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双端面磨平机

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双端面磨平机相关的论坛

  • 薄膜断面制样

    有一个塑料薄膜样品,想观察断面多层结构。怎样制样(截取断面)比较好呢?

  • 【求助】在石英基底上沉积的薄膜断面能看TEM吗?

    对TEM不是很了解,我做的是两种组分在一起组装的多层超薄膜,一种无机组分一种高聚物组分。每层的厚度都在零点几个纳米,想知道能不能做断面的高分辨TEM,得到一层一层组装的信息,请教一下各位能看到不?能的话该怎么制样?

  • 如何防止厚大断面球铁的石墨畸变和球化衰退

    ?1、 石墨形态是影响球铁铸件性能的关键性因素,厚大断面球铁件断面厚、热节多、凝固时间长,极易发生石墨畸变,一般有以下几种石墨形态:不规则的球状石墨、团絮状石墨、片状石墨、蠕虫状石墨、开花状石墨、碎块状石墨。? ? ? ? 球化衰退也就是绝大数石墨成球失败,出现求化衰退的原因是镁量和稀土随着铁液停置时间的延长而发生衰减。镁和稀土与氧的亲和力大于与硫的亲合力,所以浮在铁液表面的 MgS、Ce 2 S 3 夹杂物与空气中的氧反应生成S,S 与 Mg 和 Ce 反应消耗镁量和稀土,出现回硫现象,使铁液中球化元素的残留量低于石墨化所需的临界值时而产生球化级别严重下降。减少球化衰退的措施有以下几点:1)通过合理的生产组织安排,缩短铁液停置时间;2)降低原铁液含硫量(<0.012%);3)转运铁水过程中合理覆盖液面;4)适当增加球化剂加入比例。? ? ? ?开花状石墨是厚大断面球墨铸铁中最常见的畸变石墨,开花状石墨恶化了铸件上表面的质量和力学性性,增加了铸件装机后运转的风险。开花状石墨的形成机理如下:共晶前期形成的石墨球在浮力作用下向上漂浮,聚集在铸件的上表面形成开花石墨。当石墨的固-液界面前沿存在过量的 Ce、Mg 的不均匀吸附时,破坏规则分支的生长,使石墨分支的基面生长速度远大于石墨分支柱面的生长速度,造成石墨在过冷区发生不均匀的包状分叉,导致开花石墨形成。厚大铸件的上表面往往 RE、Mg 偏高,容易提供漂浮的生长环境。? ? ? 开花状石墨与碳当量和铁液的冷却速度有关,还与浇注温度有关。碳当量越高、铁液冷却速度越慢、浇注温度越高石墨漂浮开花的可能性就越大;中小型铸件的碳当量控制在 4.3%-4.7%,但是对于厚大断面的球铁碳当量控制在 4.3%-4.4%,浇注温度在不影响铁水流动性的条件下尽可能低,一般在 1300℃-1360℃为宜;控制碳硅与残余稀土的含量以及提高冷却速度可以减少漂浮石墨形成。另外可使用铸铁冷铁加速冷却,利用球状石墨外围奥氏体晕圈提早形成,增大石墨球比重,减小上浮趋势。2、解决碎块状石墨应注意哪些问题? ? ? ?碎块状石墨是厚大断面球墨铸铁中或是在热节部位经常出现的畸变石墨。出现碎块状石墨的部位,材质疏松,力学性能下降,特别是塑性指标明显降低。所以厚大断面球铁中出现碎块状石墨是目前国内外铸造领域研究与生产面临的难题。? ? ? 由于厚大断面铸件的铁水凝固过程十分缓慢,形成的共晶团粗大,而这种碎块状石墨分支频繁和细小,在铁液对流的作用下,有可能把靠近共晶团边界的石墨冲走,形成游离的碎块。其次凝固缓慢,析出的石墨比一般初生石墨球大得多。当尺寸很大时形成内应力,内应力随石墨球的长大持续累积,最后石墨球破裂形成碎块。根据日月公司多年的控制经验,防止碎块状石墨的产生,应从以下几个方面优化工艺控制:1) ?厚大断面球铁碳当量在 4.2%-4.4%,并采取较低的含硅量;2) ?稀土含量不超过 0.03%,镁量不小于 0.05%;3) ?还可以加入微量元素锑来提高石墨圆整度;4) ?多次孕育和型内孕育同步使用;5) ?可使用适量的钇基球化剂;6) ?