微纳制作平台

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备

蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器，是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器，在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程，采用了先进的线性伺服电机技术，在X，Y方向实现高达500nm的分辨率，在Z轴方向实现250nm分辨率，并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统，具有方便用户操作的软件，可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备，除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板，位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料：DNA，蛋白质，抗体，小分子，肽核酸（PNA），碳水化合物，以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效，经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号：纳米打印机LM60有384个微孔，最多可以打印60个标准玻璃芯片底片；纳米打印机LM210有384个微孔，最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。General SpecificationsDimensions (L x P x H, cm)LM60 (110 x 85 x 56 cm)LM120 (164 x 85 x 56 cm)WeightLM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg)Positional resolution (X,Y-Axis)500 nanometersPrinting speed48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technologyPrinting technologyArrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheadsNumber of pinsConfigurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or1 to 192 at 2.25mmSpot diameter65 microns or larger to meet all applicationsMinimum spot spacing50 micronsPre-printingUser definableWash/dry stationUltrasonic with 2 wash positions and a dry stationNumber of microplatesThree standard 384-well sample microplates, customizable on the worktableMicroplates to be printed into :- 15 96-wells microplates (LM60)- 45 96-wells microplates (LM120)Number of slides60 glass slide substrates (LM60)120 glass slide substrates (LM120)Microplate coolingCool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applicationsEnvironment controlFully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity controlNanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracyThe X, Y - axis positional resolution is 500 nm.The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission.NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology.NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed.Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology.The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set :Z Profile: High speedZ Extend: Printing speedZ Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run.The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation and microbial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

组织芯片Tissue microarrays (TMAs)已经是癌症研究和新药研发的重要工具之一。目前用到的技术包括组合、打芯、装芯，都是非常耗时且需要配套昂贵的仪器。组织芯片制作模具是一款简单的手动工具，可以满足实验室快又好地制作出TMAs。利用蜡块制作模具Arraymold，可以在短时间内将60个样本安排在一个小小的载玻片上，这仅仅需要小量的实战训练。套

价格仅供参考， 欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。组织芯片Tissue microarrays (TMAs)已经是癌症研究和新药研发的重要工具之一。目前用到的技术包括组合、打芯、装芯，都是非常耗时且需要配套昂贵的仪器。组织芯片制作模具是一款简单的手动工具，可以满足实验室快又好地制作出TMAs。利用蜡块制作模具Arraymold，可以在短时间内将150个样本安排在一个小小的载玻片上，这仅仅需要小量的实战训练。本产品带有DVD光盘，上面将会一步步的教会你整个制作流程。工具包内容物如图示：订购信息：货号产品名称规格69130-10Arraymold Kit A, 60 Cores，2mm孔Kit69130-20Arraymold Kit B, 150 Cores，1.5mm孔Kit69130-40Arraymold Kit C, 15 Cores，4mm孔Kit69130-15Arraymold Kit D, 36 Cores，2mm孔Kit69130-45Arraymold Kit E, 35 Cores，3mm孔Kit69130-25Arraymold Kit F, 72 Cores，1.5mm孔Kit69130-55Arraymold Kit G, 24 Cores，3.5mm孔Kit69130-56Punch，1.5mm50个69130-57Punch，2.0mm50个69130-58Punch，3.0mm50个69130-59Punch，3.5mm50个69130-62Punch，4.0mm50个69130-63Stylet，1.5mm个69130-64Stylet，2.0mm个69130-65Stylet，3.0mmm个69130-66Stylet，3.5mm个69130-67Stylet，4.0mm个此产品以工具包的形式提供给大家，便于研究者的方便，每个工具包的包含的内容如下：1.10个一次性皮肤取样针needle or punches，注意这个取样针很特殊（空心）2.2个通管针stylet，配套取样针使用3.1个铜盘（brass plate）4.1个可反复使用的的arraymold（空心蜡块制作模具） 5.一个DVD光盘，介绍工具包的具体使用

