤器过滤，以防止对物料引入新的污染；6.进、出料门为双扉门结构，具有气动密封，气动锁紧及工作状态下的双门互锁功能，可有效防止因人员误操作造成的双门对开；7.内部设置有推车式灭菌支架及其轨道系统，方便物料装卸；8.设置有数据采集系统，可对舱内湿度、真空压力等数据进行实时检测并进行实时打印。技术参数1.设备外形尺寸：1800mm×2000mm×2000mm（宽×深×高）2.灭菌腔室尺寸：1000mm×1700mm×1200mm（宽×深×高）3.电源：AC 380V±38V 50Hz±1Hz，功率10kw4.加药速率：1～5g/min5.无菌压缩空气：0.4～0.6MPa6.灭菌剂：50％食品级过氧化氢溶液7.灭菌效力：对嗜热脂肪芽胞的杀灭能力达到1068.作状态：手动或自动运行模式应用领域 STP2000V型VHPS-真空灭菌无菌传递舱常用于滴眼剂生产中常用内包材（滴眼剂空瓶、瓶内塞、瓶外盖等）内外硬表面的灭菌及由低级别洁净区域向高级别洁净区域的传递，也可用于其他剂型的药品内包材等物品内外硬表面的灭菌及灭菌。

简介1200℃低真空CVD系统是由滑动式管式实验电炉，混气系统，真空及压力系统等组成。此系统烧结温度可达1200℃，通过滑动炉体来实现快速的升降温；配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过三路高精度质量流量计控制不同气体。是为石墨烯生长、研发的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。主要技术参数炉体结构整机采用SUS304不锈钢材质，流线型外观，断热式结构；日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好；炉子底部装有一对滑轨，移动平稳；炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却；支撑两端安装油压缓冲器；炉盖可开启，可以实时观察加热的物料尺寸重量1240*600*1340mm；170kg电源电压：AC220V 50/60Hz；功率：4KW炉管高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小；尺寸：Φ60/80/100*1200mm法兰及支撑SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空；一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷；可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑；包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合。 加热系统加热元件采用优质合金丝，表面负荷高、经久耐用； 加热区长度：300mm；恒温区长度：150mm； 工作温度：≤1150℃； 最高温度：1200℃； 升温速率：推荐≤10℃/min，最快升温速度30℃/min温控系统日本富士仪表，64段控温程序，可分步、分段； 测温元件：N型热电偶； 控温精度：±1℃混气系统三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套每路气体进气管路配有不锈钢针阀通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格：0~1SLM 流量精度：±1.5%真空系统采用双极旋片真空泵，真空度可达10Pa 可选配件高真空系统，各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件保修期整机一年保修（相关耗材除外）可根据客户要求定制！特色与优势1.滑动式炉体结构实现快速升降温；2.开启式炉盖设置，降低沉积温度、加快沉积速度；3.日本富士温控仪表，64段控温程序，可分布，分段，三路质量流量计，数字显示精确控制气体流量；4.双极旋片真空泵+分子泵，实现对真空度的不同要求，极限真空可达4.0*10-4Pa。

厂家简介：德国PILODIST是一家专业从事实验室蒸馏、精馏技术和设备的公司，由原德国Fischer公司的主力人员及Fischer先生本人一起组建的全新的公司。Pilodist全面继承了原Fischer公司的技术资源，为全球客户提供高品质的实验室蒸馏、精馏技术和设备，产品范围包括实沸点蒸馏系统（ASTM D2892 & D5236）、全自动减压蒸馏仪（ASTM D1160）、精馏装置、分子蒸馏仪、溶剂回收系统、气液相平衡装置及航煤润滑性测试仪（ASTM D5001）等。德国Pilodist真空釜式蒸馏系统PD 200CC性能描述：符合ASTM D 5236标准，全套系统由计算机控制，基于WINDOWS的系统操作软件，所有部件的运行状态可以在计算机屏幕的系统流程图上清晰地显示出来；通过计算机输入测试运行参数，控制蒸馏运行，记录测试数据，显示测试曲线，储存测试结果，蒸馏过程中操作人员可以随时对各技术参数进行修改，具有很强的灵活性；可人工干预设定的真空残压，自动进行减压馏出温度和常压AET温度的换算，并根据AET温度切割馏分；基于高质量的玻璃材料和精密的玻璃加工技术，各玻璃器件之间通过磨砂接口及垫圈、快速接头实现免真空脂连接，确保系统的运行安全和压力控制的稳定性；根据蒸馏速率自动调整蒸馏釜加热功率；根据蒸馏过程自动调整冷却水的温度；超温超限报警功能，超高限停止加热和为系统充氮气功能，保证安全操作，报警限可以人工设定；计算机控制全自动无间断运行，自动开始蒸馏、自动安全结束；自动馏份切割、馏份收集和馏份体积测量，优化蒸馏速率；12个馏分收集管，配有红外加热系统，防止馏分凝结，同时配置液位跟踪器监测馏分体积、调整蒸馏速率及馏分质量分数，一个馏分收集管收集满后自动转到下一个馏分收集管；测试结果直接用EXCEL文档显示，并可显示和打印体积和重量的蒸馏曲线

低真空箱式气氛炉一、产品描述 箱式气氛炉炉体法兰式密封结构，在材料的热处理过程中，可以通入氮气、氩气、氧气等保护气体，用于碳材料、金属材料、生物质材料的热处理，也可用于锂电池三元材料的烧结。二、 产品特点炉外壳1、外壳采用金属Q235低碳钢，表面静电耐药涂装，抗腐蚀2、 坚固的双层金属外壳结构，炉表面温度低3、炉门法兰式密封结构，手动螺旋压紧，侧开门方式，操作方便耐火材料多层隔热设计，由轻质氧化铝陶瓷纤维和高品质隔热板背衬组成，不含石棉成分，热损失小，能耗低加热系统 1、高品质发热体，安全牢固的安装在炉膛两侧，在炉腔内自由热辐射加热，使用寿命长2、二面加热（左右两侧），从而实现炉内的良好均匀性温度控制面板1、PID配合SCR/SSR控制方式，温度控制准确2、国际标准化热电偶，使用寿命长3、工作室尺寸可选择1000L，适合生产型工厂使用程序控制器1、适应复杂工艺需求的的控制器2、操作简单直接，编程灵活3、可编程30个程序段4、超温和故障报警，自动进行保护真空气氛功能1、箱体有可调节的进气口和出气口，可通入保护气体2、高性能旋片式真空泵，可获得20000pa真空度3、可选择带有气路控制单元，控制单元可选择1-3路可调节的浮子流量计

