紫外光刻机

无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸：925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源：375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度：500mm/s重复精度： 100nm晶圆写取面积：1—6英寸衬底厚度：250微米-10毫米激光点大小：1-100微米准直精度：500nm

特点：• 紫外正胶，用于单层lift-off工艺等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 在金属和氧化物等衬底表面有很好的粘附性能• 通过普通的单层工艺，即可实现lift-off剥离工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 紫外负胶（厚胶），适用于 LIGA 及 MEMS应用• 涂胶厚度 10μm@1000rpm， 可提供更高厚度（200μm）• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百 微米，适用于永久保留胶体结构的应用• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶，适合于电铸工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺• 可替代SU8胶 旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于亚微米精细结构加工、掩膜板制作、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 高分辨率、高对比度、优异的结构稳定性，可用于亚微米精 细结构的加工旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 高分辨率、高对比度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机； 7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机，适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。 紫外曝光机配件特点 1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应； 3）超强的功率密度 4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时； 5）方便用户使用的触摸屏配置； 6） 不需要预热； 7）计算机控制紫外光源强度调节； 8）自动晶圆装载和卸载功能； 9）超低能耗； 紫外曝光机配件参数 分辨率：2微米 发射光谱：365+/-5nm, 385+/-5nm 4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10% 暴晒时晶圆温度加热:1摄氏度 暴晒循环：1秒~18小时 记忆的曝光循环数： 10个 功率：180W 重量：8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源： 110V/230v50Hz

商标申请号:7183337 宏展仪器生产的Q8紫外线加速老化试验机您的首选品牌! 宏展仪器生产的Q8紫外线加速老化试验机结束进口设备长期对国内市场的垄断! Q8/UV紫外光加速老化试验机主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用；材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。紫外光老化试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样在模拟的环境中试验几天或几周的时间，可再现户外可能几个月或几年发生的损坏。 Q8/UV紫外光加速老化试验机中，紫外灯的荧光紫外等可以再现阳光的影响，冷凝和水喷淋系统可以再现雨水和露水的影响。整个的测试循环中，温度都是可控的。典型的测试循环通常是高温下的紫外光照射和相对湿度在100％的黑暗潮湿冷凝周期；典型应用在油漆涂料、汽车工业、塑胶制品、木制品、胶水等。 模拟阳光 阳光中的紫外线是造成大多数材料耐久性能破坏的主要因素。我们使用紫外灯来模拟阳光中的短波紫外部分，它产生很少的可见光或红外光谱能量。我们可以根据不同的测试要求选择不同波长的UV紫外灯，因为每种灯在总的紫外线辐照能量和波长都不一样。通常，UV灯管可分为UVA和UVB两种。 Q8/UV灯管 UVA-340灯管：UVA-340 灯管可极好地模拟太阳光中的短波紫外光，即从365 纳米到太阳光截止点 295 纳米的波长范围。 UVB-313灯管：UVB-313 灯管发出的短波紫外光比通常照射在地球表面的太阳紫外线强烈，从而可以最大程度的加速材料老化。然而，该灯管可能会对某些材料造成不符合实际的破坏。UVB-313 灯管主要用于质量控制和研究开发，或对耐候性极强的材料运行测试。 UVA-351灯管：模拟透过窗玻璃的阳光紫外光，它对于测试室内材料的老化最为有效。 潮湿冷凝环境 在很多户外环境中，材料每天的潮湿时间可长达12小时。研究表明造成这种户外潮湿的主要因素是露水，而不是雨水。Q8/UV通过独特的冷凝功能来模拟户外的潮湿侵蚀。在试验过程中的冷凝循环中，测试室底部蓄水池中的水被加热以产生热蒸气，并充满整个测试室，热蒸汽使测试室内的相对湿度维持在100％，并保持一个相对高温。试样被固定在测试室的侧壁，从而试样的测试面曝露在测试室内的环境空气中。试样向外的一面暴露在自然环境中具有冷却效果，导致试样内外表面具备温差，这一温差的出现导致试样在整个冷凝循环过程中，其测试面始终有冷凝生成的液态水。 由于户外曝晒接触潮湿的时间每天可以长达十几小时，因此典型的冷凝循环一般持续几个小时。Q8/UV提供两种潮湿模拟方法。应用最多的是冷凝方法，它是模拟户外潮湿侵蚀的最好方法。所有的Q8/UV型号都可运行冷凝循环。因为有些应用条件也要求使用水喷淋以达到实际的效果，所以有些Q8/UV型号既可运行冷凝循环又可运行水喷淋循环。 温度控制 在每个循环中，温度都可控制在一个设定值。同时黑板温度计可以监控温度。温度的提高可以加速老化的进程，同时，温度的控制对于测试的可再现性也是很重要的。 水喷淋系统 对于某些应用而言，水喷淋能更好地模拟最终使用的环境条件。水喷淋在模拟由于温度剧变和由于雨水冲刷所造成的热冲击或机械侵蚀是非常有效的。在某些实际应用条件下，例如阳光下，聚集的热量由于突降的阵雨而迅速消散时，材料的温度就会发生急剧变化，产生热冲击，这种热冲击对于许多材料而言是一种考验。Q8/UV的水喷淋可以模拟热冲击和/或应力腐蚀。 喷淋系统有12个喷嘴，在测试室的每一边各有6个；喷淋系统可运行几分钟然后关闭。这短时间的喷水可快速冷却样品，营造热冲击的条件。 照射强度控制：可选 选配照射强度控制选件可得到精确型和重复性好的测试结果；光强控制系统允许用户根据不同的测试要求设置不同的光照强度。通过其反馈回路装置精确控制照射强度；同时也可以延长荧光灯的使用寿命 温湿度控制器： 符合标准： ASTM G 153, ASTM G 154, ASTM D 4329, ASTM D 4799, ASTM D 4587, SAEJ 2020, ISO 4892 技术参数: 型号 Model Q8/UV3 Q8/UV2 Q8/UV1 UV 照射 Exposure ● ● ● 冷凝 Condensation ● ● ● 光照控制 Irradiancs Control ● ● 可调光线 Adjustable irradiance ● ● 喷水 Water Spray ● 热冲击 Thermal Shock ● 自动侦路 Self-diagnostics ● ● ● 灯泡数量 Lamp Q'ty 紫外线灯管 8 支，备品 4 支 Ultravloiet lamp 6pcs, spares 4 pcs (美国Q-LAB,Q-Panel,美国ATLAS,UVA340,UVB313,UVC351) 记录器 Recorder 选配 (Optional) 辐射计 Q8-CR Calibration Radiometer 选配 (Optional) 机器辐射强度： 1.0W／m2／340nm以内可调 1.1W／m2／313nm以内可调 UV 温度 Temp 50 ℃ -75 ℃ 冷凝温度 Condensation Temp 40 ℃ -60 ℃ 测试容量 Test Capacity 48pcs 片/se spray（ 75 x 150m m ） 50pcs片/basic （ 75 x 150m m ） 水凉及耗量 Water 蒸馏水每分钟 蒸馏水每日 8 公升 体积 Dimension(W x D x H) 137 x 53 x 136cm 重量 Weight 136kg 电源 Power 1 &psi ， 120V/60Hz,16A or 230V/50Hz, 9A,1800W(max)

