路面平整度仪

表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪，它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外，具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量，应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量，还可以测量张量和应力（简单）； *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸，对于小于0.5' ' 的晶圆或样品，可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度； *克服常见干涉仪在粗糙表面（油漆）表现不足的问题； *非接触式测量

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

Felles公司专卖进口柱面透镜,柱透镜,柱面镜,消色差透镜,Cylindrical Len--最大的进口精密光学器件供应商！一.正柱面透镜 Positive Cylindrical Lenses柱透镜,柱面镜 正 柱面透镜具有正焦距，把光束汇聚到一维方向上，常用于光束的一维聚焦，把光束聚焦成线。例如，柱透镜用于非线性晶体的合频倍频，激光扫描器，光谱学，染料 激光器，声光和电光等领域中把光束聚焦成一个窄的光线，提高效率。 正柱透镜还常常用于激光二极管的输出,线性探测器的能量采集或其他狭缝耦合应用中。更多柱面透镜,柱透镜,柱面镜请浏览 正柱面透镜参数： 直径：10x10mm, 最小焦距20mm, 最大焦距1000mm 直径：20x40mm, 最小焦距30mm,最大焦距2000mm 材料：BK7, FS, UVFS, CaF2, ZnSe, Si, Ge 直径公差：+0.0, -0.15 mm 厚度公差：+/-1.0 mm 焦距公差：+/- 3% 净孔径：90% 倒边：0.25 mm @ 45deg 表面平整度：L/4@632.8 nm 表面质量：40-20 scratch & dig 镀膜：无柱面透镜,柱透镜,柱面镜问询服务:请根据各种透镜参数填写如下问询栏，复制后Email给我们即可，我们会进口给您报价回复： Material Dimensionsmm Focal lengthmm AR coatings Wavelengthnm Center Thicknessmm Qauntity二.负柱面透镜 Negative Cylindrical Lenses 负柱面透镜具有负焦距，其作用和应用与正柱透镜一样. 柱面透镜,柱透镜,柱面镜参数： 柱面透镜直径：10x10mm, 最小焦距20mm, 最大焦距1000mm 柱透镜直径：20x40mm, 最小焦距30mm,最大焦距2000mm 柱面镜材料：BK7, FS, UVFS, CaF2, ZnSe, Si, Ge 柱面透镜直径公差：+0.0, -0.15 mm 柱透镜厚度公差：+/-1.0 mm 柱面镜焦距公差：+/- 3% 柱透镜净孔径：90% 柱面镜倒边：0.25 mm @ 45deg 柱面透镜表面平整度：L/4@632.8 nm 柱透镜表面质量：40-20 scratch & dig 柱面镜镀膜：无三. 消色差透镜 消色差透镜是一种复杂结构的透镜，产生色差消除的效果，大大减弱球面相差，光晕模糊等现象。 消色差透镜参数：材料：BK7, FS, UVFS, CaF2, ZnSe, Si, Ge直径公差：+0.0, -0.15 mm焦距公差：+/- 3%净孔径：90%倒边：0.25 mm @ 45deg表面平整度：L/4@632.8 nm表面质量：40-20 scratch & dig镀膜：无

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

美国QMAXIS平面研磨磨石原装进口美国QMAXIS平面研磨磨石，是安装在金相预磨机上，对样品快速研磨的专用磨具。缩短了研磨过程，节约工时，提高制备效率，也减少了相关耗材的使用，降低制样成本。除此之外，平面研磨磨石还能确保试样的边缘保护和平整度。预磨机上的磨石修整棒能按设定的程序对平面研磨磨石进行规律地修整，以保持研磨面清洁和锋利，延长其使用寿命。14in平面研磨磨石，直径14in ，厚度1.75in ，1块/包适用范围产品编号 氧化铝，用于黑色金属及合金的快速平面研磨，Grit150GS-14-0150A 碳化硅，用于有色金属的快速平面研磨，Grit150GS-14-0150S

一.吸收型中性密度滤波片：中性密度滤波片减少光强而不改变能量的相对分布，对激光的衰减是通过吸收型玻璃实现的。参数 材料：中性密度玻璃 直径公差：+0/-0,2mm 净孔径：90% 表面质量：60-40 Scratch and dig 平整度：L@633nm 平行度：3arcmin 光谱范围：400-700nm 不镀膜，没有外壳二. 环形可变中性密度滤波片 环形可变中性密度滤波片,变密度滤波片是一种以滤波片中心旋转时，对光连续可变衰减的滤波片。这种滤波片即可用于激光，也可用于白光。 可变中性密度滤波片技术参数 材料：UVFS 外直径：25mm, 50mm, 100mm 内直径：8.3mm 设计波长：400-700nm 工作光谱范围：250-2500nm 平行度：3arcmin 镀膜面积：0-270度三.线性可变密度滤波片 线性可变密度滤波片（在400-700nm和1300-1600nm两个波段上具有非常好的衰减效果，可以用于光谱仪或其他光学仪器。 线性可变密度滤波片参数 材料：B-270, BK7 直径公差：± 0.2 mm 平行度：± 3 arc min 标准线性：± 5% of end density value 密度终点标准偏差：± 5% of end density value