产品名称：MZ 2C NT+AK+EK 化学真空系统型号：MZ 2C NT+AK+EK详细资料：该真空系统为MZ 2C NT配备进气口保护及溶剂回收附件。该款化学真空系统广泛应用于化学、生物和制药实验室的排气、蒸发或者气体抽取等过程。主要用于和旋转蒸发仪、真空浓缩仪或真空干燥箱等仪器连用。进气口收集瓶（AK）为玻璃材质，外覆保护膜，可以防止颗粒或液滴进入泵内。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑。该冷凝器可实现近100%的溶剂回收效果，可有效地循环利用溶剂，同时主动地保护环境。性能特点：卓越的化学耐腐蚀性和蒸汽耐受性在较高真空度下仍具有非常好的性能使用气镇仍能达到很好的极限真空排气安静，振动极低高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：2.0 m3/h极限真空（绝压）：7 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：12 mbar尺寸（长x宽x高）：326 x 243 x 402 mm重量：14.2 Kg订货号：732600 产品名称：MZ 2C NT+AK SYNCHRO+EK 化学真空系统型号：MZ 2C NT+AK SYNCHRO+EK详细资料：该化学真空系统具有两个进气口，用一个泵可同时操作两个不同的应用。主要用于连接旋转蒸发仪、真空浓缩仪和真空干燥箱。每个真空接口配一个手动流量控制阀来调节有效抽速。进气口的分离瓶（AK）为玻璃材质，外部覆保护膜，用来防止颗粒或小液滴进入泵体。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂同时保护环境。性能特点：卓越的化学耐腐蚀性和蒸汽耐受性在较高真空度下仍具有非常好的性能使用气镇仍能达到很好的极限真空可同时操作两个独立的真空应用，配有止回阀防止不同应用间的干扰高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：2.0 m3/h极限真空（绝压）：7 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：12 mbar尺寸（长x宽x高）：326 x 248 x 402 mm重量：14.5 Kg订货号：732800 产品名称：PC 510 NT 化学真空系统型号：PC 510 NT详细资料：PC 510 NT化学真空系统其核心组件为MZ 2C NT化学隔膜泵，常用于含有&ldquo 常规&rdquo 溶剂的中等尺寸的真空体系。可在许多蒸发应用中用于获取和控制真空。系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口的废气冷凝器结构紧凑，效率极高，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。性能特点：使用气镇仍能达到很好的极限真空CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀专为化学设计的流量控制阀，具有大的流通截面，流量控制因而不受限制排气安静，振动极低高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：2.0 m3/h极限真空（绝压）：7 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：12 mbar尺寸（长x宽x高）：419 x 243 x 444 mm重量：16.7 Kg订货号：733100 产品名称：MD 4C NT+AK+EK 化学真空系统型号：MD 4C NT+AK+ EK详细资料：该真空系统为MD 4C NT配备进气口保护及溶剂回收附件。该款化学真空系统广泛应用于化学、生物和制药实验室的排气、蒸发或者气体抽取等过程。系统可很好地满足高沸点溶剂的真空需求。主要用于和旋转蒸发仪或真空干燥箱等仪器连用。进气口收集瓶（AK）为玻璃材质，外覆保护膜，可以防止颗粒或液滴进入泵内。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑。该冷凝器可实现近100%的溶剂回收效果，可有效地循环利用溶剂，同时主动地保护环境。性能特点：卓越的化学耐腐蚀性和蒸汽耐受性在较高真空度下仍具有非常好的性能使用气镇仍能达到很好的极限真空排气安静，振动极低高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：3.4 m3/h极限真空（绝压）：1.5 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：3 mbar尺寸（长x宽x高）：326 x 243 x 402 mm重量：17.3 Kg订货号：736700 产品名称：MD 4C NT+AK SYNCHRO+EK 化学真空系统型号：MD 4C NT+AK SYNCHRO+EK详细资料：该化学真空系统具有两个进气口，使用一个真空泵即可同时实现两种过程控制。可与旋转蒸发仪、真空浓缩仪和真空烘箱等配合使用。每个真空连接口配备一个手动控制阀来调节进气口的有效流量。MD 4C NT泵的具有非常大的抽气速度，足以同时应对两个复杂的真空系统。进气口的分离瓶（AK）为玻璃材质，外部覆保护膜，用来防止颗粒或小液滴进入泵体。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂同时保护环境。性能特点：卓越的化学耐腐蚀性和蒸汽耐受性在较高真空度下仍具有非常好的性能使用气镇仍能达到很好的极限真空可同时操作两个独立的真空应用，配有止回阀防止不同应用间的干扰高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：3.4 m3/h极限真空（绝压）：1.5 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：3 mbar尺寸（长x宽x高）：326 x 248 x 402 mm重量：17.6 Kg订货号：736800 产品名称：PC 610 NT 化学真空系统型号：PC 610 NT详细资料：PC 600系列化学真空系统经证实可用于许多蒸发过程的真空获取或控制。其基础泵为MD 4C NT三级化学隔膜泵，可满足大部分高沸点溶剂的真空要求。典型的应用包括连接旋转蒸发仪或真空干燥箱。该真空系统配备带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口废气冷凝器效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂，同时保护环境。性能特点：CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀在较高真空度下仍具有非常好的性能使用气镇仍能达到很好的极限真空专为化学设计的流量控制阀，具有大的流通截面，流量控制因而不受限制高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品技术参数：最大抽速：3.4 m3/h极限真空（绝压）：1.5 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：3 mbar尺寸（长x宽x高）：419 x 243 x 444 mm重量：19.9 Kg订货号：737100

PC 3001 VARIOpro EK Peltronic 概述：这款VARIO化学真空系统通过准确且持续地调节隔膜泵的马达转速来实现真空控制。因需调节的马达转速控制大大延长了隔膜的寿命。其主泵为MD 1C VARIO-SP，可满足大部分高沸点溶剂的需求。进气口的分离瓶（AK）为玻璃材质，外覆保护膜，防止颗粒和液滴进入泵内。Peltronic出气口蒸汽冷凝器无需外接制冷剂（如水或干冰）即可冷凝溶剂蒸汽。珀尔帖（Peltier）部件作为冷凝系统，所有接触流体的部分都有很好的耐化学腐蚀性。经专门设计，该冷凝器可直接连接在已有的真空系统上，或取代普通的玻璃冷凝器。这款冷凝器十分适用于冷凝水不可用的情况下，或者考虑到节省水资源、干冰式冷凝器的高花费和效率、及冷凝水管漏水造成的风险等情况，都适用该冷凝器。它常用于真空网路系统中，被集成到实验室家具内。如果与CVC 3000控制器连用，Peltronic冷凝器可以根据需求来自动开/关。 可提供完整的PC 3001 VARIOpro EK 真空系统，根据需要可订购配备Peltronic 的其他真空系统。PC 3001 VARIOpro EK Peltronic 性能特性：1、CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀2、整个过程真空度自动调节，过程稳定性高，操作过程无需过多干预；零波动（无滞后）的真空控制，使过程时间更短，即使针对大量蒸汽时3、使用气镇仍能达到很好的极限真空4、排气安静，振动低5、高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品PC 3001 VARIOpro EK Peltronic 技术指标：技术指标单位PC 3001 VARIOpro EK Peltronic真空控制器CVC 3000泵头数/级数4 / 3最大抽速m3/h2.0最大抽速cfm1.2极限真空（绝压）mbar/torr2 / 1.5极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr4 / 3环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口软管喷嘴接头 DN 6-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm额定电机功率kW0.16电机转速范围min-1200 - 3000防护等级IP 20尺寸（长x宽x高）mm300 x 370 x 400重量kg11.3噪音水平在50赫茲，典型值dBA42ATEX 认证 (仅限230V)II 3G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置PC 3001 VARIOpro化学真空系统，Peltronic出气口冷凝器已装配好。请单独订购电源线可选附件真空橡胶管 DN 6 mm (686000)真空橡胶管 DN 10 mm (686002)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)电源线 CEE (612058)电源线 CH (676021)电源线 UK (676020)电源线 US (612065)电源线 CN (635997)

