束流规束流计

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束流规束流计相关的厂商

  • 深圳市流数科技有限公司成立于2021年3月,是一家基于新型互联网模式的智能传感科技公司,专注于液体数智化产品的设计、研发和应用。秉承着“用技术做产品,以品德做服务”的理念,流数科技以产业和研究创新的发展模式引领液体数智化的发展。 同时,流数科技团队始终坚持践行“科技与创新,激情和敬业”的企业精神,创新地结合光学、电子、生化等领域,实现高性能低成本的液体数字化模板,致力于成为液体数字化行业领军者,做最懂液体的AI智能算法。 未来,流数科技将会持续研发与推动液体数字产品,将中国品牌的液体数字理念和高科技产品推向国际,让世界看到中国在液体数字领域的前沿技术与高速发展!
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  • 上海捷流阀门制造有限公司位于上海市闵行开发区.是一家集研发、生产、销售、服务于一体的高科技阀门制造企业。公司拥有铸造、锻造、热处理、焊接、金切、装配、试验、无损检测试、验检测设备等生产加工设备和多年来形成了一套颇具特色的生产工艺,具有较强的专业化阀门制造企业。捷流产品远销世界各地,广泛应用于石油、天然气、化工、电力、冶金、国防科技、矿山、船舶、食品、医药、供水、暖通、城建等重要领域。 公司产品严格执行国家、行业标准GB、JB,以及ANSI、API、DIN、JIS、BS等国际标准,研发生产的产品有蝶阀、球阀、闸阀、截止阀、止回阀、疏水阀、水力控制阀、低温阀、高温高压等608个系列,近5000个品种;规格为DN6-DN2000;工作压力范围:1.0MPa-50MPa、150Lb-3500Lb;使用温度:-135℃- 780℃;材质有铸铁、碳素钢、合金钢、耐热钢、不锈钢;操作方式有手动、齿轮传动、电动、气动、液压传动、自动等。在全体捷流员工的共同努力下,各类产品以一流的质量、周到的服务,使公司保持持续稳定的发展和品牌知名度连年攀升。 上海捷流阀门的核心发展观是:恪守诚信、积极图强、精优勤新、务实高效!捷流人坚信:我们的每一个阀门都能为客户经营好每一条管路!上海捷流阀门公司与您共享高科技产品,让您享受世界尖端的制造技术。竭诚欢迎广大客商来电咨询,与我们建立良好的合作关系。
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  • 苏州汶颢微流控技术股份有限公司(www.whchip.com)是一家留学人员回国创业的高新科技企业,集研发、生产、销售为一体,技术力量雄厚,生产设备先进,检测手段齐全,产品质量过硬。公司建立了完备的微流控芯片研发与生产中心,配置了三条微流控芯片生产 线,包括数控CNC微加工仪器,软刻蚀有机芯片加工系统,光刻-掩模无机芯片加工系统,可以加工生产所有材质的芯片,如玻璃、石英、硅、PDMS和PMMA等。产品涵盖集成式通用医疗诊断芯片、集成式通用环境保护分析监测芯片、集成式通用食品安全分析检测芯片和基于微流控芯片的新能源体系四大系列数十个品种,以及各类科研类芯片,并在生物芯片和化学芯片领域一直保持技术和研发的领先地位,申请国家专利89项,其中授权20余项,已经获批注册商标2件,软件著作权7件,江苏省高新技术产品3项,建立企业标准5项。 苏州汶颢微流控技术股份有限公司提供的产品和服务按市场可分为科研类芯片、仪器标配芯片、应用类芯片及系统和芯片实验室解决方案。科研类芯片服务于基于微流控芯片的科研工作者,提供包括聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、玻璃及硅基等各种不同材质的微流控芯片的设计与制备,用户只需配置必要的辅助设备即可使用;仪器标配芯片是针对国内市场上微流控芯片仪器开发的标准芯片,为微流控芯片仪器的核心组件,属耗材类产品,如毛细管电泳芯片;应用类芯片及系统是利用微流控芯片的技术优势开发的分析检测装置,应用于环保、食品安全、药物筛选等领域;芯片实验室解决方案为客户提供完整的一对一的微流控芯片科研或应用的解决方案,分为产品和科技咨询两个方面:产品包括微流控芯片加工、检测仪器设备配置及微流控芯片配件配置;科技咨询为客户提供组建芯片实验室的整体方案、解决微流控芯片应用中的技术难题、微流控芯片项目研发服务等。   