一次性聚苯乙烯比色池可用于340－800纳米波长范围。这种比色池很经济而且可以和磁力搅拌配合使用，但是不能在高温下使用。 可用范围为 340 nm 至 800 nm 安捷伦的每个样品池都带有检测证书 以下几方面已经过测试，在性能指标范围内： 原材料的均一性 部件尺寸和角度容差 光学表面的平整度 流通池透射

一次性聚苯乙烯比色池可用于340－800纳米波长范围。这种比色池很经济而且可以和磁力搅拌配合使用，但是不能在高温下使用。 可用范围为 340 nm 至 800 nm 安捷伦的每个样品池都带有检测证书 以下几方面已经过测试，在性能指标范围内： 原材料的均一性 部件尺寸和角度容差 光学表面的平整度 流通池透射

二向色镜采用磁控溅射镀膜技术，具有高膜层致密度，优异的光谱特征和环境耐受性的特点。但磁控溅射镀膜会对基底产生较大的应力，导致基底具有一定程度的弯曲。在激光类的应用中，若二向色镜具有一定的曲率半径，反射后的激光会变成发散光或汇聚光，导致光束质量变差，从而影响实验的结果或仪器的性能。另外，在反射成像的光路中，二向色镜的平整度是决定反射光路图像质量的关键因素。具有专利的控制二向色镜平整度的工艺，能够消除膜层应力的影响，可根据不同应用的需求，提供不同平整度的二向色镜 (UltraFlat 系列 )。UltraFlat 系列基底厚度表面平整度 典型应用UF11 mm共聚焦，双光子，CARS/SRS，流式细胞等UF2 2 mmTIRF, PALM, STORMUF33 mmSTED, 结构光照明/= 5 mm定制化应用

离轴抛物面镜TYDEX的核心技术优势： TYDEX 镜面的制造工艺和传统工艺是不同的，它致力于为航空/防卫应用提供大批量的更廉价的镜片。传统的OAPs制造工艺是通过挖切磨制， 即从大的轴对称抛物面 （母镜）进行挖切一部分下来进行抛光。显然，这种整体加工、分体割切成型的面镜磨制方案耗时长，低产量是加工成本昂贵，同时在焦距和离轴距离的组合选择上有很多制约。另一项传统的方法是抛光盘技术，主要缺点是材料局限性、表面平整度和加工精度受很大限制。我们的OAP 工艺 采用的是电脑控制的点位修正抛光工艺，结合了常用的抛光手段的优点（表面光滑而且可以使用普通玻璃）和大抛光盘技术的优点（无需对整个抛物母镜进行抛光），又称为主动抛光盘技术。这是一种根据需要将抛光盘面实时地主动变形成偏轴非球面来磨制大口径非球面度高精度天文镜面的磨制技术。非球面表面的曲率不 仅各点不一致,而且同一点的径向与切向曲率也不相同。 每个研磨周期后，我们都用大型干涉仪对整个OAP镜进行测量，然后把 相关的信息反馈到计算机中，将修正过的抛光参数输入抛光机的控制单元。我们称这个工艺为润饰工艺，俄罗斯的工厂专门划出了10,000平方英尺用于这个工 艺的制造，而且有一批非常耐心而有经验的工程师一次又一次的测量和重复许多个润饰周期，直到镜面趋于完美。精确的镜面、有竞争力的价格！ 应用：光收集，照明，成像，大直径天文镜面、巨型天文光学/红外望远镜的分块子镜、 Dall-Kirkham和望远镜设计主要参数：询价离轴镜需提供的参数：Focal Length焦距，必须提供；Final Diameter外径，请提供尺寸和公差，也可由厂家推荐； Clear Aperture有效口径，请提供 ； Off Axis Distance离轴距离，用户或者提供光轴到镜子边缘的距离，或者提供光轴到镜子中心的距离，请注明清楚。 Surface Accuracy通常为λ/10 P-V，可以高达 λ/45 P-V Wavelength of Test 633nm Scratch/Dig (maximum)通常优于60/40，要求20/10可以达到 Chamfer 0.050 " x 45 degrees倒角Material：材料 Zerodur Coating：镀膜 关于俄罗斯Tydex公司： Tydex公司位于俄罗斯圣彼得堡,是世界上Golay Cell的唯一的原产商。Tydex公司还生产离轴抛物面镜，大口径天文光学器件等产品。