仪器简介：真空抽滤系统是为溶剂过滤及脱气而设计的，它使用与液相色谱分析中的流动相的过滤及除气，并对于延长仪器和色谱柱的使用寿命、提高检测精度的作用，同时在重量分析、微量分析、胶体分离、及无菌实验中也得到了应用。 真空抽滤系统由过滤瓶装置和真空泵组成。 过滤瓶包括：三角形集液瓶(2000毫升和1000毫升) 、砂芯过滤头、过滤杯(250毫升和300毫升) 和固定夹。1、过滤瓶选用优质高强度硬玻璃材料，抗温度变化达270度，具有耐压性。 2、过滤瓶为批量生产，不仅外观制作精美，壁厚均匀，而且互换性好。 3、为过滤瓶装置而配套设计的无油真空泵，小巧实用，操作简便，效率高，噪声低。 4、溶剂直接提取部件，它可使过滤过程尽量保持全密封，可减少污染，可加强除气效果。技术参数：Part No Desc 900140 低压溶剂过滤器，1L/2L 900141 低压溶剂过滤器，玻璃组件，1L/2L 900148 低压溶剂过滤器，真空泵（无油隔膜式） 900143 低压溶剂过滤器，滤杯，300mL 900144 低压溶剂过滤器，收液瓶，1L/2L 900145 低压溶剂过滤器，滤嘴 主要特点：利用真空脱气原理，它还可以除去被检液中的气泡，提高检测精度和样品澄清度合格率；在重量分析、微量分析、分离纯化、发酵除菌等实验中得到应用。

CIF智能真空赶酸系统CIF 真空赶酸系统将传统的常压赶酸所需的3-4小时缩短到 30-40 分钟（150℃），大大提高了赶酸效率，缩短了赶酸时间。可以和任意品牌的消解仪配套，样品处理数量灵活，不受样品数量限制，可同时处理1-48个样品。CIF 真空赶酸系统由石墨加热系统、真空收集系统、温控系统三部分组成。采用石墨加热系统进行加热赶酸，保证温度的准确性、均匀性和稳定性。真空收集系统为整个密闭系统，由隔膜真空泵提供真空负压运行，通过抽真空加速酸蒸汽的形成和转移，将样品中酸蒸汽通过冷凝、碱液中和、活性炭吸附等方式收集，直到把酸气赶到实验要求允许的量，避免了高浓度酸液对精密分析仪器损坏，延长了仪器的使用寿命，保证了实验室人员安全，减少了环境污染。 温控系统主要是对石墨加热系统温度精确控制，对真空收集系统起停、加排液等控制，保证仪器设备正常运行。产品特点v 赶酸装置和真空收集温控系统分体式设计，延长仪器寿命，保证实验人员安全。v 真空收集和温控系统一体化集成，节省实验室空间。v 一体化集成酸气收集装置，改变传统插拔塞子收集酸气方式操作麻烦、效率低下的缺点，保证实验室人员安全，避免交叉污染。v 酸气收集盖板采用独立孔道式导流酸气收集方式，避免酸气冷凝回流，加速赶酸过程，酸气回收一致性好。v 顶置整体下压式密封收集酸气方式，密封完全不泄漏，简单方便实用。v 手动取放PTFE酸气收集装置，而不是使用容易被酸气腐蚀坏掉的电动传动升降方式，免维护，返修率低。v 一体化赶酸架，消解罐取放方便，改变单个拿取消解罐操作麻烦、效率低下的缺点。安全，实用、快捷，高效。v 酸气自动回收，保证不外排，无酸气逸逃，无需通风橱，节省实验室空间，降低实验室成本。v 原位存放，不需要单独支架存放酸气收集装置。v 原位清洗，无需拆卸即可对收集装置进行清洗。v 原位密封，保证真空效率z大化，不需要单独密封支架。v 整个系统为PTFE或PFA材质。v 5寸全彩触摸屏智能程序化梯度控温技术，中英文互动操作界面，温度可校准，温控精准，控温精度±0.1℃。v 高低温报警，自动断电保护。v 预约启动，完成自动停止，无须工作人员值守。技术参数型号控温范围℃控温精度℃功率 kw孔径mm孔深mm孔数外形尺寸mmVB21ATRT-220±0.11.6Φ28-6580-20024370x210x365VB42AT2.424370x330x365注：可根据要求定制！

