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薄膜反射仪

仪器信息网薄膜反射仪专题为您提供2024年最新薄膜反射仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜反射仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜反射仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜反射仪相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜反射仪相关的最新资讯、资料,以及薄膜反射仪相关的解决方案。

薄膜反射仪相关的耗材

  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 薄膜溶解测量仪配件
    薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化,是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品,使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部,距离玻璃窗口非常接近,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据。另外,根据需要,我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer,提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具,以固定小尺寸的硅样品或3' ' ,4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同,如溶解速度的不同,它能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程,而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量,薄膜溶解测厚仪需要光滑,具有反射性的衬底,对于光学常数测量,平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的,衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量,已经成功应用于测量反射衬底(Si晶圆)上各种光滑,透明或轻度吸收薄膜的溶解过程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜,聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:15kg 电力要求:110/230VAC薄膜溶解测量仪应用:聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米; 波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 光源:使用显微镜光源 光斑大小:由显微镜物镜决定 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口; 尺寸:120x120x120mm 重量:1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量
  • 反射模块
    反射模块可以测量样品的反射系数。配合根据干涉现象原理设计的反射模块,LabPro Plus软件的厚度模式能测量微米级薄膜的厚度。
  • 手持式薄膜测厚仪配件
    手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k),薄膜厚度测量范围为350-1000nm,不需要电线连接,也不需要实验室安装空间,它从USB连接中获取工作电源,这种独特设计方便客户移动测量,只需USB线缆从计算机控制测量即可,采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪,具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源,光源寿命高达20000小时,手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电,不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 15nm-90微米;波长范围: 360-1050nm 探测器:3648像素Si CCD阵列,16bit A/D精度:1nm 斑点大小:0.5mm 光源:LED混合光源( 360-1050nm )所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:300x110x500mm 重量:600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 镜面反射组件
    镜面反射组件(7201#)为FTIR红外光谱仪提供80度的镜面反射角,是理想的红外镜面反射附件.镜面反射组件功能特点镜面反射是分析透明薄膜的一种主要技术, 使用常见的透射光谱技术测量透明薄膜,透明薄膜常常发出微弱的光谱。主要应用是反射衬底上的表面镀膜,薄膜厚度测量,反射系数测量。实际应用决定入射角的选择. 30度的入射角用于测量比较常见的样品, 而且这些样品的薄膜厚度在微米量级。对于纳米厚度量级的薄膜,80度的入射角比较合理。如果待测薄膜的厚度未知, 那么比较适合选用, 它的可变角度范围为30-85度, 适合全部镜面反射的分析。这些附件都配有参考镜片,帮助用户获取背景光谱。,这些附件的设计都注意消除杂散光保证最小的能力损失。如果使用线网型偏振片,灵敏度还能进一步提高.本镜面反射组件和红外镜面反射附件仅仅提供80度的镜面反射角,. 30度和可变角度的附件可以另外购买.Specular Reflectance is a technique for analyzing transparent films which usually yield weak spectra by ordinary transmission techniques. Applications include surface coatings on reflecting substrates film thickness measurements by interference fringes and reflectivity coefficient determinations of metals. The application is the determining factor when deciding which angle of incidence should be selected. A 30 degree angle of incidence is normally chosen for more routine samples which have coating thicknesses in the micrometer range.镜面反射组件可选附件: 镜面反射附件反射组件 (PartNo. #9000 )该红外镜面反射附件包括镜ATR附件、镜面反射和漫反射所有组件, 用于FTIR光谱仪的反射配件.组成如下:货号1075水平ATR系统配备45度ZnSe顶板,顶板夹,挥发物盖子和粉末压片. 镜面反射附件,镜面反射组件,镜面反射光谱仪,红外光谱镜面反射,货号6000高性能漫反射系统带有大小品杯、KBr粉末、样品漏洞、玛瑙砂浆/碓、骆驼毛画笔等.货号7200 30度镜面反射系统镜面反射组件组合型HATR Part No #9110 组合化学已经成为制药,生物科技,高分子科学和有机合成的必备技术. 红外镜面反射附件由于可以给出固态反应衬底的结构性信息而成为分析过程的重要工具.我们推出的MIRacle 组合型水平ATR可以让用户免于样品准备的繁琐而在一秒钟之内获得结果. 红外镜面反射附件提供了一个1.6mm的样品接口,配备了专门设计的组合秘诀珠,冠和别针专门装备的组合珠冠和别针.