采用铸铁冷铁来提高铁水冷却速度等。3、 合理的化学元素控制和孕育处理是生产厚大断面球铁的核心? ? ? ?对于厚大断面球墨铸铁,由于合金元素很多,宏观偏析和微区偏析都会加剧。厚大断面球铁的韧性更多依赖于铁素体的面积分数。铁素体球墨铸铁具有强度、塑性和韧性综合性能好等特点,对于厚大断面球铁铸件,一般要求铁素体基体。? ? ? ?通过孕育处理可以控制铸态球墨铸铁的基体组织,特别是球墨铸铁中的铁素体含量。孕育处理是球墨铸铁生产中必不可少的环节,可减少白口倾向,减少元素偏析,提高球化率,促进铁素体化,抑制石墨畸变。? ? ? ?合适的化学成分是保证球铁组织和性能的必要条件,通常,化学成分的选择由要求的性能和铸件断面尺寸决定,低温厚大断面球铁对成分的要求更为严格。? ? ? ?碳当量 CE 和硅 Si 均是促进石墨化的元素。随着碳当量 CE 的增加,球状石墨数量增加,畸变石墨数量减少,Si 高有利于石墨化,并且基体易于形成铁素体,故铸态厚大断面铁素体球铁 Si 量应尽可能高。? ? ? ?Si 是厚大断面球铁中一个极为敏感的元素,Si 和 CE 一样影响碎块状石墨的形成。研究发现,降低 Si 含量可以减少碎块状石墨的形成。因此,对于厚大断面球墨铸铁,高的 CE 和 Si 含量可以保证高的球化率,提高球铁的力学性能;而低的 CE 和 Si 含量可以抑制石墨漂浮和碎块状石墨。为了获得良好的铸造性能和减少对冒口的需求,要求 CE 一般在共晶点附近,一般选在 CE4.25~4.35%,有低温要求的,Si 控制在 1.95~2.15%较为适宜,无低温要求的 QT450铸件,则将 Si 提高到 2.40-2.60%。? ? ? ?Mn 要比碳在铁液中扩散困难的多,铁与锰在液态可完全互相溶解,在凝固过程中锰具有很大的偏析倾向而富集于晶界,促使碳化物形成,如果形成的碳化物呈网状分布在共晶团边界上,对力学性能是极为有害的。由于Mn 的反石墨化作用,促进白口形成,在生产时一般都不得大于 0.3%。? ? ? ?P 元素极易偏析,常在晶界以磷共晶形式出现。共晶团边界形成的磷共晶容易成为珠光体的核心,从而促进晶界形成珠光体,降低球铁的塑韧性,因而其含量应越低越好。? ? ? ?S 一般在球铁中被认为是反球化元素。S 高会消耗更多的 RE 和 Mg,引起球化衰退,对厚大断面球铁件 S含量应≤0.010%。Mg 是球铁中最主要的球化元素,对于一般球铁件,含量 0.030%~0.045%可以满足球化要求。? ? ? 随着凝固时间的延长,铁液中的含 Mg 量逐渐降低。对于厚大断面球铁件,残余镁量应控制在 0.05%~0.06%之间,小于 0.04%会出现球化不良问题,而大于 0.06%可能出现明显的夹杂物及缩松缺陷。4. 低温厚大断面球铁 生产 的注意事项? ? ? ?在厚大断面球铁中由于中心部位和边缘位置的冷却速度有很大差别,就会造成球铁的基体组织和石墨球的形态等有很大差别。? ? ?化学元素对厚大断面球铁低温力学性能的影响是通过显微组织实现的,除此之外,孕育和球化也通过影响显微组织来影响厚大断面球铁的低温性能。? ? ? ?孕育的实质是脱氧、脱硫,不仅可以增加石墨形核能力,细化晶粒,还可以增加石墨球数量,增加铁素体含量,多次孕育,细化孕育剂颗粒都可以显著细化晶粒,从而提高厚大断面球铁的低温力学性能。? ? ? ?球化处理通过影响石墨的形态影响球铁整体力学性能。另外,球化剂的选型也非常重要。钇基球化剂抗衰退能力较强,可采用钇基和铈基按一定的比例搭配使用,既可以确保球化质量,又能得到较好的石墨形态,以满足低温厚大断面球铁的各项力学性能要求。结束语? ? ? 生产厚大断面铁素体球墨铸铁,由于铁液需求大,设备能力及精心的生产组织安排是前提保证;要获得良好的经济效益,必须实现铸态组织满足机械性能要求;铸态组织要满足性能要求,必须要合理选择铁水化学元素和适宜的球化、孕育工艺。

