微纳制作平台

DSR300系列微纳器件光谱响应度测试系统是一款专用于低微材料光电测试的系统。其功能全面，提供多种重要参数测试。系统集成高精度光谱扫描，光电流扫描以及光响应速率测试。40μm探测光斑，实现百微米级探测器的*对光谱祥响应度测量。超高稳定性光源支持长时间的连续测试，丰富的光源选择以及多层光学光路设计可扩展多路光源，例如超连续白光激光器，皮秒脉冲激光器，半导体激光器，卤素灯，氙灯等，满足不同探测器测试功能的要求。是微纳器件研究的优选。 功能：? 光谱响应度? 外量子效率? 单色光/变功率IV；? 不同辐照度IT曲线（分辨率200ms）? 不同偏压下的IT曲线? LBIC，Mapping? 线性度测试? 响应速率测试 微纳器件光谱响应度测试系统主要技术参数显微镜头标配：10倍超长工作距离物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：350-800nm选配：1，50倍超长工作距离消色差物镜，工作距离大于17mmNA值：0.42光谱范围：480-1800nm 2，15倍紫外物镜，工作距离大于8.5mmNA值：0.32光谱范围：250-700nm 3，50倍超长工作距离紫外物镜，工作距离大于12mmNA值：0.42光谱范围：240-500nm 4，40倍反射式长工作距离工作距离大于7.8mmNA值：0.5光谱范围：200nm-20um光斑中心空心光源选配光源1、半导体激光器波长：405nm，532nm，633nm，808nm，980nm可选不稳定性：＜1% 2、皮秒脉冲激光器波长：375nm，405nm，488nm，785nm，976nm可选脉宽：100ps频率：1-20M Hz 3、氙灯光源光谱范围：250nm-1800nm不稳定性：＜1% 4、超连续白光激光光源光谱范围：400-2400nm频率：0.01MHz-200MHz脉宽：100ps光谱仪焦距：300mm；相对孔径：f/3.9；光学结构：C-T；光谱仪分辨率：0.1nm；倒线色散：2.7nm；波长准确度：±0.2nm波长重复性：±0.1nm扫描步距：0.005nm狭缝规格：圆孔抽拉式固定狭缝，孔径：0.2mm,0.5mm,1mm,1.5mm,2mm,2.5mm,3mm；三光栅塔台；光栅配置：1-120-300、1-060-500、1-030-1250，光栅尺寸：68×68mm6档自动滤光片轮，光谱范围200-2000nm；内置电动机械快门，软件控制快门开关；杂散光抑制比：10-5探针台配置4个探针座，配20/10微米针尖探针2米三同轴电缆，漏电流小于1pA。真空吸附样品台。探针座：ＸＹＺ方向12ｍｍ调节行程，0.75uｍ调节分辨率，0-30°调节探针角度。LBIC MaappingXY方向行程50mm，分辨率5um。数釆v 锁相放大器斩波频率：20Hz~1KHz；频率6位显示，2.4英寸屏，320×240液晶显示；电压输入模式：单端输入或差分输入；电压、电流两种输入模式； 满量程灵敏度：1nV至1V；电流输入增益：106或108V/A；动态储备：＞100dB；时间常数范围：10μs至3ks； v keithley2612B量程：100nA/1A最小信号：1nA本地噪音：100pa分辨率：100fa通道数：2 v keithley2636B量程：1nA/1A最小信号：10pA本地噪音：1pa分辨率：10fa通道数：2制冷样品台温度范围：-196℃-600℃，（-196℃需要选择专用冷却系统）全程温度精度/温度性：0.1℃/＜0.01℃光孔直径：2.4mm样品区域面积：直径22mm两个样品探针，1个LEMO接头（可增加至1探针）工作距离：4.5-12.5mm气密样品腔室，可充入保护性气体独立温度控制响应速率测试示波器型号：MDO32模拟带宽100MHz采样率5GS/s记录长度10M时间范围：uS-S，需要配合调制激光器使用时间范围：10nS-S,需要配合皮秒脉冲激光器使用 三维可调高稳定探针台结构，方便样品位置调节。内置三路半导体激光器或者两路光纤激光器，外置一路激光光路。可以引入可调单色光源，进行全光谱范围的光谱响应度测试。测试功能曲线：40um光斑@550nm@50倍物镜200um光纤 70um光斑@550nm@50倍物镜400um光纤5um光斑@375nm皮秒激光器@40倍物镜 紫外增强氙灯和EQ99光源的单色光能量曲线，使用40倍反射式物镜，300mm焦距光谱仪，光谱仪使用1200刻线300nm闪耀光栅，光斑直径大小80um。