VANNAS维纳斯高级剪刀，直头卓越的尖部，总长75mm，有3mm和5mm两种刀刃。锋利、精确，适合各种精细显微操作。货号产品名称规格72932-013 mm Cutting Edge, 直头each72933-015 mm Cutting Edge, 直头eachVANNAS维纳斯高级剪刀，弯头卓越的尖部，总长75mm，有3mm和5mm两种刀刃。锋利、精确，适合各种精细显微操作.货号产品名称规格72932-023 mm Cutting Edge, 弯头each72933-025 mm Cutting Edge, 弯头eachVANNAS维纳斯高级剪刀，前角型式卓越的尖部，总长75mm，有3mm和5mm两种刀刃。锋利、精确，适合各种精细显微操作。货号产品名称规格72932-033 mm Cutting Edge, 前角型each72933-035 mm Cutting Edge, 前角型eachVANNAS维纳斯高级剪刀，边角型式卓越的尖部，总长75mm，有3mm和5mm两种刀刃。锋利、精确，适合各种精细显微操作。货号产品名称规格72932-043mm Cutting Edge, 边角型each72933-045mm Cutting Edge, 边角型each

微纳米图形的制作已成为半导体器件、微机电系统和纳米科学等研究中的基本手段。但传统设备昂贵、庞大，NanoPattern图形发生器可以利用电子束/离子束/探针具有容易控制和分辨率高的特点方便地获得微纳米图形。而且不像普通光刻机需要先制作掩膜，并且有更高的分辨率和灵活性。NanoPattern图形发生器可利用扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜的外接扫描口、束流测量装置和二次电子检测输出等而使其升级获得微纳米图形制作的功能并且不损失电镜原来的任何功能。结合扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜上的其他功能如电子

众所周知，优质显微镜用品和耗材是微束分析领域样品制备和产生理想结果的必要条件。成功的样品制备是从样品中获取优质图像和可靠数据的关键步骤。由南京覃思科技有限公司(www.tansi.com.cn)代理的荷兰Micro to Nano（简称M2N）进口显微镜耗材及用品，遵循“创新、实用和优质”之理念，产品用于电子显微镜和扫描探针显微镜技术领域。M2N公司在电子显微镜、样品制备、成像技术和产品分销领域拥有50多年的行业经验，对客户的需求有着深刻的理解。我们的显微镜用品，特别是电子显微镜用品，能为客户提供当前任务所需的耗品耗材。荷兰M2N持续从事基于显微镜新需求的耗品研发，是SEM、TEM、FIB、AFM、SPM、LM等微纳领域之贴心伙伴，提供优质和创新的样品桩、样品座、碳膜载网、校准标样、靶材、碳棒、碳绳、工具、配件、银导电胶、碳胶带、铜胶带、储存盒、清洁用品、真空密封、安全防护等各种耗材器具，琳琅满目，应有尽有，显微分析领域耗材之理想选择！

采用非编织PP制作的条帽。无乳液两个松紧带（一个松紧带：113-0708）密度：12 g/m2直径(MM)颜色包装规格包装数量货号500白色袋100113-8250500白色袋250113-8247500蓝色袋250113-8248500绿色袋250113-8249500红色袋100113-8290500黄色袋100113-8291

采用非编织PP制作的圆帽。无乳胶松紧带密度：12 g/m2包装：箱或袋。直径(MM)颜色包装规格包装数量货号530白色袋100113-8241530白色袋100113-8244530蓝色袋100113-8245530绿色袋100113-8246610白色袋100113-8243610蓝色袋100113-8288610绿色袋100113-8289