  • 聚合物薄膜测厚仪配件
    聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法,使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标:例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg),热分解温度,薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据,能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据,并且能够控制薄膜加热和制冷的速度,是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究,例如:薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究,薄膜光学性质随温度的变化,薄膜预烘烤Post Apply Bake,光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量,这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的,背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks,给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能,光刻薄膜的热处理影响分析,Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5%分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:13.5kg 电力要求:110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度
  • 变角镜面反射附件
    变角镜面反射附件是一款适合各种镜面反射分析的变角镜面反射附件,变角镜面反射附件是分析透明薄膜的一种主要技术, 使用常见的透射光谱技术测量透明薄膜,透明薄膜常常发出微弱的光谱。变角镜面反射附件功能特点主要应用是反射衬底上的表面镀膜,薄膜厚度测量,反射系数测量。实际应用决定入射角的选择,30度的入射角用于测量比较常见的样品,而且这些样品的薄膜厚度在微米量级。对于纳米厚度量级的薄膜,80度的入射角比较合理。如果待测薄膜的厚度未知,那么比较适合选用变角镜面反射附件VEEMAXII,它的可变角度范围为30-85度,适合全部镜面反射的分析。配有自动化附件,这些自动化的附件可以协助用户同时或单独编程控制地高精度选择入射角,并配有控制软件采集数据。具有30-85度的可变角度范围, 30度和80度固定角度的附件可以一起订购。变角镜面反射附件可选项变角镜面反射附件反射组件 (PartNo. #9000 )该反射组件包括镜ATR附件、镜面反射和漫反射所有组件, 用于FTIR光谱仪的反射配件.组成如下:货号1075水平ATR系统配备45度ZnSe顶板,顶板夹,挥发物盖子和粉末压片.货号6000高性能漫反射系统带有大小品杯、KBr粉末、样品漏洞、玛瑙砂浆/碓、骆驼毛画笔等.货号7200 30度镜面反射系统.变角镜面反射附件组合型HATR Part No #9110 组合化学已经成为制药,生物科技,高分子科学和有机合成的必备技术. 傅立叶变换红外光谱仪FTIR由于可以给出固态反应衬底的结构性信息而成为分析过程的重要工具.我们推出的MIRacle 组合型水平ATR可以让用户免于样品准备的繁琐而在一秒钟之内获得结果. 单反射附件提供了一个1.6mm的样品接口,配备了专门设计的组合秘诀珠,冠和别针专门装备的组合珠冠和别针.
  • 薄膜厚度测量系统配件
    薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型,不同光谱范围和光源,满足各种测量应用
  • Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件 0033-197
    Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件Thermo Scientific Smart SAGA 适用于对金属基上的亚微米薄膜进行掠入射分析。Smart SAGA(高光带孔掠射角)极易操作,性能优异,样品区辨识能力极高。 只需将样品平放在水平采样台上,用激光雕刻隔栅进行定位,如需要则转动转轮以设置孔尺寸,然后扫描。掠射角反射系数是用以分析薄涂层或沉淀物的选择性方法,因为高入射角可以增大穿过感兴趣材料的红外光束的光程长度,从而大大改善灵敏度。 由于高入射角和选择性偏极化,因此可获取单层灵敏度。描述80° 固定入射角全金反射光学器件可以分析 10 埃 至 0.5 微米的薄膜永久性固定的偏光镜可以大大减小无益于表面光谱数据的‘S’偏光,从而可以改善灵敏度和采样速度独特的内部滑孔组件可快速调节至四种不同的样品定义形状与尺寸,无需设置孔径。采样板上的激光雕刻隔栅便于在进行定量分析时,重复进行样品定位和遮盖。SpecificationsAngle of Incidence: 80° 平均固定角度Sampling Area两个圆形活动区域: 5mm和 8mm一个椭圆形活动区域: 16 × 8mm开束Optics: 金反射器件Sample Positioning: 样品台上的激光雕刻测量隔栅Polarizer: 锗超薄涂层金属基上的被吸附物润滑剂表面污染物残留物分子单层订货信息:货号类型0033-197For Nicolet Avatar0033-199Specular Reflectance00331XXSmart SAGA
  • 高精度膜厚仪|薄膜测厚仪A3-SR光学薄膜厚度测量(卤素灯)
    目标应用: 半导体薄膜(光刻胶) 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜(光刻胶) ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*(H90+H140)测试支架(配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘)测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm(标配,可以根据用户要求配置)样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标(THICKNESS SPECIFICATION):产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1(厚度要求)N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量,实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅(500纳米)测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.
