湿法转印系统

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 9.4 x 8.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1.蛋白质转印快速、高效、重现性好 2.特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3.槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4.最多可同时进行4块凝胶的转印

蛋白质快速半干转印系统： 正极：铂金包被的钛合金，负极：不锈钢，电极面积16× 20cm，不带流动冷却系统，说明 书 产品特点： 1.快速均一的蛋白质转印，可用于大到150kDa的蛋白质转印 2.只需要很少的缓冲液，在10至30分钟即可完成转印 3.无需维护的金属电极 4.最大凝胶尺寸：15.5× 19.5cm 5.独一无二的结构设置：四个角上具有间隔装置，避免短路

蛋白质快速半干转印系统： 正极：铂金包被的钛合金，负极：不锈钢，电极面积16× 20cm，带流动冷却系统，说明书 产品特点： 1.快速均一的蛋白质转印，可用于大到150kDa的蛋白质转印 2.只需要很少的缓冲液，在10至30分钟即可完成转印 3.无需维护的金属电极 4.B43转印系统，带有流动冷却装置，能带走转印时产生的热量 5.最大凝胶尺寸：15.5× 19.5cm 6.独一无二的结构设置：四个角上具有间隔装置，避免短路

Blot 7-分钟干式转印系统自2007年推出以来，受到国内外很多学者的热爱，目前有700多篇文献引用。如今，我们全新升级的iBlot 2在原有快速转印系统的基础上，具有更加美观和牢固的工业设计，直观的触摸屏设计使得操作更加人性化。 快速——在7分钟或更少的时间内实现蛋白的完全转移 重复性好——减少印迹制备和电泳引起的实验差异 灵敏——转印均匀，所需样品量少 方便——独立式设备；无需加入缓冲液或者外部电源 触摸屏界面——内置预设程序和操作指南，此外，还可以自定义创建新程序，满足不断变化的实验需求如需了解详情，请访问

MidiLab9000-E/P/T 湿法冶金元素在线检测系统是一款用于化工新能源和湿法有色冶金工厂液体样品在线过程检测系统。特别是针对萃取工艺、电解工艺生产镍、铜、锌、锂等有色金属过程中的浸出液、电解液和废液实时检测。并在异常时及时预警和复测。可进行元素分析检测、粒度分析检测、滴定分析检测、酸度分析检测、浓度分析检测等。“多”—集中或分布式采样点可设置20个以上“快”—单个样品分析和异常复测15分钟内完成“好”—采用品牌的分析仪器，如ICP-MS、ICP-OES、激光衍射粒度仪、在线滴定仪“省”—采用微正压洁净分析舱，恶劣现场依然能够给精密分析仪器提供最佳的工作环境，延长寿命，降低用户使用成本可用于化工新能源和湿法有色冶金工厂液体样品在线过程检测，特别是针对萃取工艺、电解工艺生产镍、铜、锌、锂等有色金属过程中的浸出液、电解液和废液实时检测。

仪器系统 功能 湿法转印电泳 可快速高效地转印蛋白样品，尤其是200kD以上的大分子蛋白，转印重现性好 凝胶大小 22.0 x 19.0cm 不同规格以满足不同的应用 凝胶容量 1-4块 根据样品量多少可调节凝胶数量 转印夹板 正负极夹板颜色不同 根据颜色来判断转印夹板的正负极，不会放反 冷却循环装置 面积大 有效制冷，可防止因转印时间长而导致局部温度过高，条带变形 配置 灵活 即可作为独立的湿法转印设备，也可作为一个模块与Eco垂直电泳槽兼容 产品特点： 1蛋白质转印快速、高效、重现性好 2、特别适用于分子量200kDa以上的大分子蛋白质和对温度敏感的蛋白质（如某些酶类） 3、槽壁上有大面积的整合式冷却夹层，不断循环，高效冷却，使得转印时整个槽内的温度达到高度均一（缓冲液为6℃，其温度均一性为± 0.5℃），比普通的通过磁力搅拌混匀的方式效果更好，可实现超过12h以上的连续工作 4、最多可同时进行4块凝胶的转印

