真空镀膜仪

真空镀膜厚度仪金属镀层测厚仪是一种用于精确测量金属镀层厚度的仪器，它对于镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料的质量控制具有重要意义。该仪器采用电阻法作为检测原理，通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。 金属镀层测厚仪主要由测量探头、测量电路和数据处理系统三部分组成。测量探头通过与被测样品表面接触来获取电阻值，其内部结构通常包括一对电极和测量线路，用于测量样品的电阻值。测量电路则将探头测得的电阻值转化为可读的数据，并将其传输到数据处理系统进行处理。 在测量镀铝膜、真空镀膜和镀铝纸等材料时，金属镀层测厚仪能够对其表面和底层的电阻值进行精确测量。由于不同金属材料的电阻率不同，因此可以通过测量电阻值的变化来推算金属镀层的厚度。具体来说，金属镀层测厚仪会根据样品的电阻值变化来计算出金属镀层的厚度，并将结果以数字或图表的形式显示出来。 金属镀层测厚仪具有高精度、高分辨率和高灵敏度的优点，能够准确地测量出金属镀层的厚度，从而为生产厂家提供可靠的质量保证。同时，该仪器还具有操作简单、使用方便的特点，能够满足工业生产中对快速、简便测量的需求。 金属镀层测厚仪的优点还包括其非破坏性测量方式，即不会对被测样品造成损害。这使得生产厂家可以在生产过程中进行在线测量，及时发现并解决问题，大大提高了生产效率和产品质量。此外，金属镀层测厚仪还可以通过计算机接口实现数据共享和远程控制，提高了测量的自动化程度和便捷性。 金属镀层测厚仪是一种高精度、高分辨率、高灵敏度的仪器，采用电阻法检测原理，能够准确地测量出镀铝膜、真空镀膜、镀铝纸等材料金属镀层的厚度。它具有操作简单、使用方便和非破坏性测量等优点，适用于工业生产中的在线测量，能够提高生产效率和产品质量。 技术参数 厚度测量范围 厚度50-570&angst 方块电阻测量范围 0.5-5Ω 方块电阻测量误差 ±1% 样品尺寸 100×100mm 夹样精度 ±0.1mm 测温范围 0～50℃，精度±1℃ 外形尺寸 370mm×330mm×450mm （长宽高） 重 量 19kg 工作温度 23℃±2℃ 相对湿度 80%,无凝露 工作电源 220V 50Hz 真空镀膜厚度仪此为广告

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DST1-300Vac Techniche DST1-300 Turbo-Pumped Sputter Coater DST1-300具有最小的台式机占地面积之一，可为高分辨率SEM和TEM样品制备提供直流和射频溅射。 DST1-300系列提供以下版本，以满足大多数实验室应用。DST1-300单磁控管，直流，射频，样品偏置，样品加热，样品旋转DST2-A两个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。 DST2-TA两个磁控管成角度的中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-S两个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST2-TS两个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-A三个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。DST3-TA三个磁控管倾斜中心焦点，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，用于碳、电线或船的单一热蒸发设施。DST3-S三个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转。DST3-TS三个磁控管，直流，射频样品偏置，样品加热，样品旋转，碳、电线或船的单次热蒸发。也可选择4〃磁控管。

Vac Techniche真空镀膜 桌面镀膜系统 紧凑型桌面镀膜系统 紧凑型碳纤维镀膜系统DTTDTT: Turbo Triple Thermal Evaporation Source Desktop CoaterVac Techniche三热源台式涂布机为各种形式的源材料提供了一个非常通用的热蒸发系统，包括电线、绳索、颗粒和粉末，与船/篮和线圈源支架兼容。为了便于使用，触摸7英寸彩色屏幕控制具有全自动控制、数据输入和显示功能，专为经验丰富和缺乏经验的操作员设计。控制系统允许记录多达300个历史处理。 三个独立的耐热热蒸发源。蒸发源支架的设计不会造成源材料对彼此的污染。 光源支架的长度可以在50mm~90mm的范围内进行调整。可进行联合蒸发升级 蒸发源篮子线圈/电线