nanoArch微纳3D打印机 P130 /S130产品详情nanoArch P130 微纳3D打印机nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。 科研级3D打印系统nanoArch P130是科研级3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。 NanoArch P130/S130系统性能性能参数nano Arch P130产品规格nano Arch S130产品规格光源：UV-LED(405nm)UV-LED(405nm)打印材料：光敏树脂光敏树脂光学精度：2μm2μmXY打印精度：2-10μm2-10μm打印层厚：5-20μm5-20μm打印样品尺寸：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)打印件格式：STLSTL系统外形尺寸：1720(L)x650(W)x1820(H)mm31720(L)x650(W)x1820(H)mm3重量：450kg450kg电气要求：200-240V,AC,50/60HZ,3KW200-240V,AC,50/60HZ,3KW注：样品高度典型2mm,最高10mm打印材料： 。通用型：丙烯酸类光敏树脂，如HDDA，PEGDA等 。个生化：高强度硬性树脂，纳米颗粒掺杂树脂，生物医用树脂等。系统特性： 。高精度：XY打印精度高达2μm； 。低层厚：5μm-20μm的打印层厚； 。微尺度打印能力； 。光学监控系统，自动对焦功能； 。配置气浮平台，提高打印质量； 。优良的光源稳定性； 。配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化。

中图仪器CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。工作过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。结构主要组成部分1、测量系统（1）单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。（2）线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。（3）传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台（1）精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台，可以对样品的位置以及角度进行调节，三维位置均可以调节，利于样品调整。（2）超高直线度导轨，有效避免运动中的细微抖动，提高扫描精度，真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机，即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上，使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响，使实验数据更加准确。CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；

CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用台阶仪在太阳能光伏行业的应用台阶仪利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺， Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：光学验证防伪的衍射结构，衍射光学元件，增强光伏器件光电转换率的微纳米结构，增强LEDs光电性能的微纳米结构，光波管，光导纤维，微流控器件，超亲水或超疏水功能层表面，促进或阻止细胞生长的表面结构，等离子体超材料结构，生物化学微阵列，光固化树脂材料性能测试验证，用于NIL蚀刻掩膜版图案制作。 应用领域：应用实例：SEM微纳结构照片：

公司研发生产的ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统是一种采用纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统，主要特点如下： 1、采用陈邦林教授纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。表1 ZYWNP通用型微纳米气泡发生系统型号及规格型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-2-0.372200.3751.0ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7

复杂三维微纳结构在微纳机电系统、生物医疗、组织工程、新材料、新能源、高清显示、微流控器件、微纳光学器件、微纳传感器、微纳电子、生物芯片、光电子和印刷电子等领域有着巨大的产业需求，然而现有的各种微纳制造技术无论从技术层面还是在生产率、成本、材料等方面还难以满足高效、低成本批量化复杂三维微纳结构的制造需求。现有的诸如光学光刻、电子束光刻、干涉光刻、激光微细加工、软光刻、纳米压印等微纳制造技术主要实现2D或者2.5D微纳结构(简单几何图形)制造，难以实现复杂真三维微纳结构的制造。而且现有的这些微纳制造方法还面临设备和掩模(或者模具)昂贵、制造成本高、周期长、可用材料少等问题。织雀系列3D光刻打印设备是托托科技自主研发生产的一款微纳3D打印设备，微纳加工设备。可进行高精度，高分辨率的微立体光刻作业。织雀系列微纳3D打印设备的光学精度可达1 μm，高性能无铁芯直线驱动电机保证了 极 佳 的对准套印精度并且可提供 100mm×100mm×40mm的大幅面立体结构拼接尺寸，而基于空间光调制器（DMD/DLP）的微立体光刻技术，在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势，此外还具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料种类多、无需掩模或模具直接成型的优点。【产品亮点】1. 高精度影响精度的三大要素是：运动部件精度、光学系统精度、以及材料精度。与此同时，光刻机被公认为具有极限精密加工能力的设备。织雀 系列产品采用光刻级运动平台、光刻级光学系统以及光刻级感光材料，将光刻的技术与3D增材制造紧密融合，将3D光刻的精度推向微米级别。2. 快速度3D光刻的速度主要取决于单个切片光刻所需的速度与切片层数。采用高亮度LED光源，甚至是高亮度激光光源，结合高品质的光学系统，单层切片光刻速度得以达到领 先水平。在PL-3D Ultra产品中，使用了扫描式光刻技术，将曝光效率进一步提升一个数量级，做到了名副其实的ULTRA Speed。3. 一键之间，权衡精度与速度的需求在基于空间光调制器的3D光刻设备中，受限于数百万的控制单元数量，精度与速度之间需要权衡取舍。织雀 系列产品采用可自动切换的光学系统，一键实现高速与高精度的模式切换。同一台设备，可实现1 μm, 2 μm, 5 μm, 10 μm, 20 μm 的多种加工精度。4. 产品覆盖应对不同的精度需求、不同的产能需求、不同的材料体系需求、以及不同的加工尺寸需求，织雀 系列产品覆盖了客户的各种需求，总有一款适合您。如有尚未覆盖的特殊需求，请联系我们。5. 来自原厂的全面支持“支持我们的客户，赋能我们的客户，与我们的客户共同成长”是我们不变的追求。无论是新设备的开发，还是新材料的工艺参数优化，亦或者是新应用的探索，我们的强大的技术团队将提供优质的服务。