荧光紫外灯光源，是模拟自然阳光中的紫外光辐射。 ⒈荧光紫外灯管功率：40W ⒉荧光紫外灯管长度：1120㎜ ⒊荧光紫外灯管辐照度范围：&le 50w/m2 ⒋荧光紫外紫外波长：290nm～400nm ①UV-A 340灯管的发光光谱能量主要集中在340nm的波长处 ②UV-A313灯管的发光光谱能量主要集中在313nm的波长处 ⒌①荧光紫外灯：发射400nm以下紫外光的能量至少占总输出光能80﹪的荧光灯。 ②Ⅰ型荧光紫外灯：发射300nm以上的光能低于总输出光能2﹪的一种荧光紫外灯。通常称为UV-A灯。（UV-A313、UV-A340、UV-A351、UV-A355、UV-A365） ③Ⅱ型荧光紫外灯：发射300nm以下的光能大于总输出光能10﹪的一种荧光紫外灯。通常称为UV-B灯。 ⒍①大多数试验场合推荐采用Ⅰ型灯，它是模拟夏天中午日光照射后的情况。这种灯在340nm处有一个发射峰。 ②另一种常用的Ⅰ型灯在351nm处有发射峰，多数用于模拟日光透过窗玻璃后的情况。 ⒎国产灯管的有效使用寿命在500小时左右（进口灯管寿命1600～1800小时） 灯管规格： （国产型）灯管长度：1120㎜ 直径：26mm （进口型）灯管长度：1120㎜ 直径：38mm

