生长纳米线炉

Hysitron Pl 89 SEM Picolndenter 利用扫描电子显微镜 (SEM、FIB/SEM)的卓越成像能力,可以在成像的同时进行定量纳米力学测试。这套全新系统搭载Bruker的电容传感技术，继承了早期商业化原位SEM纳米力学平台的优良功能。多年来,Hysitron系列产品稳步拓展PicoIndenter的应用范围，并利用专利xR传感技术和其他先进技术扩展了力和位移量程。PI89拥有多项创新功能，包括电特性模块(ECM)、薄膜和纳米线压转拉模块(PTP)、直接拉伸测试、疲劳测试、旋转和倾斜台(已获专利)、高温测试及纳米划痕等。PI89是现有的用于SEM和 FIB/SEM 的多功能原位纳米力学测试仪。

SKYSCAN 2214 是布鲁克推出的新纳米断层扫描系统，是显微 CT 技术领域的先行者，在为用户带来了终级分辨率的同时,提供非常好的用户体验。SKYSCAN 2214 的每个组件都融入的新的技术，使其成为当今市场上性能很强、适用性很广的系统。■多用途系统，样品尺寸可达300mm，分辨率（像素尺寸）可达 60 纳米■金刚石窗口x射线源，焦斑尺寸500nm■创新的探测器模块化设计，可支持 4 个探测器、可现场升级。■全球速度很快的 3D 重建软件（InstaRecon）。■支持精确的螺旋扫描重建算法。■近似免维护的系统，缩短停机时间并降低拥有成本。地质、石油和天然气勘探■常规和非常规储层全尺寸岩心或感兴趣区的高分辨率成像■测量孔隙尺寸和渗透率，颗粒尺寸和形状■测量矿物相在3D空间的分布■原位动态过程分析聚合物和复合材料■以500 nm 的真正的 3D 空间分辨率解析精细结构■评估微观结构和孔隙度■量化缺陷、局部纤维取向和厚度电池和储能■电池和燃料电池的无损 3D 成像■缺陷量化■正负极极片微观结构分析■电池结构随时间变化的动态扫描生命科学■以真正的亚微米分辨率解析结构，如软组织、骨细胞和牙本质小管等■对骨整合生物材料和高密植体的无伪影成像■对生物样品的高分辨率表征，如植物和昆虫

布鲁克下一代 Hysitron TI 990 TriboIndenter® 为纳米力学和纳米摩擦学表征的性能、灵活性和可用性树立了榜样。TI 990 是布鲁克领先的 TriboIndenter 平台的全面改进，其测量和分析过程的各个方面都采用了旨在消除纳米压痕仪系统常见限制的更新技术。因此，该系统具有更多的可用测量模式 ，并在广泛的实验室环境中提供高精度测量。

布鲁克TI 980高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量的测试仪器，可以用来表征材料多项纳米力学性能，包括硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、破裂韧性、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。高性能的样品加载系统和工艺领先的专利技术三板电容传传感技术赋予仪器超高的稳定性和广泛的应用领域，支持多种类型的不同形状和尺寸的样品。在薄膜、陶瓷、复合物、聚合物、微机电系统、生物和金属等领域都有广泛应用。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等，TI980是最多样化的纳米力学表征工具，是高校、研究所及工业界用户的最佳选择。

布鲁克Hysitron PI 88是布鲁克公司生产的新一代原位纳米力学测试系统，其最大特点是系统设计高度模块化，后期可在已有系统上自行配置并拓展其他功能。该系统通过视频接口将材料的力学数据（载荷-位移曲线）与相应SEM视频之间实现时间同步，允许研究者在整个测试过程中极其精确地定位压头并对变形过程成像。解决了传统纳米压痕方法，只能通过光学显微镜或原位扫描成像观察压痕前后的形貌变化，因无法监测中间过程，而最终对载荷-位移曲线上的一些突变无法给出解释甚至错误解释的问题。PI 88安装于SEM，可以精确施加载荷，检测位移，在电镜下进行压痕、压缩、弯曲、划痕、拉伸和疲劳等力学性能测试；此外，通过升级电学、加热模块，还可研究材料在力、电、热等多场耦合条件下结构与性能的关系。

