药用抛光机

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

金刚石抛光剂广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、硬质合金及淬火钢材的高光亮度抛光，用于金相试样抛光时，更加凸显其独特的优越性，能够使试样更真实地显示其金相组织。技术参数粒度W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm

PharmaSpoon | 药用勺 超纯样品取样PharmaSpoon药用勺用于粉状物质以及制药行业的中间产品和材料的样品取样。必须使用具有优异表面特性的特殊材料以防止交叉污染。 我们的PharmaSpoon药用勺满足以上要求，选用不锈钢材料V4A (1.4404), 表面高度手工抛光（非电抛光）。卓越的表面性能使药用勺具有显著优势。 即使微量的可能存在的残留都能被发现(μg单位) 表面易于清洁PharmaSpoon药用勺同样适用于无菌取样PharmaSpoon是位于瑞士巴塞尔的一家国际知名药企开发的，其用途已经事实证明。PharmaSpoon药用勺长度mm起批量产品货号65055324-0001

红色金丝绒抛光垫适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数直径Φ70mm、Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

铸铝抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数Φ203mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

PharmaPicker | 药用取样器提取微量的高含量、昂贵或活性的粉末进行分析。 PharmaPicker药用取样器的最小取样数量可从 0.1 ml到 2.5 ml。只需将取样瓶的尖头容积更换为 0.1 - 1.2 ml或者1.25 - 2.5 ml, 即可改变取样容量。PharmaPicker药用取样器长度为60 cm,并可以重复延长 50 cm 或100 cm, 最长可达3.50 m. PharmaPicker可以单独使用，也可与其他附件组合成手提箱。 PharmaPicker手提箱包括：各种规格的取样瓶、50 cm和100 cm长度的延长杆、拉手、容积分别为0.4 ml, 0.6 ml, 0.8 ml, 1.0 ml, 1.2 ml, 1.4 ml, 1.8 ml, 2.0 ml, 2.3 ml and 2.5 ml的尖头（依据样品体积可选）、手提箱。 不锈钢 V4A 电抛光 使用1. 将所需的容积尖头插入取样瓶。2. 插入PharmaPicker, 磁盘套筒自动关闭取样瓶。3. 磁盘套筒在指定点打开取样瓶，收集所需样品。4. 完全收回PharmaPicker。 5. 将取样瓶中的样品全部倒入分析容器中。 PharmaPicker | 药用取样器型号产品货号带0.10-1.20ml取样瓶，无头5346-1000带1.25-2.50ml取样瓶，无头5346-2000整箱5346-0010附件产品描述产品货号PharmPicker容器喷头，容量0.10ml5346-1010PharmPicker容器喷头，容量0.20ml5346-1020PharmPicker容器喷头，容量0.60ml5346-1060PharmPicker容器喷头，容量1.00ml5346-1100PharmPicker容器喷头，容量2.00ml5346-2200PharmPicker容器喷头，容量2.50ml5346-2250

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。 产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。 产品名称金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液主要特点1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。产品参数1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.02、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ150mm、Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！ 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000：窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购） 04030：光学平台(玻璃平板) 04070：玻璃抛光圈抛光绒布 04010：抛光绒布（5片） 04020：平滑圈研磨纸 04090：备用研磨纸（平滑圈用） 04040：聚乙烯瓶（2支） 04050：清洁海绵 04060：红铁粉（75g） 04080：非粘性绒布平条（2片） 04095：毛刷（2把）

*产品名称*品牌*产品规格*产品价格氧化物最终抛光液德国古莎L0最终抛光液(0.05um）500ml/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L1最终抛光液(0.05um) 1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎L2最终抛光液(0.05um）1L/瓶500氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.05um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（0.25um）1L/瓶800氧化物最终抛光液德国古莎ALP最终抛光液（1um）1L/瓶800 精选的氧化物磨料+先进的化学悬浮方法，让氧化物机械化学抛光方法发挥出超级效率，为软质，韧性或者压力敏感制样提供完美表面。推荐配套4FV1型长绒植绒型抛光布或者聚氨酯发泡材料多空弹性抛光布，可以将机械化学抛光的效率最大化。 氧化物金刚石终抛抛光液规格粒度原料作用L0型纳米级水悬浮非团聚氧化硅抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮浓缩液（推荐稀释5-10倍使用）。通用材料型机械化学最终抛光液。L1型化学复合氧化物抛光液， 可以起到去薄的作用，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属钛以及钛合金的最终抛光，特殊设计可以使样品表面的韧性划痕变脆易磨削，从而完成最终抛光。L2型 由陶瓷与氧化硅复合的机械化学抛光液，碱性介质稳定，白色悬浮液，无需稀释。主要用于金属铝以及铝合金的在最终超镜面抛光前的精抛准备。ALP型1um应用新型抗团聚技术的高纯氧化铝机械化学最终抛光液，白色悬浮浓缩液（推荐稀释2-3倍使用）。适合于各类材料的精密最终抛光过程，主要用于最终表面极完美平整无划痕。0.25um0.05um

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

专用于岩石薄片抛光时使用、其配合抛光料一齐应用效果更佳，抛光布质地结实、外表美观大方，结实耐用，适用于各种岩石薄片制备时使用，一包10张，各种尺寸抛光布：分常规性、粘贴性、磁吸性。直径有Q200、Q250、Q300

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。 订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。 吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉，一瓶0.3 um -氧化铝粉，1大瓶 0.05 um -氧化铝粉，2块固定抛光布用的玻璃板，5片73mm直径1200金相砂纸（灰色），5片73mm直径尼龙抛光布（白色）和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。