产品介绍： CIF真空赶酸系统将传统的常压赶酸所需的3-4小时缩短到30-40分钟（150度），大大提高赶酸效率，缩短了赶酸时间。另外，CIF整个真空赶酸系统为密闭系统，由隔膜真空泵提供真空，负压运行，将样品中酸蒸汽通过冷凝、碱液中和活性炭吸附等方式收集，不外排！直到把酸气赶到实验要求允许的量，避免了高浓度酸液对精密分析仪器损坏，延长了仪器的使用寿命，保证了实验室人员安全，减少了环境污染。 真空赶酸系统由石墨加热模块、真空收集模块、温控模块三部分组成。石墨加热模块加热赶酸样品，保证温度的准确性、均匀性和稳定性；真空收集模块通过抽真空加速酸蒸汽的形成和转移，将样品中酸蒸汽通过冷凝、碱液中和活性炭吸附等方式收集，直到把酸气赶到实验要求允许的量，不但避免高浓度酸液对精密分析仪器损坏，延长了仪器的使用寿命，而且保证了实验室人员安全，减少了环境污染，缩短了赶酸时间；温控模块主要是对石墨加热模块温度精确控制，对真空收集模块起停、加排液等控制，保证仪器设备正常运行。 产品特点：真空收集模块： v 可以和任意品牌的消解仪配套，如CEM、安东帕、迈尔斯通、上海新仪、屹尧等。 v 整个系统为密闭系统，由隔膜真空泵提供真空，负压状态运行，酸蒸汽通过冷凝、碱液中和活性炭吸附等方式收集，100%不外排！保护了实验人员的安全，减少了环境污染，延长了实验设备的使用寿命。 v CIF真空赶酸系统酸蒸汽汇流器采用圆形汇流收集方式，使得每个管路气体流动速率相同，确保了收集速率一致性！改变传统方形酸气汇流收集方式每个管路气体流动速率不一样导致赶酸均一性差的问题； v 将常压赶酸所需的3-4小时缩短到30-40分钟（150℃），大大提高赶酸效率； v 灵活处理样品数量，不受样品数量限制，可同时处理1-48个样品； v 实时监控每个样品赶酸程度，避免蒸干； v 对易挥发元素，可降低赶酸温度，提供元素回收率； v 全套真空装置为进口PTFE和PFA材质，防腐耐高温，使用寿命长； v 德国原装进口隔膜真空泵，抽气速度≥36L/分钟，极限压力真空度为8mbar； v 一键排废、快速加碱液系统的应用，避免人工添加碱液、倾倒废液操作的风险，保证了实验人员的安全。（可选）石墨加热模块：v 安全：加热模块和控制模块分体式设计，控制模块可置于通风橱外使用，不但保证操作人员的安全，而且避免腐蚀性气体对控制模块的损害； v 高效：采用国际先进环绕立体加热技术，快速、高效、便捷； v 防腐：整个加热模块都是采用耐酸碱、耐高温、高传导性、高保温性能的等静压石墨材料制作，并经过耐高温的特氟龙防腐涂层处理；温控模块采用全密封设计，并经过特氟龙防腐涂层处理；电源连接线保护套采用耐高温高防腐的PFA螺纹管； v 稳定：加热快速高效，性能稳定，维修简单方便,使用寿命是其他同类产品的2-3倍； v 准确：由于采用加热技术，极大限度保证了温度的均匀性和稳定性；样品间温度差小于±1℃；加热模块上没有任何金属附件，无污染； v 美观：由于采用圆形石墨加热模块设计，外观设计新颖，美观大方；并经过特殊红色防腐喷涂处理，加热后会变成深红色，有警醒防烫之作用； v 独特：石墨加热模块和酸蒸汽汇流器采用一体化嵌合设计，大大节省实验室空间； v 耐用：可连续工作24小时以上； v 通过欧盟CE认证，质量更可信，安全更可靠。 技术参数：型号控温范围℃控温精度℃功率kw孔径mm孔深mm孔数外形尺寸mm电源V/HzVB-20RRT-220±0.11.6φ2816520?310XH250220/50VB-40R2.6φ2816540?370XH250

手动真空控制PC 511 NT化学真空系统描述:经广泛证实，该系列化学真空系统可在许多蒸发应用中用于获取和控制真空。其核心组件为MZ 2C NT化学隔膜泵，常用于含有“常规”溶剂的中等尺寸的真空体系。系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口的废气冷凝器结构紧凑，效率极高，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。PC 511 NT真空系统另外安装了一个手动真空控制端口。止回阀用于防止交叉污染和干扰，实现一个泵同时进行两种不同的真空操作。手动真空控制PC 511 NT化学真空系统使用特性： 1.AK – 进气口或出气口的分离瓶。进气口（吸入端）分离瓶收集颗粒或液滴。出气口（压力端）分离瓶收 集出气口冷凝液，防止冷凝液倒流回泵内，并使泵更安静。 2.EK – 出气口废气冷凝器及收集瓶，实现溶剂回收，保护环境和实验人员。 3.机械真空表 – 可显示真空度的趋势变化和大致的真空级别 4.CVC 3000真空控制器 – 通过对电磁阀或真空泵转速的控制，实现精准的真空度控制。 5.电磁阀 – 与CVC 3000搭配，实现两点法真空控制。 6.手动流量调节阀 – 便捷地调节有效体积流量，安装在真空系统的进气口分离瓶上。手动真空控制PC 511 NT化学真空系统技术指标:技术指标单位PC 511 NT真空控制器CVC 3000泵头数/级数2 / 250/60 Hz下的最大抽速m3/h2.0 / 2.350/60 Hz下的最大抽速cfm1.2 / 1.4极限真空（绝压）mbar/torr7 / 5极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr12 / 9环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口2 x 软管喷嘴接头 DN 8-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm冷却液接口2个 DN 6-8 mm 软管喷嘴接头额定电机功率kW0.1850/60 Hz下的额定转速min-11500/1800防护等级IP 40尺寸（长x宽x高）mm435 x 243 x 444重量kg16.9噪音水平在50赫茲，典型值dBA45ATEX 认证 (仅限230V)II 3G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书可选附件制冷剂阀 VKW-B (674220)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)真空橡胶管 DN 8 mm (686001)

产品说明:循环水真空泵适合于旋转蒸发器配套，具有体积小、重量轻、外型美观等特点，采用双表、双头抽气，并设有加冰孔，射流装置。循环水真空泵特点:●本机采用双抽头，可单独或并联使用，装有两个表。●箱体为特殊工程塑料，精致美观。●装有流体消声器，减少水中的气体与液体的磨擦噪音，使真空度更高更稳。耐腐蚀、无污染、噪音低、移动方便，还可根据用户需要加装真空调节阀，操作方便。●储水箱采用新塑料材质，耐腐蚀耐溶解作用。技术参数：★ 最大真空度：0.098Mpa★ 单头抽气量：10L/min★ 抽气头数量：2★ 储水箱容积：15L★ 循环流量：80L/min★ 水泵扬程：12m★ 功率：180W★ 机体材质：防腐工程塑料★ 电源要求：200V/50Hz

一、操作便捷性：1、抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程，只需用卡箍便可完成连接，方便操作。2、配置两种电源连接线，即可直接与我公司的产品直接连接组合使用，也可单独连接都室内电源独立使用。 二、控制智能化1、采用数显真空计，配合热电偶规管采集数据。测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强、真空度显示采用科学计数法，数字显示，使用方便直观。2、自动控制与手动控制切换功能。自动控制模式能通过设定值自动开启/关闭真空泵，使容器内保持在一定的真空压力范围内。手动控制模式使用户通过真空泵开启/关闭按钮直接操作真空泵。以满足不同实验需求。3、电磁阀缓启动技术，使电磁阀在真空泵开启10秒钟后打开，使炉管内系统压力保持准确，也保证了废气不会返回到炉管系统影响实验效果。 三、结构实用性：1、内置双级旋片式机械真空泵，有效地提高了抽气效率。2、本身作为真空控制系统的同时，也可作为活动平台使用，方便放置电炉及其它设备。 四、周边扩展性：1、该真空控制系统可与公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉配套使用。2、该真空控制系统可与公司生产的气体流量控制系统组合使用。3、该系统可作为真空获得设备独立使用。产品用途：该系列产品应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。是对炉管及箱体抽取真空、真空测量与自动控制为一体的真空控制系统总成。设备为用户提供了具有真空度可控的实验环境。