派瑞林真空镀膜机用独特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长〞出完全敷形的聚合物薄膜涂层 ，具有其他涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面，包括尖说的校边 ，裂缝里和内表面。可应用于航空航天、新能源汽车、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械等行业，具有广阔的市场前景。这款MQP-3001小设备腔体小，均匀性良好，适合科研单位进行实验研究，操作简便，稳定性强。公司始终以信誉求发展，以质量求生存为宗旨，坚持以人为本，与时俱进科技创新，公司将一如既往，努力打造优良品牌，同时也真诚地为用户提供周详的服务．有充足的技术及生产加工能力，欢迎广大客户选购本公司真空镀膜设备和派瑞林（Parylene）原材料以及来件涂层加工。

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

基本介绍产品描述 手套箱蒸镀一体机 工作原理 本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。性能特点蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。技术参数材料：304不锈钢，厚度3mm 外表面：304不锈钢 内表面：油膜拉丝面使用说明设备用途 主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。 采购须知面议

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

徕卡高真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE600 是一款多功能型高真空镀膜系统，用于制备超薄，细颗粒的导电金属膜和碳膜，以适用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的镀膜要求。这一款全自动台式镀膜仪，包含内置式无油真空系统、石英膜厚监控系统和马达驱动样品台（旋转为标配，倾斜和高度马达驱动为选配）。徕卡高真空镀膜仪可以配置如下镀膜方式:★★★ 金属溅射镀膜★★★ 碳丝蒸发镀膜★★★ 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）★★★ 电子束蒸发镀膜★★★ 辉光放电★★★ 连接VCT样品交换仓： 与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

瑞士Safematic CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)(喷金喷碳一体机)紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和可选的等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜仪涵盖了最高级的SEM、TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室可选的LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个金属腔室可容纳6"晶圆样品或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010 HV上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 HV镀膜主体单元，均可立即使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具，也适合于极细颗粒尺寸镀膜。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011溅射头与CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。（二选一作为标配）CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 HV高真空镀膜仪(电镜附件及外设)之主体单元后，即可立即使用，适合SEM、TEM和任何需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，该系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到在FIB应用中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需“破”真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱可选的HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可选该单元对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用可选的基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件（可选）◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供了一个直径80mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV 系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空溅射喷碳镀膜仪(高真空喷金喷碳一体机)；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV 系列高真空镀膜仪的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！

产品简介样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。技术参数 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化） 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程 触摸屏控制，简单方便 真空度-7×10-3mbar 溅射电流：0-150mA可调 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高） 工作距离调节范围：30mm-100mm

产品详情英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台 ATS 500 AUTO 500 Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。 Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。 Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。 真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。ATS500系统配置触摸屏控制方式和分子泵高真空系统。ATS500系统为复杂薄膜应用而设计，配合不同工艺附件适用于不同应用。 真空及控制系统：触摸屏控制系统集成在19”宽的标准控制机柜中，触摸屏系统可以自动控制真空系统和各种工艺附件的工作。?。带人机接口的PLC自动真空控制系统?。7英寸彩色触摸屏?。工艺菜单可以自动控制镀膜过程，包括镀膜源，开关，基片台旋转，基片台加热和其他相关工艺附件（针对所选附件）?。工艺真空显示，流量控制显示（针对所选附件）?。真空阀位置,泵状态和联锁状态?。警报或错误消息?。 USB端口. csv文件格式处理数据日志记录?。以太网端口的远程支持和诊断 系统操作模式:? 自动模式，按照工艺菜单运转? 手动模式，按照需求进行工艺过程配置? PLC中的关键设置密码保护 ATS500系统具有高产能真空系统，包括：? Edwards XDS20i型无油干泵，用于腔室粗抽真空以及分子泵的前级预抽泵? Leybold Turbovac 600C 560l/s 型涡轮分子泵? 涡轮分子泵通过ISO160真空法兰安装在真空室的后部? 使用皮拉尼规和冷电离潘宁规监控系统压力? 具有完善的互锁设计，确保操作人员的安全。 真空腔室：带水冷的真空腔室尺寸是500mm宽/直径，500mm高，采用304无磁不锈钢制造。腔室采用前方开门设计，门上安装有工艺观察窗潜望镜结构设计的玻璃挡片装置，可以观察腔室内部配置有一套可拆卸清洗的不锈钢腔室内衬板，便于腔室内壁的保护腔室后部有一个ISO160真空法兰连接真空系统腔室底板焊接到底部法兰，不可拆卸极限真空可达5E-7Torr。