  • 30度镜反射附件
    型号规格:TL011-1000品牌:PIKE30度Spec&trade 镜反射附件适用于用镜反射法测量薄膜样品。样品仅简单地铺在附件样品罩上,即可快速得到红外光谱。30度角镜反射附件包括3/8",1/4"和3/16"样品罩。得到的高质量光谱即可用于分析涂层结构又可用于测量涂层厚度。光路设计简单有效,光通量大。通用型设计,可直接用于Bruker、thermo、PE、Varian、Shimadzu以及国产红外光谱仪上。
  • 超快薄膜偏振片
    超快薄膜偏振片1.适用于钛:蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术,可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值,非常适用于高功率激光器,包括Ti:蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层,而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度 波长范围 (nm)透射率 (%) 20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts4#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts4#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090- #88-238技术数据
  • 单层/可变角度镜面反射附件
    单层/可变角度镜面反射附件双重样品引入设计,提供薄膜在气体及液体中原位FT-IR单层检测;梯度入射光提供固体反射表面薄膜涂层的检测。? 梯度光性能? 单层分析? 连续可调入射光 8°- 85°(根据仪器本身范围) ? 体积通量8.9ml? 样品规格:85 x 22mm 液体 140 x 35mm 固体? 内置极化架? 独特设计的小孔控制样品区? 液体薄膜压缩/扩展功能? 惰性PTFE样品流通(液体)单层/梯度镜面反射附件双重样品引入设计P/N GS19650,提供薄膜在气体及液体中原位FT-IR单层检测;梯度入射光提供固体反射表面薄膜包衣的检测。可选配的样品架可方便切换。梯度入射光从8°-85°可调,避免杂散光。独特设计的小孔可对光线进行修正,在临界梯度入射光极限情况下提高附件性能。单层模式包括表面活性剂、蛋白、洗涤剂、油类、高分子及生物膜中的磷脂双分子层,提供样品的原环境模拟研究。为研究分子取向、构象、相变,使用特制PTFE材质的样品通路装载样品。我们提供可旋转的偏光片架及压薄膜配件供研究所需。偏光片可安装Specac公司的P/N GS12000系列所有偏光片。选择合适的偏光片基板保证波长范围在中红外区域可见。针对固体样品,我们另外提供水平样品台代替液体流通台用于单层/梯度角度附件。单层梯度角附件中样品采样区大小和投射到样品表面入射光的角度相关。无论对于液体样品或固体表面,当入射光变大时(例如85°,单层设备极限),由于光的椭圆型反射区变大导致样品表面的光传播更广。因此,为了尽可能利用更多的光,您需要更长更细的样品区域增加样品信号。由于梯度角情况下镜面反射光强度极低,Specac公司通常推荐灵敏度更高的检测系统,如MCT检测器。对于液体样品,表面大小最大为85mm x 22mm。对于固体平台,样品最大长度可达140mm,宽度35mm。单层/梯度角度附件的底座可以安装在光谱仪样品室我们会根据您提供的光谱仪型号提供合适的底座装置。订购信息GS19650 单层/梯度角附件包含以下配件:光学元件及底座水平样品台小孔塞 偏光片架PTFE样品通道耗材GS19662 PTFE 样品池(单层模式)GS19663 单层/梯度角附件小孔塞及样品架子
  • 薄膜偏振片
    薄膜偏振片英文名Thin film polarizer,薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开,适合高功率激光或高能量激光应用,适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片,是一种适合高能激光应用的偏振片,损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器(偏振立方体)的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角(布儒斯特角)情况下的 偏振比值Tp/Ts=200:1.特点:1)薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2)薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存,可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料:BK7, UVFS直径公差:+0.0/-0.12mm厚度公差:+/-0.2mm净孔径:90%表面质量: 20-10 scratch&dig表面平整度:Lambda/10 @633nm平行度:30arec sec 消光比Tp/Ts:200:1典型透过率: Tp90%典型反射率:Ts99.5%激光损伤阈值: 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品:266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪!
  • Chemplex迈拉膜x射线定硫仪消耗品样品薄膜
    x射线定硫仪消耗品样品薄膜,迈拉膜,样品杯 Chemplex样品薄膜 型号:090,250 品牌:Chemplex 产地:美国 一、产品介绍: 在用X荧光光谱仪进行ROHS检测,WEEE检测和一般材料成分分析时,由于样品的不规则(特别是液体、粉末等),需要借助样品杯和薄膜辅助检测;但不合适的样品薄膜往往造成样品污染并影响材料成分分析的X射线信号和检测结果。 选择适当的薄膜材料对于分析结果至关重要。 在现有的众多不同的物质类型中,只有为数不多的几种具备能满足光谱化学需要的一致性和化学、物理属性。 如何选择薄膜样本支撑窗材料? 适当的薄膜样本支撑窗的选择主要以满足首要重要的实验室要求为基础: 使用方便快捷; 避免造成待测样品污染; 优越的分析物透射比与强度; 对待测样品的耐化学性。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司,是X射线光谱仪(XRF)配件耗材领域的全球知名厂商。 Chemplex XRF样品杯和样品薄膜用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体,粉末,液体,适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。Chemplex样品薄膜薄膜张力特性佳,与样品杯组合使用,适合盛放各类金属重物、液体或粉末。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注,使得Chemplex XRF样本杯、样品薄膜在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯、样品薄膜被列为新颖独特的设计和应用,并被美国商标局授予知识产权地位。 美同达为美国Chemplex公司的中国代理商,提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪(XRF)的检测实验消耗产品! 我们不仅能够为您提供样品薄膜、样品杯, 还可根据您的样品应用为您选择、定制合适的样品薄膜、样品杯。 二、适用仪器: 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克 Bruker、美国赛默飞世尔科技(热电)Thermo,瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma,Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 (适用X 射线荧光光谱仪品牌型号:所有X射线荧光光谱仪包括:尼通(NITON):Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ;伊诺斯(Innov-X):AlPHA6000;牛津(Oxford):Met-5000;帕纳科(Panalytical):Minipal4、 Minipal2;精工(Seiko):SEA1000A;斯派克(Spectro):XEPOS、MIDEX M;热电(Thermo):ARL Quant’X;日本电子(JEOL)JSX-3400R;Horriba等。) 