按照现代公司制度规范运作企业是公司创办伊始就秉承的基本理念,目前,公司的团队结构、人事制度、财务制度、知识产权制度等都已经逐步形成和完善。公司的口号:高品质、高信誉、高效率。公司的宗旨:以发明创新为龙头,以科技成果转化为手段,以微流控芯片领域为主战场,走科研成果商品化,商品产业化,产业规模化和国际化的道路,以自主创新的核心技术为基础的竞争战略为企业长期发展战略,整合产业链的各项优势资源,打造以自主创新为企业特色的产业价值链,塑造民族品牌,迎接国际化的挑战。 公司宗旨:以发明创新为龙头,以科技成果转化为手段,以微流控芯片领域为主战场,走科研成果商品化,商品产业化,产业规模化和国际化的道路。企业文化:诚信、踏实、优质、一流!经营理念:以人为本,精诚团结,诚信合作,多边共赢。价值观念:追求卓越,勇于创新的企业形象;高效精干,自强不息的队伍形象; 求真务实,锐意进取的干部形象;外在唯美,内在唯实的产品形象; 严细认真,科学规范的管理形象;诚实守信,超越期望的服务形象。企业使命:产业报国、创造价值、服务社会、贡献人类。企业愿景:做微流控芯片行业的领航者! 苏州汶颢微流控技术股份有限公司以专长造福顾客和社会。并做到人无我有,人有我优,人优我特、人特我精。以市场为营运导向、以质量为竞争前提、以人才为管理核心,持续双赢,用心服务;以优于国内、国际标准的厂控标准,满足顾客对产品实物质量的期望和需求。力求把高端产品做到极致,以自主创新的核心技术为基础的竞争战略为企业长期发展战略,整合产业链的各项优势资源,全心全意为生命科学服务!我们始终坚持:产品开发创新创先、质量管理精益求精。我们也始终坚信:态度决定一切,细节决定成败。
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束流规束流计相关的仪器

  • SVT公司的线性束流监控仪采用B-A离子规,用于在超高真空下测量束流。灯丝可以放在源的前面,用以获取准确的数据来校准及监控工艺生长过程。 仪器长度可以客户定制,保证离子规有足够的前后移动容域度,避免生长过程中各部件相互影响。LBFM系列是高精度MBE应用的理想选择。 ● B-A离子规● 可放置于UHV环境中● 烘烤温度200 oC● 2.75’’或4.5’’ CF 接口法兰● 离子规隔离阀可选 束流电压 10KV灯丝电流 3A 发射电流 5A光学路径范围41/2’’CF 光斑大小1.0mm (17’’/1075px距离) 最大烘烤温度230 oC
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  • l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 l可以用于基于纳米粒子的器件加工,可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。l工艺过程高效、快速和低成本。v创新的镀膜、沉积设备 v新型的纳米颗粒制备设备 纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流,由质量选择器进行筛选,然后在高真空下以声速(低能)或被加速(高能)沉积于基底上。1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源l纳米粒子的平均直径:0.5~35nm(1 ~ 106个)可调。 l纳米粒子的尺寸分布(FWHM):2~5nm。 l可选用多靶套件。 l可选用粒子弯头,实现多种团簇沉积或取样。 l相比传统磁控溅射系统,节约大约50%氩气。 l靶材可以是金属(包括碱金属、贵金属和特高熔点金属,例如:锇、钨)、非金属(常温常压下固态非金属单质和化合物)、半导体(例如硅、锗)、能在真空存在的固态有机材料等。2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择,可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流,质量选择精度为0.5 ~2%。 l1-200单原子可控。l尺寸选择精度:亚纳米级。 l通量:1010/s ~ 1011/s(1-10nA)。