真空镀膜系统MBRAUN研发出一系列镀膜系统，配合多种可选配件和定制化方案，用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺，如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案；以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.OPTIvap模块化设计可单独使用(S)或集成于手套箱(G)不同的模块之间可实现自由组合多基板&多掩模工艺一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板 应用：复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)光学镀膜光伏、半导体行业

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动。容易清洗可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。操作简便直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。自定义配置配备了仪器，可满足您的具体需求。低温镀膜真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

产品详情英国HHV真空镀膜机TF500，TF600-适合先进研发和试生产的全功能系统 HHV TF500及TF600系统设计具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件，以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源，也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室（Load Lock）和样品操纵装置可供选择，以提高真空镀膜效率。 系统配置不锈钢真空腔室，高真空泵安装在腔室后方。工艺附件布局采用特殊设计，向每个客户提供满意适配化的方案。工艺附件包括热阻及电子束蒸发源、直流及射频溅射源、用于工件刻蚀或辅助沉积的离子源。系统可以同时配置热阻、电子束及磁控溅射源。溅射系统可以配置成向上或向下溅射的结构。工件台选项包括加热、冷却、偏压和预进样操作等。 系统控制选项包括稳定的PLC真空控制系统配合手动操作的工艺附件的简单模式，或者计算机集成控制的自动模式。

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。 各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机技术参数：1、适用于常规SEM/TEM/DEX喷涂要求2、可选离子溅射模式、碳丝蒸发模式、或双模式、可选挥发放电功能3、方向型离子溅射模式，可提高平面样品镀膜效果，独特的脉冲式碳丝蒸发模式，实现对碳膜厚度的控制4、可选配石英膜厚监控器，可程序化控制膜厚，并反馈镀膜仪，精度为0.1nm5、标配有镀膜金属挡板，可用于干预溅射，确保镀膜纯度6、专利设计方形样品室，尺寸：140mm宽x145mm深x150mm高，样品台直径80mm7、工作距离：30-100mm8、溅射电流：≤150mA9、极限真空度：≤7x10-3mbar10、一体化触摸控制界面，操作简单

徕卡真空镀膜仪在电子显微镜领域，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电效应，降低电子束对样品的热损伤，并可以提高SEM对样品进行形貌观察时所需的二次电子信号量。精细的碳膜具有电子束透明且导电的特性，因而常应用于X射线微区元素分析，制备网格支持膜，以及制备适宜于TEM观查的复型。需要怎样的镀膜技术取决于分辨率和应用需求。Leica EM ACE镀膜仪家族提供在各应用领域所需的键膜解决方案。Leica EM ACE200 是一款高品质台式镀膜仪，用来制备电子显微镜所需的均匀的金属导电膜或碳膜。 这款自动化设备既可以配置成溅射镀膜仪又可以配置成碳丝蒸发镀膜仪。或者，根据需要，Leica EM ACE200 可以在一台设备上装配可调换镀膜源，实现两种镀膜方式。另外可选配功能有：★★★ 石英片膜厚监控--用于制备可重复性镀膜★★★ 行星旋转样品台--用于对裂纹型样品喷镀均匀镀膜★★★ 辉光放电功能--使TEM网格亲水化

产品详情英国HHV适合手套箱集成的真空镀膜系统Auto500 GB Auto500GB是专门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备，满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室，可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的前门可竖直滑动开关，嵌入手套箱内，并占用很少的手套箱空间；其后门是铰链扇式开关，能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。 镀膜源选项包括热阻蒸发源、精密控温的有机蒸发源、磁控溅射源以及电子束蒸发源。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