三、SPECTROMEMBRANE?样品薄膜 随着SpectroMembrane?样本支撑托架的面世,在处理薄膜时用户不再需要担心静电附着或潜在的污染风险或吸引空中颗粒等问题。除样本杯外,薄膜不再近距离接触其它任何物体。薄膜处理将通过使用集成的托框完成,托框能够在组装过程中自动分离,留下绷紧的薄膜样本平面。 SpectroMembrane?薄膜样本支撑托架由一块粘在托架上作为支撑物的薄膜样本支撑物质组成。在把薄膜物质粘在XRF样本杯上时,薄膜物质并不会被直接处理,这就消除了污染的可能性。接近完成或在完成附着时,薄膜将自动从托架上分离,留下绷紧的无皱样本支撑窗。 x射线定硫仪消耗品样品薄膜,迈拉膜,样品杯 106麦拉膜、CAT.NO:150麦拉膜、CAT.NO:250麦拉膜、CAT.NO:256麦拉膜、CAT.NO:257麦拉膜、CAT.NO:416、CAT.NO:426等Cat. No. Type Thickness Format Size Qty/Pack446-5 Kapton? 7.5 μm (0.3mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 50090 Ultra-Polyester? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)95 Etnom? 1.5μm (0.06mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)100-PP Mylar? 2.5μm (0.1mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)106 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500107 Mylar? 2.5μm (0.1mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000150 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)150-PP Mylar? 3.6μm (0.14mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)156 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500157 Mylar? 3.6μm (0.14mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000250 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)250-PP Mylar? 6.0μm (0.24mil) Roll - PrePerf 3.0" (76.2mm) 300' (91.4m)256 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 500257 Mylar? 6.0μm (0.24mil) Precut Circles 2.5" (63.5mm) 1000美国Chemplex工业公司自1971年成立以来,一直坚持专注于X射线光谱分析的样品制备领域,拥有多系列独有的特色产品线以及产权,以质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉全球。美国Chemplex公司一直以产品创新、质量保证、、服务周到、准时交货为原则,几乎所有的产品有库存。美同达代理美国Chemplex工业公司旗下系列产品:XRF样品杯、XRF样品膜、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、符合ROHS方法的PE/PVC高分子聚合物(块/粉)、XRF/XRD化学试剂盒套包装等。全线供应给各大中石油、中石化、中海油旗下研发质检实验室,是一家专业的油品实验室进口配件耗材打包供应专家!
  • 氮化硅薄膜窗-X射线用
    X射线透射显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗口 产品概述: X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作(即薄膜与光束成一定角度)时,也需要较薄的薄膜窗口,便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成,由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域,例如,X-射线(上海光源透射成像/能谱线站)、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱(同步辐射)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下: 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸:1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸:2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸:3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度: 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度:50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品(30-500nm),但要100片起订。 本产品为一次性产品,不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标: 透光度: 对于X射线用窗口,500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果,对于软X射线(例如碳边吸收谱),100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性: 真空适用性数据如下:   薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度: 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定(粗糙度小于1nm),对于X射线应用没有任何影响。 温度特性: 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品,能够承受1000度高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性: 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点: 1、 同步辐射X射线(紫外或极紫外)透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜(薄膜直接沉积在窗口上)。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献:PRL
  • 镜面反射附件(PIKE) | L1272248
    产品特点:80 Spec 掠入射角型镜面反射附件(PIKE)这种附件用来测定相对较薄的膜和单分子层。样品朝下放置,然后对薄膜的光谱进行测定。本品包括基础光学部件、样品罩和偏振支架。10 Spec 镜面反射附件(PIKE)这种附件建议用来按照ASTM标准E1585 - 93 测定玻璃反射率。本品也可用来测定包括军用仪器、反射光学仪器、防反射(AR)镀层表面以及其他反射性和非反射性材料在内的各种表面的近正态反射率。订货信息:80 Spec 掠入射角型镜面反射附件(PIKE)产品描述Spectrum One/100/400/65Spectrum TwoFrontier80 Spec 掠入射角型镜面反射附件L1272248L1272248L127224810 Spec 镜面反射附件(PIKE)产品描述Spectrum One/100/400/65Spectrum TwoFrontier10 Spec 镜面反射附件L1272247L1272361L1272247