特点：• 用于掩膜板制作、精细结构加工、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 可得到非常薄且均匀的膜• 高灵敏度、高分辨率• 良好的粘附能力，可用于耐干法和湿法刻蚀工艺 旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 双层lift-off工艺的底层胶，不含光敏物质• 双层工艺配套用上层胶:AR-P 3500 (正)或AR-N 4340(负)• 在270nm~红外波段，光学透明• 具有良好的高温稳定性 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好，图形边缘陡直• 3220透明度高，100μm胶厚(多层涂胶工艺)也可正常曝光 • 具有良好的耐干法和湿法刻蚀能力 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于增强光刻胶和衬底的黏附性• 用于紫外光刻胶、电子束光刻胶、特殊功能用光刻胶等• 采用旋涂的方式进行涂覆，操作简单• 涂覆厚度：15nm@ 4000rpm• 和传统的HMDS相比，毒性更小，使用更安全，更经济实惠• new版本与旧版AR 300-80相比,烘烤温度降低 （60℃ 热板 2min）

特点：• 用于IC掩膜板加工等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 良好的耐刻蚀性能，粘附性强，工艺宽容度大• 适合于工业通用的0.26 n的碱性显影工艺• 3500T系列比原3500系列具备更高的分辨率和对比度 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

紫外光滤光片订货信息：

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紫外光滤光片订货信息：滤光片说明部件号配有中密度筛网和蓝色滤光片的衰减滤光器组件 包括两个蓝色玻璃滤光片，三个 0.5，1.0 和 1.5 Abs 中密度筛网和支架9910047700氧化钬滤光片118020790氧化钬/钕镨玻璃滤光片工具包 在 10 毫米长方形池支架上包含一个氧化钬和一个钕镨玻璃滤光片10030200经验证的钬玻璃滤光片 钬玻璃滤光片安装在经认证的 10 毫米长方形支架上2010094300经验证的钬玻璃滤光片 钬玻璃滤光片安装在经认证的 10 毫米长方形支架上2010094400光度线性测量用中密度滤光片组件 包括 1 个串联池支架和吸光度分别为 0.3、0.5、1.0 和 1.5 Abs 的两个中密度滤光片9910056100

现货销售Eco Sensors / 美国UV-100-UV100紫外光臭氧分析仪，办事处，操作说明书，特价，特点： 254nm水银灯紫外光分析法，符合国家标准要求 3段量程选择：0-1.0ppm、0-10.00ppm及0-900.0ppm 4天记录数据容量 LED警报灯：提示1年校准时间到期；更换过滤器；臭氧水平超过0.1ppm 可连接计算机下载数据现货销售Eco Sensors / 美国UV-100-UV100紫外光臭氧分析仪，办事处，操作说明书，特价，特点，规格：工作原理紫外光254nm灯量程0.01～900ppm3段量程：0～1.00ppm、0～10.0ppm、0～900ppm精度±2%输出数码显示，0～2.5V，4～20mA，内置数据记录器采样时间10秒尺寸 / 重量95 × 210 × 216 mm / 2.1kg电源12VDC外部电源

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型： 1.紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。 3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件：密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