生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 CVD 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。 产品型号　生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）2、电：AC380V 50Hz（63A空气开关），必须有良好接地3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带?6mm双卡套接头）4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：需要主要特点 1、由OTF-1200X-4单温区炉演变而来的紧凑型CVD炉。 2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层，可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 3、带样品支架的右法兰是滑动的，方便样品的快速取放。 4、左侧的小加热器可对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热，不锈钢加热腔外径?30mm、长150mm，最高工作温度600℃。 5、左边法兰（在加热器与CVD炉之间）装有4个1/4"卡套连结的通气管，具有密封和气体通道的作用。 6、PID自整定数字控制器，可以设置30段升降温程序。 7、选配相关软件可用计算机进行控温。 8、已通过CE认证。技术参数 1、额定电压：单相AC 220V 50Hz/60Hz 2、额定功率：3KW（需20A的空气开关） 3、石英管：外管外径?110mm，内径?102mm，长381mm 4、加热区域：CVD炉400mm，加热器150mm， 5、工作温度：CVD炉最高1100℃（2h），连续工作200℃-1000℃，最大升降温速率10℃/min；加热器连续工作0-500℃，最大升降温速率10℃/min 6、控温精度：±1℃ 7、热电偶：K型 8、右法兰：一个3"石英样品支架，与石英挡板、法兰连成一体，设有KF25真空快接口，以及水冷接口（可选配水 冷机，避免O型圈融化） 9、左法兰：有2个独立1/4″口，可单独将任何气体通入炉内，一路1/4"口将预热气体通入CVD炉，一路1/4″口将不加 热的气体通入炉内，并通过炉内的T型结构与加热气体汇合产品规格　尺寸：1200mm×450mm×510mm；重量：100kg可选配件 1、冷水机 2、控温软件

武汉东隆科技为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Opus One 超导纳米线探测器系统Opus One™ 超导纳米线探测器系统配有定制的紧凑型桌面低温恒温器（预先安装的16/32通道以及低温恒温器中的所有电接线），光学实验室友好型水冷压缩机（低空气循环，低噪声，低热量输出），偏置和高速放大器电子元件以及易于使用的软件控制库。 专有的纳米线材料允许纳米线工作在 2K，降低低温系统的复杂性，并允许系统连续工作3年。 Opus One 是基于超导纳米线技术的单光子探测器，在1550 nm的探测效率高达85 %，通过对谐振腔的调节 ， 可以将提供特殊设计、订购和组装。700~1300 nm指定波长的探测效率提高到90%。除此之外，该探测器还拥有极低的暗噪声和超快的时间分辨率， 计数率高达40Mcps。产品特点 工作温度在2.5k即可达到高探测效率支持定制规格支持定制宽波段响应3U 紧凑化设计低噪声水冷压缩机2um以上红外响应定制 产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数 * 可定制更高探测效率850nm 950nm 1310nm 1550nm SDE 90%90% 80%*80%*暗计数率 1Hz 1Hz10Hz100Hz时间抖动 80ps80ps 100ps100ps脉冲幅值 600mV600mV300mV300mV死时间 50ns50ns50ns50ns

武汉东隆科技有限公司为美国Quantum Opus的中国区独家代理，欢迎您来电垂询！Quantum Opus 超导纳米线探测器Quantum Opus提供了两个标准的纳米线产品，在950 nm（ 90％）或1550 nm（ 80％）范围内最大化系统检测效率。 我们还可以定制任何所需的客户波长，包括非常广泛的响应设备，保持超过100nm的带宽和中红外设备的效率超过50％。 这些设备也可以单独购买，并集成到制冷温度2.5K的第三方低温系统中。 产品特点 工作温度在2.5k可达到最高探测效率探测效率90%@1550nm计数率40MHz!!无PDE下降暗计数1Hz/10Hz/100Hz3U紧凑化设计单台支持2-32通道扩展产品应用 量子光学量子计算量子密钥通信低通量生物光子学荧光测量参数

QE85%超导纳米线单光子探测器所属类别： ? 探测器/光子计数器 ? 单光子计数器 产品简介QE85%超导纳米线单光子探测器 高量子效率85%,低暗计数10cps,高计数率20MHz 很新的超高效率超导纳米线单光子探测器，其在600nm-2300nm内达到高量子效率85%，暗计数10cps，同时zui高计数率20MHz，是目前市场上性能良好的超导单光子探测器，此型号超导纳米线单光子探测器可提供zui多8通道同时运行 超导单光子探测器， SSPD，SNSPD超导纳米线单光子探测器，单光子计数器， Superconducting Nanotechnology，红外单光子计数器，高灵敏度单光子计数器 技术指标：l 量子效率: ≥ 80 %l 时间抖动: ≤ 45 ps (20 ps on request)l 暗计数: ≤ 10 cps (0.01 cps on request)l 光谱范围: 0.6 ÷ 2.3 μml 无后脉冲l 光纤耦合l 连续模式 一般参数：l 探测通道数: 1-8l 光纤类型: SMF-28e l 原始输出电压: ≤ 150 mVl 输出信号类型: TTL, ECL, LVDSl 驱动接口: USB, LabVIEW 应用领域：l 光量子计算l 光子相关性测量l 量子密码和QKDl CMOS缺陷分析l α，β粒子探测l TCSPCl 单分子荧光光谱l 弹道成像l 单等离子体检测l 自由空间通信l LIDARl 时间分辨荧光测量l 单量子点荧光光谱l 片上量子光学l 单线态/三线态氧荧光探测l 皮秒集成电路分析l 单电子探测 相关产品 超低暗计数(0.01cps)超导单光子探测器 超高速（500MHz）超导单光子探测器 超快(120MHz)近红外单光子计数OEM模块 符合计数单光子计数系统