电子自准直仪筱晓光子供应电子自准直仪（EAC-1210），集成了自准直仪和准直望远镜的功能，视场42' (H)（自动）/84' ×2(H)（手动）、精度2.5' ‘、CCD1/2英寸(1/3英寸可选)，该系列电子自准直仪主要用于小角度的位移测量，包括：镜片角度测量、线性平台直线度、旋转平台特性测量、反射面平面度、表面平整度、光学系统准直、机械设备准直、CD/DVD ROM准直、热稳定性测量、振动分析。ModelDescriptionsEAC-1012Complete system including a collimator unit with USB2.0 CCD camera, and software on CD disk

极紫外平面反射镜1.zui大可实现 13.5nm 反射2.专为极紫外线光束转向和谐波分离而设计5°和45°自动光学检验的可用版本极紫外平面反射镜是多层反射镜，在其设计波长和入射角下实现zui大反射率。这些反射镜的特点是反射涂层沉积在一个超抛光的单晶硅基板上，表面粗糙度小于3? RMS. 45°自动光学检验反射镜可用于转向s偏振光束，而 5° 自动光学检验反射镜可用于非偏振光束. 极紫外线反射镜的应用包括相干衍射成像 (CDI) 和材料科学研究。极紫外平面反射镜也可用作高次谐波 (HHG) 光束的谐波选择器. 注意:附带每个反射镜运行样本的测试数据.通用规格基底:Single Crystal Silicon涂层:Mo/Si MultilayerTop Layer: Silicon 表面粗糙度（埃）:3 RMS厚度容差 (mm):0.508直径 (mm):25.40 ±0.25镀膜类型:Metal/Semiconductor厚度 (mm):6.35表面平整度 (P-V):λ/10 @ 632.8nm订购信息： 涂层规格AOI (°)产品号R 60% @ 13.5nm5#38-759R 65% @ 13.5nm45#38-760

&bull 卓越的热稳定性&bull 非常适用于对重量敏感的应用&bull 提供超过玻璃基片反射镜的耐用性通用规格表面平整度 (P-V):1λ基底:Silicon (Si) 后表面:Commercial Polish表面质量:60-40涂层规格:Ravg 97% @ 800 - 2000nmRavg 94% @ 700 - 800nm涂层:Protected Gold (700-2000nm)有效孔径 (%):90.00厚度容差 (mm):±0.1波长范围 (nm):700 - 2000Damage Threshold, Reference:0.8 J/cm2 @ 1064nm, 10ns产品介绍硅基片黄金反射镜是为集成到对重量极为敏感的应用中而特别设计的，如抬头显示。轻质硅基片的热稳定性使这款光学反射镜成为最佳解决方案，适用于在近红外或红外区域内工作的应用。我们的硅基片黄金反射镜提供超过玻璃基片反射镜的耐用性，保护性黄金金属镀膜提供大于97％的平均反射率。订购信息 12.50 +0.0/-0.11λ Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm) 2.00 ±0.133-24625.00 +0.0/-0.11λ Dia. (mm)表面平整度 (P-V)涂层规格涂层厚度 (mm)产品编码 Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm) 1.00 ±0.133-24750.00 +0.0/-0.11λ Ravg 97% @ 800 - 2000nm Ravg 94% @ 700 - 800nm Protected Gold (700-2000nm)1.00 ±0.133-248