多探头紫外辐照计 型号：ZRX-29332 紫外线包括UVA波段(320nm-380nm),UVB波段（280nm-320nm）和UVC波段（200nm-280nm）。UVA波段主要用于光固化,光刻曝光,紫外光源,集成电路光刻等行业；UVC波段，又称为短波灭菌紫外线。紫外线杀菌灯发出的就是UVC短波紫外线。多探头紫外辐照计是款可测试UVA,UVB,UVC各种波段紫外辐射照度的多通道紫外辐射照度计,可用于污水处理杀菌灯检测,电焊弧光检测,紫外老化实验箱检测等。采用数字探头，插拔式设计，仪器智能判断探头的型号。同时可以支持7种不同的紫外探头。ZRX-29332多探头紫外辐照计主机参数 1.仪器重量：约320克 2.主机尺寸：长125mm × 宽72mm × 14.5mm 3.电池：2节AAA碱性干电池。 4.探头连接方式：推拉自锁（卡扣式）目前ZRX-29332根据不同行业测量需求，提供了7种探头供选择： 1.P254探头：大率254nm杀菌灯强度检测。 1）光谱响应： 230nm-280nm λp = 254nm 2）量程范围：0 -200000 uW/cm2 3）分辨率：0.1μW/cm2 4）测量度：±10 % 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚16.1mm 2.P254-WP防水探头：水处理杀菌灯强度检测。 1）光谱响应： 230nm-280nm λp = 254nm 2）量程范围：0 -200000 uW/cm2 3）分辨率：0.1 uW/cm2 4）测量度：±10 % 5）测试光孔直径：￠10mm 6）探头尺寸：直径50mm×厚20mm 7）防水深度：1米 3.P297探头：UVB光源强度检测。 1）光谱响应：280nm-320nm 适用于297nm,308nm,313nm等波长的UVB光源测量。 2）量程范围：0-200000uW/cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW/cm2 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚16.1mm4.P365L探头：通用UVA光源强度检测。 1）光谱响应：260nm-400nm λp =365nm 2）量程范围：0-200000uW/cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW/cm2 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚12.2mm 　　5.P420L探头：通用UVA+UVV光源强度检测。 1）光谱响应：340nm-420nm λp= 395nm 2）量程范围：0-200000uW /cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW /cm2 5）测试光孔直径：￠9.2 6）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm 　　6.E365探头：压汞灯固化率、能量检测。 1）光谱响应：320nm-400nm λp =365nm 2）率量程范围：0 - 2000mW/cm2 3）能量测量范围：0--- 999999mJ/cm2 4）测量度：±10 % 5）分辨率：0.01 mW/cm2 6）测试光孔直径：￠9.2 7）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm　　7.E395探头：UV LED固化率、能量检测。 1）光谱响应：340nm-420nm λp= 395nm 2）量程范围：0-20000mW/cm2 3）能量测量范围：0--- 999999mJ/cm2 4）测量度：±10 % 5）分辨率：0.1 mW/cm2 6）测试光孔直径：￠9.2 7）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm

耐高温紫外光纤采用聚酰亚胺作为光纤涂敷层，适合应用于高温恶劣环境下的应用。光纤类型UV50/125PI UV200/220PI UV300/330PI UV400/440PI UV600/660PI数值孔径0.22±0.020.22±0.020.22±0.020.22±0.020.22±0.02羟基含量高羟基高羟基高羟基高羟基高羟基折射率结构阶跃型阶跃型阶跃型阶跃型阶跃型纤芯直径（μm）50.0±3.0200.0±4.0300.0±6.0400.0±10.0600.0±10.0包层直径（μm）125.0±3.0220.0±4.0330.0±7.0440.0±9.0660.0±10.0涂层直径（μm）145.0±5.0250.0±5.0360.0±10.0470.0±10.0690.0±15.0芯层材料纯石英纯石英纯石英纯石英纯石英包层材料氟掺杂石英氟掺杂石英氟掺杂石英氟掺杂石英氟掺杂石英涂覆层材料聚酰亚胺聚酰亚胺聚酰亚胺聚酰亚胺聚酰亚胺工作温度范围（℃）负65至300负65至300负65至300负65至300负65至300光纤接口：SMA905，FC，FC/PC等均可定制。光纤插针：金属插针，陶瓷插针，裸光纤等均可定制。保护套：金属铠装护套，PVC护套等均可定制。

超快非晶硅激光刻膜机配件是特别为太阳能产业光伏工业而设计的整套晶圆激光加工系统。可用于光伏电池激光加工,去除氮化硅膜氮化硅膜蚀刻,晶圆边缘隔离，有可以当作激光刻膜机,激光划片机使用。 提供如下四合一服务：SiNx/SiO2去除,去除二氧化硅,去除氮化硅 边缘隔离晶圆 背接触激光烧结和激光刻槽 激光打标 其中紫外飞秒激光用于SiNx/SiO2的选择性烧蚀或切除(氮化硅膜蚀刻),配备的紫外飞秒激光可以非常精密地剥蚀SiNx(去除氮化硅膜),同时在Si层的直接或热效应降低到最低，从而增加载流子寿命（少子寿命）,避免微裂纹。而配备的1064nm的纳秒激光工作非常稳定而快速，将用于晶片的快速激光边缘隔离，激光打标和激光烧结。 非晶硅激光刻膜机配备自动处理和扫描系统，支持5’’和6’’直径的硅晶片加工。同时配备机械视觉系统以随时调节激光束扫描,保持高度重复性和可靠性。配1级激光安装防护装置和灰尘消除系统，营造无尘加工环境，以保证飞秒激光的精密烧蚀和热效应影响的最小化。 非晶硅激光刻膜机配件特色 配备的激光器处理能力高达800个晶片/小时或350000px/s 加工量为425个晶片/小时,优化后可用于2.5MW/a产品的生产线 适用5' ’和6' ' 硅晶片 紫外飞秒激光和红外纳秒激光光源 机械视图系统可调节激光扫描场 精密激光光束定位 激光划线激光剥蚀激光熔化 为用户提供了无银敷金属技术生产太阳能电池 成功地装配到生产能力高达2.5MWp/a的生产线上。 使用飞秒激光对晶圆wafer的发射端进行介电层（SiNx)的选择性移除。SiNx厚度为50-90nm,覆盖发射端，必须精确移除而不伤害发射层。一种应用是消蚀SiNx层的同时，也产生bus bars和fingers开口，下一步,这些开口将被镍覆盖，这样就形成了高质量的前接触。它使用振镜扫描器控制激光束切割发射端，独具的机械视图功能能够探测晶圆位置。