高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【湿法管线式高剪切胶体磨介绍】 湿法胶体磨,上海湿胶体磨,湿法超细胶体磨， 简单说就是对物料进行液体状态研磨粉碎或流质体状态下研磨粉碎，适用于一些要求物料本身含有油性、水分、或有要求低温、防止挥发、易燃易爆等情况下采用。上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工 IKN改进型胶体磨综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能，具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后，粒度达2～50微米，均质度达90%以上，是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。【工作原理】 高剪切，研磨及高速搅拌作用。磨碎依靠两个齿形面的相对运动，其中一个高速旋转，另一个静止，使通过齿面之间的物料受到大的剪切力及磨擦力，同时又在高频震动，高速旋涡等复杂力的作用下使物料有效的分散、浮化、粉碎、均质。 【特点】☆更稳定 采用优化设计理念，将先进的技术与创新的思维有效融合，并体现在具体的设备结构设计中，为设备稳定运行提供了保证.☆ 新结构 通过梳齿状定子切割破碎，缝隙疏密决定细度大小，超高线速度的吸料式叶轮提供超强切割力，纤维湿法研磨破碎可达400目.☆ 更可靠 采用整体式机械密封，大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题，安装与更换方便快捷.☆新技术 采用国际先进的受控切割技术，将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内，满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。【胶体磨的技术参数】高速胶体磨流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMS 2000/470014000404DN25/DN15CMS 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMS 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMS 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMS 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMS 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。【应用域】食品行业：乳品、豆乳、果汁、米浆、果酱、果冻、奶酪、蛋***、沙拉酱、冰淇淋、巧克力、食品添加剂、食用香精香料；化学工业：染料、涂料、润滑油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、白炭黑,二氧化硅,炭黑等；日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等；医药工业：各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、乳化猪皮等； 建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等；生物医药：药膏、软膏、霜剂、脂肪乳、细胞组织破碎、糖衣、填充剂分散等；纳米材料：超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散 等。 以上是湿法管线式高剪切胶体磨的详细介绍，包括湿法管线式高剪切胶体磨的厂家、价格、型号、图片、产地、品牌等信息!上海依肯机械设备有限公司内有样机，可提供免费实验，实验结果是检验设备优劣的唯一标准。欢迎您随时莅临我司交流、参观！如有需要，欢迎致电上海依肯销售 徐工高速湿法粉碎机、湿法管线式胶体磨、卫生高剪切胶体磨，德国湿法胶体磨、19000转高速纳米胶体磨、改进型胶体磨、在线式湿法粉碎机、环保型316L湿法粉碎机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。

兆声湿法去胶技术SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统应用： 光刻胶去除，剥离带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

蛋白质快速半干转印系统： 正极：铂金包被的钛合金，负极：不锈钢，电极面积16× 20cm，不带流动冷却系统，说明 书 产品特点： 1.快速均一的蛋白质转印，可用于大到150kDa的蛋白质转印 2.只需要很少的缓冲液，在10至30分钟即可完成转印 3.无需维护的金属电极 4.最大凝胶尺寸：15.5× 19.5cm 5.独一无二的结构设置：四个角上具有间隔装置，避免短路

LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

蛋白质快速半干转印系统： 正极：铂金包被的钛合金，负极：不锈钢，电极面积16× 20cm，带流动冷却系统，说明书 产品特点： 1.快速均一的蛋白质转印，可用于大到150kDa的蛋白质转印 2.只需要很少的缓冲液，在10至30分钟即可完成转印 3.无需维护的金属电极 4.B43转印系统，带有流动冷却装置，能带走转印时产生的热量 5.最大凝胶尺寸：15.5× 19.5cm 6.独一无二的结构设置：四个角上具有间隔装置，避免短路

兆声湿法去胶技术LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带图案/不带图案的掩模版LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面手动上下载片安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面

兆声湿法去胶技术LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC是占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版 掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

美国Chemcut湿法蚀刻设备Chemcut 半导体制造的水平化学加工设备专注于：&bull 晶圆湿法加工包括铜，钛/钨等金属蚀刻，干膜显影和退膜等&bull 导线框架 (QFN) 和 BGA 等背蚀刻和半蚀刻&bull 导线框架 (QFN) 和集成电路 IC 截板加工湿式加工设备 CC8000CC8000 设计用于加工半导体，IC (引线框架和 IC 基板)，高端HDI PCB / FPC，触控和 LCD 显示屏幕，太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻质量。自启动以来，已成交并安装了700多个系统。晶圆图案制作：&bull 干膜显影&bull 铜蚀刻&bull 钛/钨蚀刻晶圆 Bumping 湿法工艺&bull 光阻显影：与 Pad 制作类似&bull 光阻剥离：需要高喷洒压力 (30 - 40 bars)&bull 种子层 (UBM) 蚀刻：使用喷洒或浸渍技术Chemcut 2300 系列 小批量生产批量和原型系统Chemcut 2300 是一种紧凑，双面，水平，传送带式，振荡喷射处理系统系列，采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300 系列非常适用于实验室，原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件，仪表板和铭牌。本系列湿法设备有多种配置，可用于铜和氯化铁蚀刻，碱性氨蚀刻，抗蚀剂显影，化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理，如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻（最高 160°F，71°C）。适用于：&bull 化学清洗&bull 铁蚀刻&bull 铜蚀刻&bull 碱性蚀刻&bull 抗蚀剂显影&bull 抗蚀剥离&bull 宽度 15 到 20 英寸&bull 18 X 24 功能应用于：&bull 原型商店&bull 小批量商店&bull 开发实验室&bull 研发部门&bull 大学&bull 特殊加工&bull 替代化学品&bull 研磨特殊合金&bull 减少废物