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

用碱溶液提取-火焰原子吸收分光光度法测定土壤和沉积物中六价铬时，试样的制备过程中需要对样品的提取液进行抽滤，传统抽滤方式效率低，不适用于多个样品的处理。 GHD-CL10自动真空抽滤系统使用全自动真空集成抽滤技术，可实现液体抽滤的批量化、自动化和自动润洗，采用智能反吹技术，避免滤膜易堵塞，提高抽滤速度，且同时可抽滤多个样品，方便快捷。 仪器特点 单次可抽滤15个样品溶液，抽滤容积250mL溶液 具备润洗功能，抽滤更彻底； 抽滤过程全自动操作，无需连接管路和清洗多余的抽滤瓶，效率高较传统方法提高30倍以上。 应用领域 土壤和沉积物六价铬的测定碱溶液提取；实验室食品、药品、饮品等领域的抽滤；饮用水工业环境保护领域中的抽滤 相关技术参数 滤膜直径:47mm滤膜 滤膜材质:聚丙烯、特氟龙、石英等材质不限 单次抽滤数量:15个

化学真空系统 PC 3001 VARIOpro 产品简介：VARIO 化学真空系统通过精确且持续地调节隔膜泵的马达转速来自动调节真空条件。基于马达转速控制，真空泵仅在需要真空时运行，节省能耗且减少维护需求。集成的真空控制器只需按下一个按钮，即可实现全自动的蒸发控制。 该系统占地少、重量轻、噪音低，在实验室使用非常便捷，因此非常受欢迎。PC 3001 VARIOpro非常适用于高沸点溶剂的应用。全新的“pro”版本是基于PC 3001 VARIO版本，抽速提高，因此扩大了使用范围。进气口的收集瓶为玻璃材质，外覆保护膜，防止颗粒或者小液滴进入泵内。出气口的废气冷凝器效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果。化学真空系统 PC 3001 VARIOpro 性能特性：1、CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀2、整个过程真空度自动调节，过程重复性高，操作过程无需过多干预；因其零波动（无滞后）的真空控制效果，过程时间更短，即使针对大量蒸汽时亦是如此3、结构紧凑，功能强大；使用气镇仍能达到很好的极限真空4、排气安静，振动低5、低能耗及高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品化学真空系统 PC 3001 VARIOpro 技术指标：技术指标单位PC 3001 VARIOpro真空控制器CVC 3000泵头数/级数4 / 3max抽速m3/h2.0max抽速cfm1.2极限真空（绝压）mbar/torr2 / 1.5极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr4 / 3环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60max出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口软管喷嘴接头 DN 6-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm冷却液接口2个 DN 6-8 mm 软管喷嘴接头额定电机功率kW0.16电机转速范围min-1200 - 3000防护等级IP 20尺寸（长x宽x高）mm300 x 306 x 400重量kg7.7噪音水平在50赫茲，典型值dBA42NRTL 标准加拿大和美国ATEX 认证 (仅限230V)II 3/- G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书可选附件真空橡胶管 DN 6 mm (686000)真空橡胶管 DN 8 mm (686001)制冷剂阀 VKW-B (674220)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)

化学真空系统 PC 510 NT简介：经广泛证实，该系列化学真空系统可在许多蒸发应用中用于获取和控制真空。其核心组件为MZ 2C NT化学隔膜泵，常用于含有“常规”溶剂的中等尺寸的真空体系。系统配备一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行电子真空控制。出气口的废气冷凝器结构紧凑，效率高，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。化学真空系统 PC 510 NT性能特性：1、使用气镇仍能达到很好的极限真空2、CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀3、专为化学设计的流量控制阀，具有大的流通截面，流量控制因而不受限制4、排气安静，振动低5、高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品化学真空系统 PC 510 NT技术指标:技术指标单位PC 510 NT真空控制器CVC 3000泵头数/级数2 / 250/60 Hz下的最大抽速m3/h2.0 / 2.350/60 Hz下的最大抽速cfm1.2 / 1.4极限真空（绝压）mbar/torr7 / 5极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr12 / 9环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm冷却液接口2个 DN 6-8 mm 软管喷嘴接头额定电机功率kW0.1850/60 Hz下的额定转速min-11500/1800防护等级IP 40尺寸（长x宽x高）mm419 x 243 x 444重量kg16.7噪音水平在50赫茲，典型值dBA45ATEX 认证 (仅限230V)II 3G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书可选附件制冷剂阀 VKW-B (674220)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)真空橡胶管 DN 8 mm (686001)

产品名称：PC 3001 VARIO 变频化学真空系统型号：PC 3001 VARIO详细资料：该系统配有可连续优化的电子真空控制功能，通过精确且持续地调节隔膜泵的马达转速来实现真空控制。集成的CVC 3000真空控制器只需按一下按钮，就可以实现全自动的蒸发控制。这个系统的结构紧凑，重量轻，在实验室使用非常便捷。泵根据需求调变马达速度，降低了能量消耗和机械磨损，使得膜片等磨损件的寿命超长。该系统受欢迎的另一个原因是其运行非常安静。PC 3001是以MD 1C VARIO-SP化学隔膜泵为基础泵，其2mbar的极限真空非常适合用于高沸点溶剂。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果。 性能特点：CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀整个过程真空度自动调节，过程重复性高，操作过程无需过多干预；因其零波动（无滞后）的真空控制效果，过程时间更短，即使针对大量蒸汽时亦是如此使用气镇仍能达到很好的极限真空排气安静，振动极低高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品 技术参数：最大抽速：1.7 m3/h极限真空（绝压）：2 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：4 mbar尺寸（长x宽x高）：300 x 306 x 400 mm重量：7.7 Kg订货号：696700 产品名称：PC 3010 VARIO 变频化学真空系统型号：PC 3010 VARIO详细资料：VARIO控制可防止过热或者爆沸，确保了过程的可靠性。PC 3010 VARIO真空系统是基于MV 10C VARIO-B泵上，是用于大量溶剂蒸发的可靠之选。MV 10C VARIO-B泵的大抽速使高沸点溶剂的蒸发过程时间大大降低，主要应用于蒸发工艺。蒸发过程可以完全自动运行，过程时间更短，同时灵敏度更高。卓越的极限真空使其非常适用于低温下高沸点溶剂的蒸发。 性能特点：整个过程真空度自动调节，过程稳定性高，操作过程无需过多干预抽速大而过程时间短，零波动（无滞后）真空控制CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀使用气镇仍能达到很好的极限真空高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品 技术参数：最大抽速：8.6 m3/h极限真空（绝压）：0.6 mbar开启气镇的极限真空（绝压）：9 mbar尺寸（长x宽x高）：645 x 365 x 600 mm重量：35.8 Kg订货号：710700