l选择后束流原子数在1 ~10000之间,选择精度优于20,可达200。3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统l纳米薄膜沉积速度可监控,并在0.05 ~2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径:0.5 ~25mm可调,可选配样品X-Y扫描器,制备150×150mm以上样品。 l可实现加速动能为1 ~40keV的荷能纳米粒子沉积。 l系统背景真空度可达10-9Torr。 l控制沉积速度(声速)并配合控温台(选配)实现沉积过程不升温。 l可选配快速降温组件,实现退火,得到一些特殊相。 l可用于制备纳米颗粒。
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  • 原位MBE束流监测系统 400-860-5168转1431
    技术介绍 kSA ACE 是一种高灵敏度的在线原位原子束流监测设备,它利用原子吸收光谱的原理来测量对应原子种类的通量率。该设备可整合到MBE分子束外 延,磁控溅射系统、电子束/热蒸发系统和PLD脉冲激光沉积等设备上,实时原位检测原子束流密度、生长速率,实现对薄膜成分控制。 应用场景 kSA ACE 可以独立测量每种待测材料,在多源蒸发或共溅射过程中提供精确的特定材料束流通量监测控制。凭借其在连续操作下的灵敏度 和长期可重复性,可广泛应用于 III-V 和 II-VI 化合物、半导体器件、薄膜传感器、太阳能电池、光学涂层、X 射线光学器件、平板显示器等领域的 薄膜生长监控。 适用场景:&bull MBE(分子束外延) &bull 蒸发镀膜:电子束、离子束辅助、热蒸发等 &bull 溅射镀膜:RF/DC磁控,离子束等 &bull PLD(脉冲激光沉积) &bull 等离子体刻蚀 测量原理 kSA ACE 可将多达三个阴极灯 (HCL) 的发射光谱组合成一个共线光束,并且测量过程中光束被分成参考通道和信号通道。参考通道和信号通道均由 高灵敏度、高空间分辨率的光谱仪连续监测,该光谱仪可同时监测多达三个元素。 参考通道为 HCL 强度波动提供连续校正。信号光束通过光纤耦合 到处理腔室上的透镜单元,然后光束通过蒸发源束流,从而引起原子吸收特征谱线衰减,此衰减与信号通道光束体积内的原子密度成比例关系。此外 该系统还包括一个氙气闪光灯光源,以校正视口涂层对测量产生的影响。整个光学系统保持温度稳定,以确保设备长期运行的稳定性。 技术特点1. 通过特定元素的原子吸收光谱提供对原子束流通量的实时监测,每个系统最测量三种元素,可实时测量生长速率和束流通量密度。2. 提供与吸收率或生长速率成比例的 TCP/IP 模拟电压输出,用于过程控制。 3. 系统主要包括:kSA ACE 机架、光学配件、探测器、光源和 kSA ACE 软件等。
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束流规束流计相关的资讯

  • 电镜学堂丨电镜使用中,如何选择合适的束斑束流?
    “TESCAN电镜学堂”又跟大家见面了,利用扫描电镜观察样品时会关注分辨率、衬度、景深、形貌的真实性以及其他分析的需要等等,不同的关注点之间需要不同的拍摄条件,有时甚至相互矛盾。今天主要谈一谈电镜使用中如何选择合适的束斑束流? 这里是TESCAN电镜学堂第10期,将继续为大家连载《扫描电子显微镜及微区分析技术》(本书简介请至文末查看),帮助广大电镜工作者深入了解电镜相关技术的原理、结构以及最新发展状况,将电镜在材料研究中发挥出更加优秀的性能! 第三节 常规拍摄需要注意的问题 平时电镜使用者都进行常规样品的观察,常规样品不像分辨率标准样品那么理想,样品比较复杂,而且有时候关注点并不相同。因此我们要根据样品类型以及所关注的问题选择合适的电镜条件。 关注分辨率、衬度、景深、形貌的真实性、其它分析的需要等等,不同的关注点之间需要不同的电镜条件,有时甚至相互矛盾。因此我们必须明确拍摄目的,寻找最适合的电镜条件,而不是贸然的追求大倍数。 电镜的工作条件包括很多,加速电压、束流束斑、工作距离、光阑大小、明暗对比度、探测器的选择等。本期将为大家介绍束流束斑的选择。 §2. 束流束斑的选择 除了加速电压外,束流和束斑也是电镜工作中非常重要的参数。