多通道超导纳米线单光子探测系统赋同量子生产的SNSPD系统由超导纳米线单光子探测器、低温恒温系统和电子学模块三个部分组成，该系统具有以下特点：●采用小冷量风冷GM制冷机，无需液氦；●7×24小时不间断运行； ●高可靠性，已通过各种应用场合长期证； ●专业高效的技术支持； ●机柜式或桌面式集成。 参数细节探测通道数目：1-32；光学接口：FC/PC；电子学接口：SMA；工作环境：温度4℃-38℃；湿度≤60%；系统漏率：＜1E-10Pam3/s；重量：约100 kg；电源：单相220-230 V，50 Hz；功耗：≤ 1.3 kW；

QE60%超导纳米线单光子 探测器量子效率60%,低暗计数10cps,高计数率70MHz，只要有制冷腔，就能轻松安装 俄罗斯Scontel 蕞新推出的超导纳米线单光子探测器，只要有制冷腔，就能轻松安装,并且价格低廉，但是功能毫不差劲。其在600nm-2300nm内达到量子效率60%，暗计数10cps，同时计数率高达70MHz，是目前市场上性能优良的超导纳米线单光子探测器的。此型号超导纳米线单光子探测器可提供蕞多16通道同时运行，针对不同应用提供匹配的产品，可多通道同时探测及低成本升级，且可以根据您的不同需求我们不仅有如下图中探测性能的设备，还有多模大面积探测器、超低噪声探测器、光子数分辨探测器供您选择。超导纳米线单光子探测器主要特点：&bull 超高性价比，有制冷腔的选择&bull 针对不同应用提供匹配的产品 &bull 可多通道同时探测及低成本升级 &bull 产品安装/培训/升级全程服务超导纳米线单光子探测器技术指标： 根据需求不同我们可提供以下探测性能的搭配也可根据您的参数要求进行定制：高效检测(HED) -高系统效率和时间分辨率、低噪声、中等带宽的蕞佳组合。 超高效检测(U-HED) -改进的HED版本，运行温度更低，因此在所有参数方面具有更好的综合性能。 宽带宽检测（Broadband）-虽系统效率略有下降。但优化的光学腔增加了带宽低噪声检测（Low noise）-应用可变滤波技术将设备的暗计数率降低到每秒10次,探测器的光谱响应窄得多。超导纳米线单光子探测器应用领域：&bull 量子计算 &bull 光子相关性测量&bull 量子密码和QKD&bull cmos 缺陷分析&bull α，β粒子探测&bull tcspc &bull 单分子荧光光谱&bull 弹道成像&bull 单等离子体检测&bull 自由空间通信&bull LIDAR&bull 时间分辨荧光测量&bull 单量子点荧光光谱&bull 量子光学 &bull 单线态/三线态氧荧光探测&bull 皮秒集成电路分析关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介 TNI LF-2000是目前市面上基于SEM电镜下使用的自动化程度最 高的纳米操作系统，也是一种能够在SEM电镜下提供可重复 定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。 产品特性 完全兼容主流电镜，不影响电镜功能 市面上较佳的运动定位性能：大行程、亚纳米分辨率 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。图片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，图片展示的是用球端AFM悬臂探针对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。图片展示的是纳米线FET传感器的构造。