Blot 7-分钟干式转印系统自2007年推出以来，受到国内外很多学者的热爱，目前有700多篇文献引用。如今，我们全新升级的iBlot 2在原有快速转印系统的基础上，具有更加美观和牢固的工业设计，直观的触摸屏设计使得操作更加人性化。 快速——在7分钟或更少的时间内实现蛋白的完全转移 重复性好——减少印迹制备和电泳引起的实验差异 灵敏——转印均匀，所需样品量少 方便——独立式设备；无需加入缓冲液或者外部电源 触摸屏界面——内置预设程序和操作指南，此外，还可以自定义创建新程序，满足不断变化的实验需求如需了解详情，请访问

简单介绍：Keebio-Blot1000全能型蛋白快速转印系统应用快速半干转技术，可在5-10分钟内完成Western Blot实验中蛋白质从凝胶到膜的转印，研究人员可更快、更轻松的获得可重复的转印结果。详情介绍：&diams 产品介绍Keebio-Blot1000全能型蛋白快速转印系统应用快速半干转技术，可在5-10分钟内完成Western Blot实验中蛋白质从凝胶到膜的转印，研究人员可更快、更轻松的获得可重复的转印结果。&diams 产品特点A、B上下两槽相互独立，可分别运行不同条件；单次运行可转印1-4块小型凝胶或1-2块中型凝胶；兼容传统的半干转耗材，可进行 30 分钟及以上的半干转；空载或无转印盘装入时的智能提示实时显示转印条件及运行状态高效风道散热设计，可将转印时产生的高热量有效排出每份滤纸仅需100ml缓冲液即可；此平台可容纳不同厚度的凝胶，压力均匀；简单的闭锁设计，安装快速、简便； 拉出抽屉盒子时，电流被切断，能防止电击，保护使用者；正负电极板可直接冲洗，方便维护。&bull &diams 技术参数全能型蛋白快速转印系统Keebio-Blot1000单次运行可转印1-4块7x8.5cm凝胶或1-2块13.5x8.5cm凝胶运行程序可编辑储存自定义25个运行程序，可轻松调用液晶屏7寸触摸式内置整合型电源电压0-25V(1V递进)，电流0-2.5A(0.1A递进)转印盘尺寸（mm）180 x 145仪器尺寸（mm）290x 250x 235仪器重量（kg）5

MidiLab9000-E/P/T 湿法冶金元素在线检测系统是一款用于化工新能源和湿法有色冶金工厂液体样品在线过程检测系统。特别是针对萃取工艺、电解工艺生产镍、铜、锌、锂等有色金属过程中的浸出液、电解液和废液实时检测。并在异常时及时预警和复测。可进行元素分析检测、粒度分析检测、滴定分析检测、酸度分析检测、浓度分析检测等。“多”—集中或分布式采样点可设置20个以上“快”—单个样品分析和异常复测15分钟内完成“好”—采用品牌的分析仪器，如ICP-MS、ICP-OES、激光衍射粒度仪、在线滴定仪“省”—采用微正压洁净分析舱，恶劣现场依然能够给精密分析仪器提供最佳的工作环境，延长寿命，降低用户使用成本可用于化工新能源和湿法有色冶金工厂液体样品在线过程检测，特别是针对萃取工艺、电解工艺生产镍、铜、锌、锂等有色金属过程中的浸出液、电解液和废液实时检测。