  • 可变角原位25次衰减全反射ATR
    可变角原位25次衰减全反射ATRFT-IR或色散仪高灵敏度ATR检测特点 入射光30°-60°可调 25次反射 适用于FT-IR或色散仪 样品架配两个引脚 标准 3” x 2” 样品架盘 多种晶体可选 可互换样品架(固体,液体,凝胶)25 次反射 ATR可变入射光25次反射ATR (P/N GS11000)是一款竖直方向的ATR晶体附件,入射光在30度-60度快速简单可调。通过调整样品架及晶体装置到适宜的位置,架体后方保持与刻度板设定角度相符。标准晶体架(P/N GS11001)用于固体样品,可选配液体架(P/N GS11003)及凝胶架(P/N GS11002)。为测量25次反射需保证样品覆盖梯形晶体正反两面。KRS-5是标配的ATR附件晶体,可选配一系列其他晶体如:ZnSe, Ge 及Si 以扩展样品操作能力及附件研究范围。四块反射镜通过调整角度及倾斜度反射、收集晶体的红外光。附件配备标准的3” x 2”架盘适配于市面上仪器的样品室,另外底座一角配备了支撑脚。支撑脚高度可调,保证附件在样品室内的平稳。支撑脚可通过翼形螺母锁住应用? 固体? 液体? 凝胶? 涂层及薄膜多深度研究订购信息GS11000 入射光可调25次反射ATR附件含固体架及45度角KRS-5 晶体可选配件GS11001 25次反射ATR固体架GS11002 25次反射ATR凝胶架GS11003 25次反射ATR液体架耗材GS11004 KRS-5 晶体 (45°) GS11006 Ge 晶体(45°)GS11009 Si 晶体(45°)GS11014 ZnSe 晶体(45°)GS11008 PTFE 垫圈液体架用(1大、1小,5套)
  • 氧化硅薄膜窗-X射线用
    有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司! 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比,氧化硅更易遭受化学侵蚀,且坚固性更差。但在X-射线显微镜中,由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较:相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒,特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小,此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中,薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中,装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度:200um、381um、525um; 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品,不建议用户重复使用;本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上,RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广,但所有应用都有无氮要求(因样本中有氮存在):1. 惰性基片可用于高温环境下,通过TEM、SEM或AFM(某些情况下)对反应进行动态观察。2. 作为耐用(如“强力”)基片,首先在TEM下,然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片,对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束(FIB)样本的装载。5.用作Ti、V、Mo等滤光器基质;用于X-射线光学设备中,如分光器定制服务:本公司接受特殊规格的产品预订,价格从优。详情请咨询:admin@instsun.com
  • 80度掠角镜反射附件 160-xxxx 160-xxxx
    型号规格:通用型品牌:PIKE80度掠角镜反射附件由镀金反射镜,手动偏振架和红外光谱仪基座组成。适用于极薄薄膜和单分子层物质的红外光谱测量。适用于各红外光谱仪厂家,Bruker、Shimadzu、Varian、Thermo、PE等。
  • 透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口
    透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口 产品概述: 与X射线用氮化硅窗口类似,透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小,适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜(TEM)用氮化硅薄膜窗系列产品,规格如下: 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm) 边框厚度: 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm),但要100片起订。 本产品为一次性产品,不建议用户重复使用,本产品不能进行超声清洗,适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标: 表面平整度: 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整, TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为:0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性: 该窗格呈疏水性,如果样品取自水悬浮液,悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理,可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试,但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格,但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性: 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品,能够承受1000度高温,非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性: 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点: 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸,适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底,适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境,(薄膜直接沉积在窗口上)。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后,窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底,也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询:021-35359028/ admin@instsun.com
  • 可变角原位25次衰减全反射ATR