孚光精仪进口圆锥透镜,圆台圆锥透镜,Axicon,平凹圆锥透镜,双凸圆锥透镜--中国最大的进口精密光学器件供应商！一.平凸圆锥透镜 Conical lens 平这 款平凸圆锥透镜能够把激光束聚焦成激光环。圆锥透镜把平行的激光束转变成环状激光，与球面镜联合使用，将产生角聚焦效果，非常适合激光钻孔使用。圆台圆锥 透镜产生非衍射的Bessel光束，这种特色增强了光导性能，而在Rayleigh范围的高斯光束的导光性却受到限制。高阶Bessel光束在原子导引（原子光学导引，原子激光导引）领域远远优于其它空心光束。 平凸圆锥透镜规格和参数： 材料：BK7,UVFS 直径公差：+0.0, -0.15 mm 厚度公差：+/-0.1 mm 边缘厚度：3.5 mm. Available down to 2 mm 顶角：90deg 净孔径：90% 顶角公差：+/-0.5deg 平整度：L/4 @ 632.8 nm 光洁度：40-20 scratch & dig 设计波长：632.8nm 镀膜：根据用于要求提供二.平凹圆锥透镜 平凹圆锥透镜由一个平面和一个凹圆锥平组合而成。这种平凹圆锥透镜能够光点转换成沿轴的光线。而且，平凹圆锥透镜中心都有一个小孔，这个小孔是由加工需要造成的，小孔的直径大约在1mm 平凹圆锥透镜规格和参数 材料：BK7,UVFS 直径公差：+0.0, -0.15 mm 厚度公差：+/-0.1 mm 边缘厚度：9mm 顶角：90deg 净孔径：90% 顶角公差：+/-0.5deg 平整度：L/4 @ 632.8 nm 光洁度：40-20 scratch & dig 设计波长：632.8nm 镀膜：根据用于要求提供三.双凸圆锥透镜 双凸圆锥透镜具有一个凸圆锥面和一个凸球面。 双凸圆锥透镜规格和参数 材料：BK7,UVFS 直径公差：+0.0, -0.15 mm 厚度公差：+/-0.1 mm 边缘厚度：9mm 顶角：90deg 净孔径：90% 顶角公差：+/-0.5deg 平整度：L/4 @ 632.8 nm 光洁度：40-20 scratch & dig 设计波长：632.8nm 焦距：20-10000mm任选 曲率半径公差：+/-3% 镀膜：根据用于要求提供圆台圆锥透镜,Axicon询问提示：请填写如下询问单，复制后发送Email给我们即可： MaterialUVFSBK7 Diameter, mm Apex angle, Comments Quantity

Tydex可以提供以下规格的棱镜：—— 传统（直角）棱镜。这类产品主要用于光学设计—— 衰减全反射（ATR）棱镜。这类棱镜用于分析那些难以用常规透射方法来分析的材料。 由于某些特殊材料存在菲涅尔反射和对光的强烈吸收，用吸收光谱来分析此类材料几乎是不可能的。对于这种情况，研究这类吸收材料最适用的方法就是衰减全反射。这个方法基于此效应：光在光密介质n0和吸收介质（有较小的折射率n）界面，以大于全反射临界角θc=arcsin(n/n0)入射时，反射效率会因为倏逝波与被测材料表面等离子体相耦合而衰减。此反射效率依赖于入射角、偏振方向和被测材料的折射率。正确的选择棱镜参数（尤其是棱镜角度）会获得好的ATR光谱。在THz光谱内使用衰减全内反射方法可以研究材料在102-104cm-1(1um-100um:没引入2π)光谱范围内的吸收效率。 材料高阻硅尺寸公差，mm±0.2角度公差，mm±30表面平整度，scr（斑）/dig（坑）80/50抛光面的表面平整度，Ra2.5表面精确度，mm±0.01相对于理想平面

Tydex公司专业订制生产THz光学镜片，可以提供太赫兹专用离轴抛物镜、滤波片、偏振片、窗片、透镜、棱镜、波片、分束片、反射镜和菲涅尔透镜等，同时还提供太赫兹衰减器、太赫兹宽带相位变换器。 太赫兹棱镜 THz ATR Prisms我们可以提供以下规格的棱镜：- 传统（直角）棱镜。这类产品主要用于光学设计- 衰减全反射（ATR）棱镜。这类棱镜用于分析那些难以用常规透射方法来分析的材料。 由于特殊材料菲涅尔反射和对光的强烈吸收，用吸收光谱来分析此类材料几乎是不可能的。对于这种情况，研究这类吸收材料最适用的方法就是衰减全反射。这个方法基于此效应效应：光在光密介质n0和和吸收介质（有较小的折射率n）界面，以大于全反射临界角θc=arcsin(n/n0)入射时，反射效率会因为倏逝波与被测材料表面等离子体相耦合而衰减。此反射效率依赖于入射角、偏振方向和被测材料的折射率。正确的选择棱镜参数（尤其是棱镜角度）会获得好的ATR光谱。在THz光谱内使用衰减全内反射方法可以研究材料在102-104cm-1(1um-100um:没引入2π)光谱范围内的吸收效率。常规参数材料高阻硅 HRSi尺寸公差，mm±0.2角度公差，mm±30表面平整度，scr（斑）/dig（坑）80/50表面精确度，mm±0.01相对于理想平面抛光面的表面平整度，Ra2.5