从固定源所排放的颗粒物的方法5是最重要的等速采样规则，阐述了采样步骤和所需的仪器，使任何排放源采样出具代表性的颗粒物样品。通过检测烟气流速、温度和压力，采样者能够正确的调节采样流速，以确保进入喷嘴的烟气和颗粒物流速与烟道内的烟气流速相同。应用方法5成功采样取决于对方法1到方法5有着全面的理解。因为上述采样方法都是基于同一个基本等速测试方法。ES公司所专门设计的等速采样器系统具有耐用和方便使用的特点。此系统也能轻易的改装用于非等速（或气体）采样。我们的系统已经成功的运用在世界各地的工业与城市排放源测试。我们集合全套方法5采样仪器和其他排放源测试方法的系统，并提供能够配合方法5采样组装的增设装置，以测量其他等速固定排放源测试方法的参数。我们拥有全系列的标准专用仪器和零件，适用于各种严峻情况，如高温、腐蚀环境和难于接近的实验区域。 加热型等速采样探头垂直采样探头水冷型采样探头加热过滤膜箱冲击瓶箱专业冲击瓶组多种材质采样喷嘴组C-5000等速采样系统 参数特点：污染源等速采样控制台：带泵标准直读公制干式气体流量计双倾斜式压力计，压力计连接口含黄铜正向截止阀，操作简单方便，保证运输过程中密封。探头和滤箱电路采用独立的固态温度控制器控温。LED摄氏/华氏温度读数器，带7通道热电偶选择开关。附加热电偶插座，用于手持式温度读数器。精密式干式气体流量计0-30”汞真空测量计模块化电子及管路，可移动式的前后面板。轻量级铝制外壳，不锈钢门锁、把手，仪器坚固耐用。220VAC/50/60Hz电源，4-针军用式安菲诺电源连接头，保证安全稳固连接。外接无泄漏纤维叶片式真空泵置于可开全式外箱，88LPM @ 1”Hg。 方法原理：试验材料学会（ASTM）的D6784标准方法，专门用于采集和分析燃煤锅炉排放烟气中不同形态汞的含量，测量范围为0.5 ～100 μg/Nm3。全套系统基于Method 29及Ontario Hydro Method(安大略湿法) ，采用湿化学法将烟气中的重金属及价态汞捕集到化学试剂中，通过分析化学试剂中的汞及价态汞含量，除以换算成为标准气压后的流量体积，得知烟气中的重金属或不同形态汞的含量。 安大略法原理图（OH方法）

安大略湿法汞采样系统严格符合我国HJ 543-2009以及ASTM D6784标准规定，采集固定气体污染源中的单质汞及化合态汞。 安大略湿法，全名Ontario Hydro Method（OHM），是美国材料与试验协会制定的汞采样方法。通过该方法，实验者可以采集固定污染源中的单价汞，颗粒汞以及化合态汞。在安大略湿法中，通过探针/过滤系统等温地从烟道气流中取出样品，保持在120℃或烟气温度（以较大者为准），然后是一系列在冰浴中的反应。颗粒结合的汞被收集在采样序列的前半部分。在冰浴中的氯化钾水溶液冲击瓶中收集+2价汞。在随后的冲击瓶中收集元素汞（一个含有过氧化氢酸性水溶液和三个含有高锰酸钾水溶液的冲击瓶）。该方法适用于测定固定污染源的元素、氧化、颗粒结合的总汞排放，可采集的浓度范围为0.05至100微克/立方厘米。同样的仪器配置，也可以完全按照EPA方法29的要求采集固定源中其他16种重金属。您也可以使用EPA方法30B（ 详情请点击 ） 进行固定污染源汞采样。采样工作完成后，您可以使用汞分析仪（详情请点击）进行汞含量的测定。如果您希望详细了解以上任何一款设备，请您联系我们，我们将为您提供全面的设备信息及解决方案。

n产品简介CHEMIXX 30pm湿法台是一款半自动单面湿法系统，主要用于晶圆或者方片的清洗，刻蚀，显影等应用，其中清洗部分具有化学清洗，兆声清洗，PVA刷洗，高压DI水冲洗，背部清洗等多种功能。 n产品特色 ÷ 圆形晶圆最大可达 ? 300mm÷ 方形衬底最大可达 9 x 9 inch÷ 最多两个电动输送臂，每个最多 6 个管路÷ 液体加热模块高达 60°C÷ 用于去离子水的背面冲洗÷ 集成三种不同化学品液供应系统÷ 工艺室外的手动去离子水枪÷ 工艺室自动去离子水冲洗可选÷ 带有流孔的工艺室档板 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ? 300mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)÷ 电机转速: 最大 3.000 rpm, 步进1 rpm÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成÷ 处理室材料: PP （可选 PVDF)