公司研发生产的ZYWNP系列微纳米气泡发生器，采用我公司纳微米气液界面技术、通过机械分散与压力溶气相结合的原理、能在瞬时大量制造直经在微米以下的超微气泡的设备。该设备可以广泛应用于土壤修复、河道治理、种植业、养殖业、纳米材料、油田等领域。 按照国际标准化组织(ISO)的定义，微泡(Fine Bubble)就是液体中直径小于100微米的气泡，其中直径小于1微米的又称为超微气泡(Ultrafine Bubble)。近几年，微泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微泡技术在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用和迅速发展。 微泡发生装置是微泡技术得以应用和发展的基础，但目前微泡发生装置的研发和生产仍是该领域的薄弱环节。早期的微泡发生器主要是将大气泡用各种材料如微孔介质分割成微小气泡，随后研究出了基于其它原理的发泡器，如电解式微泡发生器利用电解水产生气泡的原理生成微泡。随着流体动力学的发展，逐渐出现了以相关流体特性为基础的微泡发生器，如旋流型微泡发生器、自吸式微泡发生器等。上述现有的微泡发生器不仅容易产生污染公害，而且发生的微泡直径多在10~60微米以上，大大降低了微泡在诸多领域中的优异功能，严重制约了微泡技术的发现。 针对现有技术的缺陷， JZYWNP系列微纳米气泡发生器，主要特点如下： 1、采用纳微米气液界面技术，通过机械分散与压力溶气相结合的原理，瞬时大量制造直经小于1微米的超微气泡； 2、用物理方式产生气泡，全部过程无污染排放、不产生公害； 3、上述设备应用于水性体系时，纳微米气液分散水体中的纳微米气泡密度约为10的7次方～10的9次方个/mL，水体中气泡直径为50～600nm，气泡直径分布的峰值区域为150nm±30nm，纳微米气液界面zeta电位为-30～-40mV以上； 4、上述纳微米气液分散混合水体内溶存有溶解态及分散态氧，混合水体中总氧含量比混合前增加30%以上。型号电源（V）功率（KW）平均流量（m3/h）ZYWNP-L-S01M2200.250.2ZYWNP-2-0.752200.751.4ZYWNP-3-0.753800.751.4ZYWNP-3-1.53801.53ZYWNP-3-2.23802.255.7

一维纳米定位台，为一维×向运动压电平台，可进行10~200um范围内的纳米级位置调整。产品特性：◆ 高速响应；◆ 压电陶瓷驱动；◆ 重复定位精度高；◆ 纳米级位移分辨率；◆ 机体材料分铝合金和钛合金；◆ 具有开环和闭环两种；◆ 采用数控、线切割等加工工艺。严格保证结构精度；◆ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构；◆ 采用表面处理工艺，提高了适应工作环境的能力。