&bull 532 和 1064nm 双波段抗反射镀膜&bull 10-5 表面质量和 λ/10 表面平整度&bull Nd:YAG 激光系统的理想选择&bull 另有 无镀膜激光窗口片基片 可选通用规格入射角 (°):0涂层:Dual-Band (532, 1064nm)设计波长 DWL (nm):532, 1064平行度（弧分）:3基底:Fused Silica (Corning 7980)表面平整度 (P-V): λ/10表面质量:10-5边缘:Fine GroundDamage Threshold, By Design:5J/cm2 @ 532nm, 20ns, 20Hz 15J/cm2 @ 1064nm, 20ns, 20Hz产品介绍TECHSPEC® 双波段抗反射（AR）激光窗口片提供高性能增透（AR）镀膜，设计用于多波长激光应用。两个表面的抗反射镀膜在 532nm 处的反射率 0.25%，在 1064nm 处的反射率0.1%，大大增加了激光的光通量。这些激光窗口片具有优异的热稳定性、精度等级为λ/10的表面平整度和10-5的表面质量，确保传输光束的畸变最小。 TECHSPEC® 双波段抗反射（AR）激光窗口片有标准英制尺寸，可方便地集成到现有的激光系统中，是Nd:YAG应用的理想选择，包括用于激光美容系统中的应用。如果您的应用需要定制镀膜或定制设计，请 联系我们。请注意: 损伤阈值是独立测试的。技术数据订购信息涂层Dia. (mm)厚度 (mm)DWL (nm)产品编码Dual-Band (532, 1064nm) 25.40 +0.00/-0.106.35 ±0.20532, 106417-588Dual-Band (532, 1064nm) 50.80 +0.00/-0.106.35 ±0.20532, 106417-589Dual-Band (532, 1064nm) 76.20 +0.00/-0.1012.70 ±0.20532, 1064 20-451

特征规格： 琉璃底培养皿由高质量的聚苯乙烯和高透明度硼硅酸盐玻璃制成。 具有高光学性能的玻璃材料保证了底部的平整度，从而避免了光的去偏振化。 高透明度硼硅酸盐玻璃，玻璃底厚度：0.17mm+-0.02mm，超平界面。 应用范围：偏振光像 如IMSI 规格：皿底直径φ30mm，玻璃底皿35mm

透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,000cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：4,000cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，石英片厚度：500μm，平整度：弓：20μm，弯：30μm，粗糙度：6埃（在圆滑边），圆滑：双面，应用：太阳能电池、触摸显示器。光电探测器、聚光设备。

流式细胞术是基于激光的，用于分析细胞或颗粒特征的技术。在流式细胞仪中，通常需要在激光器前边放置对应的窄带滤光片用来滤除激光的光谱噪音。在多激光系统中，需采用UltraFlat 系列二向色镜用于激光的合束，以保证反射后激光的光束质量不发生改变。在信号接收光路，检测器前边的发射片需要在激光谱线处具有至少OD6 的截止深度，从而更好的滤除激发噪音，提高信噪比。另外，发射片的中心波长和带宽需要仔细选择，以保证将相邻通道的串色降至最低。针对流式细胞仪，提供基于磁控溅射镀膜工艺的激光窄带滤光片，荧光带通滤光片和UltraFlat 系列超平二向色镜和超平反射镜，具有高透过率、高截止深度或高反射率以及高平整度的特点。技术指标镀膜工艺磁控溅射镀膜/ 硬镀膜透过率92% - 99% (Vis-NIR)截止深度激发和发射片：OD5 - 6反射率二向色镜 97%光谱陡度激发片/ 发射片: 1%二向色镜: 2%损伤阈值1.75J/cm2 @ 532 nm, 10 ns, 10 HZ平整度合束二向色镜：尺寸和厚度可加工不同规格金属外圈可选（2.3 mm, 3.5 mm 或5 mm）激光窄带滤光片典型谱图1. 入射光为平行光时，激光窄带滤光片可用于侧向散射光的接收；2. 若侧向散射光为非平行光，请联系我们讨论具体方案。 荧光带通滤光片和分光二向色镜在流式细胞术中，基于信噪比和串色的考虑，不同的染料组合对应不同的滤光片选型，请联系我们讨论具体的方案细节。以下是荧光带通滤光片和分光二向色镜的典型谱图。