产地：美国仪器介绍：数字显示提供精密测量和控制■ 可测量及控制绝对真空■ 精确的测量表和控制器具备数字通讯功能■ 简单的接口连接和紧凑的尺寸方便整合到在线系统内. 数字显示和控制满足各种压力真空控制需求. 可控制低真空,及高达200psi的压力输出, 或者用作背压控制器, 几乎可用于所有的工艺场合.模拟或数 字输入/输出信号控制可最大程度免除手动调节控制带来的误差和错误.这些控制信号可用于将数据传输 至记录仪,PLC或其他压力真空仪表. 4位数字显示和一体键盘方便参数设定编程和显示. 此系列仪表是制药工艺,废水处理或其他各种压力控制应用的理想选择,控制器适用比例控制阀以维持恒 定压力,控制阀具备低摩擦快动设计,可以在100毫秒或更短时间达到设定值 A 压力/真空表 适用于实验室应用, 可用于泄漏检测及设备验证, 或者用于OEM应用如冷却工艺,定压实验或其他制造工艺. 可订购可选的32929-50 电池包用于便携操作.B 单阀压力控制器 可控制绝对压力,表压,背压及真空/压力.可自定义阀门行程或压力范围. 快速响应和稳定性相比于传统的机械控制器更适合于在线流体传输应用.C 高流量压力控制器 用于控制流量超过20 L/min.的流体压力, 配备低压降阀门用于高质量流量正压控制或膨胀 体积流量真空控制.D 双阀压力控制器 适用于需要精密压力控制的非在线流动(“死端”工艺)应用. 具体应用包括颜料和半导体工业生产中的加压流体分配, 或其他需要精密控制的压力控制驱动应用.技术参数精度: ±0.25% 全程, 压力 0.04 psig重复性: ±0.08% 全程测量单位: psia, psig, mm Hg, " Hg, " H20, mbar, Atm, Torr, kPa工作温度: –10 到 50°C浸润材料: 压力/真空表: 不锈钢, Viton, 硅胶, 硅化RTV, 玻璃 控制器: 不锈钢,黄铜, Viton, 硅胶, 硅化RTV, 玻璃介质要求: 干燥,无腐蚀气体接口: 压力表/单阀控制器/双阀控制器: 1?8" NPT(F) 高流量控制器: 3?4" NPT(F)显示: 4位LCD, 1.1 cm高电源: 压力表: 7 - 30 VDC 单阀/双阀控制器: 12 - 30 VDC 高流量控制器: 24 - 30 VDC输出: 0 - 5 VDC 及 RS-232尺寸 (宽 x 高 x 厚) 压力/真空表: 6.0 x 10.5 x 2.8 cm 单阀控制器: 9.2 x 10.5 x 2.8 cm 高流量控制器: 7.6 x 13.6 x 14.0 cm 双阀控制器: 12.4 x 10.5 x 2.8 cm订购指南 量程压力表单阀压力控制器高流量压力控制器双阀压力控制器表压测量0-1 psig0-5 psig0-15 psig0-30 psig0-100 psig68027-3868027-4068027-4268023-5268023-5468026-5368026-5468027-4468027-4668026-5868027-4868027-5068027-5268027-5468027-5668027-5868027-6068027-6268027-6468027-66绝对压力测量0-30 psig0-100 psig68027-7068027-7268027-7868027-8068027-8668027-8868027-9468027-96

一、操作便捷性：抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程，只需用卡箍便可完成连接，方便操作 二、控制智能化1、采用数显真空计，配合热电偶规管采集数据。测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强、真空度显示采用科学计数法，数字显示，使用方便直观。2、该系统采用分子泵系高压强耐冲击，与专用的控制电源配套使用，提高了使用的可靠性，尤其当炉管密封系统与在使用过程中的大气相通，导致系统会自动停止工作，待炉管密封系统恢复正常仍可使用。 三、结构实用性：1、内置双级旋片式机械真空泵，有效地提高了抽气效率。2、本身作为真空控制系统的同时，也可作为活动平台使用，方便放置电炉及其它设备。 四、周边扩展性：1、该真空控制系统可与公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉。2、该真空控制系统可与公司生产的气体流量控制系统组合使用。3、该系统可作为真空获得设备独立使用。产品用途：该系列产品应用在我公司生产的真空/气氛管式电炉及真空/气氛箱式电炉等设备上。是对炉管及箱体抽取真空、真空测量与自动控制为一体的真空控制系统总成。设备为用户提供了具有真空度可控的实验环境。

标准型号低轨卫星专用高低温环境试验箱TVAC3，低轨卫星用高低温试验箱（热真空罐），目前在欧洲已有多家为低轨卫星提供配套组件的客户，如：ISISPACE NANO AVIONICS APOGEO SPACE LUNAR OUTPOST。基本参数：外型尺寸: - W 宽度: 1245 mm - H 高度: 1974 mm - D 深度: 818 mm重量：750 kg功率：8kW易于移动，可自行安装真空腔体：电抛光不锈钢尺寸：485mm(W) x 525mm(D) x 615mm(H)手动开门 ( 100 度) 内部照明视窗 (ISO-K 100)支撑台尺寸：400mm(W 宽度) x 450mm(D 深度)3个备用口 (KF50)用于 TC 的插座面板真空系统：标准配置元件： - 初级泵：涡旋泵 10m3/h - 高真空泵：涡轮分子泵 300l/s - 高真空阀门 - 全量程传感器（冷阴极 + 微电阻 + 压电差分）性能 : - 真空度: P5x10-6 mbar - 从大气压到 1x10-5mbar 真空度抽真空时间＜1小时热系统：Telstar设计，全球装机超过750台带电子膨胀阀的复叠式 R23-R507 制冷系统双 PT100 探头控制硅油回路ARMAFLEX 隔离保温温度范围: -60º C to +120º C加热制冷速率: 2º C/min温度均匀性: ± 2º C控制系统：通过PC和SCADA系统控制可远程通过VPN连接手动、半自动、全自动 (运行已设定工艺）三种操作模式监控数据（真空度、流体温度等）可记录8个热电偶温度探头数据热电偶馈入件 8 个 TC，供用户使用，带插座面板