  • [求助]使用SEM看薄膜断面?

    在Si片上镀一层非晶碳膜(厚度为几十个nm,导电性能较差),用金刚石刀直接切割出试样,然后进行SEM观察,希望得到薄膜的厚度。第一次去做时表面没有喷金,看到的断面效果也很差,很难清楚的看到薄膜与基体的分界面。请问喷金(应该不能喷碳)以后能看到清楚的界面吗?我看别人论文里面的图都非常清楚,不知何故?希望得到各位前辈的请教!

  • [求助]我的样品端面的形貌怎么看

    我的样品的NiTi合金板表面镀膜,我想看膜的断面形貌,想把板子折断,但NiTi合金韧性很好,不好折断,线切割的话,高温会把断面氧化破坏了断面!!请问高手,怎么整!!!

  • 【求助】如何获得高质量的金属铝膜断面

    【求助】如何获得高质量的金属铝膜断面

    如何获得高质量的金属铝膜断面,我目前制作的断面SEM显示,有时很好,有时铝膜会与基片分开,有的时候不是垂直的断面?[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/03/201003240959_207907_1926220_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2010/03/201003240959_207908_1926220_3.jpg[/img]

  • 【求助】关于GaN薄膜断面分析

    【求助】关于GaN薄膜断面分析

    所传图片为GaN薄膜的断面分析,该图片有点不是太明白,想请各位前辈指导一下。在图中“A”代表什么?“B”是不是薄膜的最外层?“C”是不是超晶格结构层?“D”是不是也是一层GaN薄膜?在该图中基片层是不是没有显示出来?已知该薄膜为在蓝宝石衬底上生产的GaN薄膜,其中有超晶格结构。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902241106_134986_1874631_3.jpg[/img]