产品介绍：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。产品特点：1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。产品参数：型号HMDS-20HMDS-90HMDS-210容积20L90L210L电源电压AC220V±10%/50Hz±2%AC380V±10%/50Hz±2%输入功率1500W3000W4000W控温范围室温+10℃-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5℃达到真空度133Pa工作室尺寸（mm）300*300*275450*450*450560*640*600外形尺寸（mm）465*465*725850*700*1400720*820*1050载物托架1块2快3块时间单位分钟选配件真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理：HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程：先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

专利温控技术，适用于低升华点钙钛矿材料的蒸镀膜层性能高度一致，确保了科研及生产的稳定性和可重复性真空镀膜技术可与湿法工艺兼容有效防止腔室环境中沉积材料二次蒸发，确保工艺稳定可控手套箱集成蒸镀系统在惰性气氛中操作，防止材料受氧气和水分侵蚀

喆图HMDS真空镀膜机VDM-125用途概述HMDS化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，完全没有HMDS挥发，提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料，为基片在涂胶前改善表面活性，增加光刻胶与基底的粘附力的设备，也可用于晶片其它工艺的清洗，尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。产品特点①采用PLC工控自动化系统，人机界面采用触摸屏，具有可靠性高，操作智能方便；②PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠；③智能化触摸屏控制系统，可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间；①采用钢化玻璃观察窗，监测方便，一体成型的硅橡胶门封，确保箱内密封性好；②外壳和加热管均采用不锈钢材质，内胆不锈钢，无易燃易爆装置，无发尘材料；③以蒸汽的形式涂布到晶片表面，液态涂布均匀，可一次处理4盒以上的晶片，节省药液；①去水烘烤和增粘（疏水）处理一机完成无需转移，有效规避HMDS泄露的风险；②HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性好，确保HMDS气体不外漏；③多余的HMDS蒸汽（尾气）由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道，确保安全以及环保。技术参数型号VDM-90VDM-125VDM-210电源电压AC 220V 50Hz控制系统PLC控制 仪表控制彩色触摸屏控温范围RT+10-250℃温度分辨率0.1℃温度波动度±0.5真空度≤133pa内胆尺寸450*450*450500*550*500550*550*650容积90L125L210L真空泵选配选配选配