热真空系统NDT-4000热真空系统概述：NDT-4000是NANO-MASTER器件测试系统，用于极真空及可控均匀的加热和冷却循环套件下测试器件或样品。该系统具有计算机控制、安全连锁，以及多级密码授权访问保护的功能。它可以用于超过24小时的圈子全自动热、冷循环情况下测试器件/样品，温度条件通过程序定义。该系统最通常的应用之一是太空模拟。系统腔体的大致尺寸为：直径24"，长度43"。带有一个16"x32"的滑动加热平，可以冷却到零下100摄氏度。热真空平台也可以加热到150摄氏度，具有高度的均匀度。在去边75px后整个平台的温度均匀度可达+/-1摄氏度。加热平台安装在滚轴上，可以方便拉出最大到75%的长度，腔体提供20个RF连接头，尺寸为2.92mm，可以支持高达40GHz的频率。腔体的两侧分别有一个50针的引线。真空系统包含HiPace1200（1000 L/s抽速）涡轮分子泵以及一个ISP500干泵，系统的极限真空可达7x10-8Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别。另外，我们可以根据客户需要提供定制的引线、额外的仪器法兰以及真空泵升级等。 NDT-4000热真空系统应用：Device Testing in Temperatures -100 0C to 150 0C in Extreme Vacuum for Space Simulation用于模拟太空环境极真空下温度从-100 0C 到 150 0C情况下的器件测试 NDT-4000热真空系统产品特点： Controllable uniform heat and cold cycle conditions 可控的均匀加热行业冷却循环条件 Computer controlled 计算机控制 Safety interlocks 完整的安全联锁 Multiple levels of access with password restrictions 4级密码访问保护 Chamber size is 43” in length and 24” in diameter 腔体尺寸43”长，24”直径 Sliding thermal platform of 16” x 32” cooled to -1000C 滑动式加热平台的面积为16”x32”，可冷却到-1000C Thermal platform can also be heated to 1500C with 3 cm exclusion zone around the edges achieving the uniformity of ±10C throughout the platform 热平台可加热到1500C，去边75px后平台的热均匀度可达±10C Thermal platform is mounted on rolls so that it can be pulled out to 75% of its length for loading devices/samples 热平台安装在滚动轴上，可以拉出总长度的75%，便于器件/样片放置取出 Chamber has a provision of 20 RF connectors 2.92mm size which can hold up to 40 GHz of frequency 腔体提供20个RF连接器，尺寸为2.92mm，可以支持到40GHz的频率 Two 50 pin DC feedthroughs are also provided on either sides of the chamber 提供2个50 pin的DC直流引线，分别位于腔体的两端 Vacuum system consists of turbo molecular pump and dry scroll pump 真空系统包含涡轮分子泵和干泵 Base pressure 7 x 10-8 Torr, 10-6 Torr range in less than 20 minutes 极限真空7x10-8Torr，20分钟以内可以达到10-6Torr级别 Custom feedthroughs 可根据客户需要提供引线定制方案 Additional instrumentation flanges and pump upgrades can be done upon request 可根据用户需要提供额外的仪器法兰及真空泵升级 NDT-4000热真空系统软件： 实时温度曲线 程序开发 全自动抽真空及卸压 全自动温度控制 实时涡轮速度、系统真空和温度监控 两个Excel表的数据记录用于评估 NDT-4000热真空系统厂务要求： 主腔体尺寸为：50"Hx50"Wx26"D 制冷单元尺寸为：67"Hx36"Wx26"D 制冷单元变压器：27"Hx23"Wx15"D 电源要求：380V，3相交流电，35A/相 主系统冷却水：20-30PSI，1.5gpm流速 冷却单元冷却水：20-30PSI，5gpm流速 N2：80PSI

简介 PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点；1200℃高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温，配置不同的真空系统来达到理想的真空度；同时通过多路高精度质量流量计控制不同气体。 主要应用于高校、科研院所用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备，生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。同时上海煜志良好的售后服务体系，使得该产品的整体评价远超同行业标准。主要技术参数炉体结构整机采用SUS304不锈钢材质，流线型外观，断热式结构；日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能好；炉子底部装有一对滑轨，移动平稳；炉子可以手动从一端滑向另一端，实现快速的加热和冷却；炉盖可开启，可以实时观察加热的物料尺寸重量1730*660*1130mm；净重：210kg电源电压：AC220V 50/60Hz；功率：4KW炉管高纯石英管，高温下化学稳定性强，耐腐蚀，热膨胀系数极小； 尺寸：Φ60*1300mm法兰及支撑SUS304不锈钢快速法兰，通过用高温“O”型圈紧密密封可获得高真空；一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷；可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑；包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合加热系统加热元件采用康泰尔发热丝，表面负荷高、经久耐用；加热区长度：300mm恒温区长度：150mm； 工作温度：≤1150℃； 最高温度：1200℃；升温速率：10℃/min温控系统日本富士温控仪表，64段控温程序，可分步、分段混气系统三路质量流量计：数字显示、气体流量自动控制；内置不锈钢混气箱，每路气体管路均配有逆止阀；管路采用不锈钢管，接口为Φ6卡套；每路气体进气管路配有不锈钢针阀；通过控制面板上的旋钮来调节气体流量流量规格：0~1000sccm（可选）； 流量精度：±1.5%高真空系统采用双级旋片真空泵+分子泵，极限真空可达4.0*10^-4Pa； 复合真空计，配置电阻规+电离规抽速：110L/S； 冷却：风冷； 电源:AC220V 50/60Hz射频电源系统输出功率:0-300W；功率稳定度：±0.1%；射频电源频率:13.56MHz 稳定性±0.005%；最大反向功率:120W；射频电源电子输出端口:UHF； 冷却:风冷； 电源:AC187-253V 50/60Hz可选配件各种刚玉、石英坩埚，石英管，计算机控制软件保修卡整机一年保修（相关耗材除外）可根据客户要求定制！

ME 4C NT+2AK化学隔膜泵70mbar低极限真空描述：该化学真空系统结合了大抽速和达70mbar的低极限真空的优点，因此是一个非常适用于抽取大量气体或蒸汽的手段。该化学真空系统在化学、生物和制药实验室有广泛用途，主要用于不需要在出气口收集溶剂蒸汽冷凝液的实验。主要用于连接真空烘箱、单联或多练抽滤及低沸点溶剂的浓缩。进气口的分离瓶（AK）为玻璃材质，外覆保护膜，防止颗粒和液滴进入泵内。出气口的分离瓶用于收集冷凝液，防止冷凝液倒流回泵内，并使泵在运行时更加安静。性能特性： 1.优越的化学耐腐蚀性和蒸汽耐受性 2.在较高真空度下仍具有非常好的性能 3.结构紧凑 4.排气安静，振动极低 5.进气口和出气口分别配分离瓶用以收集冷凝液技术指标：技术指标单位ME 4C NT +2AK泵头数/级数2 / 150/60 Hz下的最大抽速m3/h3.9 / 4.350/60 Hz下的最大抽速cfm2.3 / 2.5极限真空（绝压）mbar/torr70 / 52环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm额定电机功率kW0.1850/60 Hz下的额定转速min-11500/1800防护等级IP 40尺寸（长x宽x高）mm316 x 242 x 291重量kg13.6噪音水平在50赫茲，典型值dBA45货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书，配双电压电机

PP3006 Coollok是带有气锁换样装置的电镜冷台，它使用于扫描电镜、双束电镜、射线装置以及其他真空系统，应用包括对电子束敏感的样品进行保护，以及对塑料、聚合物、低K电介质和软硬混合物等材料进行低温观察。同时该系统还可用于从手套箱中在惰性气氛环境转移水氧敏感及温度敏感样品进电镜观察。