产品特点采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机，365nm波长直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件全自动化的对焦和套刻，易于使用晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um 套刻精度： 0.2um500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟500um最小线宽可灰度曝光（128阶）尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间 通用参数应用 微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作 教学、科研 参数MCML-110AMCML-120AWavelength 波长365nm365nmMax. frame 最大帧100mm x 100mm 100mm x 100mmResolution 分辨率1.0um500nmGrayscale lithography灰度光刻64 levels128 levels Max exposure最大曝光量500mJ/cm22000mJ/cm2Alignment accuracy对准精度200nm100nmfield curvature场曲率 1 um 1 umSpeed速度5mm2 /sec2.5mm2 /secInput file输入文件BMP, GDSIIBMP, GDSIIZ level accuracyZ级精度1 um1 umEnvironment环境20~25℃20~25℃ 样品

晶安生物品牌96孔石英酶标板应用光谱波段范围：1）紫外光学石英玻璃光谱透过范围：220---2500nm.2）红外光学石英玻璃光谱透过范围：260---3500nm.3）远紫外光学石英玻璃光谱透过范围：185---3500nm.晶安生物品牌96孔石英酶标板特征：晶安生物品牌96孔石英酶标板石英酶标板测量具有灵敏性，防止交叉污染的孔边设计，方便实验透明度均匀，孔径大小均一，配有8孔、12孔单条，与酶标板配合更经济实惠。晶安生物品牌96孔石英酶标板用途：适用于酶联免疫吸附试验、细胞培养分析、免疫、转基因产物鉴定，以及医学临床诊断、血凝试验分析等货号品名规格J0962696孔石英可拆酶标板1块/包J0962796孔石英不可拆酶标板1块/包

我们提供的高品质光源灯为您的 Cary 分光光度计带来最佳性能。紫外灯、氙灯和可见光灯是完全模块化的组件，您可根据实验需要选择和变换光源。 完全模块化并与 Cary 分光光度计兼容。 提供氙灯、紫外灯和可见光灯源。