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SP-3882ZAA上海光谱原子吸收石墨管SP-3887ZAA 上海光谱热解涂层石墨管SP-3803AA 上海光谱原子吸收石墨管SP-3802AA 上海光谱热解涂层石墨管SP-3590AA 上海光谱原子吸收分光光度计石墨管SP-3882ZAA上海光谱原子吸收热解平台石墨管SP-3887ZAA 上海光谱原装热解平台石墨管SP-3803AA 上海光谱原子吸收专用平台石墨管SP-3802AA 上海光谱热解平台石墨管SP-3590AA 上海光谱原子吸收分光光度计平台石墨管北京龙天韬略科技有限公司,是致力于发展分析测试仪器配件事业的高新科技企业实体，是集研发、生产、销售、服务于一体的分析仪器配件耗材专业厂家。公司拥有专业人才队伍、精湛的制作工艺技术和先进的生产设备，经过长期的不断创新，积累了丰富的生产制作经验，强化了质量检测手段，配备了可靠的检测仪器，建立了完善的技术研发体系、材料采购体系、生产制作体系、质量检测体系、售后服务体系，充分保证产品质量，产品各项性能指标达到了同行业先进水平。石墨炉原子吸收光谱法是目前测定多种物料中痕量及超痕量无机成分的有效手段，已广泛用于国民经济中相关行业。石墨原子化器是将样品中的离子或分子变成待测元素基态原子的核心部件，其质量直接关系到原子化效率，关系到定量分析的准确度，积多年实验研究成果，为获得优良的特定的耐抗性和热特性而采用特殊的高品质石墨基础材料经过特殊工艺研制而成的LT系列石墨原子化器，具有灵敏度高、精度好、重现性好、使用寿命长、性价比高的特点，其各项测试性能指标均能达到国内外水平。专用的原料、研磨、充分的混合、适当的压制、正确的热处理、全过程的净化控制、机械加工、特殊的涂覆技术、严格的性能检测保证了龙天LTT系列石墨原子化器的品质。专业生产原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度AAS国产各型号石墨管 仪器品牌如下： 北分瑞利石墨管、普析通用石墨管、东西电子石墨管、瀚时制作所石墨管、北京华洋石墨管、科创海光石墨管、博晖创新石墨管、北京纳克石墨管、北京美诚石墨管、北京瑞昌石墨管、北京中和测通石墨管、恒通瑞利石墨管、上海天美石墨管、上海精科（上分厂）石墨管、上海光谱石墨管、上海仪电石墨管、上海森谱石墨管、南京科捷石墨管、浙江福立石墨管、江苏天瑞石墨管、安徽皖仪石墨管、武汉天虹石墨管、辽宁分析石墨管、沈阳华光石墨管、等国内原子吸收光谱仪用石墨管。特殊型号的石墨管、石墨锥也可来图来样来料订货加工。专业生产进口吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度AAS各型号替代石墨管，仪器品牌如下：瓦里安Varian石墨管度AAS安捷伦Agilent石墨管、Z-2000石墨管、热电Thermo石墨管、岛津Shimadzu石墨管、珀金埃尔默PerkinElmer石墨管、加拿大欧罗拉Aurora、德国耶拿Analytik Jena石墨管, 澳大利亚GBC石墨管、美国惠普HP石墨管、日本分光Jasco石墨管等的原装进口石墨管。原子吸收石墨管型号说明：根据不同仪器厂家的不同情况，匹配有横向加热石墨管、纵向加热石墨管；普通石墨管、热解石墨管；标准石墨管、涂层石墨管；直筒石墨管、平台石墨管、凹台石墨管、杯型石墨管等不同型号的产品，以下为常见产品型号（非仪器厂家标准通用型号产品可来图来样定制）：★LTT-BZ型：纵向加热标准石墨管，Uncoated，高密管★LTT-TC型：纵向加热涂层石墨管,Coated，热解涂层★LTT-PT型；纵向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HT型：横向加热涂层石墨管, Coated，热解涂层★LTT-HP型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HG型；横向加热高灵敏度石墨管，Platform,带端盖★LTT-HPO型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HGO型；横向加热高灵敏度石墨管，带端盖★LTC-ZX型：纵向加热石墨锥/石墨电极★LTC-HX型：横向加热石墨锥/石墨电极