  • 【原创大赛】【我爱分享】小巧耐用金相磨抛机

    【原创大赛】【我爱分享】小巧耐用金相磨抛机

    设备名称:金相试样磨抛机设备型号:MP-2C出厂编号:201108110生产单位:上海光相制样设备有限公司设备参数:520/700r/min使用年限:6年用途:用于金相试样粗磨、细磨、抛光等http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191701_669080_2806843_3.jpg 在用金相显微镜来检验和分析材料的显微组织时,需将所分析的材料制备成一定尺寸的试样,并经磨制、抛光与腐蚀工序,才能进行材料的组织观察和研究工作。 金相样品的制备过程一般包括如下步骤:取样、镶嵌、粗磨、细磨、抛光和腐蚀。用此磨抛机可进行粗磨、细磨和抛光。 粗磨:取好样后,为了获得一个平整的表面,同时去掉取样时有组织变化的部分,在不影响观察的前提下,可将棱角磨平,并将观察面磨平,一定要将切割时的变形层磨掉。一般的钢铁材料常在砂轮机上磨制,压力不要过大,同时用水冷却;较软的材料可用挫刀磨平。此磨抛机可用型号为180、240的水纱纸进行粗磨后的初步处理。 细磨:以消除粗磨存在的磨痕,获得更为平整光滑的磨面,是在一套粒度不同的金相砂纸上由粗到细依次进行磨制,砂纸号数一般为240、320、400、800、1200粒度.由粗到细进行顺时针磨制。 抛光:目的是消除细磨留下的磨痕,获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等,最常用的是机械抛光。机械抛光是在专用的抛光机上进行抛光,靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的。MP-2C金相磨抛机是在抛光盘上铺以丝绒,丝绸等,边抛光边向绒布圆周喷洒含有Al2O3、Fe2O3粉的抛光液,最终可获得光亮的可观测的表面。 MP-2C型金相磨抛机分1、2两档,1档稍快,2档较慢,可根据试样大小或操作者经验自行选择快慢,也可以先快再慢。磨制时,砂轮机顺时针转动,水流不大不小持续跟随试样;每换一道砂纸,需前面一道试样留下的痕迹磨平,下一道砂纸时更换试样磨制方向,以此类推,十字更换,直至每次同一方向的痕迹磨光或磨平。磨制时大拇指和食指、中指抓紧试样,力道适中,当心试样飞出。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/08/201608111638_604526_2806843_3.jpg MP-2C型金相磨抛机工作的6年里,搬家3次,拆拆装装却也从未出过毛病,不但小巧轻便,还经久耐用,非常适合实验室金相试验工作。 合理建议:希望在以后的生产中可改进工艺,使得放纸和取纸的时候更方便些,节省时间,用久了卡纸的边缘有点生锈,砂纸较难取出。

  • 【求助】关于薄膜断面透镜分析

    【求助】关于薄膜断面透镜分析

    本人在透镜断面分析方面遇到一些问题,想向各位前辈请教一下。下面的几幅图片都是同一个样品的断面分析照片,不知道该怎么分析,希望能够得到各位前辈的指点。谢谢。 该样品是在蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜,其中含有超晶格结构。在图片“001”里面,请问“A”“B”“C”“D”分别代表什么层?“B”是不是样品的最外层薄膜?“C”是不是超晶格结构层?“D”是不是里面的一层薄膜?在该图片中,衬底蓝宝石是不是没有显示出来?[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281157_135935_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281157_135937_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281158_135938_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281158_135939_1874631_3.jpg[/img]

  • 端子断面分析仪的几大优点

    [color=#333333]端子断面分析仪是一种非常精密的测量分析的仪器,使用效果非常好,检测人员可以在短短的5分钟之内就完成一个检测,得到处理分析意见,大大提高了检测速度,是我们进行科研的好帮手。使用操作非常简易便捷,图像的采集质量和呈现效果都是非常高品质的,仪器的分析工作也是非常准确无误,减少由于误差带来的生产不便。[/color][color=#333333] 第一是快速的使用,精确的分析。运用端子断面分析仪我们可以在极短的3到5分钟内,得到一个标本样品,大大节约了我们的生产时间,工作效率非常高。不仅如此,呈像效果非常直观清晰,提高我们检测的准确性,减少误差。不同于传统的树脂凝固法,需要将树脂进行多次加工和处理,过程花费或者说浪费的时间非常长,精准度也不如前者来得准确。[/color][color=#333333] 第二是适应性好。端子断面分析仪经过不断的改进和研发,最新的产品成果可以适用于各种各样不同型号的端子,这就使得仪器的适应性更强,可以发挥用途的地方更多,让操作者使用起来更简单上手,不需要具备专业的技能和知识,使得工作效率进一步提升。[/color][color=#333333]第三是强有力保证标本质量。这个显微镜的结构能够使得我们在观察物体的时候产生立体感强,还能够适应比较长距离的工作环境。端子断面分析仪的呈像效果非常强,能够在我们的显示屏上将被显示物品的图像从十倍放大到四百倍,不管是极细还是极粗的端子都能够清晰呈现。[/color]

  • 电池隔膜断面怎么制样?