    可变角原位25次衰减全反射ATRFT-IR或色散仪高灵敏度ATR检测特点 入射光30°-60°可调 25次反射 适用于FT-IR或色散仪 样品架配两个引脚 标准 3” x 2” 样品架盘 多种晶体可选 可互换样品架(固体,液体,凝胶)25 次反射 ATR可变入射光25次反射ATR (P/N GS11000)是一款竖直方向的ATR晶体附件,入射光在30度-60度快速简单可调。通过调整样品架及晶体装置到适宜的位置,架体后方保持与刻度板设定角度相符。标准晶体架(P/N GS11001)用于固体样品,可选配液体架(P/N GS11003)及凝胶架(P/N GS11002)。为测量25次反射需保证样品覆盖梯形晶体正反两面。 KRS-5是标配的ATR附件晶体,可选配一系列其他晶体如:ZnSe, Ge 及Si 以扩展样品操作能力及附件研究范围。四块反射镜通过调整角度及倾斜度反射、收集晶体的红外光。附件配备标准的3” x 2”架盘适配于市面上仪器的样品室,另外底座一角配备了支撑脚。支撑脚高度可调,保证附件在样品室内的平稳。支撑脚可通过翼形螺母锁住应用? 固体? 液体? 凝胶? 涂层及薄膜多深度研究订购信息 GS11000 入射光可调25次反射ATR附件含固体架及45度角KRS-5 晶体可选配件GS11001 25次反射ATR固体架GS11002 25次反射ATR凝胶架GS11003 25次反射ATR液体架耗材 GS11004 KRS-5 晶体 (45°)GS11006 Ge 晶体(45°)GS11009 Si 晶体(45°)GS11014 ZnSe 晶体(45°)GS11008 PTFE 垫圈液体架用(1大、1小,5套)
  • 金属镀膜反射镜
    美国CVI laser optics 设计和生产紫外到近红外波段的高性能光学器件,主要应用在激光的光束调节和传输方面,在业内有很高的知名度。金属镀膜反射镜:通过复合镀膜能实现在紫外波段到中红外波段的反射率和起保护作用的金属膜层。美国CVI laser optics生产的反射镜有超过350种镜片可供选择;设计入射角为0°或45°,覆盖波段从190nm 到 2000nm 提供金、银、铝等金属镀膜,用于提高反射率、起保护作用等;使用BK7或UVFS材料,能够实现λ/10表面质量的镜片;提供具有高反射率的镀膜镜片,如MaxMirror 和MaxBRlte 能在宽波段内实现大于98%的反射率。若是单面镀膜,会在未镀膜面用箭头指向镀膜面,方便使用。
  • XRF荧光光谱仪专用测试薄膜
    产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜,以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度:下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上,使用两种材料:聚酯(聚酯薄膜)和聚丙烯(商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”,例如以“lene”结尾的,通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜)。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料,聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体(例如水、聚乙二醇和高沸点油)。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析,因为它没有主要成分其中的污染。相比之下,聚酯薄膜含有不需要的磷和钙(3.5 µmMylar 对应于纯油(例如清洁白油)中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜,例如Hostaphan(带有硅污染的聚酯)或聚碳酸酯(不含污染,首选用于燃料分析)受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明,因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。
  • 手持荧光光谱仪薄膜、样品杯膜TF-260
    土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#(SKY-260) permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品,欢迎采购, 卷:( 直径:3.0" (76mm);91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名:XRF样品膜Sample Film 型号: CAT. NO TF-260# 品牌:美国Premier Lab (原装进口) 货期:现货 起订量:1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜:美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域,以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film)以其极低的(几乎不含)杂质和厚度均匀而严格生产,极好的柔韧性和抗化学腐蚀性,保证检测结果的可靠性和重现性,被广泛应用于XRF样品制备、检测过程,适用于各类X-ray光谱仪(XRF:WD-XRF、ED-XRF)。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测,适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点: 有卷状和片状,多种规格、尺寸、数量可供选择; 柔韧性强、方便、耐用; 的X-ray射线穿透性,适合各类XRF光谱仪; 的抗化学腐蚀性能,不溶于有机溶剂,不污染待测样品; (几乎不含)痕量杂质,特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF:日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录:美国Premier X-ray样品膜种类:(1)、Hostaphan膜;(2)、Kapton膜:聚酰亚胺膜,卡普顿膜;(3)、Mylar膜:聚酯薄膜,迈拉膜,麦拉膜;(4)、Polypropylene膜:聚丙烯膜。目录编号:CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴
  • 高斯反射镜
    高斯反射镜是一种可变反射率反射镜,也是一种梯度反射率镜,Gaussian mirror, 这种高斯反射镜可以有效改善激光光束质量。高斯反射镜和变反射率镜的反射率是位置的函数,镜片反射率随着镜片上位置不同而不同。高斯反射镜能够在不稳腔中提供更加的激光模式,控制实现基模振荡而消除高阶模。高斯反射镜和梯度反射率镜能够改善输出激光的光束质量,特别是在低放大倍率情况下这种光束质量的改变更为明显。高斯反射镜提供的锥形反射率分布可以减少光场分布中的振荡,从而减少高功率激光应用中的光学损伤。高斯反射镜和变反射率镜典型的反射率分布是镜片中心的反射率最大,反射率从镜片中心到边缘依次按函数关系减低。 高斯反射镜和梯度反射率镜参数变反射率镜材料:熔炉石英,UVFS或BK7梯度反射率镜类型:平/平镜片, PCV, PCX高斯反射镜直径:19.05mm +0.0, -0.15 mm变反射率镜厚度:6 mm +/-0.1 mm梯度反射率镜平整度:&lambda /10高斯反射镜光洁度:20-10 scratch & dig变反射率镜平行度:10 arc sec梯度反射率镜净孔径:90%变反射率镜镀膜损伤阈值:10 J/cm2 @ 1064 nm for 10 ns pulses高斯反射镜,变反射率镜,梯度反射率镜询问服务:请直接在如下的询问栏里填写您的要求,然后复制后Email给我们,您会收到及时的报价回复。 Material 材料 Dimensions, mm尺寸 Thickness, mm厚度 Type类型PCXPCVFlat/FlatMeniscus Radius of Curvature, mm 曲率半径 Center wavelength, nm 中心波长 Wedge 倒角 Ro, % 中心反射率 Wm, mm Gaussian order, k 高斯级数 Quantity
  • Altechna 布鲁斯特型薄膜偏振片