SP-3882ZAA上海光谱原子吸收石墨管SP-3887ZAA 上海光谱热解涂层石墨管SP-3803AA 上海光谱原子吸收石墨管SP-3802AA 上海光谱热解涂层石墨管SP-3590AA 上海光谱原子吸收分光光度计石墨管SP-3882ZAA上海光谱原子吸收热解平台石墨管SP-3887ZAA 上海光谱原装热解平台石墨管SP-3803AA 上海光谱原子吸收专用平台石墨管SP-3802AA 上海光谱热解平台石墨管SP-3590AA 上海光谱原子吸收分光光度计平台石墨管北京龙天韬略科技有限公司,是致力于发展分析测试仪器配件事业的高新科技企业实体，是集研发、生产、销售、服务于一体的分析仪器配件耗材专业厂家。公司拥有专业人才队伍、精湛的制作工艺技术和先进的生产设备，经过长期的不断创新，积累了丰富的生产制作经验，强化了质量检测手段，配备了可靠的检测仪器，建立了完善的技术研发体系、材料采购体系、生产制作体系、质量检测体系、售后服务体系，充分保证产品质量，产品各项性能指标达到了同行业先进水平。石墨炉原子吸收光谱法是目前测定多种物料中痕量及超痕量无机成分的有效手段，已广泛用于国民经济中相关行业。石墨原子化器是将样品中的离子或分子变成待测元素基态原子的核心部件，其质量直接关系到原子化效率，关系到定量分析的准确度，积多年实验研究成果，为获得优良的特定的耐抗性和热特性而采用特殊的高品质石墨基础材料经过特殊工艺研制而成的LT系列石墨原子化器，具有灵敏度高、精度好、重现性好、使用寿命长、性价比高的特点，其各项测试性能指标均能达到国内外水平。专用的原料、研磨、充分的混合、适当的压制、正确的热处理、全过程的净化控制、机械加工、特殊的涂覆技术、严格的性能检测保证了龙天LTT系列石墨原子化器的品质。专业生产原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度AAS国产各型号石墨管 仪器品牌如下： 北分瑞利石墨管、普析通用石墨管、东西电子石墨管、瀚时制作所石墨管、北京华洋石墨管、科创海光石墨管、博晖创新石墨管、北京纳克石墨管、北京美诚石墨管、北京瑞昌石墨管、北京中和测通石墨管、恒通瑞利石墨管、上海天美石墨管、上海精科（上分厂）石墨管、上海光谱石墨管、上海仪电石墨管、上海森谱石墨管、南京科捷石墨管、浙江福立石墨管、江苏天瑞石墨管、安徽皖仪石墨管、武汉天虹石墨管、辽宁分析石墨管、沈阳华光石墨管、等国内原子吸收光谱仪用石墨管。特殊型号的石墨管、石墨锥也可来图来样来料订货加工。专业生产进口吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度AAS各型号替代石墨管，仪器品牌如下：瓦里安Varian石墨管度AAS安捷伦Agilent石墨管、Z-2000石墨管、热电Thermo石墨管、岛津Shimadzu石墨管、珀金埃尔默PerkinElmer石墨管、加拿大欧罗拉Aurora、德国耶拿Analytik Jena石墨管, 澳大利亚GBC石墨管、美国惠普HP石墨管、日本分光Jasco石墨管等的原装进口石墨管。原子吸收石墨管型号说明：根据不同仪器厂家的不同情况，匹配有横向加热石墨管、纵向加热石墨管；普通石墨管、热解石墨管；标准石墨管、涂层石墨管；直筒石墨管、平台石墨管、凹台石墨管、杯型石墨管等不同型号的产品，以下为常见产品型号（非仪器厂家标准通用型号产品可来图来样定制）：★LTT-BZ型：纵向加热标准石墨管，Uncoated，高密管★LTT-TC型：纵向加热涂层石墨管,Coated，热解涂层★LTT-PT型；纵向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HT型：横向加热涂层石墨管, Coated，热解涂层★LTT-HP型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HG型；横向加热高灵敏度石墨管，Platform,带端盖★LTT-HPO型：横向加热平台石墨管, Platform，热解涂层★LTT-HGO型；横向加热高灵敏度石墨管，带端盖★LTC-ZX型：纵向加热石墨锥/石墨电极★LTC-HX型：横向加热石墨锥/石墨电极

