微电极抛光仪

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

电极抛光材料提供： 一小瓶的0.05 μm氧化铝粉，一小瓶0.3 μm氧化铝粉，一小瓶1.0 μm氧化铝粉，1张直径200mm的尼龙抛光布（白色），1张直径200mm的绒面抛光布（咖啡色），1张直径200mm 1200目-4000 # 金相砂纸（灰色）

固态电极的抛光套件订货号: 6.2802.000抛光套件，含1张抛光布以及大约2克氧化铝粉（粒径0.3微米）

抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极Polishing tape to Polishing Set for Ultra Trace Electrode订货号：6.2802.030抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极。 粒径 12 μm. 在抛光筒中使用。 每套50件。技术参数宽度（mm）9长度（mm）140

旋转圆盘电极的抛光套件Polishing set for rotating disk electrodes订货号：6.2802.010抛光套件，含抛光支架，4张抛光布以及氧化铝粉（粒径0.3微米）

固态电极的抛光套件订货号：6.2802.000抛光套件，含1张抛光布以及大约2克氧化铝粉（粒径0.3微米）

抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉，一瓶0.3 um -氧化铝粉，1大瓶 0.05 um -氧化铝粉，2块固定抛光布用的玻璃板，5片73mm直径1200金相砂纸（灰色），5片73mm直径尼龙抛光布（白色）和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

超痕量石墨电极头的抛光套件Polishing set for Ultra Trace Electrode Tip订货号：6.2802.020抛光套件，可对超痕量石墨电极头 6.1204.180的表面进行更新

UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似，UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属

UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似，UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属

产品特点：为 Thermo Scientific Dionex ICS-5000 提供金、AAA 级金、铂金、玻碳和银等选择，每个电极均带有垫圈和抛光套件。+/ICS-6000 ED 电化学常规电极。ED glassy carbon conventional working electrode, with gasket and polishing kit | 079854ED glassy carbon conventional working electrode, with gasket and polishing kit订货信息：部件号品名描述数量079854ED glassy carbon conventional working electrode, with gasket and polishing kitED glassy carbon conventional working electrode, with gasket and polishing kitEA

产品特点：为 Thermo Scientific Dionex ICS-5000 提供金、AAA 级金、铂金、玻碳和银等选择，每个电极均带有垫圈和抛光套件。+/ICS-6000 ED 电化学常规电极。ED platinum conventional working electrode, with gasket and polishing kit | 079851ED platinum conventional working electrode, with gasket and polishing kit订货信息：部件号品名描述数量079851ED platinum conventional working electrode, with gasket and polishing kitED platinum conventional working electrode, with gasket and polishing kitEA

产品特点：为 Thermo ScientificDionex ICS-5000 提供金、AAA 级金、铂金、玻碳和银等选择，每个电极均带有垫圈和抛光套件。+/ICS-6000 ED 电化学常规电极。ED gold conventional working electrode, with gasket and polishing kit | 079850ED gold conventional working electrode, with gasket and polishing kit订货信息：部件号品名描述数量079850ED gold conventional working electrode, with gasket and polishing kitED gold conventional working electrode, with gasket and polishing kitEA

产品特点：为 Thermo Scientific Dionex ICS-5000 提供金、AAA 级金、铂金、玻碳和银等选择，每个电极均带有垫圈和抛光套件。+/ICS-6000 ED 电化学常规电极。ED AAA gold working electrode, with gasket and polishing kit | 063722ED AAA gold working electrode, with gasket and polishing kit订货信息：部件号品名描述数量063722ED AAA gold working electrode, with gasket and polishing kitED AAA gold working electrode, with gasket and polishing kitEA

产品特点：为 Thermo Scientific Dionex ICS-5000 提供金、AAA 级金、铂金、玻碳和银等选择，每个电极均带有垫圈和抛光套件。+/ICS-6000 ED 电化学常规电极。3-mm Gold Working Electrode with Gasket and Polishing Kit | 0637233-mm Gold Working Electrode with Gasket and Polishing Kit订货信息：部件号品名描述数量0637233-mm Gold Working Electrode with Gasket and Polishing Kit3-mm Gold Working Electrode with Gasket and Polishing KitEA

为消除变形并获得高反射表面，需要具有不同弹力的不同磨料和抛光布。使用与设备配套的 Struers 耗材是确保优异抛光性能的理想方式。这是因为每种机器和耗材被设计成适于配合使用，以控制抛光过程的所有参数，从而帮助您充分利用您的投资。抛光布、金刚砂粒度和润滑剂的选择取决于要抛光的材料。无论您对氧化物抛光还是金刚砂抛光感兴趣，Struers始终能够满足您的需求。DiaPro是专为实现超高性能和效率而开发的一系列金刚石悬浮液，可将制备时间平均缩短30%。每种DiaPro悬浮液针对特定表面开发并且经过优化，可提供出色的平整度、边缘保护和再现性。只有Struers耗材才能充分发挥Struers设备的优势。请点击此处，登录耗材商城查看抛光布的详细型号和应用。