    布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变(TWD)λ/10 @ 632.8 nm平行度误差30 arcsec消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm,持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地,BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开,并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200:1,在56°AOI(布鲁斯特角)下达到。为获得zui佳传输效果,布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1)有效分离s偏振分量和p偏振分量2)针对流行的激光波长进行了优化3)许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货! Altechna在标准,定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外(193纳米)到远红外(25微米)的波长范围,涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料:?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜(GTI)?可变反射镜?金属涂层 在Altechna,我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值,高质量涂层。每个涂层都是特殊的,多年来在光电领域,我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键,因此我们的涂层采用不同的技术,分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表:?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的,并根据光谱灵敏度,损伤阈值,硬度,表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力 100MPa~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸,mm基底材料波长,nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS 5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用,请与我们联系,以便定制解决方案。
  • 衰减全反射和漫反射附件
    IR衰减全反射和漫反射附件的详细资料: 详情请联系吴小姐:15080317079 衰减全反射和漫反射附件满足您所有采样需要 通用衰减全反射 (UATR) 附件 适用于Spectrum 400/100/One/65 分光计 通用ATR是一款优秀的附件,可用于固体和液体的分析。UATR的压力臂通过让金刚石晶体与样品良好接触来产生高质量谱图。压力臂使指示器保证结果的高度可重复性。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 旦附件放置到样品仓中,通用ATR模块及其序列号和ATR晶体类型(1, 3, 或9反射)就能立即被识别出来,并且系统适应性检查会随即启动。仅限于Spectrum 400/100/One Ø 自动优化&mdash &mdash 根据顶板的不同自动优化光学器件。仅限于Spectrum 400/100/One Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦Spectrum 100样品仓锁住,该附件即随时可用,无需任何校正操作 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件一旦安装完毕就成为了设备的组成部分 Ø 标准情况下配备有带压力传感器的压力臂挥发物盖(仅限于9反射UATR) 金刚石/硒化 UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250050 配备3反射 顶 板 和压力臂 L1250051 配备9反射 顶 板 和压力臂 L1250052 金刚石/KRS-5 UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250053 Ge/Ge UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250054 注意:UATR附件需.Spectrum v.6及以上版本支持 UATR附件用备用/替换件顶板和耗材 UATR &ndash 1反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250240UATR &ndash 3反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250241 UATR &ndash 9反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250242 UATR &ndash 1反射 金刚石顶板&ndash KRS-5 1 L1250046 UATR &ndash 1反射Ge/Ge顶板 1 L1250048 UATR 0.5mm套管 1 L1202049 UATR 6.0mm ATR套管 1 L1202050 UATR 锥形套管 1 L1201980 UATR 3.0mm样品定位板 1 L1202023 UATR 7.0mm样品定位板 1 L1202024 Miracle ATR附件 单反射ATR附件用来分析高吸收固体,半流体,和液体样品。小型圆形晶体是采样板构造的最大特点,它能实现对微量(5&mu L及以上)样品的可靠分析。 固体材料能够和晶体接触良好,从而保证了高质量、可重复的谱图。附件还配备有千分尺控制的压缩钳,挥发物品盖,清洁工具和一系列的晶体材料。 Miracle单反射ATR 金刚石适用于Spectrum RX/BX L1272239 ZNSE适用于Spectrum RX/BX L1272107 ZNSE适用于Spectrum 400/100/One/65 L1272126 GE适用于Spectrum 400/100/One/65 L1272127 ZNSE适用于Spectrum GX L1272103 GE适用于Spectrum GX L1272104 漫反射附件 是不透明样品和强散射样品测量的理想选择。该漫反射附件为药品、食品、肥皂粉末、煤炭、泥土、纸片、镀有涂层的表面、泡沫塑料和催化剂等不透明和强散射固体样品的分析提供了方便灵敏的方法。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 当附件放入样品仓时,漫反射附件及其序列号就能立即被识别出来 Ø 系统适应性检查&mdash &mdash 包括噪声,通量和污染情况的检查,当附件插入时或得到指令时,系统就会随即启动进行检查 Ø 自动优化&mdash &mdash 对于粉末、硅碳板或金刚石杵等的所有采样方法,样品位置都能被自动优化 Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦样品仓锁住,该附件就随时可用,无需任何校正操作。 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件安装之后就成为了设备的一个组成部分 配备多功能样品支架,2个大容量样品杯和2个微量样品杯,25个金属镀层研磨垫,25个金属镀层带支架的研磨杵,和一瓶30g KBr粉末。 用于 Spectrum 400/100/One L1200351 漫反射附件耗材 大容量杯 1 L1201654 微量杯 1 L1201655 多功能样品支架 1 L1201865 金属镀层研磨垫 100 L1275106 金属镀层研磨杵 100 L1275105 硅碳磨研磨垫 100 L1271021 金刚石研磨杵 100 L1275102 水平ATR附件 PerkinElmer水平ATR (HATR)附件基于衰减全反射原理,能为各种常规透射技术难以检测的固体、液体和糊剂样品的分析提供快速可靠的方法。