超快激光微纳加工平台：LS-LAB— 高集成度、高灵活性、简单易用的微纳加工平台LS-LAB：像其他高端的微纳加工设备一样，LS-Lab这台小型实验室设备，搭配LASEA的光束管理模块，可以实现高精度激光微纳加工。配备纳米定位平台和安全管理柜，LS-Lab是OEM模块和现成的激光微纳加工设备之间的连接。设计用于切割、钻孔(零锥角)、纹理、打标、雕刻或薄膜移除等应用，LS-Lab是对所选光学配置预先安装并校准的系统，可以紧挨着激光器放在光绪桌上。无需其他任何额外装置即可完成微加工应用。不但是集成的微纳加工设备，LS-Lab更具灵活性。即使搭配您自己选择的激光器，LS-Lab也可保证快速实现高品质微加工应用。LS-Lab是Class 4级别激光系统，因此需要防护眼镜及其他适当的防护装置，以确保安全。LS-Lab配备安全开关和传感器指示灯，以显示实际是开还是关，因此可以很容易的集成到Class 1级别的环境。主要特点：- 尺寸小(600×600mm)- 10个高品质光束转折器- 平台分辨率500nm- 平台行程160×160×300mm- 安全控制器- 易于集成- 可搭配LASEA光束管理模块：主要规格可点击图片放大* 另有订制方案，可根据客户需求提供高性价比方案。聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚 嵘 科 技 股 份 有 限 公 司聚擘国际贸易 (上海) 有限公司／聚嵘科技股份有限公司，专业从事半导体封装及测试、LED封装测试、太阳能、SMT、飞秒/皮秒/纳秒激光等定制设备/子系统的开发、销售及售后服务。公司总部位于上海，在深圳、北京、西安设有办事处。公司在台北市设有专业的飞秒精密微纳加工实验室 — FemtoFocus，合作伙伴有法国Amplitude公司 、 比利时NextScan Technology公司 、 法国ALPhANOV光学与激光技术中心、比利时LASEA公司、法国NOVAE公司、德国Pulsar Photonics公司。实验室拥有专业的前沿激光微纳加工应用开发及技术支持团队，提供超短脉冲 (小于500fs) 和极短脉冲 (小于100fs) 激光技术相关测试及高速加工 (多光点、转镜) 等高度可扩充的高弹性集成方案。聚擘国际贸易 (上海) 有限公司聚嵘科技股份有限公司| 电子 | 半导体 | 飞秒激光 | 微加工 | 科研 |

微纳力学、机械性能测试，微纳操纵系统瑞士FemtoTools微纳力学性质测试及操纵系统。FemtoTools是一家专业制造微纳机械测试及操纵的瑞士高科技企业。其产品可以在光学显微镜、探针台或者电镜环境下，结合其独有的微纳力学传感探针或微纳力学传感钳夹对于样品进行力学性质测试或微纳尺度的操纵。可以做微力学（5nN-10mN）测量，并且可以得到5nm分辨率的位移反馈。可以拾取操纵0-100μm的物体，还能测得频率（1Hz-8KHz)的频率测试。对于样品以及实验过程，可以做到全程、不同角度可视化（可选配0-180°可旋转显微镜，分辨率达3μm，并有高倍率CDD）。FemtoTools的研发团队依托于瑞士联邦理工学院-机器人与智能系统研究所（ETH-IRIS）Bradley Nelson教授课题组，其产品及技术推出至今已经获得包括，瑞士技术创新大奖（ Swiss Technology Award），国际机器人与自动化大会颁发的学术贡献奖（ICRA）等诸多奖项。