纳米操作机、纳米机械手、纳米操纵机械臂、纳米操纵仪TNI LF-2000产品简介TNI LF-2000是兼容SEM/FIB的自动化纳米操作系统，也是能够在SEM/FIB下提供可重复定位、低漂移、闭环运动控制定位的纳米操作系统。产品特性 兼容主流电镜，不影响电镜功能 具有大行程、亚纳米分辨率运动定位性能 位移传感器集成自动化和可编程运动 SEM真空环境优化设计，可快速安装与拆卸规格参数系统概况系统尺寸127x127x33mm3*机械手数量1-4操作手（宏动）驱动原理粘滑驱动运动范围XY轴：10mm Z轴：5mm速度3mm/s最小步长100nm操作手（微动）驱动原理无摩擦柔性铰链运动范围XYZ轴：20μm速度45μm/s开环运动分辨率0.5nm闭环运动分辨率1nm定位漂移率0.35nm/min软件功能**点击-移动鼠标在电脑屏幕上从A移动到B自适应放大倍数定位器移动速度根据SEM放大自动调整操作手位置保存/加载用户自定义的“保存/加载”操作手坐标3D虚拟显示实时三维显示操作手的位置和运动自动校准操作手闭环传感器自动校准运动轴的自动对准所有操作手运动轴自动对准SEM图像轴*系统尺寸可根据需要减小到50x50x17mm3**可根据选定SEM/FIB的型号而定应用案例电学特性LifeForce为纳米材料提供可靠、低噪音的电测量，以及与纳米结构的原位相互连接。实例照片展示的是四探针测量纳米线电学性能。力学测量LifeForce为纳米材料的力学特性提供高分辨率的力和位移反馈，实例照片展示的是用球端AFM悬臂探针对硅纳米线簇进行纳米压痕，以及对单根纳米线的拉伸测试。拾取和放置操作使用末端工具（例如：探针、微纳米夹持器、超声切割针），操作者能够操作LifeForce纳米操作手在SEM电镜内对微纳米物体进行推、拉和抓取等操作。制作微纳米器件精密的操作手运动能够实现微纳米器件的快速成型和后处理。实例照片展示的是纳米线FET传感器的构造。纳米电子器件电学测量LifeForce纳米操作机是市面上能够自动探测电子结构（范围从亚微米，亚100nm及亚20nm）。只需要通过计算机点击鼠标，将探针定位到目标位置。极低得定位漂移，保证数据采集得可靠性。 主要软件功能①　位置反馈：提供每个操作手XYZ精确得位置反馈，1纳米运动定位分辨率。②　保存/加载坐标：保存和加载多个操作手得坐标。③　自动校准：限度地提高定位性能，并将操作手运动轴对准扫描电子显微镜图像轴。④　3D虚拟显示：实时3D虚拟空间显示操作手（粉红色方块）和样品（绿色平面）得位置。⑤　点击-移动：通过在屏幕上鼠标点击控制操作手运动。⑥　多操作手联动：连接多个操作手得运动，具有纳米级精度。⑦　图片-视频录制：保存操作过程中的高清图片和视频。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum

纳米空间分辨超快光谱和成像系统 “空间和时间的结合”— 纳米分辨和飞秒别的光谱超快光谱技术拥有诸多特色，例如高的时间分辨率，丰富的光与物质的非性相互作用，可以用光子相干地调控物质的量子态，其衍生和嫁接技术带来许多凝聚态物理实验技术的变革等等。然而，受制于激发波长的限制（可见-近红外），超快光谱在空间分辨上受到了一定的制约，在对一些微纳尺寸结构的材料研究中，诸如一维半导体纳米线，二维拓扑材料、纳米相变材料等，无法地进行有效的超快光谱分析。 德国Neaspec公司利用十数年在近场及纳米红外领域的技术积累，开发出了全新的纳米空间分辨超快光谱和成像系统，其pump激发光可兼容可见到近红外的多组激光器，probe探测光可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）波段，实现了在超高空间分辨（20 nm）和超高时间分辨（50 fs）上对被测物质的同时表征。技术原理：设备特点和参数：→ 超高空间分辨和时间分辨同时实现；→ 20-50 nm空间分辨率；→ 根据pump光源时间分辨可达50 fs；→ probe光谱可选红外（650-2200 cm-1）或太赫兹（0.5-2 T）应用领域：→ 二维材料→ 半导体→ 纳米线/纳米颗粒→ 等离激元→ 高分子/生物材料→ 矿物质......应用案例：■ 纳米红外超快光谱分辨率为10nm的InAs纳米线红外成像，并结合时间分辨超快光谱分析载流子衰减层的形成过程参考：M. Eisele et al., Ultrafast multi-terahertz nano-spectroscopy with sub-cycle temporal resolution, Nature Phot. (2014) 8, 841.稳态开关灵敏性：容易发生相变的区域，光诱导散射响应较大参考：M. A. Huber et al., Ultrafast mid-infrared nanoscopy of strained vanadium dioxide nanobeams, Nano Lett. 2016, 16, 1421.参考：G. X. Ni et al., Ultrafast optical switching of infrared plasmon polaritons in high-mobility graphene, Nature Phot. (2016) 10, 244.参考：Mrejen et al., Ultrafast nonlocal collective dynamics of Kane plasmon-polaritons in a narrow- gap semiconductor, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 范德华材料 WSe2 中的超快研究参考：Mrejen et al., Transient exciton-polariton dynamics in WSe2 by ultrafast near-field imaging, Sci. Adv. (2019), 5, 9618.■ 黑磷中的近红外超快激发黑磷的high-contrast interband性质使其具有半导体性质，在光诱导重组过程中表面激发的电子空隙对（electron-hole pairs）～50fs并在5ps内消失参考：M. A. Huber et al.,Femtosecond photo-switching of interface polaritons in black phosphorus heterostructures, Nat. Nanotechnology. (2016), 5, 9618.■ 多层石墨烯中等离子效应衰减效应参考：M. Wagner et al., Ultrafast and Nanoscale Plasmonic Phenomena in Exfoliated Graphene Revealed by Infrared Pump?Probe Nanoscopy, Nano Lett. 2014, 14, 894.发表文章：neaspec中国用户发表文章超80篇，其中36篇影响因子10。部分文章列表：● M. B. Lundeberg et al., Science 2017 AOP.● F. J. Alfaro-Mozaz et al., Nat. Commun. 2017, 8, 15624.● P. Alonso-Gonzales et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 31.● M. A. Huber et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 207.● P. Li et al., Nano Lett. 2017, 17, 228.● T. Low et al., Nat. Mater. 2017, 16, 182.● D. Basov et al., Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 187.● M. B. Lundberg et al., Nat. Mater. 2017, 16, 204.● D. Basov et al., Science 2016, 354, 1992.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2016, 16, 7842.● A. Y. Nikitin et al., Nat. Photonics 2016, 10, 239.● G. X. Ni et al., Nat. Photonics 2016, 10, 244.● A. Woessner et al., Nat. Commun. 2016, 7, 10783.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 8271.● G. X. Ni et al., Nat. Mater. 2015, 14, 1217.● E. Yoxall et al., Nat. Photonics 2015, 9, 674.● Z. Fei et al., Nano Lett. 2015, 15, 4973.● M. D. Goldflam et al., Nano Lett. 2015, 15, 4859.● P. Li et al., Nat. Commun. 2015, 5, 7507.● S. Dai et al., Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 682.● S. Dai et al., Nat. Commun. 2015, 6, 6963.● A. Woessner et al., Nat. Mater. 2014, 14, 421.● P. Alonso-González et al.,Science 2014, 344, 1369.● S. Dai et al., Science 2014, 343, 1125.● P. Li et al., Nano Lett. 2014, 14, 4400.● A. Y. Nikitin et al., Nano Lett. 2014, 14, 2896.● M. Wagner et al., Nano Lett. 2014, 14, 894.● M. Schnell et al., Nat. Commun. 2013, 5, 3499.● J. Chen et al., Nano Lett. 2013, 13, 6210.● Z. Fei et al., Nat. Nanotechnol. 2012, 8, 821.● J. Chen et al., Nature 2012, 487, 77.● Z. Fei et al., Nature 2012, 487, 82.

JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统纳米发电机,是基于规则的氧化锌纳米线的纳米发电机,是在纳米范围内将机械能转化成电能,而摩擦发电纳米发电机基于摩擦起电和静电感应的耦合将机械能转换成电能,两者均是世界上Z小的发电机。研究纳米发电机的电学输出特性,开路电压、短路电流、转移电荷、功率密度、对提是高发电机输出功率,转换效率及产品设计的可靠性有着密不可分的关系。JKFD-6514FENG摩擦纳米发电机测试系统配置包含：Keithley静电计6514一台，NI采集卡一块，测试系统及测试线缆。系统要求：1.静电计可以测电阻、电压，电流，电荷这四个参数，且精度高。电流100aA - 20mA；电压10μV - 200V；电阻10mΩ - 200GΩ；电荷10fC - 20μC；带模拟输出，DIGITAL I/O口。2.计算机通讯：支持GPIB和RS232接口。3.提供NI的多通道数据采集卡及数据通讯线。4.可设置调零、量程、采集间隔、运行时间。可随时终止测量。5.数据可显示瞬时测量曲线（IT，VT，RT，CT）和阶段时间测量曲线，数据自动保存为csv格式。6.支持GPIB和RS232控制。

全自动纳米压印光刻生产线GL300 Cluster200/300 mmGL300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配天仁微纳专利CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和压印、自动脱模，整个工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。主要功能●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线●确保压印结构精度与结构填充完整性●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本●全自动预处理步骤，包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在局部洁净环境中自动进行，以保证压印质量●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料●产能可大于100片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED等应用领域的量产●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸200mm、300mm 特殊尺寸可定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式Cassette to cassette全自动上下片晶圆预对位光学巡边预对位纳米压印技术CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压纳米压印预处理工艺步骤CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印、清洗（毛刷、二流体、兆声波）、旋涂匀胶、加热烘烤、冷却、plasma表面处理压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强200mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持自动工作模具更换支持模具基底对位功能自动对位（选配）Post Cure选配AOI在线检测选配产能可大于100片每小时*如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