崂应3023Y型 紫外烟气分析仪 一、产品概述 本仪器是以紫外差分吸收光谱分析技术（DOAS）为核心，采用热湿法原理测量的新型产品，全新一体化结构设计，采用崂应自主研发的紫外差分核心光学模块，适用于固定污染源排气中SO2、NO、NO2、NH3、CO、CO2、O2等烟气浓度的现场分析，特别适合低温、高湿、低浓度排放的各种锅炉、烟道、工业炉窑等固定污染源中烟气成分的现场分析及氨逃逸监测。 产品广泛应用于环保、检测公司、工矿企业（电厂、钢铁厂、水泥厂、糖厂、造纸厂、冶炼厂、陶瓷厂、锅炉炉窑、以及铝业、镁业、锌业、钛业、硅业、药业，包括化肥、化工、橡胶、材料厂等）、卫生、劳动、安监、军事、科研、教育等领域。二、执行标准n GB/T 37186-2018 气体分析二氧化硫和氮氧化物的测定紫外差分吸收光谱分析法n HJ1131-2020固定污染源废气二氧化硫的测定便携式紫外吸收法n HJ 1132-2020 固定污染源废气氮氧化物的测定便携式紫外吸收法n HJ/T 397-2007 固定源废气监测技术规范n HJ 1045-2019固定污染源烟气（二氧化硫和氮氧化物）便携式紫外吸收法测量仪器技术要求及检测方法n JJG 968-2002 烟气分析仪检定规程n DB37/T 2641-2015 便携式紫外吸收法多气体测量系统技术要求及检测方法n DB37/T 2704-2015 固定污染源废气氮氧化物的测定紫外吸收法n DB37/T 2705-2015 固定污染源废气二氧化硫的测定紫外吸收 三、产品特点n 采用差分吸收光谱技术，抗干扰能力强，不受水分和粉尘影响，有效避免气体间的交叉干扰n 热湿法测量，全程伴热，采样过程中水分完全气化，避免水分对于气体的吸附损失，保证测量精度n 采用一体化设计，功能高度集成n 长光程设计，检出下限低，量程范围宽，用户可根据需要定制量程n 烟气测量方式自动、手动可选择，自动模式下可设置单次测量时间和测量次数，方便与在线仪器的比对n 可扩展测量氨气，用于氨逃逸测量（选配）n 在外接皮托管情况下，可实现烟温、流速等工况参数测量n 支持中、英文输入，方便用户输入采样地点等信息，实现良好人机交互n 精密芯泵，耐腐蚀，连续运转免维护，适应各种工况，具有过载保护功能n 双操控系统设计：支持手操器无线操控和主机操控两种模式n 交、直流双供电工作模式，在无交流电的场所，也可以直接使用外部直流电源供电工作n 具有仪器故障、密闭性自动检测与报警功能，方便用户维护及使用 ＊说明：1、以上内容完全符合国家相关标准的要求，因产品升级或有图片与实机不符，请以实机为准, 本内容仅供参考。

1. 产品概述满足半导体制造中湿法刻蚀工艺，单片加工，适用于SiO2，SiN，Polysilicon和各种金属层的刻蚀，清洗等工艺流程。 2. 产品优势利用位置、速度可控的摆臂喷洒化学液，可以有效的提高刻蚀均匀性分层式反应腔体设计，可以在同一腔体中喷洒多种化学液，并能有效回收，节约化学液叠层控制，占地面积小，多可配置4个刻蚀单元3. 应用域：半导体制造中湿法刻蚀工艺封装域中金属层刻蚀，满足UBM及RDL工艺要求OLED 域中金属及金属氧化物（ITO/IGZO）刻蚀、缓冲层成膜的表面（SiO2）刻蚀清洗等工艺满足半导体制造中湿法刻蚀工艺，单片加工，适用于SiO2，SiN，Polysilicon和各种金属层的刻蚀，清洗等工艺流程。