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样品座The Em-Tec SEM stub adapters enable the use of all common types of SEM stubs or mounts in your SEM. Advantages of the cost-effective and practical EM-Tec SEM stub adapters are:sample mounting independent of SEM platformsave time with no need to re-mount samplesuse calibration and resolution standards mounted on different stubsno need to risk sample integrityenables collaborative investigation of samplesThere are basically 5 common types of SEM sample stubs:Standard pin stubs with standard 9.5mm long pin used on FEI, Philips, Tescan, Phenom, Aspex, RJ Lee, Cambridge Instruments, Leica, CamScan, ETEC and Novascan SEMs and SEM/FIB systemsZeiss pin stubs with short 6mm pin for Zeiss and LEO SEMs, CrossBeams and SEM/FIB systemsPlain cylinder stubs for JEOL SEMs and SEM/FIB systemsHitachi cylinder stubs with M4 threaded base for Hitachi SEMs and FIBsPlain cylinder stubs for ISI, ABT, Topcon SEMsFor each of the above type mentioned SEM stubs there are EM-Tec SEM stub adapters available. The EM-Tec SEM stub adapters are essentially made with the base of one type of an SEM stub and a top compatible with another type of SEM sample stub. The EM-Tec SEM stub adaptors are all constructed of vacuum grade aluminium and made to original manufacturers specifications. The Hitachi stub extensions are made from self-lubricating brass with aluminium locking ring. EM-Tec SEM stub adapters types are available as:Pin stub adapters for using other SEM stubs in pin type SEMs such as FEI, Philips, Tescan, Phenom, Aspex, Cambridge Instruments, Leica, etc. These can be used in Amray systems as well.Short pin stub adapters for using other SEM stubs in Zeiss and LEO SEMsJEOL stub adapters for using other pin stubs and Hitachi stubs in JEOL SEMsHitachi M4 stub adapters for using pin stubs and JEOL stubs in Hitachi SEMsOther SEM stub adapters for less common SEMs such as ISI/ABT/Topcon and Agilent/KeysightMetal slide adapter to accommodate pin stubs on reflected light microscopesFor labs with multiple SEM platforms or for those who are regularly using diferent brands of SEMs, we offer theEM-Tec universal SEM stub adapter set. This universal SEM stub adapter set includes pin stub adapters, JEOL stub adapters (up to 25mm) and Hitachi stub adapters, all both ways. If you can' t find the SEM stub or mount adapter you are looking for, please contact us. We might be able to offer a different solution or can manufacture custom SEM stub adapters.Product #TypeBase isTop acceptsDimensionsEM-Tec stub adapters based on standard pin stubs for FEI, Philips, Tescan, Phenom, Aspex, Cambridge Instr.11-000109PR4?3.2 x 9.5mm pinHitachi M4 thread?9 x 15mm11-000119PT4?3.2 x 9.5mm pinHitachi M4 thread?4 x 13.5mm11-000205PS4?3.2 x 9.5mm pinCambridge S4 stub?30 x 19.5mm11-000210PH10?3.2 x 9.5mm pin?3.2x9.5mm pin?12.7 x 22.7mm11-000216PJ12?3.2 x 9.5mm pin?9.5/ ?12.2 mm JEOL stub?25 x 19.5mm11-000227PJ25?3.2 x 9.5mm pin?25mm JEOL stub?34 x 19.5mm11-000232PJ32?3.2 x 9.5mm pin?32mm JEOL stub?40 x 19.5mm11-000251PJ50?3.2 x 9.5mm pin?50mm JEOL stub?59 x 19.5mmEM-Tec stub adapters for Zeiss/LEO with short pin11-000106ZR4?3.2 x 6mm pinHitachi M4 thread?9 x 11.5mm11-000116Z4?3.2 x 6mm pinHitachi M4 thread?4 x 10mm11-000126ZJ12?3.2 x 6mm pin?9.5/ ?12.2 mm JEOL stub?25 x 16mm11-000127ZJ25?3.2 x 6mm pin?25mm JEOL stub?34 x 16mm11-000128ZJ32?3.2 x 6mm pin?32mm JEOL stub?40 x 16mm11-000129ZJ50?3.2 x 6mm pin?50mm JEOL stub?59 x 16mmEM-Tec stub adapters for JEOL and JEOL Neoscope11-000503J10P?9.5 x 9.5mm?3.2x9.5mm pin?9.5 x 9.5mm11-000513J12P?12.2 x 10mm?3.2x9.5mm pin?12.2 x 10mm11-000523J25P?25 x 10mm?3.2x9.5mm pin?25 x 10mm11-000504J10H?9.5 x 9.5mmHitachi M4 thread?9.5 x 13.5mm11-000514J12H?12.2 x 10mmHitachi M4 thread?12.2 x 14mm11-000524J25H?25 x 10mmHitachi M4 thread?25 x 14mmEM-Tec stub adapters for Hitachi SEMs and table top SEMs11-000304H15PHitachi M4 thread?3.2x9.5mm pin?15 x 15mm11-000305HS4Hitachi M4 threadCambridge S4 stub?30 x 10mm11-000310HJ10Hitachi M4 thread?9.5mm JEOL stub?15 x 10mm11-000311HJ11Hitachi M4 thread?12.2mm JEOL stub?15 x 10mm11-000316HJ12Hitachi M4 thread?15mm JEOL stub?25x 10mm11-000326HJ25Hitachi M4 thread?25mm JEOL stub?34 x 10mm11-000332HJ32Hitachi M4 thread?32mm JEOL stub?40 x 10mm11-000351HJ50Hitachi M4 thread?50mm JEOL stub?59 x 10mm11-000309H10Hitachi M4 threadHitachi M4 thread?15 x 14mm11-000321HS12Hitachi M4 threadHitachi M4 thread?20 x 16mm11-000322HS18Hitachi M4 threadHitachi M4 thread?20 x 22mm11-000323HS25Hitachi M4 threadHitachi M4 thread?20 x 29mmEM-Tec stub adapter for Keysight/Agilent/Novelex 8500 and AmRay11-000120KR4?3.2 x 20mm pinHitachi M4 thread?30 x 19.5EM-Tec stub adapter for ISI/ABT/Topcon11-000604I15H?15 x 10mm stubHitachi M4 thread?15 x 14mmEM-Tec stub adapter for reflected light microscopes11-000675M31P76.2x25.4mm?3.2x9.5mm pin76.2 x 25.4 x 11.2mm