真空镀膜冷水机 产品简介 1、高品质压缩机作为反应釜冷水机、反应釜冷冻机的心脏（产地欧美日全新原装进口压缩机）内置安全保护，低噪音，省电耐用。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。详细介绍 真空镀膜冷水机，系统的运作是通过三个相互联系的系统来工作的：制冷剂循环系统、水循环系统、电器自控系统。 真空镀膜冷水机的特点： 1、高品质压缩机作为真空镀膜冷水机的心脏(产地欧美日全新原装压缩机，内置安全保护，低噪音，省电耐用)。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。 3、水冷式冷凝器使用高效外螺纹铜管制作，散热量大，体积小巧。运用CAD/CAM加工技术，配合CNC加工中心制作完成，结构紧凑，可靠性高，外形美观，高效节能。 4、工业冷水机机组配置：配置单片式控制系统，内置压缩机干燥过滤器及（毛细管）膨胀阀，维修手阀接口等装置，确保了机器可靠安全运行方便保养维修。镀膜冷水机,真空镀膜专用冷水机采用涡旋式压缩机，节省能耗，同时故障率更低，性能更卓越、可靠。 5、镀膜专用冷水机的水泵采用进口轴承，振动小、噪音低，叶轮采用水力模型设计，具有极好的动静平衡，性能稳定；同轴直接式构造，效率高、体积小、重量轻、安装保养 容易；采用机械密封，保证不损轴心，不漏水，使用寿命长。 6、采用的电器控制系统与制冷系统中，继电器、热保护器、膨胀阀、压力控制器、干燥过滤等主要部件均为世界品牌产品，为镀膜冷水机,真空镀膜冷水机极大地提高了整机的可靠性。 镀膜机冷水机，真空镀膜冷水机，镀膜分体式冷水机，风冷式冷水机，镀膜水冷机，扩散泵冷水机，分子泵冷水机，真空泵和扩散泵冷水机，智能控制，人性方便； 1、镀膜冷水机,真空镀膜冷水机采用欧美高精度数字恒湿器，能直观精确测出冷水温度精确至+0 1℃； 2、操作面板直观的将压缩机、水泵、制冷系统运行状况及故障状况一一显示； 3、操作简便，只需按下开关，机组便能自动运行。 镀膜冷水机,真空镀膜冷水机特点： 1、镀膜机水冷机采用国际进口涡旋式或活塞式压缩机，镀膜冷水机,镀膜水冷机电器及制冷系统原器件全部为世界品牌产品； 2、镀膜机冷水机风冷冷凝器采用进口风机及大风量轴流设计，换热效果高： 3、风冷式系列无需配置冷却泵及水塔，安装简便，适合生产场地比较紧缺(水源缺乏)的环境使用： 4、冷冻水出水温度可控制-15℃以下： 5、镀膜水冷机 BCY系列备有双个制冷回路，即使一条回路失灵，另一条回路可照常运行； 6、冷却水循环机BCY型机身底部装有活动脚轮，使用灵活方便： 7、线型美观设计，操作程序一目了然： 8、镀膜冷水机，镀膜机冷水机，内装置不锈钢水箱，高性能、高流量专用水泵： 深圳市宝驰源制冷设备有限公司生产销售各种反应釜冷水机，化工反应釜专用冷 水机，反应釜夹套冷水机化工反应釜冷冻机，发酵罐冷水机，食品冷水机，不锈 钢冷水机，不锈钢反应釜冷水机，点焊机冷水机，碳酸饮料灌装加气冷水机，果 汁生产冷水机，反应釜制冷机，反应釜水冷机，反应釜配套水冷机，反应釜专用 冰水机，反应釜制冷机，制药反应用冷水机，制药反应釜冷冻机，反应釜冷冻机， 发酵罐冷水机，发酵罐专用冷水机，生物发酵罐专用冷水机，发酵罐水冷机，发酵罐制冷机，发酵罐冰水机，夹套冷水机，夹套用冷冻机 反应釜冷水机，反应釜专用冷水机，发酵罐冷水机特点： 1、高品质压缩机作为反应釜冷水机、反应釜冷冻机的心脏（产地欧美日全新原装进口压缩机）镀膜专用分体式冷水机内置安全保护，低噪音，省电耐用。 2、蒸发器内置自动补水装置，省去工程安装中的膨胀水箱方便安装及保养，适用于大温差小流量等特殊场合。 3、冷凝器使用高效外螺纹铜管制作，散热量大，体积小巧。运用CAD/CAM加工技术，配合CNC加工中心制作完成，结构紧凑，可靠性高，外形美观，高效节能。 所有的镀膜冷水机、真空镀膜冷水机在出厂之前已进行检验、调试。

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

真空镀膜力学性能测试仪 应用范围 适用于塑料薄膜、薄片、橡胶、复合膜、纸张、箔片、纤维等产品的拉伸、模量、撕裂、强度、剥离、穿刺、压缩、滑动等力学指标的定量测试。 主要特点 1. 计算机控2. 制拉、压双向测试 3. 力值传感器 4. 伺服驱动系统，预紧丝杠 5. 无级调速，速度可连续设定，软件输入 6. 电子限位，无需手动调整 7. 过载保护，急停开关保护 8. 配置标准通信接口9. 数据审计追踪、溯源；系统日志记录 10. 5 级用户权限管理 11. 支持 DSM 实验室数据管理系统，可实现数据统一管理（选购） 技术指标 测试量程：50N，100N，250N，500N，1000N，2000N（可选） 测试精度：优于 0.5 级试验速度：0.1mm/min～1000mm/min（软件设置） 测试行程：1000mm 位移分辨率：0.01mm 钳口宽度：30mm（标配夹具） 电 源：AC 220V 50Hz 功 率：300W 外形尺寸：380mm（L）*450mm（B）*1309mm（H） 净 重：92kg 执行标准 GB1040、GB8808、GB4805、GB7753、GB 7754、GB 453、GB/T17200、 GB/T16578、 GB/T 7122、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、ASTM E4、ASTM D828、ASTM D882、ASTM D1938、ASTM D3330、 ASTM F88、ASTM F904、ISO 37、JIS P8113、QB/T2358、QB/T 1130 产品配置 标准配置：主机、标配夹具(3030)、数据扩展卡、配套软件系统、通信电缆 选 购 件：计算机、夹具(5530)、欧标夹具、非标夹具、取样板、试验板、标准压辊、校准附件、DSM 实 验室数据管理。