百及纳米ParcanNano 探针电子束光刻机P-SPL21 简介： 公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学，致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。 公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。 技术特点：。场发射低能电子束。大幅降低电子束背底散射。几乎消除电子束临近效应。光刻5纳米以下单线宽结构。光刻结构间距小于2纳米。接近原子级分辨的套刻精度。线写速度高达 300 μm/s。大气环境下可实现正负光刻。正光刻流程无需显影步骤。无需调制电子束聚光。大范围分步重复工艺。Mix & Match 混合光刻模式。针尖曝光与结构成像实时进行。真空原位观测光刻图案 功能指标

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机 方案简介：王中林院士在纳米科学与能源技术领域有着高深的造诣，其所提出的纳米发电机方向，为不少高校材料学院的研究方向之一。但是由于此类材料，多为高阻材料，其对测试的仪器仪表有了更高的要求。6514和6517B以其高达200TΩ的源内阻，以及pA至mA级别的高精度电流量程，成为了纳米发电机电压，电流测试的不二之选。 材料介绍：纳米发电机，是基于规则的氧化锌纳米线，在纳米范围内将机械能转换成电能，是较小的发电机。目前纳米发电机分为三类：压电纳米发电机；摩擦纳米发电机；热释电纳米发电机，一般应用于生物医学，无线通信，无线传感等领域。PDMS系列压电摩擦纳米发电机测试机主要技术参数1.采集软件功能:软件可快速采集电流、电压、电阻、电荷随时间变化曲线,V-T, I-T,R-T,Q-T曲线。软件可设置静电计的量程范围、对静电计进行零点校正、设置静电计NPLC采样速度。可连续可调设置采集卡的采集速度,最大可达50k/s，可设置记录时间,在测试的过程中实时绘制数据曲线，数据自动保存、数据可用Excel、记事本、Origin打开并分析。包含采集卡1个、转接头适配器1个及USB通信电缆1条，RS232通信电缆1条、低噪声3同轴测试电缆1条2.静电计技术参数： 2.1输入阻抗：200TΩ 2.2电压量程：10µ V-200V 2.3电流量程：50pA-20mA2.4电阻量程：10mΩ-200GΩ 2.5电荷量程：20nC-20µ C 3.直线电机技术参数3.1有效行程：360mm 3.2最佳行程：280mm 3.3峰值推力：163N 3.4持续推力：29N3.5持续推力（风冷）：54N 3.6力常数：20.4N/A3.7最大电流@72VDC：8A 3.8最大电流@48VDC：6.3A 3.9最大速度@72VDC：3.2m/s 3.10最大速度@48VDC：2.2m/s3.11配置驱动软件1套3.12光学面包板1套 3.13控电柜1个3.14剪式升降台2个3.15 TENG 直角架与转接板1板 4.测力计技术参数4.1拉压力测量:501bF/800ozF/25kgF/25000gF/250N4.2精度：±0.1%FS4.3分辨率：0.00lbF/0.2ozF/0.005kgF/5gF/0.05N 4.4测量单位：lbF ozF kgF gF N4.5输出：RS232 digiatic USB analogue4.6可存储测量值：1000 个

FeaturesSingle axis Micro and Nanopositioning25mm coarse motion with optional hi-res encoder30 micron nanopositioningClosed loop controlTypical ApplicationsAFM, NSOM, and other types of scanning probe microscopy (SPM)NanoindentingNanomanipulationProduct DescriptionThe Nano-SPMZ integrates single axis micropositioning and high resolution nanopositioning into a compact unit which is compatible with optical tables and standard mounting accessories. Stepper motor driven coarse positioning over 25mm can produce a minimum step size of 95nm. An optional high resolution linear encoder incorporated into the coarse positioning stage continuously monitors positions down to 20nm. Nanopositioning over 30 microns provides the ultimate positioning resolution of 60 picometers with the stability of the proprietary PicoQ? position feedback sensors. The USB digital interface provides direct PC control of the micropositioner and nanopositioner as well as access to the linear encoder and position sensor inside the nanopositioner.Technical SpecificationsMicropositionerRange of motion25 mmMicoropositioning step size95 nmMaximum speed4 mm/secMotion ProfileMotion 500 stepsAutomatic accel/decel controlMotion ≤ 500 stepsConstant 1 step/msLinear encoder resolution (optional)20 nmBody materialAluminumControllerMicroDrive?Computer interfaceBidirectional USBNanopositionerRange of motion (nanopositioner)30 μmMaximum resolution (nanopositioner)0.06 nmResonant frequency (nanopositioner)4kHz ±20%Resonant frequency (nanopositioner, 100g load)2kHz ±20%Resonant frequency (100g load)2 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%Recommended max load (horizontal)*1.0 kgRecommended max load (vertical)*0.5 kgBody materialAluminumControllerNano-Drive?Computer interfaceUSB* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-SPMZ DrawingNano-SPMZ Catalog PagesAFM Video TutorialRelated ProductsAFM Video Tutorial MadPLL?Nano-OP SeriesMicroStage SeriesNano-View? SeriesNano-View?/M SeriesAccessories