    我们公司是做电池隔膜的 想看隔膜的断面形貌 用液氮制样效果不是很好 不知道这里有没有哪位同学做过类似的实验 怎么制样的 谢谢!

  • 【原创】端子断面分析仪

    端子断面分析仪TXD-660C,TXD-770C是上海天省研发的一种线束端子快速检测分析仪。主要用于线束生产过程中对线束进行抽样检测。一、用途 线束压接端子截面分析是本公司针对线束行业品质检验而专门研发的一款精密检测分析设备,整套系统由端子切割设备、研磨设备、腐蚀清洗、断面图像采集系统、线束端子图片测量分析系统等单元组成,采用人体力学设计,模块化组合,流水线式工作流程,让操作更方便、快捷。全套检测系统可在5分钟内完成一个端子的处理分析,极大地提高了端子断面品质检验的速度。简易的操作、高品质的图像采集系统、精确的测量分析为您的生产保驾护航。 端子断面检测显微镜系统能观察物体时能产生正立的三维空间像,立体感强,成像清晰和宽阔,具有较长的工作距离;配置高精度线束端子图片测量分析系统,组合成线束端子检测显微镜,高品质光学系统与高分辨率摄像头的完美组合,让断面图像更清晰,独特的定倍定档让测量更精确。 端子断面检测显微镜 查看大图 二、系统简介 线束压接端子分析仪是将传统的光学显微镜与计算机(数码相机)通过光电转换器有机地结合在一起,不仅可以通过目镜进行观察,还能在电脑显示屏上观察实时动态图像,并能将所需要的图片进行编辑、测量分析、保存和打印。 三、技术参数 上海天省仪器厂 仪器型号:TXD-660C,TXD-770C1.线束剖面分析仪显微镜: 0.75X ~~ 4.5X 2.视频总倍率:40~100X3.变 倍 比 :6.5:14.工作距离: 100mm5.移动工作距离:250mm6.二维机械载物台移动工作台: 采用滚珠导轨,台板尺寸:180×155×26mm 移动范围:75×55mm 玻璃圆台直径:ф957.成像系统:日本JVC公司1/3″专业CCD 或500万高清成像系统8.测量精度:0.001mm9.照明光源:全白光源LED灯(0.7W) 四、系统组成 电脑型(TXD-660C) 1、线束端子检测显微镜 2、适配镜 3、摄像器(CCD) 4、图像采集卡 5、端子专用分析软件 6、端子专用设备

  • SEM跪求粉末断面怎么制备

    想做一下100微米左右的粉末颗粒断面,找了文献说用环氧树脂包埋抛光,请问有没有大神说一下详细操作步骤啊,谢谢大家~

  • 【转帖】线束端子断面分析仪

    随着汽车行业的迅速发展, 汽车低压电线束横断面分析技术也变得十分重要,各行业的也慢慢地对端子技术的要求也十分地高连接器端子断面分析系统. 上海天省仪器厂研发的端子断面分析仪是汽车线束生产厂家连接器端子分析仪必备的用以检验端子压接形状是否合格连接器截面分析仪的器,端子压接形状的工序:横切端子、对断面进行研磨、清洗断面并腐蚀去氧化皮接头端子断面检测分析仪,照相取样、通过软件对图形成像进行分析端子断面检测显微镜。 TXD-660C,TXD-770C是上海天省研发的一种线束端子快速检测分析仪。主要用于线束生产过程中对线束进行抽样检测。在电缆线束生产线上,品质的可靠性及生产速度非常重要,可以说在生产过程中采用连续的质量分析已成为市场竞争的重要因素。该系统可在短时间内完成精确的质量分析,为您的生产保驾护航!操作基本步骤:1.切割部分 从垂直于电缆的方向切断冲压件 2.打磨部分 打磨并抛光被切断的冲压件 3.蚀化部分 为了得到清晰的截面图片,需要对截断并磨光的冲压件作泡沫蚀化处理 4.图片的摄取部分 采用进口高清晰摄像机,经显微镜放大的截面图片 5. 使用线束端子专用的测量分析软件对截面图片进行分析,可获取冲压高度,宽度,压缩比率(压缩面积)及冲压件几何形状等的参数,并可打印及存档。简单易操作!技术参数 上海天省仪器厂1.型号:TXD-660C TXD-770C2.测量精度:0.001mm3.切割轮厚:0.6 mm4.转速:2800 rpm(切割) 1800 rmp(研磨)5.腐蚀:酸液泡沫腐蚀6.图像处理:130万像素摄像头,USB2.0接口10~45倍高清显微镜,定倍测量带压缩比测量分析软件7.处理时间:3~5分钟8.电 源:AC220V 50Hz