755nm 紫翠绿宝石激光反射镜&bull 在755nm波长处的反射率高达 99.5% ，在625 – 650nm波长范围内的反射率高达90% 以上&bull 10-5表面质量和 λ/10表面平整度&bull 适用于皮肤科应用通用规格波长范围 (nm):625 - 650, 755基底:Fused Silica (Corning 7980)有效孔径 (%):90涂层:Laser Mirror (755nm)平行度（弧分）:3表面平整度 (P-V):λ/10表面质量:10-5厚度 (mm):3.00 ±0.10边缘:Fine Ground产品介绍TECHSPEC® 755nm的紫翠绿宝石激光反射镜能够在0° or 45° 入射角下为使用紫翠绿宝石激光器的场合在755nm波段提供超过99.5% 的反射率。 (AOI)。这些反射镜还能在625-650nm波长范围内提供超过90%的反射率，以适应使用对准光束的应用场景。这些反射镜采用熔融石英基底，具有 λ/10表面平整度和10-5表面质量，以最小化散射效应带来的影响。TECHSPEC® 755nm紫翠绿宝石激光反射镜适用于多种皮肤科应用，如脱毛、纹身去除和血管病变治疗。高反射率和薄体积的特点使得这些镜子非常适用于需要通过反射进行多方向变换的医用机械臂。订购信息标题产品编码12.5mm Dia., 3mm Thick, Fused Silica 755/632nm Alexandrite Mirror, 0 Deg AOI25-53325mm Dia., 3mm Thick, Fused Silica 755/632nm Alexandrite Mirror, 0 Deg AOI25-53412.5mm Dia., 3mm Thick, Fused Silica 755/632nm Alexandrite Mirror, 45 Deg AOI25-53525mm Dia., 3mm Thick, Fused Silica 755/632nm Alexandrite Mirror, 45 Deg AOI25-536

Nd:YLF晶体，又称为掺钕氟化锂钇, 是一种产生1047nm和1053nm波长激光的晶体. Nd:YLF晶体的主要优点是：超大荧光线宽，低热透镜效应,连续激光应用较低的激发光阈值,自然偏振等。因此，Nd:YLF晶体,掺钕氟化锂钇是连续激光，锁模激光的理想激光晶体材料。Nd:YLF晶体和掺钕氟化锂钇由孚光精仪进口，孚光精仪是中国进口激光器件的第一品牌, 最大的进口精密光学器件和仪器供应商！精通光学，服务科学.提供的Nd:YLF晶体,掺钕氟化锂钇晶体系高质量原装进口晶体, 在国外生长, 切割,抛光,高质量的镀膜，并进行严格的质量控制后进口到国内，质量非常优异，在中科院上海光机所，安徽光机所，中国工程物理研究院等单位成功使用。 我们提供的Nd:YLF晶体,掺钕氟化锂钇采用 Czochralsky 法生长，可提供不同掺杂浓度的Nd:YLF晶体棒或Nd:YLF晶体片。Nd:YLF晶体，又称为掺钕氟化锂钇, 是一种产生1047nm和1053nm波长激光的晶体. Nd:YLF晶体的主要优点是：超大荧光线宽，低热透镜效应,连续激光应用较低的激发光阈值,自然偏振等。因此，Nd:YLF晶体,掺钕氟化锂钇是连续激光，锁模激光的理想激光晶体材料。Nd:YLF晶体参数和规格材料：Nd:YLF掺杂浓度：0.5 - 1.5%直径公差：+/- 0.05 mm长度公差：+/- 0.5 mm or upon customer' s request平行度：领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

ALLIED抛光布（Polishing cloths） 美国Allied High Tech公司生产的系列抛光布分为三种类型，分别为编织布、无纺布和植绒抛光布，可用于所有材料的精细或粗研磨、半成品和成品的抛光。提供标准研磨盘上使用粘性背胶抛光布。1.编织抛光布（woven polishing cloths）:具有低应压力的特点，施加有效的压力即可达到最大化的材料去除率和平面度。交叉式的编织方法是精细或粗研磨、半成品抛光的理想选择.常用到的是Nylon编织抛光布，与15-3um金刚石配合使用，对于大部分材料抛光都能够达到良好的平整度和边缘保持性。2.无纺抛光布（non-woven polishing cloths）:对于柔软的表面也具有低应压力的特点，更适合软的非金属、铁合金和高分子材料/塑胶的半成品和成品抛光。常用到的是Kempad无纺抛光布，与9-1微米的金刚石配合使用，提供良好的去除率和平整度。3.植绒抛光布（napped (flocked) polishing cloths）:用不同长度的纤维和刚性布料制作而成，像植绒的“刷子”一样对成品进行抛光清理以及对半成品和粗抛样品的划痕进行清除抛光。Glenco植绒抛光布，硬绒合成人造纤维，与3-1微米金刚石或氧化铝配合，可以提供卓越的中间或最终抛光效果，尤其用于抛光软性金属和材料。Spec-Cloth植绒抛光布，柔软的中绒合成纤维，与1-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，可用于各种材料的普通抛光。Final B植绒抛光布，柔软的低绒人造纤维，与3-0.25微米的金刚石或氧化铝配合使用，提供卓越的完成度和平整度，尤其是坚硬材料、含铁材料和玻璃货号产品名称规格50314-05Nylon编织抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50310-05Kempad无纺抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50318-05Glenco植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50320-05Spec-Cloth植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张50344-05Final B植绒抛光布，无孔，8英寸，PSA5张 价格仅供参考，详情请致电010-52571502