New ClippIR+ AnalyzeIT湿法过程分析仪 ABB用于半导体工业中湿法过程在线、实时监测和控制的解决方案 在半导体制造业中，对湿法化学过程进行连续监测可以提高产量，降低故障率，使生产利润最大化 在半导体制造业中，为了提高企业的生产能力和产品质量，降低生产成本，需要对相关的湿法过程进行精确的控制。ABB公司的湿法过程分析仪（WPA）可以对各种刻蚀液、清洗液和去光胶液的化学浓度进行连续的在线监测，并为实时过程控制提供了必要的信息。 采用实时过程监测，企业能从化学制品有效期的延长、消耗与浪费的减少以及实验室测量工作的减轻等方面提高成本效益。实践表明，将SC1、SC2等清洗液的使用寿命延长25%到30%，WPA的投资成本一般可以在一年内收回。对于一些通用的有机化学试剂，它的成本回收期大约只有6个月左右。 WPA具有许多独特的技术优势，它能够对湿法过程中使用的30多种不同的溶液（见下页的列表）进行监测。另外，ABB公司还可以根据客户的具体要求定制专门的标准曲线。 WPA系统中包含的FTSW100过程控制软件，可以实现分析仪与湿法过程的完全集成。除了能够显示在过程流中监测到的各种化学成分的浓度值及其变化趋势外，该软件还有自动数据存储功能，当某些数值超出了许可范围时，该软件还会发出警告或报警。当清洗液成分不符合要求时，软件会报警通知操作人员，同时使设备自动阻挡清洗液的流入。 非接触式红外检测 WPA主机为傅立叶变换近红外光谱仪（FT-NIR），这种光谱仪通过光纤连接到名为ClippIR+的Teflon专利检测池。一次最多可以使用8个ClippIR+来同时监测各种化学溶液。ClippIR+的创新设计可以使其能够很容易地固定在现有管道的外表面上。穿过ClippIR+的红外光使系统可以直接监测管道内的化学物浓度，而不会造成任何污染。 ClippIR+专为半导体应用而设计，能够安装在任何尺寸的Teflon管上。由于它体积小，因此可以安装在很小的化学箱体之上，或者安装在湿法设备的其它任何部件之内。另外，它还具有抵抗化学腐蚀的能力，可以在强腐蚀性环境中使用。 FTPA-2000系列光谱仪可以在恶劣的工业条件下使用，它具有很小的外形尺寸（43× 41× 18厘米），可以安装在离ClippIR+远达100米处。它既可以在洁净室外作为一个独立的装置单独使用，也可以集成在整个过程分析仪系统中使用。 FTSW100过程控制软件中的测量屏幕将显示各种成份的浓度值与变化趋势：Teflon检测池 新型专利产品ClippIR+具有抗污染和抗化学腐蚀性能，并且不需要中断生产就可以在生产流路中快速安装。多路分析 1台WPA能够监测多达8种不同的过程流，对每个流路可以分析其4种配方（最多可达32个参数）。红外（IR）分析 半导体红外分析避免了在过程流中循环的溶解金属或其它颗粒物所造成的干扰。插入式测量 不需要引出过程支流，可通过光纤传输的红外线对管道中的过程流直接进行测量。远程监测 WPA可以设置在离测量点（ClippIR+）远达100米处，如果必要，还可以将其放在室外。 特点 可对湿法化学过程进行精确的、实时的在线监测； 非接触式测量； 快速测量 （＜1分钟，多种通讯协议）； 多过程流分析（最多可达8个流路）； 多组分分析（每个流路最多可达4种配方）； 通过光缆实现远程监测，外形尺寸小； 极高的稳定性与可靠性； 不需要使用试剂； 全球化的售后服务与技术支持。优势 由于延长了清洗液使用寿命，减少了化学品消耗量，并且无离线实验室分析所需要的停工期，因此节约了生产费用； 无化学品损耗，无污染，安装时无需停工； 能够实现实时过程控制； 每条过程流分析成本低； 增强了在技术要求很严格的场合的过程分析性能，减少了晶片清洗的次数； 灵活的安装选择； 无漂移，仅需少量维护； 交钥匙系统； 迅速的服务响应。ABB Analytical ABB（China）Ltd. 585 boulervard Charest E., Suite 300 中国 北京 100016 Quebec, QC G1K 9H4 Canada 朝阳区酒仙桥路 10 号恒通广厦 电话: 传真: 欲了解更多信息 电子邮件: 请访问我们的网站