北京龙天韬略科技公司备有覆盖国内外所有品牌原子吸收光谱仪用各型号石墨原子化器（石墨管、石墨锥），具有灵敏度高、使用寿命长、性价比高的特点。专业提供国产原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度计AAS各型号石墨管，仪器品牌如下： 北分瑞利石墨管、普析通用石墨管、东西电子石墨管、瀚时制作所石墨管、北京华洋石墨管、科创海光石墨管、博晖创新石墨管、北京纳克石墨管、北京美诚石墨管、北京瑞昌石墨管、上海天美石墨管、上海精科（上分厂）石墨管、上海光谱石墨管、浙江福立石墨管、江苏天瑞石墨管、安徽皖仪石墨管、武汉天虹石墨管、辽宁分析石墨管、沈阳华光石墨管、等国内原子吸收光谱仪用石墨管。 专业提供进口原子吸收光谱仪AAS/原子吸收分光光度计AAS各型号石墨管，仪器品牌如下： 瓦里安Varian石墨管、安捷伦Agilent石墨管、日立Hitachi石墨管、热电Thermo石墨管、岛津Shimadzu石墨管、珀金埃尔默PerkinElmer石墨管、加拿大欧罗拉Aurora、德国耶拿Analytik Jena石墨管, 澳大利亚GBC石墨管、美国惠普HP石墨管、日本分光Jasco石墨管等的原装进口石墨管。 价格优惠，欢迎来电咨询！

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秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

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公司石墨管产品按照不同的分类，可分为横向加热石墨管、纵向加热石墨管；普通石墨管、热解石墨管；标准石墨管、涂层石墨管；长寿命石墨管、直筒石墨管、平台石墨管、凹台石墨管、杯型石墨管。产品完全配套于国内外各型号原子吸收光谱仪石墨原子化器，产品除供给国内各大仪器厂家配套的产品外，还向销往世界各地。北京龙天韬略科技有限公司,是致力于发展分析测试仪器配件事业的高新科技企业实体，是集研发、生产、销售、服务于一体的分析仪器配件耗材专业厂家。公司拥有专业人才队伍、精湛的制作工艺技术和先进的生产设备，经过长期的不断创新，积累了丰富的生产制作经验，强化了质量检测手段，配备了可靠的检测仪器，建立了完善的技术研发体系、材料采购体系、生产制作体系、质量检测体系、售后服务体系，充分保证产品质量，产品各项性能指标达到了同行业先进水平。石墨炉原子吸收光谱法是目前测定多种物料中痕量及超痕量无机成分的有效手段，已广泛用于国民经济中相关行业。石墨原子化器是将样品中的离子或分子变成待测元素基态原子的核心部件，其质量直接关系到原子化效率，关系到定量分析的准确度，积多年实验研究成果，为获得优良的特定的耐抗性和热特性而采用特殊的高品质石墨基础材料经过特殊工艺研制而成的LT系列石墨原子化器，具有灵敏度高、精度好、重现性好、使用寿命长、性价比高的特点，其各项测试性能指标均能达到国内外水平。

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微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。编号名称MSUP基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。