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 当附件放入样品仓时,HATR附件及其序列号就能立即被识别出来,并且系统适应性检查会随即启动 Ø 自动优化&mdash &mdash 无论是何种种类的晶体,光路都能够被自动优化 Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦样品仓锁住,该附件就随时可用,无需任何校正操作 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件安装之后就成为了设备的一个组成部分 Ø 标准情况下配备有带压力传感器的压力臂(仅限于平顶板型) 与配备ZnSe 45° 晶体、粉末压片机和挥发物盖的平顶板一起提供。 适用于 Spectrum 400/100/One L1200351 HATR附件配备有 ZnSe平顶板和压力臂 L1200311 HATR附件配备有 ZnSe槽型顶板 L1200312 HATR附件用备用/替换件顶板和耗材 HATR ZnSe 45° 平板 1 L1200313 HATR ZnSe 45° 槽形板 1 L1200314 HATR Ge 45° 平板 1 L1200333 HATR Ge 45° 槽形板 1 L1200334 HATR 压力臂套件 1 L1200321 粉末压片机 1 L1201944 挥发物盖 1 L1205436
  • 衰减全反射和漫反射附件
    IR衰减全反射和漫反射附件的详细资料: 详情请联系吴小姐:15080317079 衰减全反射和漫反射附件满足您所有采样需要 通用衰减全反射 (UATR) 附件 适用于Spectrum 400/100/One/65 分光计 通用ATR是一款优秀的附件,可用于固体和液体的分析。UATR的压力臂通过让金刚石晶体与样品良好接触来产生高质量谱图。压力臂使指示器保证结果的高度可重复性。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 旦附件放置到样品仓中,通用ATR模块及其序列号和ATR晶体类型(1, 3, 或9反射)就能立即被识别出来,并且系统适应性检查会随即启动。仅限于Spectrum 400/100/One Ø 自动优化&mdash &mdash 根据顶板的不同自动优化光学器件。仅限于Spectrum 400/100/One Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦Spectrum 100样品仓锁住,该附件即随时可用,无需任何校正操作 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件一旦安装完毕就成为了设备的组成部分 Ø 标准情况下配备有带压力传感器的压力臂挥发物盖(仅限于9反射UATR) 金刚石/硒化 UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250050 配备3反射 顶 板 和压力臂 L1250051 配备9反射 顶 板 和压力臂 L1250052 金刚石/KRS-5 UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250053 Ge/Ge UATR 配备1反射 顶 板 和压力臂 L1250054 注意:UATR附件需.Spectrum v.6及以上版本支持 UATR附件用备用/替换件顶板和耗材 UATR &ndash 1反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250240UATR &ndash 3反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250241 UATR &ndash 9反射 金刚石顶板&ndash ZnSe 1 L1250242 UATR &ndash 1反射 金刚石顶板&ndash KRS-5 1 L1250046 UATR &ndash 1反射Ge/Ge顶板 1 L1250048 UATR 0.5mm套管 1 L1202049 UATR 6.0mm ATR套管 1 L1202050 UATR 锥形套管 1 L1201980 UATR 3.0mm样品定位板 1 L1202023 UATR 7.0mm样品定位板 1 L1202024 Miracle ATR附件 单反射ATR附件用来分析高吸收固体,半流体,和液体样品。小型圆形晶体是采样板构造的最大特点,它能实现对微量(5&mu L及以上)样品的可靠分析。 固体材料能够和晶体接触良好,从而保证了高质量、可重复的谱图。附件还配备有千分尺控制的压缩钳,挥发物品盖,清洁工具和一系列的晶体材料。 Miracle单反射ATR 金刚石适用于Spectrum RX/BX L1272239 ZNSE适用于Spectrum RX/BX L1272107 ZNSE适用于Spectrum 400/100/One/65 L1272126 GE适用于Spectrum 400/100/One/65 L1272127 ZNSE适用于Spectrum GX L1272103 GE适用于Spectrum GX L1272104 漫反射附件 是不透明样品和强散射样品测量的理想选择。该漫反射附件为药品、食品、肥皂粉末、煤炭、泥土、纸片、镀有涂层的表面、泡沫塑料和催化剂等不透明和强散射固体样品的分析提供了方便灵敏的方法。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 当附件放入样品仓时,漫反射附件及其序列号就能立即被识别出来 Ø 系统适应性检查&mdash &mdash 包括噪声,通量和污染情况的检查,当附件插入时或得到指令时,系统就会随即启动进行检查 Ø 自动优化&mdash &mdash 对于粉末、硅碳板或金刚石杵等的所有采样方法,样品位置都能被自动优化 Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦样品仓锁住,该附件就随时可用,无需任何校正操作。 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件安装之后就成为了设备的一个组成部分 配备多功能样品支架,2个大容量样品杯和2个微量样品杯,25个金属镀层研磨垫,25个金属镀层带支架的研磨杵,和一瓶30g KBr粉末。 用于 Spectrum 400/100/One L1200351 漫反射附件耗材 大容量杯 1 L1201654 微量杯 1 L1201655 多功能样品支架 1 L1201865 金属镀层研磨垫 100 L1275106 金属镀层研磨杵 100 L1275105 硅碳磨研磨垫 100 L1271021 金刚石研磨杵 100 L1275102 水平ATR附件 PerkinElmer水平ATR (HATR)附件基于衰减全反射原理,能为各种常规透射技术难以检测的固体、液体和糊剂样品的分析提供快速可靠的方法。 特色和优势 Ø 自动识别&mdash &mdash 当附件放入样品仓时,HATR附件及其序列号就能立即被识别出来,并且系统适应性检查会随即启动 Ø 自动优化&mdash &mdash 无论是何种种类的晶体,光路都能够被自动优化 Ø 零校正,零设置&mdash &mdash 旦样品仓锁住,该附件就随时可用,无需任何校正操作 Ø 集成化&mdash &mdash 插件模块设计意味着该附件安装之后就成为了设备的一个组成部分 Ø 标准情况下配备有带压力传感器的压力臂(仅限于平顶板型) 与配备ZnSe 45° 晶体、粉末压片机和挥发物盖的平顶板一起提供。 适用于 Spectrum 400/100/One L1200351 HATR附件配备有 ZnSe平顶板和压力臂 L1200311 HATR附件配备有 ZnSe槽型顶板 L1200312 HATR附件用备用/替换件顶板和耗材 HATR ZnSe 45° 平板 1 L1200313 HATR ZnSe 45° 槽形板 1 L1200314 HATR Ge 45° 平板 1 L1200333 HATR Ge 45° 槽形板 1 L1200334 HATR 压力臂套件 1 L1200321 粉末压片机 1 L1201944 挥发物盖 1 L1205436
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