一般来说,束流和束斑并不完全独立,增加束流的同时,由于Boersch效应,必然导致束斑的扩大。所以束流越大,分辨率反而越低,但是信噪比越好。 束流的选择要视具体情况,在拍摄高分辨时,需要较小的束流来获得小束斑;常规倍数可以增加束流来满足信噪比的需要;而对于分析附件,往往需要比图像拍摄大很多的束流。 对于束斑的调节,通常都认为束斑扩大会降低分辨率,如图5-22,但是反之,束斑越小真的就能获得更好的图像吗? 图5-22束斑太大会引起分辨率的下降 看如下一组图,图5-23,左边一组图是5万倍下的图像,左边是小束斑,右边是大束斑,显然小束斑有更好的分辨率,大束斑的图像已经有些模糊。右边一组图是维持束斑大小不变拍摄的1万倍下的图像。本应有着更好的分辨率的小束斑图像却出现了失真,虽然依然有更好的分辨率。但是对于真实性和分辨率之间要根据需要来判断,此时,样品的真实性受到严重影响。 图5-23 相同束斑在不同倍数的对比 为什么会出现这样奇怪的现象?为什么更好的分辨率却没有得到更真实的图像?前面我们已经说到,电子束是由扫描线圈的脉冲信号控制,电子束在试样表面并不是连续扫描,而是逐点跳跃式的扫描。一般扫描电镜的采集像素比较大,我们会误以为是连续扫描。既然扫描电镜是束斑间断跳跃式的轨迹,那么电子束就有一定的覆盖面积。 束斑中心的距离取决于放大倍数和采集像素大小。当束斑较大时,束斑覆盖比较全面;但是当束斑减小时,束斑的覆盖区域也越来越小,所以有的特征形貌会从束斑两个跳跃中心穿过而没有被覆盖到,所以相应的形貌特征也不会反映在图像上,这就造成了信息的丢失。像上述例子,在大倍数小,束斑之间跳跃间距小,足够覆盖特征形貌,但是缩小倍数后,跳跃距离变大,束斑不足以覆盖所有的特征形貌,有的线条就反映不出来,如图5-24。 图5-24 束斑大小与电子束的扫描 电子束的扫描是根据放大倍数和采集像素大小而进行了马赛克的像素化,只要束斑缩小到和单点像素匹配就可以,束斑与束斑之间不会出现太多的重叠而导致分辨率下降。只有束斑与单点像素匹配后,再缩小束斑已经没有意义,不会带来分辨率的提升,相反会引起信息的缺失。由此我们可以得到新的结论,虽然束斑越小理论分辨率越高,但是对于实际拍摄来说,像素和束斑越匹配才是效果越好。 图5-25 束斑和像素的匹配度 图5-25中四张图片对应的束斑和单点像素(绿框)之间的关系,我们可以看出其匹配度和图像质量的关系。像素和束斑的匹配并非指束斑完全小于像素框,束斑可以看成是一个衍射波,中间呈类似高斯分布,只要半高宽和像素大致相等则视为最匹配。而此时束斑的大小是大于像素的。 而且扫描电镜是靠电子束的扫描运动,只要不同像素点覆盖区域的电子产额能够被探测器最有效处理和区分,那电镜图片也就能区分。所以扫描电镜是完全可分辨比束斑更小的细节的,而有点地方说扫描电镜不能区分比束斑更小的说法是不够严密的。束斑是单点像素1.3~2倍左右,都是最佳匹配的条件。 现在我们发现束流的设置应该是随着放大倍数而变换的,对于TESCAN用户来说,比较方便,可以直接从软件中读取当前电镜调节对应的束流,结合视野宽度很容易知道单点像素的大小,从而快速找到束斑与像素匹配的工作条件。既保证了没有信息丢失,又保证了最大的束流强度和信噪比。TESCAN的钨灯丝电镜可以直接右键进行自动束斑大小的设置,如图5-26左,场发射电镜则可以直接在信息栏中输入想要的束斑大小,如图5-26右。如果在束斑设置中输入0,则电子束缩到可能达到的最小值,这主要用于极限分辨率的观察。 图5-26 TESCAN电镜的束斑设置 此外对于EBSD分析也一样,EBSD分析为了追求速度,需要较大束流,而束流增大会增大束斑,导致花样重叠无法标定。而TESCAN用户则可以轻易的根据EBSD的步长来设置束斑大小,确保在不会出现花样重叠的情况下束斑达到最大,采集速度最快。 福利时间每期文章末尾小编都会留1个题目,大家可以在留言区回答问题,小编会在答对的朋友中选出点赞数最高的两位送出本书的印刷版。【本期问题】如何根据像素选择最合适的束斑?(快去微信留言区回答问题领取奖品吧→)奖品公布上期获奖的童鞋,请关注“TESCAN公司”微信公众号在3个工作日内后台私信小编邮寄地址,我们会在收到您的信息并核实后即刻寄出奖品。 