商标登记证号:7183337 宏展仪器生产的Q8紫外光耐气候试验箱您的首选品牌! 宏展仪器生产的Q8紫外光耐气候试验箱结束进口设备长期对国内市场的垄断! Q8/UV紫外光耐气候试验箱主要用于模拟对阳光、潮湿和温度对材料的破坏作用；材料老化包括褪色、失光、强度降低、开裂、剥落、粉化和氧化等。紫外光耐气候试验箱通过模拟阳光、冷凝、模仿自然潮湿，试样在模拟的环境中试验几天或几周的时间，可再现户外可能几个月或几年发生的损坏。 Q8/UV紫外光加速老化试验机中，紫外灯的荧光紫外等可以再现阳光的影响，冷凝和水喷淋系统可以再现雨水和露水的影响。整个的测试循环中，温度都是可控的。典型的测试循环通常是高温下的紫外光照射和相对湿度在100％的黑暗潮湿冷凝周期；典型应用在油漆涂料、汽车工业、塑胶制品、木制品、胶水等。 模拟阳光 阳光中的紫外线是造成大多数材料耐久性能破坏的主要因素。我们使用紫外灯来模拟阳光中的短波紫外部分，它产生很少的可见光或红外光谱能量。我们可以根据不同的测试要求选择不同波长的UV紫外灯，因为每种灯在总的紫外线辐照能量和波长都不一样。通常，UV灯管可分为UVA和UVB两种。 Q8/UV灯管 UVA-340灯管：UVA-340 灯管可极好地模拟太阳光中的短波紫外光，即从365 纳米到太阳光截止点 295 纳米的波长范围。 UVB-313灯管：UVB-313 灯管发出的短波紫外光比通常照射在地球表面的太阳紫外线强烈，从而可以最大程度的加速材料老化。然而，该灯管可能会对某些材料造成不符合实际的破坏。UVB-313 灯管主要用于质量控制和研究开发，或对耐候性极强的材料运行测试。 UVA-351灯管：模拟透过窗玻璃的阳光紫外光，它对于测试室内材料的老化最为有效。 潮湿冷凝环境 在很多户外环境中，材料每天的潮湿时间可长达12小时。研究表明造成这种户外潮湿的主要因素是露水，而不是雨水。Q8/UV通过独特的冷凝功能来模拟户外的潮湿侵蚀。在试验过程中的冷凝循环中，测试室底部蓄水池中的水被加热以产生热蒸气，并充满整个测试室，热蒸汽使测试室内的相对湿度维持在100％，并保持一个相对高温。试样被固定在测试室的侧壁，从而试样的测试面曝露在测试室内的环境空气中。试样向外的一面暴露在自然环境中具有冷却效果，导致试样内外表面具备温差，这一温差的出现导致试样在整个冷凝循环过程中，其测试面始终有冷凝生成的液态水。 由于户外曝晒接触潮湿的时间每天可以长达十几小时，因此典型的冷凝循环一般持续几个小时。Q8/UV提供两种潮湿模拟方法。应用最多的是冷凝方法，它是模拟户外潮湿侵蚀的最好方法。所有的Q8/UV型号都可运行冷凝循环。因为有些应用条件也要求使用水喷淋以达到实际的效果，所以有些Q8/UV型号既可运行冷凝循环又可运行水喷淋循环。 温度控制 在每个循环中，温度都可控制在一个设定值。同时黑板温度计可以监控温度。温度的提高可以加速老化的进程，同时，温度的控制对于测试的可再现性也是很重要的。 水喷淋系统 对于某些应用而言，水喷淋能更好地模拟最终使用的环境条件。水喷淋在模拟由于温度剧变和由于雨水冲刷所造成的热冲击或机械侵蚀是非常有效的。在某些实际应用条件下，例如阳光下，聚集的热量由于突降的阵雨而迅速消散时，材料的温度就会发生急剧变化，产生热冲击，这种热冲击对于许多材料而言是一种考验。Q8/UV的水喷淋可以模拟热冲击和/或应力腐蚀。 喷淋系统有12个喷嘴，在测试室的每一边各有6个；喷淋系统可运行几分钟然后关闭。这短时间的喷水可快速冷却样品，营造热冲击的条件。 照射强度控制：可选 选配照射强度控制选件可得到精确型和重复性好的测试结果；光强控制系统允许用户根据不同的测试要求设置不同的光照强度。通过其反馈回路装置精确控制照射强度；同时也可以延长荧光灯的使用寿命 温湿度控制器： 符合标准： ASTM G 153, ASTM G 154, ASTM D 4329, ASTM D 4799, ASTM D 4587, SAE J 2020, ISO 4892 技术参数: 型号 Model Q8/UV3 Q8/UV2Q8/UV1 UV 照射 Exposure ● ● ● 冷凝 Condensation ● ● ● 光照控制 Irradiancs Control ● ● 可调光线 Adjustable irradiance ● ● 喷水 Water Spray ● 热冲击 Thermal Shock ● 自动侦路 Self-diagnostics ● ● ● 灯泡数量 Lamp Q' ty 紫外线灯管 8 支，备品 4 支 Ultravloiet lamp 6pcs, spares 4 pcs (美国Q-LAB,Q-Panel,美国ATLAS,UVA340,UVB313,UVC351) 记录器 Recorder 选配 (Optional) 辐射计 Q8-CR Calibration Radiometer 选配 (Optional) 机器辐射强度： 1.0W／m2／340nm以内可调 1.1W／m2／313nm以内可调 UV 温度 Temp 50 ℃ -75 ℃ 冷凝温度 Condensation Temp 40 ℃ -60 ℃ 测试容量 Test Capacity 48pcs 片/se spray（ 75 x 150m m ） 50pcs片/basic （ 75 x 150m m ） 水凉及耗量 Water 蒸馏水每分钟 蒸馏水每日 8 公升 体积 Dimension(W x D x H) 137 x 53 x 136cm 重量 Weight 136kg 电源 Power 1 &psi ， 120V/60Hz,16A or 230V/50Hz, 9A,1800W(max)