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。关注司特尔官方微信号获取更多耗材信息。

Tydex公司专业订制生产THz光学镜片，可以提供太赫兹专用离轴抛物镜、滤波片、偏振片、窗片、透镜、棱镜、波片、分束片、反射镜和菲涅尔透镜等，同时还提供太赫兹衰减器、太赫兹宽带相位变换器。 太赫兹棱镜THz ATR PrismsDownload THz Prisms Datasheet (PDF, 33 KB)我们可以提供以下规格的棱镜：- 传统（直角）棱镜。这类产品主要用于光学设计- 衰减全反射（ATR）棱镜。这类棱镜用于分析那些难以用常规透射方法来分析的材料。 由于特殊材料菲涅尔反射和对光的强烈吸收，用吸收光谱来分析此类材料几乎是不可能的。对于这种情况，研究这类吸收材料最适用的方法就是衰减全反射。这个方法基于此效应效应：光在光密介质n0和和吸收介质（有较小的折射率n）界面，以大于全反射临界角θc=arcsin(n/n0)入射时，反射效率会因为倏逝波与被测材料表面等离子体相耦合而衰减。此反射效率依赖于入射角、偏振方向和被测材料的折射率。正确的选择棱镜参数（尤其是棱镜角度）会获得好的ATR光谱。在THz光谱内使用衰减全内反射方法可以研究材料在102-104cm-1(1um-100um:没引入2π)光谱范围内的吸收效率。常规参数 材料高阻硅 HRSi尺寸公差，mm±0.2角度公差，mm±30表面平整度，scr（斑）/dig（坑）80/50表面精确度，mm±0.01相对于理想平面抛光面的表面平整度，Ra2.5 Prisms are manufactured upon request. For price quotation and delivery please fill in our Request form.The finished parts of different dimensions are available from stock and supplied within a week.

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。 抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。 DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。 只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。关注司特尔官方微信号获取更多耗材信息。

基本介绍这款铁砧3kg 6LB铁是一款金属材料试验机，采用手动控制方式，具有现货供应和加工定制的特点。外形尺寸适中，重量适中，适合各种工艺试验用途。产品包装采用木箱，保证产品在运输过程中的安全。产品特点1. 耐用坚固：铁砧采用高质量金属材料制成，经久耐用，坚固耐用，不易变形，长期使用不会出现明显磨损。2. 多功能设计：铁砧设计简约实用，适用于各种手工铁砧锻造工艺，满足不同需求的使用场景。3. 精细加工：铁砧表面经过精细加工处理，平整度高，使用时不易产生划痕，保证锻造效果的精准度和稳定性。

这款铁砧25kg 55LB铁是一款金属材料试验机，采用手动控制方式，具有现货供应和加工定制的特点。外形尺寸适中，重量适中，适合各种工艺试验用途。产品包装采用木箱，保证产品在运输过程中的安全。产品特点1. 耐用坚固：铁砧采用高质量金属材料制成，经久耐用，坚固耐用，不易变形，长期使用不会出现明显磨损。2. 多功能设计：铁砧设计简约实用，适用于各种手工铁砧锻造工艺，满足不同需求的使用场景。3. 精细加工：铁砧表面经过精细加工处理，平整度高，使用时不易产生划痕，保证锻造效果的精准度和稳定性。

Ultra-Low Binding超低吸附384孔白色细胞培养板（NBH3384）货号：NBH3384规格：24包/盒(1块/包)品牌：NoninBioNoninBio细胞培养产品采用纯医用级聚苯乙烯材料，经过严格的工艺控制，符合人体工程学设计， 限度地提高细胞培养实验的安全性、效率和便利性，以满足所有用户的需求。产品特点∶- 将特殊的两性分子聚合物镀膜至板表层，形成一面水墙，可有效抑制细胞附着- 白色板可在化学发光分析过程中减少孔间串扰- 总体积为120μL，建议工作体积为20至80μL- 更高的平整度，板内和板间CV值较低 用于顶读酶标仪- 主要适用于大分子的固化，如抗体，其具有较大的可与表面相互作用的疏水区- 经过UV灭菌，无热原- 带盖有助于减少污染，独立的字母数字编码便于区分孔