TESCAN电镜学堂“有奖问答”奖品 (印刷版书籍1本)简介《扫描电子显微镜及微区分析技术》是由业内资深的技术专家李威老师(原上海交通大学扫描电镜专家,现任TESCAN技术专家)、焦汇胜博士(英国伯明翰大学材料科学博士,现任TESCAN技术专家)、李香庭教授(电子探针领域专家,兼任全国微束分析标委会委员、上海电镜学会理事)编著,并于2015年由东北师范大学出版社出版发行。本书编者都是非常资深的电镜工作者,在科研领域工作多年,李香庭教授在电子探针领域有几十年的工作经验,对扫描电子显微镜、能谱和波谱分析都有很深的造诣,本教材从实战的角度出发编写,希望能够帮助到广大电镜工作者,特别是广泛的TESCAN客户。↓ 往期课程,请戳以下文字或点击阅读原文:电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(一) - 电子与试样的相互作用电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(二) - 像衬度形成原理电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(三) - 荷电效应电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(一) - 电子光学系统电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(二) - 探测器系统电镜学堂丨扫描电子显微镜样品要求及制备 (一) - 常规样品制备统电镜学堂丨扫描电子显微镜样品要求及制备 (二) - 特殊试样处理&试样放置 电镜学堂丨扫描电镜的基本操作 & 分辨率指标详解电镜学堂丨电镜操作之如何巧妙选择加速电压?电镜学堂丨电镜使用中,如何选择合适的束斑束流? 更多详情内容请关注“TESCAN公司”微信公众号查看
  • 刘召贵:天瑞仪器的发展及其质谱仪在食品安全中的应用概述
    仪器信息网讯 2012年6月5日,由中国仪器仪表学会分析仪器分会、中国仪器仪表学会农业仪器应用技术分会主办,北京雄鹰国际展览公司承办的2012中国食品与农产品质量安全检测技术应用国际论坛暨展览会(CFAS 2012)在北京国际会议中心隆重开幕。本届论坛特别邀请到了多位食品、农产品监管部门的领导和食品质检领域的著名学者做主题报告。   如下为江苏天瑞仪器股份有限公司董事长刘召贵博士报告的精彩内容: 江苏天瑞仪器股份有限公司董事长刘召贵博士 报告题目:天瑞仪器的发展及其质谱仪在食品安全中的应用概述   刘召贵博士在报告中首先介绍了国产分析仪器面临的现状:(1)我国目前没有高端产品,只有中低端产品,技术的薄弱决定了国产仪器“杀伤力”不足;(2)国内没有能与国外“叫板”的强势品牌,从而导致进口仪器占据了绝大部分国内市场;(3)“僧多粥少”的现状导致低端仪器市场的“低价”恶性竞争,许多国内仪器厂商忙于打“价格战”而忽略了产品技术的创新;(4)国产仪器外型普遍欠佳,美观不足;(5)少数国人,崇洋“迷”外,认为价格相对较低的国产分析仪器“便宜没好货”,当国货价格与洋品牌价格差不多时,还不如直接买进口的。   中国分析仪器在技术、成本、研发及营销等方面存在不同程度的问题,甚至陷入“后有追兵、前有堵截”的境地。中国分析仪器的出路在哪里?刘召贵博士谈到,自暴自弃只能是自掘坟墓,并坚信中国的分析仪器定会崛起!随后,刘召贵博士自信的介绍了天瑞仪器成功研制出的GC-MS 6800、LC-MS 1000、ICP-MS 2000等仪器。   最后,刘召贵博士还介绍了天瑞质谱仪器在食品安全检测分析中的应用:GC-MS 6800测定大米中十二种有机氯农药残留;LC-MS 1000测定饮料中9种邻苯二甲酸脂类塑化剂;ICP-MS 2000测定大米中重金属Cd、Pb、Cr、As含量等。
  • BEPCII储存环数字束流位置测量处理器通过工艺验收