n产品简介CHEMIXX E 30 湿法刻蚀系统专门用于掩膜版与晶圆的刻蚀与清洗，安全性能好，可使用 H2SO4, H2O2,NH4OH,HF,BOE等液体。 n产品特色÷ 人工装卸半自动化系统÷ 掩膜版尺寸（方形衬底）高达 230 x 230 毫米/9 x 9 英寸÷ 晶圆尺寸高达 300 毫米（?12 英寸）÷ 耐腐蚀工艺室÷ 两个自动输送臂，用于化学刻蚀及清洗÷ 输送臂最大6路管路÷ 提供多种喷嘴÷ 低接触或定制夹头÷ 化学液具有加热选项：20 - 80°C÷ 腔室冲洗喷嘴系统÷ 去离子水的 BSR（背面冲洗）喷嘴÷ 工艺室外的手动去离子水枪÷ 最大的集成3个化学试剂容器罐（每个 10 升），具有化学液自动排放系统÷ 不同化学品的外部化学试剂容器罐可选（H2SO4、H2O2、NH4OH、HF、BOE）÷ 手动灌装或通过批量灌装系统÷ 清洗模组可选用化学液，噪声，PVA刷洗，高压等离子水冲洗÷ 支持SCES/GEM 通讯协议 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 230 x 230 mm (9″x 9″) 或 ? 300mm (?12″)÷ 电机转速: 最大 4.000 rpm, 步长 1 rpm÷ 电机加速: 最大 5.000 rpm/s, 步长 1 rpm/s÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长 0.1 s÷ 工艺腔材料: PP (可选 PVDF)

品牌：久滨型号：JB5100-H名称：全自动湿法激光粒度仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： JB5100-H属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。控制系统原理图如下：智能型激光粒度分析仪控制系统原理图二、主要性能特点：★先进的光路设计：JB5100-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；高密度探测单元，让5100-H拥有了超强的小颗粒测试能力，密度探测单元使JB5100-H具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JB5100-H采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让JB5100-H拥有了超强的测试重复性。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能：经过潜心研发，JB5100-H可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，JB5100-H实现了超声功率0到20毫瓦大小可调。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。★自动对中：独家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更精确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是久滨仪器所有型号激光粒度仪的标准配置。光路自动对中功能图★微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，JB5100-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。三、主要技术参数：规格型号JB5100-H（高配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -600μm探测器通道数70准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率半导体激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准智能操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。体积980mm*410mm*450mm重量30Kg

本套试验线是根据湿法工艺设计制造的，其基本工艺路线：溶液罐（自己提供）——计量泵——凝固浴槽(夹层冷冻水循环)——牵引机①——牵伸浴槽(加热)——牵引机②——水洗槽——牵引机③——纤维干燥机——牵引机④——纤维收卷机。 主要技术参数： 齿轮泵：0.3cc 推进泵：0.1-999ml/h 凝固槽：外尺寸：9.5*9.5*100cm；内尺寸：7*8*97cm带夹层，可外接循环水浴，调节水槽温度；不锈钢材质+耐腐蚀涂层；浸压轮：1个；温度控制需配备循环恒温机 纤维干燥机：夹缝式干燥器，温度：室温~150℃ 牵引卷绕机：滚筒材质耐腐蚀，直径80mm；0.1-300rpm 循环恒温机：温度范围：-5~99.9℃，循环系统：内/外循环 纤维收卷机：线轴直径40mm，长135mm；0.1-300rpm 往复速度：1-1000rpm