*产品编号*产品名称*品牌*产品规格*订货号*产品价格PSC04081金刚石磨盘德国古莎0#金刚石磨盘，200mm 1片/盒PSC04081600PSC04082金刚石磨盘德国古莎0#金刚石磨盘，250mm 1片/盒PSC04082700PSC04083金刚石磨盘德国古莎0#金刚石磨盘，300mm 1片/盒PSC04083800PSC04084金刚石磨盘德国古莎1#金刚石磨盘，200mm 1片/盒 PSC04084600PSC04085金刚石磨盘德国古莎1#金刚石磨盘，250mm 1片/盒 PSC04085700PSC04086金刚石磨盘德国古莎1#金刚石磨盘，300mm 1片/盒 PSC04086800PSC04087金刚石磨盘德国古莎2#金刚石磨盘，200mm 1片/盒 PSC04087600PSC04088金刚石磨盘德国古莎2#金刚石磨盘，250mm 1片/盒 PSC04088700PSC04089金刚石磨盘德国古莎2#金刚石磨盘，300mm 1片/盒 PSC04089800PSC04090金刚石磨盘德国古莎3#金刚石磨盘，200mm 1片/盒PSC04090700PSC04091金刚石磨盘德国古莎3#金刚石磨盘，250mm 1片/盒PSC04091800PSC04092金刚石磨盘德国古莎3#金刚石磨盘，300mm 1片/盒PSC04092900PSC04093金刚石磨盘德国古莎4#金刚石磨盘，200mm 1片/盒PSC04093600PSC04094金刚石磨盘德国古莎4#金刚石磨盘，250mm 1片/盒PSC04094700PSC04095金刚石磨盘德国古莎4#金刚石磨盘，300mm 1片/盒PSC04095800研磨效率金刚石磨盘的蜂窝结构通过降低与样品的接触面积进行抛光。使得研磨样品所需的压力要比使用平面盘时所需的压力小得多。从而降低了研磨盘的撕裂风险。可重复性特殊设计的蜂窝结构的盘面，试润滑剂能够更好的循环从一个空腔到另一个空腔。将磨损残留物疏散，保证了不变的研磨能力，因此在整个研磨和抛光步骤中的结果是有规律的。全面提升制样效率由于金刚石粗磨盘表层金刚石微粉粒径集中度相比传统砂纸要高,所以,对试样进行研磨时,在去除前道工序即切割产生的表面变形层时,由本身引入的新的变形层较之砂纸非常薄。也就不需要像砂纸那样,用不同目数的砂纸一道道去除前道工序引入的局部深变形层。平整度高金刚石磨盘表面硬度达400HV,磨盘本身不会出现类似砂纸的局部凹陷,这保证了试样的表面平整度，防止在加工的前几秒钟深扰动层的形成同时,金刚石磨盘对硬质和软质材料同样有效的磨削保证了试样表面一致的磨削效果,不同相之间不存在凹凸不平。能彻底消除树脂与试样之间出现的倒角现象 将金刚石磨盘背面吸附到FMS磁性支持盘后，安装到铝制工作盘上使用上：金刚石磨盘中：FMS磁性支持下：铝制工作盘定期保养方法：在150RPM/分钟下直接将金刚石磨盘与不同粒度的磨刀油石砖进行磨合，使盘面重新锋利和平整。通常金刚石磨盘使用水作为冷却剂，如果遇到水敏感样品材料如铸铁或者铝合金，建议使用MM704酒精基专用润滑剂代替。对于高硬度材料样品，我们推荐Booster高效润滑剂代替水，有助于提高磨盘的去薄效率。 金相制样中试样磨抛的目的是去除变形层并达到光滑平整的观测表面，去除变形层俗称去薄，通常使用砂纸来达成，对于高硬度样品可以使用金刚石磨盘代替砂纸，磨盘具有平整度更好，划痕更均匀，更容易去除的特点。包括复杂结构和高硬度的材料。金刚石磨盘适合磨抛HV硬度大于120的样品材质，有色金属类软材质使用砂纸效率更高。棕色的0#盘适合粗磨对应P80-P120的砂纸区间蓝色的1#盘适合粗磨对应P120-P240的砂纸区间绿色的2#盘适合粗磨对应P240-P600的砂纸区间黄色的3#盘适合中磨对应P600-P800的砂纸区间红色的4#盘适合细磨对应P1000-P1200的砂纸区间