    2023年7月7日,中国科学院高能物理研究所研制的BEPCII储存环数字束流位置测量处理器顺利通过了工艺验收。BEPCII储存环数字束流位置测量处理器工艺测试验收会在高能所召开。工艺测试专家组由来自中科大国家同步辐射实验室,中国科学院上海高等研究院,原子能研究院,清华大学,武汉大学、重庆大学、中国工程物理研究院流体物理研究所和高能所的12位专家组成,项目组成员及用户代表参加会议。专家组听取了“数字束流位置测量处理器研制报告”,在BEPCII储存环加速器现场,实地察看了数字束流位置测量处理器的运行情况,并在同步辐射模式下,对数字束流位置测量处理器的相关参数进行了测试,审阅了今年6月9日对撞模式下,工艺测试专家提供的处理器工艺测试报告及相关材料。经质询与讨论,专家组认为:数字束流位置测量处理器各项技术指标均达到任务书的要求。专家组同意BEPCII储存环数字束流位置测量处理器通过工艺验收。   在中国科学院重大科技基础设施重大成果培育项目支持下,高能所加速器中心束测组先后将20套直线加速器束流位置测量处理器和98套储存环束流位置测量处理器升级替换为具有自主知识产权的自研数字束流位置测量处理器,BEPCII模拟束流位置电子学已经全部替换为自研数字束流位置测量处理器,全面完成束流位置测量处理器数字化升级。经过两年以上的在线运行,自研处理器的束流测量分辨率和束流轨道稳定性完全满足BEPCII对撞取数和同步辐射的运行要求。   束流位置测量处理器是束流测量的核心设备,其分辨率和长期运行稳定性直接影响加速器的束流轨道控制和运行稳定性。长期以来,束流位置测量处理器核心技术掌握在国外公司手中,产品价格高、软件不开放,升级维护困难,影响二次开发和高端应用。项目组经过7年多的努力,攻克众多技术难关,迭代升级了多个版本,并开发了自动测试系统,解决了从样机研制到批量应用的全部难题,突破了“卡脖子”的核心技术。目前自研数字束流位置测量处理器已应用于高能同步辐射光源(HEPS)直线加速器和增强器调束,HEPS储存环也将全部使用自研数字束流位置测量处理器,实现HEPS超高精密束流轨道的测量和控制。自研束流位置测量处理器的成功应用,有助于促进自研数字束流位置测量处理器在国内同类型加速器的推广应用。   本项目还得到了中国科学院青年创新促进会优秀会员基金以及HEPS-TF项目的支持。

束流规束流计相关的方案

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  • 【原创】束流提取系统

    【原创】束流提取系统

    [center]提取系统[/center] 提取系统主要包括剥离碳膜、装载碳膜的多叶转动器、马达等装置,其中剥离膜(stripping foil)是该系统的主要元件。在PETtrace回旋加速器中,有二个多叶转动器,分别载有6个碳膜;MINItrace回旋加速器的单束流提取器中有2个碳膜,双束流提取器中仅装1个碳膜;而IBA的CYCLONE系列回旋加速器中共有8个多叶转动器,分别位于8个束流出口处,每个多叶转动器各有2个碳膜。 PETtrace回旋加速器的每个多叶转动器分别司服3个靶位,可以进行双束流引出以同时轰击另一个司服靶位中的靶材料;MINItrace回旋加速器的一个多叶转动器司服5个靶位,无双束流引出功能,而另一个则是在双束流引出时,司服第6号靶位。PETtrace和MINItrace回旋加速器提取系统的组成见图14和图15所示。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021243_179837_1623423_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021244_179838_1623423_3.jpg[/img][/center] 提取系统中的提取碳膜(Carbon Foil)位于加速粒子运行轨道上,在该处被加速粒子达到最终的能量,所有出现在提取碳膜区域的阴离子束均穿过碳膜,穿过碳膜后,被加速的负离子被脱去二个电子,变为带正电荷的阳离子(图16所示),此时,在磁场中离子的运行轨道将发生逆向偏转,直接将且具有最大能量的带电粒子从真空室中引出,通过调整提取膜的位置使引出的束流进入所确定的生产靶。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021246_179839_1623423_3.jpg[/img][/center] 提取系统最主要的基础是剥离膜(stripping foil)。被加速的负离子通过剥离膜后被脱去二个电子由阴离子转变为阳离子。剥离膜的位置直接确定束流的退出,并能够调整引出的束流引导进入任意的同位素生产靶。该系统有二种提取模式:(1)单束流提取,引出一束离子束流并引导其进入到一个出口;(2)双束流提取,引出二束相同离子流而被同时引导进入到二个出口(如图17所示各靶位束流的引出)。因此,该提取模式能够同时生产两种不同的正电子核素或在两个相同的靶上加倍生产同种正电子核素。这种功能允许在生产较长半衰期核素(如18F)的同时可继续生产短半衰期核素如11C、13N或15O等。[center][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911021247_179840_1623423_3.jpg[/img][/center]