英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台 ATS 500 AUTO 500 Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。 Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。 Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。 真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。ATS500系统配置触摸屏控制方式和分子泵高真空系统。ATS500系统为复杂薄膜应用而设计，配合不同工艺附件适用于不同应用。 真空及控制系统：触摸屏控制系统集成在19”宽的标准控制机柜中，触摸屏系统可以自动控制真空系统和各种工艺附件的工作。?。带人机接口的PLC自动真空控制系统?。7英寸彩色触摸屏?。工艺菜单可以自动控制镀膜过程，包括镀膜源，开关，基片台旋转，基片台加热和其他相关工艺附件（针对所选附件）?。工艺真空显示，流量控制显示（针对所选附件）?。真空阀位置,泵状态和联锁状态?。警报或错误消息?。 USB端口. csv文件格式处理数据日志记录?。以太网端口的远程支持和诊断 系统操作模式:? 自动模式，按照工艺菜单运转? 手动模式，按照需求进行工艺过程配置? PLC中的关键设置密码保护 ATS500系统具有高产能真空系统，包括：? Edwards XDS20i型无油干泵，用于腔室粗抽真空以及分子泵的前级预抽泵? Leybold Turbovac 600C 560l/s 型涡轮分子泵? 涡轮分子泵通过ISO160真空法兰安装在真空室的后部? 使用皮拉尼规和冷电离潘宁规监控系统压力? 具有完善的互锁设计，确保操作人员的安全。 真空腔室：带水冷的真空腔室尺寸是500mm宽/直径，500mm高，采用304无磁不锈钢制造。腔室采用前方开门设计，门上安装有工艺观察窗潜望镜结构设计的玻璃挡片装置，可以观察腔室内部配置有一套可拆卸清洗的不锈钢腔室内衬板，便于腔室内壁的保护腔室后部有一个ISO160真空法兰连接真空系统腔室底板焊接到底部法兰，不可拆卸极限真空可达5E-7Torr。

●“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场，探索薄膜太阳能电池，如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段，也用于有机柔性薄膜制备，为公司专利产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”，专利号：CN201920208976.6，接受桌面式和一体式定制。●真空腔体：根据客户需求定制。●真空漏率：1X10-6Pa.L/S；极限真空优于5X10-5Pa，标准配置分子泵系统。●加热功率：小于12KW。●温控仪表：配置触摸屏温控仪和专用温控仪表，自主编程的温控系统，配置功率控制器，带有方便的温度分配和功率分配接线端。●腔体：功能材料透明腔体，直径不低于240mm，耐高温不低于1000℃，短期工作可达到1200℃。●温度隔离罩：配置专用温度隔离罩，降低环境温度对系统的影响，同时具有安全隔离功能。●配置2套坩埚，并设有陶瓷封结的温度传感器，精度为：±1℃，过冲不超过2℃。●配置2套基片温度平衡系统，配置进口精密耐高温专用传感器，精度为：±1℃，响应速度极快，特别适合超精密温度控制。●配置能量反射屏一套，配置有专用沉积环境仓，沉积反应仓可扩展至水冷系统。●配置移动小车一套，并配置不锈钢安装板和推手，配置福马轮4套，可根据客户实际需求设计为一体机和桌面式。●配置有SUS304柔性真空管路和相关标准件。●配置三路复合真空计一套，带RS485控制端口，配置有不锈钢毛细管路泄压阀，可以沉积柔性薄膜材料。●可选配洁净无油高真空真空系统。