Imina公司的miBotTM是世界上最紧凑的机器人，具有4个自由度及纳米定位分辨率，专为FIB/SEM电性测量及分析开发。与传统纳米机械手不同，miBotTM是一种自由移动机械手，几乎不受限制，能够在载台表面自由移动。由于采用非固定安装，miBotTM可以定位任意位置同时能够测量各种外形样品。miBotTM采用压电陶瓷驱动，运动范围达厘米级，定位分辨率从微米到纳米不等，步进模式能够快速移动探针指感兴趣区域，而扫描模式能够快速落针。miBotTM具备高刚度手臂使其抗震性好，其无与伦比的稳定性确保了即使在最小的样品上也能长时间保持稳定接触。miBots移动均在本身方向进行，无需传统旋转和平移耦合控制，因而操控非常直观。用户很快可掌握，大大减小损坏样品的风险，用户也更为直观实现各类电学测量分析。功能丰富且容易满足各类样品需求优化的操作设计确保操作简单、测量安全可靠、数据传输快兼容低加速电压和短工作距离分析，同时支持磁性镜筒的高分辨率成像55°倾斜角度下依然能长时间稳定定位和电学接触，满足FIB原位分析厘米级移动范围，高达15μm范围高精度纳米级精细运动控制适配小工作距离适配磁性镜筒平台适配FIB大倾转分析标准纳米钨针光纤机械手配置灵活方便可选配置：1. 变温载台温度范围：-30℃~+150℃，可连续精准控温温度稳定性：0.05℃可折叠散热器满足小腔体SEM安装Peltier半导体制冷无震动 2. EFA电性失效分析专为EBIC、EBAC/RCI和EBIRCh的高效精确缺陷定位设计实时成像，缩短数据传输时间自动路径规划简化操作流程各种故障案例进行高性能分析 3. XYZ子样品台在电镜载台运动外增加样品独立XYZ调节降低探针落针时间及满足批量测量行程范围：5mm（X/Y），330μm（Z）分辨率：2nm（X/Y），7nm（Z） 4. 软件模块化纳米分析工作流程预设分步式流程，降低学习曲线并减少数据处理时间快速设置工作流程，轻松完成落针配备预定义的测量配方管理测量数据库，轻松进行曲线对比及结果导出 5. 大样品载台双层架空设计最大支持2英寸晶圆以及先进封装和横截面样品测试不同高度支架选择满足各种高度样品分析 6. 标准失效分析设备设计可选标准19寸机柜，可容纳各类控制器及标准可参数分析仪标准工具和配件工具箱预装软件工作站及配套显示器应用场景：1. 纳米分析失效分析和可靠性分析集成电路安全评估芯片设计及逆向工程 2. EBAC/RCI分析开路、电阻或短路缺陷定位分析制造和长期问题诊断低电阻梯度分析 3. 半导体器件分析单个晶体管/二极管的I-V曲线测量SRAM位单元特性分析通孔电阻率测量 4. 电性测量MEMS和传感器驱动和分析光电子器件测试：MicroLED、太阳能电池材料表征：纳米线、石墨烯、薄膜、纳米颗粒 5. EBIC分析PN结区可视化及缺陷定位偏压下样品电荷成像分析掺杂可视化及分析 6. 纳米操纵纳米颗粒分离和定位TEM样品制备微纳组装

SSP-354 碳纳米管台式炉 SSP-354 碳纳米管台式炉是美国Nanotech 的优势产品，Nanotech 技术起源于NASA 的格伦碳纳米管研究中心。这项技术能够生产出高纯度、低缺陷密度的碳纳米管。 目前SSP-354能够生产出1~100纳米直径的单壁或多壁的碳纳米管。而且有别于 Arc discharge、Laser ablation、CVD这三种生产方式需要预催化的模式。 SSP-354可生产高纯度、低缺陷密度的CNTs，仪器操作步骤简单无需预催化，桌面放置，非常适合研究所、大学实验室操作。