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

PC 520 NT化学真空系统描述：该真空系统采用一个真空泵同时进行两个独立的真空应用的操作，是既经济又节省空间的好选择。每个真空端口安装一个带电磁阀的CVC 3000真空控制器进行真空控制。两个真空端口都内置止回阀，防止交互污染或干扰。该系统的核心部件是MZ 2C NT双级化学隔膜泵。它常用于含“常规”溶剂的中等尺寸的真空应用。出气口的废气冷凝器效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果，有效地循环利用溶剂的同时保护环境。PC 520 NT化学真空系统性能特性: 1.使用气镇仍能达到很好的极限真空 2.配两个CVC 3000真空控制器，易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀 3.两个专为化学设计的电磁阀，大的流通截面，流量控制因而不受限制 4.同时操作两个独立的真空应用 5.卓效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品PC 520 NT化学真空系统技术指标:技术指标单位PC 520 NT真空控制器2 x CVC 3000泵头数/级数2 / 250/60 Hz下的最大抽速m3/h2.0 / 2.350/60 Hz下的最大抽速cfm1.2 / 1.4极限真空（绝压）mbar/torr7 / 5极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr12 / 9环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口2 x 软管喷嘴接头 DN 8-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm冷却液接口2个 DN 6-8 mm 软管喷嘴接头额定电机功率kW0.1850/60 Hz下的额定转速min-11500/1800防护等级IP 40尺寸（长x宽x高）mm435 x 361 x 444重量kg17.7噪音水平在50赫茲，典型值dBA45ATEX 认证 (仅限230V)II 3G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书可选附件制冷剂阀 VKW-B (674220)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)真空橡胶管 DN 8 mm (686001)

化学真空系统 PC 3003 VARIO 简介：VARIO真空系统通过调节隔膜泵的马达转速实现准确的真空控制。按一个键后，即可实现全自动的蒸发控制。PC 3003 VARIO系统具有不错的极限真空，因此非常适合高沸点溶剂的蒸发，即使在很低的温度下亦是如此。该系统将优异的性能、紧凑的结构和超低的噪音结合在一起。进气口收集瓶（AK）为玻璃材质，外覆保护膜，可以防止颗粒或液滴进入泵内，保护真空泵的性能。出气口的废气冷凝器可实现近100%的溶剂回收效果。因需调控的马达速度控制使得膜片等磨损件的寿命超长。化学真空系统 PC 3003 VARIO 性能特性 ：整个过程真空度自动调节，过程稳定性高，操作过程无需过多干预强劲的真空泵使过程时间更短，零波动（无滞后）的真空控制非常适合高沸点溶剂在低温下的蒸发应用CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜单清晰，内置放气阀卓效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品化学真空系统 PC 3003 VARIO 技术参数：技术指标单位PC 3003 VARIO真空控制器CVC 3000泵头数/级数4 / 4最大抽速m3/h2.8最大抽速cfm1.6极限真空（绝压）mbar/torr0.6 / 0.45极限真空（绝压），使用气镇mbar/torr1.5 / 1.12环境温度范围（操作）°C10 - 40环境温度范围（储存）°C-10 - 60最大出气口压力（绝压）bar1.1进气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm出气口接口软管喷嘴接头 DN 8-10 mm冷却液接口2个 DN 6-8 mm 软管喷嘴接头额定电机功率kW0.53电机转速范围min-130 - 2400防护等级IP 40尺寸（长x宽x高）mm419 x 243 x 444重量kg20.6噪音水平在50赫茲，典型值dBA43ATEX 认证 (仅限230V)II 3G IIC T3 X Internal Atm. only货品配置真空系统安装完毕，连接即可使用，附带说明书可选附件制冷剂阀 VKW-B (674220)泄气阀 VBM-B (674217)液面探测传感器 (699908)真空橡胶管 DN 8 mm (686001)

Janis低振动超高真空低温恒温器CCS-XG-UHV，采用无液氦制冷技术，将样品在真空中冷却至低温，根据实验的最低温度需要可以选择不同的制冷机。CCS-XG-UHV是一款低振动（40 nm）的低温恒温器，主要用于兼容超高真空系统，特别适用于对振动特别敏感的超高真空低温实验，用户可选择多种电学测试接头、定制样品座等。 主要特征： ♢ 无液氦制冷 ♢ 温度范围4 K ~ 325 K ♢ 样品处于超高真空中 ♢ 振动＜40 nm ♢ 适配超高真空系统 设备选件：样品座电学测试接头提供光学样品座、标准电学样品座、四探针样品座、插拔样品座等多种类型……提供多通道直流、BNC、SMA、三同轴等多种电学测试接头，可以根据您的需求灵活配置…… 主要参数：CCS-XG制冷类型闭循环制冷温度范围4 K ~ 325 K典型温度稳定性±50 mK样品环境超高真空烘烤温度（去处冷头）200℃降温时间2 h ~ 3 h振动40 nm冷头位置顶部光学窗口✖ 高度(近似值)559 ~ 660 mm重量 (近似值)取决于配置制冷机建议维护时间10,000 h

DC Chem 自动真空控制系统真空泵 : 产品特色 BLDC无刷直流马达DC Chem 610 Pro内建直流变频马达，不仅可省电超过40%以上，更可以减少马达与帮浦损耗。精准零延迟DC Chem 610 Pro的内建控制器可直接操控帮浦马达的转速，比起一般真空控制器的电磁阀控制，这样的设计可以将真空度维持在更平稳的曲线上，适合需要高精确的真空控制实验。自洁功能在每次使用过后，在不需要卸载管路的状态下，DC Chem 610 Pro会自动抽取干净的空气以排除残留在机体内的湿气与溶剂气体以延长帮浦寿命。自动沸点侦测DC Chem 610 Pro内建的真空控制器可自动侦测溶剂沸点、避免避免突沸，将真空度维持在最佳化区间。佳化区间。磁力吸附与远端操作DC Chem 610 Pro的触控萤幕透过磁力吸附装置可轻松拆卸，携带至近处进行无线操作。 DC Chem 自动真空控制系统真空泵 : 国际认证 欧盟CE安全认证IP 20 (真空控制器)RoHS认证 DC Chem 自动真空控制系统真空泵: 产品应用 实验室真空控制，如蒸馏、梯度控制 DC Chem 自动真空控制系统真空泵 : 订购资讯 182610-01(02)-PDC Chem 610 Pro自动真空控制系统AC110V, 60Hz (AC220V, 50Hz)182610-50DC Chem 610 Pro玻璃组，含500 mL球形接收瓶 *2182610-62-PDC Chem 610 Pro维修包183100-10-4018650充电式锂电池, 3350 mAh165100-15-35-50CR1220钮扣锂电池, 3V180300-68矽胶管Ø 8 x 14 mm