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

仪器简介： 英国Q150GB涡轮泵高真空、模块化镀膜系统，自动程序控制，傻瓜相机式的简单操作。其镀膜单元可置于各种手套箱内，外置触摸屏用户界面、电源单元和前级机械泵。可监测手套箱压力。该系统不同的配置可以实现离子溅射镀膜、碳蒸发/金属蒸发镀膜或溅射蒸发二者兼有之功能，可用于SEM、TEM及薄膜样品镀膜，也常用于锂电池科研等需要在手套箱内镀膜的样品。 技术参数： 技术规格 仪器尺寸:267mm W x 490mm D x 494mm H 总重量:40公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃152mmDia (内部) x 214mm H 安全钟罩:整体PET 样品台：直径为50mm的旋转样品台。转速8-20 rpm 真空范围: 10-5 mbar量级 溅射可选靶材：Au金、Au/Pd金钯合金、Pt铂、Pt/Pd铂钯合金、Ag银、Al铝、C碳、Cr铬等 蒸发源：可选用碳棒进行热蒸发镀碳，也可使用钨丝篮或钨舟/钼舟进行热蒸发镀各种金属膜。 主要特点： &bull 可安装在手套箱内的模块化系统 &bull 整体手套箱压力监测 &bull 金属溅射、碳蒸发 – 或二者兼有 &bull 触摸屏控制模块置于手套箱外部操作 &bull 镀膜颗粒精细 &bull 高真空涡轮分子泵抽真空 &bull 可选通过膜厚监控仪实现厚度控制

瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，变换镀膜头非常简单。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。标配FTM膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射仪，可选等离子处理附件✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 标配隔膜泵和涡轮泵；全量程真空测量（皮拉尼，冷阴极真空计）✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 HV系列高真空镀膜系统，除了用于SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜之外，还涵盖了最高级的SEM，TEM和薄膜应用。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。LC-006金属大腔室LC-006是当前玻璃腔室的扩大版，为铝制结构。这个可选的金属腔室可容纳6"晶圆或其它大尺寸样品，而且消除了对内爆防护的需求。在CCU-010上选配LC-006, 无需任何修改就可实现更大样品和晶圆的镀膜。SP-010 & SP-011溅射模块 两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV和CCU-010 HV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM、FIB和各种薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV系列镀膜仪。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。SP-011与CCU-010 HV相结合，可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料镀膜等具有挑战性的应用。ET-010等离子刻蚀单元 在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。选用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力；也可在样品镀膜后进行等离子处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪及其版本CCU-010 HV系列高真空镀膜系统专为满足电镜样品制备领域及材料科学薄膜应用的最高要求而设计。CCU-010 HV 高真空溅射和镀碳仪采用优质组件和智能设计，可在超高分辨率应用中提供出色的结果。该设备是全自动抽真空和全自动操作，所有CCU-010 HV系列高真空版本的镀膜仪，均采用TFT 触摸屏，配方可编程，保证结果可重复。CCU-010 HV 标配抽真空系统完全无油，含高性能涡轮泵和前级隔膜泵，均位于内部，外部没有笨重的旋转泵和真空管路。这是一款尺寸合理的桌上型高真空镀膜仪。使用无油抽真空系统可将镀层中的污染或缺陷降至最低。关闭时，该设备可以保持在真空下，这有效地保护了系统免受灰尘和湿气的影响，并为高质量的镀层创造了快速抽真空和有利的真空条件。CCU-010 HV系列高真空镀膜仪版本有：CCU-010 HV高真空磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 HV高真空热蒸发镀碳仪；CCU-010 HV高真空离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 HV高真空手套箱专用镀膜仪。CCU-010 HV系列高真空镀膜的主要亮点在于实现了两大技术性突破：一是独家采用自动碳纤维供给系统，在不破真空更换碳源的情况下可进行数十次的镀碳运行，比市场上常见的单次、双次或四次碳纤维镀膜方式节省大量的人工操作，既适用于大多数常规镀碳应用，也适用于超薄或超厚碳膜以及温度敏感样品的应用。二是将“镀膜前对样品表面进行等离子清洁（增加附着力）+镀膜+镀膜后对膜层表面进行改性（比如：亲水化）或刻蚀”全流程集于同一台仪器同一次真空下完成，大大提高了镀膜质量，拓宽了应用范围。另外，瑞士制造，是“精密”和“高品质”的代名词；瑞士原厂货源，覃思本地服务，客户买得放心、用得省心！