秒准MAYZUM湿法凝固槽DMF浓度监控MAYD-3030一、 系统简介：秒准（MAYZUM）在线DMF溶液浓度控制系统主要应用于凝固槽湿法浓度监控（同时适用于干法），该设备由防堵过滤器、抽液泵、高精度浓度探头、全自动清洗模组、DMF专用浓度控制系统等几个部分组成，如图一所示：生产线工作人员只需设定浓度监控上限和下限值，抽液泵将凝固槽内DMF溶液抽取，经流高精度浓度传感器后快速回流到凝固槽内，浓度传感器读数频率为10S/次（用户可自定义），当监控到浓度低于下限或者高于上限，自动控制比例阀门的流量，确保凝固槽内的浓度始终控制在设定范围内，当浓度超出设定范围，自动开阀排废液（在合成革湿法生产过程中，为了使浆料中树脂等成分在基布上形成凝固，需要通过水洗将浆料中的DMF溶剂置换出来，当凝固槽中的DMF浓度达到一定值时，必须开阀将废水排放。）。该设备内置全自动清洗模组，针对湿法工艺溶液脏污程度自动控制清洗探头，无需人工维护，确保浓度数据始终稳定、准确。用户配置该系统，可以实现24小时浓度连续测量与控制，避免工人在控制DMF溶液浓度调节阀过程中，因操作不及时或者操作不当造成DMF浓度过高或过低的宽幅震荡，影响产品品质。二、秒准MAYZUM湿法凝固槽DMF浓度监控MAYD-3030特点描述：1、采用循环取样方法，确保取样的时效性、稳定性； 2、前置防堵过滤器，防止纤维等固形物进入设备，延长使用寿命； 3、探头接液材质采用SUS316L，其他管路材质均为SUS304，经久耐用，样品检测后无污染，自动循环至凝固槽； 4、触摸屏人机界面，流程清晰明了，简单易学； 5、内置自动清洗模组，自动补水、自动排废； 6、具有故障报警，数据异常报警功能，泵体堵塞自动停机报警； 7、设备由浓度值控制水量自动添加，加液精度高，工艺参数更加稳定可靠； 8、内置DMF溶液温度补偿数据库，测量精度0.1%，控制精度可达0.2%，从而确保凝固槽内浓度值的稳定和准确性； 9、标配浓度看板和报警器，挂于车间通道上，多个生产线的浓度数据一目了然，异常数据自动报警，确保产品品质始终稳定可靠； 10、支持多种通信方式及通信协议，实现数据无线上传，通过电脑远程查看和管理； 11、可选多点数据采集系统，一键导出、打印、保存、比对，实现对数据集中控制分析；可远程单独控制现场设备，也可集中控制。三、秒准MAYZUM湿法凝固槽DMF浓度监控MAYD-3030主要技术参数：浓度范围：0.1-100% （依据实际工况确定，以达到最好精度和分辨率；）精度：+/- 0.1%绝对值，或折光率：+/-0.0002；温度精度：0.1℃工艺过程温度：-10~80℃测量参数：浓度、折射率、温度监控频率：3秒至60分钟可调耐压、防护等级：1MPa、IP67信号输出类型：RS485数字量、4-20mA模拟量、开关量（三选一）接液体材质：SUS316L控制箱材质：SUS304控制系统尺寸：4.3寸外置管道接头：4分外牙黄铜接口（原液/清水进出口）标配浓度看板尺寸：638×212mm报警器：声光报警（浓度异常自动报警)供电：AC220V或AC380V（出厂前需提前备注）其它选配：无线数据远传功能、多点数据采集系统、前置过滤器、抽液泵四、客户现场和显示界面参考图：在线DMF浓度检测仪、二甲基甲酰胺浓度监控仪 、DMF溶液浓度监控仪、DMF回收罐浓度监控仪、DMF在线浓度检测仪、DMF废气浓度监控仪、DMF溶液浓度监控仪、DMF浓度检测仪、DMF浓度监控仪、DMF浓度测试仪、在线DMF溶液浓度测试仪、在线DMF溶液浓度监控仪、二甲基甲酰胺自动排液监控仪、DMF在线浓度仪、在线皮革DMF浓度监控仪

1. 产品介绍 槽式湿法刻蚀清洗设备2. 应用领域RCA清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗等3. 技术参数晶圆尺寸：100mm~300mm4. 设备配置：支持化学液C.C.S.S.、L.C.S.SMarangoni dry 或 spin dry自动换酸，自动补液、配液加热控制，浓度控制，流量控制，压力控制等槽体过温保护，各单元配置漏液传感器支持化学液回收全面支持SECS/GEM通讯协议5. 工艺指标蚀刻非均匀性 片内：≤4%；片间：≤4%；批次间： ≤4%；6. 颗粒控制增加值30颗@0.09μm（带氧化硅膜测试，来料颗粒50颗）7. 金属离子5E9 atoms/cm28. 企业概括深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。公司已授实用新型权利 29 项，软件著作权 14 项，是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

安大略湿法汞采样系统严格符合我国HJ 543-2009以及ASTM D6784标准规定，采集固定气体污染源中的单质汞及化合态汞。 安大略湿法，全名Ontario Hydro Method（OHM），是美国材料与试验协会制定的汞采样方法。通过该方法，实验者可以采集固定污染源中的单价汞，颗粒汞以及化合态汞。 在安大略湿法中，通过探针/过滤系统等温地从烟道气流中取出样品，保持在120℃或烟气温度（以较大者为准），然后是一系列在冰浴中的反应。颗粒结合的汞被收集在采样序列的前半部分。在冰浴中的氯化钾水溶液冲击瓶中收集+2价汞。在随后的冲击瓶中收集元素汞（一个含有过氧化氢酸性水溶液和三个含有高锰酸钾水溶液的冲击瓶）。该方法适用于测定固定污染源的元素、氧化、颗粒结合的总汞排放，可采集的浓度范围为0.05至100微克/立方厘米。同样的仪器配置，也可以完全按照EPA方法29的要求采集固定源中其他16种重金属。您也可以使用EPA方法30B进行固定污染源汞采样。采样工作完成后，您可以使用汞分析仪进行汞含量的测定。如果您希望详细了解以上任何一款设备，请您联系我们，我们将为您提供全面的设备信息及解决方案。