光固化微纳3D打印：探索微观世界的新纪元近年来，微纳3D打印技术在学术和产业界引起了极大的关注和兴趣。微纳3D打印是一种高精度、高分辨率的三维打印技术，可以制造微米到毫米级别的复杂结构。微纳尺度的结构和器件在材料科学、生物医学、光学和电子领域具有广泛的应用前景。而光固化微纳3D打印作为一项领先的制造技术，正在引领着微纳尺度制造的新纪元。 什么是光固化微纳3D打印？光固化微纳3D打印是一种基于光固化原理的3D打印技术，通过逐层固化光敏材料来构建微纳尺度的结构。它利用光源（如激光或紫外光）照射在光敏材料上，使其固化成为固体。通过重复这个层层固化的过程，逐渐形成复杂的微纳结构。光固化微纳3D打印具有许多独特的优势和特点，使其成为微纳尺度制造的理想选择：高精度投影光刻装置及光刻的180nm 特征结构[1]高分辨率：光固化微纳3D打印能够实现高分辨率的制造，可以制作出微米和纳米级别的细节和结构。多材料打印：光固化微纳3D打印可以使用多种不同的光敏材料，包括聚合物、陶瓷和金属等，使得制造的器件具备多样化的功能。设计自由度：光固化微纳3D打印具有较高的设计自由度，可以制造出复杂形状和结构的微纳器件，满足不同应用的需求。精确控制：光固化微纳3D打印过程中，可以通过精确控制光源的位置和能量，实现对结构形态的精确控制。总体而言，光固化微纳3D打印技术具有高精度、快速原型制作、材料多样性、自由形状设计和可集成性等特点。这些优势使得它成为制造微纳器件和微纳结构的重要工具，在科研、工业生产和医学领域有广泛的应用前景[2]。 织雀3D打印设备3D打印样品在各领域的应用场景图光固化微纳3D打印技术在许多领域中都有着广泛的应用：微流体器件：通过光固化微纳3D打印，可以制造出微流体通道、微阀门和微反应器等微纳尺度的流体控制器件，用于生物医学、化学分析和实验室研究等领域。光学元件：光固化微纳3D打印可以制造出微纳尺度的光学元件，如光波导器件、微透镜和光学天线等，用于光通信、光学传感和光子学研究等领域。微电子器件：利用光固化微纳3D打印，可以制造出微纳尺度的电子器件，如微电极、传感器和柔性电子元件等，用于电子技术、传感器应用和柔性电子学等领域。生物医学应用：光固化微纳3D打印在生物医学领域有着广泛的应用，可以制造出微纳尺度的组织工程支架、微流体芯片和仿生器官等，用于组织工程、药物传递和疾病诊断等方面。作为光固化微纳3D打印技术的领先者，托托科技推出的织雀系列3D打印设备具有许多独特的优势和潜力：超高精度：织雀系列3D打印设备具备卓越的光学精度，可以实现高分辨率的微纳结构制造，达到1微米级别的精度。多材料打印：织雀系列3D打印设备支持多种不同的光敏材料，满足不同应用的需求，包括光敏聚合物、陶瓷和其他功能复合材料等。对准套印功能：织雀系列3D打印设备独有的对准套印功能，可以在已有结构的样品表面进行二次套准打印，实现多材料驳接和复杂结构的制造。广泛应用：织雀系列3D打印设备在微纳3D打印领域具有广泛的应用前景，可应用于微流体器件、光学元件、微电子器件和生物医学等领域。总体而言，托托科技的织雀系列3D打印设备在微纳3D打印领域具有重要的作用和意义。其特色功能对准套印为微纳器件的制造提供了更高的灵活性和设计自由度，推动了学术研究的创新和产业应用的发展。这将对微纳技术的前沿研究、产品设计和工业生产产生深远的影响，并为相关领域带来新的机遇和突破。参考文献：[1] Kang M , Han C , Jeon H . Submicron-scale pattern generation via maskless digital photolithography[J]. Optica, 2020, 7(12).[2]兰红波, 李涤尘, 卢秉恒. 微纳尺度3D打印[J]. 中国科学：技术科学, 2015(9):22.

CERES微纳金属3D打印系统CERES微纳金属3D打印系统是利用中空AFM探针配合微流控制技术在准原子力显微镜平台上将带有金属离子的液体分配到针尖附近，再利用电化学方法将金属离子还原成金属像素体，通过位移台和针尖在空间方向的移动获得目标3D结构，我们称之为μAM(Additive Manufacturing)技术(源自于FluidFM技术)。 FluidFM 微3D 打印机特点：直接打印亚微米3D金属结构可在现有结构上准确打印3D结构电化学沉积金属和合金材料打印90°悬臂结构无需支撑结构飞升/秒剂量精度，多种液体3D打印速度高达4 μm/s室温打印高纯度金属无须后处理应用领域微纳3D打印直接打印复杂3D金属结构，结构精度可达亚微米级纳米光刻通过准确控制剂量和扫描速度获得复杂纳米尺度结构表面修饰可将超精细结构直接打印在目标区域，达到对材料表面修饰的目的 材料种类可打印Cu、Ag、Cu、Pt。另有30多种金属材料备选除了3D打印功能外，这套系统还可以帮助我们实现纳米光刻、在已有结构上打印其他结构、表面修饰、飞升量级溶液局部分配、纳米颗粒（＜200nm）表面分散、实现电接枝技术等…… 两年来，我们利用CERES（微纳金属3D打印系统）为前沿科技领域提供了新的解决方案 --- 基础物理研究、微纳米加工、 MEMS、仿生、表面等离子激元、微纳结构机械性能研究、太赫兹芯片、微电路修复、微散热结构、生物学、微米高频天线、微针…… 如果您有好的应用，但却受现有的加工技术局限，欢迎您与我们沟通讨论！