  • 端子横断面分析图及端子断面分析技术

    一种线束端子快速检测分析仪。主要用于线束生产过程中对线束进行抽样检测。在电缆线束生产线上,品质的可靠性及生产速度非常重要,可以说在生产过程中采用连续的质量分析已成为市场竞争的重要因素。该系统可在短时间内完成精确的质量分析,为您的生产保驾护航! 端子压接剖面分析仪,可以对压接工序端子内部质量进行分析,对端子进行剖面,检查端子剖面后压接密度:线芯是否变形、压接毛刺是否合格,导体中所有单线的断面应呈不规则多边形,导体与端子相接部位、单线与单线之间应无明显缝隙,端子压接部位应包住全部导体。端子压接的卷曲部分a、b必须相接,且对称。端子压接卷曲部分a、b端部距底部c的距离d不小于单线标称直径的1/2横断面底部两侧的毛刺高e应不超过端子压接后的厚度g,毛刺宽度f应不超过g的1/2。横断面上端子压接部位出现裂纹h。整车线束应符合:QC/T29106-2004 汽车低压电线束技术条件。 (1)规定了检验线束尺寸的标准。 (2)规定了电线束中所用材料和零部件所符合的性能要求。(3)规定了端子与线束的连接方法及连接后应符合的要求。 (4) 规定了端子与线束连接点应符合的要求。 (5)密封塞在压接时不应损伤。电线与密封塞之间、密封塞与护套之间不应有目视可见的间隙。 (6)电线束包扎时,应紧密、均匀,不应松散。采用保护套管时,无位移和影响电线束弯曲现象。 (7)电线束中电线及零部件应正确装配,不应有错位现象,端子在护套中不应脱出。(8)电线束中线路导通率为100%,无短路、错路现象。 (9)电线束需要进行耐高、低温、湿度循环变化性能试验;耐振动性能试验;耐盐雾性能试验;耐工业溶剂性能试验等。技术参数 1.型号:XDT-620E 2.测量精度:0。001mm3.切割轮厚:0.6 mm 4.转速:2800 rpm(切割) 2800 rmp(研磨) 5.腐蚀:酸液泡沫腐蚀 6.图像处理:130万像素摄像头,USB2.0接口 10~45倍高清显微镜,定倍测量 带压缩比测量分析软件 7.处理时间:3~5分钟 8.电 源:AC220V 50Hz

  • [请教+讨论] 大家用SEM 观测到的薄膜样品的断面结构是什么样子的?

    SEM 观测薄膜表面的形貌特征相对容易一点,而观测薄膜的断面相对来说需要细致的制备和观测,特别对于多层薄膜的断面观测。想知道大家用SEM 测试的薄膜断面结构什么样子?也可以说,薄膜的纵向生长模式。如通常观测到的柱状生长方式等。。。请大家谈谈自己的看法吧[em61] (可根据实际测试的和文章中发表的sem images)

  • 钽管看断面工具和方法

    大家好!我现在有一个技术问题,我的是一个钽管,钽管内壁有五氧化二钽薄膜,薄膜的厚度应该是100-200纳米左右,目前想看断面分层情况,SEM已经有了,主要是现在该怎么制备SEM好的断面。能够明显的看出分层。有什么仪器,什么方法,大家给我建议下,有惊喜礼物哦~~~多谢!