  • 束流与束斑的关系

    束流与束斑的关系

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/05/201405311538_500968_1609375_3.png上面这段话通俗讲,在同一束流下,小束流时场发射的束斑小于热阴极发射的束斑,而当束流大过某个值后场发射的束斑大于热阴极发射的束斑。下面的图中黑线是帖子上的图,红线是我从书上临摹过来的。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/05/201405311632_500971_1609375_3.jpg

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    1303 ( 1133)1 蒸馏烧瓶恩氏 DISTILI ING FLASKS. Engier.别名:石油蒸馏烧瓶。一概况及用途, 0 这种烧瓶较其它烧瓶在耐急变温度及尺寸的准确性均较其它烧瓶要限 格,这是因为在使用时要与恩氏蒸馏器的两个單子配合,烧瓶要放在恩氏蒸1303 馏器的二个罩子中间,上罩有一缝, ,正好通过蒸馏烧瓶支管,因此对瓶体高度、支管角度要求严格否则无法配套。其生产工艺目前有二种,一种为大炉吹制瓶体,然后在灯工上焊接支管。另一种生产工艺是瓶体、支管仑部为灯工生产。 用途:它是一种专业性较强的烧瓶,适用于标准法石油产品试验或石油馏程的测定,(燃化部以QB255-77,QB51565专门规定该种饶瓶为全国石油行业、油厂、油矿.油库以及石油科研部门或大量使用轻质石油的单位,特别航空事业用油试验检验用瓶),它配合恩氏蒸馏器对汽油、煤油、禁:溶剂油以及含腊液体燃料等进行蒸窩留程试验用瓶。 二、造型 它是一个园球体、体积小、颈高、支管短角度成75°角的蒸馏烧瓶。颈高、支管短面且支管焊接在瓶颈位置高,主要是因为石油产品挥发度大,加长瓶颈起到冷却作用,使蒸馆物气体不易外溢,支管成75°角,主要配合恩氏蒸馏器的外罩固定的位置。 三、使用方法 使用前要将烧瓶清洗干净,烘千(方法见1001低型烧杯),试油要先经过脱水处理,符合试验要求,然后用量筒量取自瓶口注入100 ml试油于烧瓶内、再将已打好洞的软木塞或橡胶塞,按照需要插入分液漏斗或温度计之类仪器塞入瓶口,支管主要是连接冷凝管、冷凝管下端接弯形接管,然后将按装好的仪器固定于恩氏蒸密器的罩内,进行均匀的加熱,记录第一滴馏出液,此时温度为初馏点然后使接受量筒的内壁接触弯形接管的未端,让馏出液沿量筒内壁流下,蒸馏的速度要均匀。在蒸馏过程中要记录与试油的技术标准中所要求的事项(如试油在某一温度溜出的百分数等作好记录)。 蒸馏结束时,取出上罩,让蒸馏烧瓶冷却5分钟后,烧瓶中热的残留物仔细地倒入10m量筒内(量筒要冷却到20土3C),记录残留物的体积。试油总数咸去馏出液或残留物的总体积,所得差即为蒸馏的损失。 四规格及质量要求 -规格及参考尺寸 目前上海仅有100 m的一个规格,具体尺寸要求见图。应严格进行控制。: =每只均要按量入式进行100 m定量,自液面向上100 mm处焊接支管。 三球壁厚薄均匀。 四其它质量要求按照1105园底烧瓶要求
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    D100B数显定时恒流泵|蠕动泵: 型号:D100B 外形尺寸(L*W*H):200× 240× 160 输出流量:10-14500ml/h 输出压力:&ge 3kg/cm2 输出通道:单通道 定时范围:1秒-9小时59分59秒:任意选择
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