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

名称型号规格价格（元）金盘电极（美国进口）1012mm直径金盘电极5003mm直径金盘电极550 金盘电极（进口黄金） 101A4mm直径金盘电极6805mm直径金盘电极7506mm直径金盘电极900 铂盘电极（美国进口） 1020.5mm直径铂盘电极4502mm直径铂盘电极5003mm直径铂盘电极550 铂盘电极（进口铂金） 102A4mm直径铂盘电极6505mm直径铂盘电极8206mm直径铂盘电极1060 玻碳盘电极（美国进口） 1041mm直径玻碳盘电极8002mm直径玻碳盘电极5003mm直径玻碳盘电极550 进口玻碳 104A4mm直径玻碳盘电极6005mm直径玻碳盘电极6506mm直径玻碳盘电极750银盘电极（美国进口）1031mm/2mm直径银盘电极4003mm/4mm直径银盘电极450 微电极（美国进口）10510um金盘微电极103010625um金盘微电极103010710um铂盘微电极103010825um铂盘微电极10301095um/7um碳纤维微电极1800

磁性玻璃水平微电极拉针仪配件PN-31是提拉法微电极拉针仪的杰出品牌仪器,通过使用电磁力精确拉制微毛细管针和玻璃毛细管。磁性玻璃水平微电极拉针仪配件PN-31特点具有长抽出量能力和强大的电磁线圈，可以生产长而锋利的微毛细管针具有宽广的拉力调整范围，开始拉制长而薄的微针时使用微弱拉力，逐渐增大拉力拉动玻璃毛细管，最终抽出长而尖的微针。采用高级铂材料加热板的加热器，升温速度快，升温效率高，电磁铁和加热器的最大输出值为100，数字值在显示器上显示，使得大规模生产大批量的质量一致的玻璃针更容易。可以在100- 240内的任何交流电压下运行，使用功率约为250w。磁性玻璃水平微电极拉针仪配件PN-31参数外形尺寸（mm）：W300 x D190 x H230.重量t: 7.7kg.可用更换加热元件：PN-3H 3mm PN-30H 6mm磁性玻璃水平微电极拉针仪配件PN-31规格配件玻璃毛细管带丝状物备用加热器加热器重塑工具交流电源线内六角扳手电源AC100 (±5%), 50/60HzAC120 (±5%), 50/60HzAC220 (±5%), 50/60HzAC240 (±5%), 50/60Hz消耗功率约. 250W加热水平100 = 灯丝电压 1V磁吸水平100 = 磁电压 36V尺寸/重量W300 × D190 × H230mm, 7.7kg

进口抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步， 新一代抛光布更专业、更耐用和具有更好的制样效果。 本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广国产抛光布-背胶 品种多样，便于选择。选择合适的抛光布是非常关键的一步，新一代抛光布更专业、 更耐用和更好的制样效果。本产品广泛应用于国内外各种金相抛光，适用范围广。

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

金相抛光织物适用于各种金相试样及仪器、仪表等零件的精密抛光。精抛后能达到光洁度▽8-▽12。选对抛光织物与相对应的磨料粒度对称，是抛出理想光洁度的关键。抛光织物由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的优质织物为材料。

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

玻璃微电极拉制器配件PE-22是Ecclecs拉制器和塔型的最佳微电极拉制器Microelectrode Puller，用于垂直拉长玻璃毛细管,具有更高安全性和稳定性。玻璃微电极拉制器配件PE-22采用Narishige公司最新的电路系统，并安装金属罩与加热器和轴连接，具有同类产品最高的安全性。与传统拉制器一样，玻璃微电极拉制器PE-22通过使用其自身的重量的重力和磁铁的重量垂直拉长的玻璃毛细管。安放玻璃毛细管的装置采用钻夹头系统，可安放2- 6ml的玻璃毛细管。此外，使用一捆1ml玻璃毛细管，可以制成多管微电极。玻璃微电极拉制器配件PE-22可用于制造固定微电极用于神经中枢实验，也可拉制结合了三，四，七个?1mm玻璃毛细管的多管电极，毛细管规格从 ?2到?4mm都可实现。使用数字显示器调整磁体和加热，显示的磁体和加热最大输出是100：使调整容易，并有助于在大规模生产中实现更高的精度。将两个常规的独立仪器合成一体，该拉制器节省相当大的空间。TRITECH research 公司建议在神经中枢实验中使用玻璃微电极拉制器PE-22，因为此种实验需要把微电极深深插入颅脑。在这样的实验中，长锥形尖tapered tip必须平行。要达到所要求的平行度，微调范围必须足够。相比传统拉制器，这款微电机拉制器能够产生更多不同形状的微电极。微型开关也具有校准功能，从而容易调整，这提高了实验的可重复性。玻璃微电极拉制器配件PE-22规格配件玻璃毛细管（2毫米）玻璃毛细管（3毫米）备用加热器夹头柄电源线* PE-21HC（3毫米），装配到主仪器。电源AC100 (±5%), 50/60HzAC120 (±5%), 50/60HzAC220 (±5%), 50/60HzAC240 (±5%), 50/60Hz消耗功率最高约.500W.灯丝电流约.17A灯丝电压约.6V尺寸/重量W280 × D280 × H610mm, 20.7kg玻璃微电极拉制器配件PE-22编号产品说明PE-21HAPE-2/21 的直管加热器直铁铬铝电阻丝(×5)PE-21HBPE-21 的旋管加热器2mm铁铬铝电阻丝(×5)PE-21HCPE-21 的旋管加热器3mm铁铬铝电阻丝(×5)PE-21HDPE-21 的旋管加热器6mm铁铬铝电阻丝(×5)

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

美国FHC微电极

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670