  • 【原创大赛】被磨平的紫薯

    【原创大赛】被磨平的紫薯

    拍摄时间:2011年3月4日样品名称:铁铬钨合金生产厂家:FEI型号:Nova NanoSEM 230放大倍数:2K倍照明方式(模式):背散射电子(BSE)模式http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/10/201110082001_322126_2193245_3.jpg

  • 端子端面分析仪的组成与简单介绍

    端子端面分析仪的组成与简单介绍

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2014/09/201409121041_513571_2341997_3.jpgFLY0745AD端子端面分析仪详细说明:FLY0745AD端子端面分析仪分析显微镜采用独创的成像和照明光学系统设计,使它有更好的对比度和景深,可选附件丰富,质量和可靠性极佳,可与国际名牌产品媲美。该系列产品使用范围相当广泛,它观察物体时能产生正立的二维空间像,成像清晰和宽阔,具有较长的工作距离,本仪器性能可靠,操作简单,使用方便,且外形美观,使用广泛,满足各类端子连接器的检验、测量分析要求,广泛用于电子精密机械等行业和部门,特别适合于LED,PCB检验,冲压电镀检验,电子元件检验,连接器尺寸测量和分析。仪器的优点:1、通过与PC连接,可直接连接液晶显示器,动态观看视频图像。2、300万(或者500万)高清数字图像传感器,视频图像清晰,流畅。3、支持自动曝光,自动白平衡,及手动调节曝光速度,RGB增益。4、可进行动态观察,拍照,测量和分析。5、点、线、圆、弧、等基本图像测量元素,满足产品测量分析的全部需求。6、保存参数功能,可随时保存调整后的各种参数主要技术规格:1.物镜连续变倍0.7X~4.5X主机配合尺寸Φ45mm。2.工作距离:46~198mm(摄影目镜及物镜的不同组合)。3.物镜视场:0.3~46mm(摄影目镜及物镜的不同组合)。4.摄像目镜:0.35X、0.5X(标配)、0.75X、1X、1.5X和2X可选。5.辅助物镜:0.5X、0.75X、1X(标配)、1.5X和2X可选。仪器系统的组成:1.FLY-0745显微镜单筒镜头。2.显微镜大平板底座。3.显微镜调焦机构。4.显微镜专用LED表面光源。5. 显微镜端子端面测量分析软件。6. 数码高清彩色CCD(300万和500万可选)。7. 显微镜专用视频转接口。8. 端子试样磨抛机。备注:1、显微镜放大倍数的计算方法总放大倍数 = 物镜放大倍数 X 数字放大倍数物镜放大倍数 = 大物镜放大倍数 X 镜头放大倍数数字放大倍数 = 监视器尺寸 X 25.4/CCD靶面对角线尺寸大小CCD靶面对角线尺寸大小:1/3 " 为6mm 1/2 " 为8mm 2/3 " 为11 mm例:0.7X - 5.0X的标配主机配1/2 " CCD摄像机配17 " 液晶显示器数字放大倍数:17 *25.4 / 8 = 53.975X总放大倍数:(0.7X -5.0X) * 53.975=37.78X - 269.875X那么照此配置,总的放大倍率就在37.78倍到 269.875倍之间连续可调。[

  • 地表水每个断面采集几个水样?

    根据HJ 91.2-2022 地表水环境质量监测技术规范,根据断面进行采集样品,请问如果该断面大于100m宽,大于10m深,应该采集几个样品?现场监测项目(pH、溶解氧、氧化还原电位等)需要测量几个值?采样前不可荡洗的项目(油类、菌类等)需要采集几个样品?采样前可荡洗的项目(氨氮、金属等)需要采集几个样品?是否每个垂线和水深层处采集等体积混合后采样一个样品?

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