总览微纳光纤传感器具有体积小巧、结构灵活、强瞬逝场等特点，基于周围液体折射率的测量， 能够实现对微弱生化成分变化的检测。已报道的微纳光纤折射率传感器包括光栅型、谐振型等。我们通过结构设计与优化，实现了几种干涉型微纳光纤折射率传感器，具有折射率灵敏度高、温度灵敏度低，制作成本低等优点，干涉型微纳光纤传感器方面的研究进展，包括高双折射微纳光纤环形传感器、级联长周期光栅传感器及基于单锥结构的微纳光纤干涉型传感器。通过对干涉仪几何结构的设计与优化，实现了 104 nm/RIU 量级的折射率感测灵敏度，为研制成本低廉、高灵敏度的光学生物化学传感器提供了可选方案。干涉型单模微纳光纤传感器,干涉型单模微纳光纤传感器产品特点● 很强的干涉特性● 亚波长结构● 单模多模可选产品应用● 微纳光纤● 微纳光纤传感器● 干涉型传感器技术参数图 1 ：基于高双折射微纳光纤环镜结构的传感器原理图及实物图。 图2：基于级联微纳光纤长周期光栅的干涉型传感器原理图及实物图。规格参数单位数值工作波长nm1270-2000nm双锥形光纤腰椎直径nm800锥形光纤腰椎宽度mm2锥形区域长度mm15 (Typ. 20)附加损耗dB≤7dB包层直径um125光纤类型SMF-28E/PM1550连接头类型FC/APC OR FC/PC备注：1. 所有的测试结果并不包含接头 2. 更好的参数或者其他需求我们可以接受定制测试光谱400nm1um3um型号及订购NANOFIBER-☆-△-XX☆: 腰椎直径400: 400nm1000: 1um△: Loose TubeB :Bare Fiber9: 900um Loose Tube20: 2mm Loose Tube30: 2mm Loose TubeXX: Fiber and Connector TypeSA=SMF-28E+ FC/APCSP=SMF-28E+ FC/PCPA=PM Fiber+ FC/APCPP=PM Fiber+ FC/PC

T150 UTM微纳拉伸试验机T150 UTM 微纳拉伸试验机可以测量对应变速率敏感的材料的时变响应。它采用电磁作动器产生拉力（样品上的载荷），并采用高精度的电容传感器测量位移，从而在大范围的应变下确保高灵敏度。T150 UTM还可提供动态测量模式，用以研究生物材料的拉伸/压缩特性，该模式在拉伸/压缩过程中的每个状态均可实现样品刚度等的精确测量。产品描述T150 UTM 微纳拉伸试验机使用电磁力作动器为加载单元，可在很大的样品应变范围内保持高灵敏度。连续动态分析 (CDA) 选项可在测试过程中实时对样品刚度进行直接、精确的测量，从而连续测定样品在每个应变状态下的力学性能。CDA还支持测定样品不同频率下的复模量（储存模量、损耗模量等）。T150 UTM 微纳拉伸试验机的应用包括：测定软质纤维和生物材料的屈服强度，纤维和生物材料的动态研究，以及聚合物的拉伸和压缩测试 产品特色电磁力作动器，在很大的样品应变范围内保持高灵敏度动态测量模式，测量样品力学性能随应变状态的变化灵活、可升级、可配置的仪器系统，适配各种应用易于进行测试协议开发，用于实时测试控制符合 ASTM 标准 产品应用单根聚合物、金属、复合材料或陶瓷超细纤维电纺聚合物纳米纤维聚合物薄膜生物材料（例如蜘蛛丝、软组织支架）纺织品MEMS：微机电系统 适用行业大学、科研实验室和研究所MEMS：微机电系统纤维和纺织品聚合物薄膜生物医学医疗器械更多内容：请联系我们并告知我们您的需求主要应用单根聚合物、金属或陶瓷超细纤维纤维的拉伸强度和弹性模量是其在大多数应用中的重要参数。但是传统的材料试验机难以准确测量单根超细纤维的力学性能，因为测试此类样品所需的力很小。T150 UTM 微纳拉伸试验机能够准确测量很小的载荷变化，且适配样品很大的应变范围。其同时配备载荷分辨率极佳的作动器和位移分辨率极佳的移动机构，因此可以准确测量微纳米纤维的准静态应力-应变行为。电纺纳米纤维静电纺丝制备的纤维直径从几百纳米到几微米不等。T150 UTM 的独特设计能够同时满足对极低载荷和极小位移的精确测量，从而实现超细纤维的拉伸性能表征。聚合物薄膜/MEMS聚合物薄膜是通用的包装材料，且其现在越来越多地用于生物科学和半导体封装。T150 UTM 可用于测量聚合物薄膜的临界断裂能。蜘蛛丝在力学和材料测试领域，生物材料的纳米级表征仍颇具难度。此类研究的一个例子是蜘蛛丝的力学性能表征。蜘蛛丝具有惊人的强度重量比，因此受到从医疗到军事等许多领域的关注。蜘蛛丝相关研究面临诸多挑战，其中包括：蛛丝纤维的直径小且难于测量，样品难以收集和夹持，难以在较大应变范围内获得准确的准静态测试结果，难以测量样品的各类动态特性。T150 UTM 完全适用于测量小直径单根纤维的强度，其中即包括蜘蛛丝纤维。纺织品T150 UTM 针对极细纤维的拉伸变形行为测试进行了专门设计。基于高分辨率的载荷与位移作动器，T150 UTM的连续动态分析（CDA）专利技术模块能够在拉伸试验过程中，连续测量材料的储存模量和损耗模量。CDA模块能够表征材料变形过程中内部固有结构的变化，这对于聚合物材料尤其重要。