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

SKYSCAN 2214 是布鲁克推出的新纳米断层扫描系统，是显微 CT 技术领域的先行者，在为用户带来了终级分辨率的同时,提供非常好的用户体验。SKYSCAN 2214 的每个组件都融入的新的技术，使其成为当今市场上性能很强、适用性很广的系统。■多用途系统，样品尺寸可达300mm，分辨率（像素尺寸）可达 60 纳米■金刚石窗口x射线源，焦斑尺寸500nm■创新的探测器模块化设计，可支持 4 个探测器、可现场升级。■全球速度很快的 3D 重建软件（InstaRecon）。■支持精确的螺旋扫描重建算法。■近似免维护的系统，缩短停机时间并降低拥有成本。地质、石油和天然气勘探■常规和非常规储层全尺寸岩心或感兴趣区的高分辨率成像■测量孔隙尺寸和渗透率，颗粒尺寸和形状■测量矿物相在3D空间的分布■原位动态过程分析聚合物和复合材料■以500 nm 的真正的 3D 空间分辨率解析精细结构■评估微观结构和孔隙度■量化缺陷、局部纤维取向和厚度电池和储能■电池和燃料电池的无损 3D 成像■缺陷量化■正负极极片微观结构分析■电池结构随时间变化的动态扫描生命科学■以真正的亚微米分辨率解析结构，如软组织、骨细胞和牙本质小管等■对骨整合生物材料和高密植体的无伪影成像■对生物样品的高分辨率表征，如植物和昆虫

FeaturesCompact tubular designTrue flexure guided motionPosition sensors, closed loop controlUp to 70 μm motionInvar and titanium constructionClosed loop controlTypical ApplicationsSingle axis positioningSurface analysisMetrologyProduct DescriptionThe Nano-P Series are piezo actuated, closed loop, linear translators that incorporate a unique flexure hinge design. The flexure hinge is machined entirely from a single block of high strength titanium using an advanced electrical discharge machining process. This hinge, available for the first time on a tubular nanopositioner, ensures the highest degree of repeatability and load capability. Unlike similar looking products on the market, the Nano-P Series does not have internal Belleville springs. Belleville springs are not frictionless and therefore cannot provide the high degree of repeatability of a true nanopositioner. The guiding mechanism of the Nano-P Series is a true flexure spring - eliminating mechanical friction and stiction. The Nano-P Series is constructed from invar and titanium for the best combination of thermal stability and mechanical strength, making it ideal for the most demanding positioning and metrology applications. The Nano-P Series is available in three standard ranges of motion with integrated position sensors utilizing proprietary PicoQ? technology to provide absolute, repeatable position measurement with picometer accuracy under closed loop control. Custom systems available.Noise Plots - Nano-P15Test Data - Nano-P35The Nano-P35 closed-loop response to a 3nm peak-to-peak square wave input signal, measured with USB digital interface. Notice the ultra-low, sub-nanometer stability of the system over the time scale. Similar products offered by other companies are unable to achieve such low-noise results. The Nano-P uses a true flexure guiding mechanism and low-noise sensors to achieve high-resolution positioning. Technical SpecificationsRange of motion (Nano-P15)15 μmRange of motion (Nano-P35)35 μmRange of motion (Nano-P70)70 μmResolution (15/35/70 μm)0.03/0.07/0.14 nmResonant Frequency2.5 kHz ±20%Recommended max. load*0.2 kgBody MaterialInvar and TitaniumControllerNano-Drive?* Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-P Series DrawingNano-P Series Catalog PagesRelated ProductsNano-MiniNano-OP SeriesNano-Z SeriesNano-MZNano-F SeriesAccessoriesNano-Drive?

Features High speed, direct driveStackable for multi-axis motion30, 50, and 100 μm ranges of motionClosed loop controlTypical Applications InterferometryNanomanipulationHigh speed lens focusingFiber opticsNSOM Product DescriptionLike the Nano-OP Series, the Nano-OPH Series is a versatile group of compact single axis nanopositioners which can be configured to fit into a wide variety of applications. The addition of a 1.3 inch diameter aperture through the stage makes the Nano-OPH especially useful for precise motion in optical experiments. Individual, single axis stages may be combined to form multi-axis systems. The Nano-OPH Series are available with 30, 50, and 100 micron ranges of motion. They can be constructed from aluminum, invar, or titanium and can be customized to suit unique requirements. Internal position sensors utilizing proprietary PicoQ® technology provide absolute, repeatable position measurement with picometer resolution under closed loop control.Technical SpecificationsRange of motion (Nano-OPH30)30 μmRange of motion (Nano-OPH50)50 μmRange of motion (Nano-OPH100)100 μmResolution (30/50/100 μm)0.06/0.1/0.2 nmResonant Frequency3.5 kHz ±20%Resonant Frequency (100g load)1.5 kHz ±20%Stiffness3.0 N/μm ±20%θ roll, θ pitch (typical)≤1 μradθ yaw (typical)≤2 μradRecommended max. load (horizontal)*1.0 kgRecommended max. load (vertical)*0.5 kgBody MaterialAl, Invar or TitaniumControllerNano-Drive® * Larger load requirements should be discussed with our engineering staff.Additional InformationNano-OPH Series Drawing Nano-OPH Series Catalog PagesRelated ProductsNano-OP SeriesHigh Speed Lens PositionersNano-HLAccessoriesSPM AccessoriesNano-Drive®