微纳光学元器件外协加工|衍射光学元件|衍射光栅|超透镜|微透镜阵列 微纳光学元件是指面形精度可达亚微米级,表面粗糙度可达纳米级的自由光学曲面及微结构光学元件。由于其具有体积小、重量轻、设计灵活、易阵列化和可批量复制等优点,使其可完成传统光学元件无法实现的新功能,并可构成许多新型的光学系统。目前微光学元件阵列己经成功地应用于现代光学的各个领域,在军事上以及航空航天方面均具有非常重要的应用前景,因而微纳光学元件的制备也成为了表面微加工领域重要的热点研究方向。　　实验室平台拥有设备等共计200余台，其中主要设备（40余台）包括：　　图形化设备　　电子束曝光、激光直写、台式接触式光刻机、桌面式光刻机等　　薄膜沉积设备　　ICP-PECVD、LPCVD、磁控溅射、电子束蒸发镀膜、PE-ALD、DLC薄膜沉积等、电镀 （Au、Ag、Cu、Ni、Sn等）　　刻蚀设备　　ICP—RIE、RIE、IBE、DRIE深硅刻蚀、XeF2表硅刻蚀机、HF气相刻蚀等干法刻蚀设备和满足体硅、介质膜、金属氧化物、金属等的湿法刻蚀设备以及相配套的二氧化碳超临界释放设备　　表征和测试设备　　AFM、台阶仪、Raman光谱、SEM、FIB、共聚焦显微镜、白光干涉仪、红外热成像仪、FEMTO—TOOLS微纳力学测试仪、超高速相机、3D多普勒激光测振仪、DC／RF探针台（60GHZ）、网络分析仪（60GHz）、半导体分析仪、阻抗分析仪以及高精度电学原表等　　器件后道封装设备　　晶圆减薄、CMP抛光、晶圆键合、贴片机、划片机、打线机、固晶机、激光焊接机等团队自主研发的加工设备，封测设备。　　平台技术能力　　工艺整合及平台能力　　—导电DLC膜层（超滑副，导电超硬膜层等）　　—AIN／PZT薄膜工艺（压电驱动材料）　　—大尺寸高定向碳材料生长和器件加工工艺　　—键合：阳键合、玻璃焊料键合、共晶键合（AIGe）、扩散键合工艺　　—气氛或真空封装、Reseal　　—研磨减薄和原子抛光工艺　　—硅基全湿法微纳加工工艺—柔性衬底微纳器件加工　　制造与封测能力　　—硅通孔（TSV）玻璃通孔（TGV）　　—压力／气体／红外／湿度传感器　　—微流控芯片加工和相关测试　　一超滑射频／惯性器件加工能力　　—Die的全封装能力应用类别设备名称设备型号工艺参数镀膜低压力化学气相沉积(LPCVD)HORIS L6471-1可沉积SIN，TEOS，poly等薄膜 1-50片/炉热氧化炉管热氧化退火快速退火炉RTPAnnealsys AS-One 150高温度到1500℃, 升温速率大200℃/sFIB加工聚焦离子束 FIBThermo Fisher Scios 2 HiVacTEM样品制备SEM形貌观测场发射环境扫描电镜ESEMThermo Fisher Quattro SSEM能谱分析电子束蒸发镀膜-金属电子束蒸发FU-20PEB-950蒸镀金属薄膜、可做lift-off工艺镀膜、8寸基片向下兼容电子束蒸发镀膜-介质电子束蒸发FU-12PEB蒸镀介质薄膜一炉可镀10片四寸基片磁控溅射镀膜-金属磁控溅射系统FSE-BSLS-RD-6inch溅射金属薄膜、6寸基片原子层沉积等离子体增强原子层沉积系统ICPALD-S200当以Al2O3为主DLC镀膜类金刚石薄膜化学沉积系统CNT-DLC-CL200干法刻蚀干法刻蚀机北方华创硅Bosch和超低温刻蚀、SiO2与石英深刻蚀，8英以下IBE刻蚀离子束刻蚀系统(IBE)AE4三维结构材料刻蚀，刻蚀陡直度优于85度，刻蚀精度10nm等离子体去胶微波等离子体去胶机Alpha Plasma紫外光刻紫外光刻机SUSS MA6BA6GEN4对准精度：±0.5um，分辨率600nm电镀电镀机WPS-200MT镀Cu、镀Au、镀镍/镍合金临界干燥超临界点干燥仪Automegasamdri-915B划片切割机划片机Disco D323晶圆键合晶圆键合机SUSS MicroTec SB6Gen2阳键合AFM测试高分辨原子力显微镜Oxford Cypher ES原子力显微镜Park Systems NX20电子束光刻电子束光刻机Elionix ELS-F125G8不含匀胶等费用，材料费根据用胶类型另计　　我们提供快速MEMS器件 / 微纳米结构加工设计服务, 欢迎留言咨询。咨询电话：

EVG610单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG610是一款非常灵活的、适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理zui大200mm之内的各种规格的晶片。EVG610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。EVG610系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在几分钟之内完成，而不需要专门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。 二、应用范围EVG光刻机主要应用于半导体光电器件、功率器件、微波器件及微电子机械系统（MEMS）、硅片凸点、化合物半导体等领域，涵盖了微纳电子领域微米或亚微米级线条器件的图形光刻应用。 三、主要特点u 支持背面对准光刻和键合对准工艺u 自动的微米计控制曝光间距u 自动契型补偿系统u 优异的全局光强均匀度u 免维护单独气浮工作台u zui小化的占地面积u Windows图形化用户界面u 完善的多用户管理（用户权限、界面语言、菜单和工艺控制） 四、技术参数 衬底/晶片尺寸（mm）小片--200mm，150mm*150mm，0.1-10mm 厚度掩膜板zui大尺寸zui大9' *9' 亚科电子-设备咨询部：/欢迎您的来电咨询 ！

LS系列直线定位平台提供数十厘米的运动行程，定位分辨率优于1纳米。基于粘滑惯性驱动、交叉滚子导轨传动，使得该系列产品具有结构紧凑同时可提供高刚度和高导向精度。该系列定位平台掉电时可自锁且无能量损耗，使其可成为一劳永逸的应用的理想选择。此外，我们还提供可在高真空、超高真空和非磁性环境下工作的专用版本。LS-1730产品描述 LS-1730的尺寸为30 x 17 x 10mm，行程范围为21mm。概观运动行程[mm]21尺寸[mm]30 x 17 x 10重量[g]21力特性推力[N]2负载[N]10升力[N]1定位性能开环速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1闭环速度[mm/s]1闭环定位分辨率[nm]5选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供压电纳米定位台，纳米定位台，压电平移台，压电平台，大行程压电纳米定位平台，多轴纳米定位平台，压电控制器，纳米平台控制器，定位平台驱动器等精密定位产品。

中图仪器SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪基于白光干涉原理，以3D非接触方式，对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数。广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。产品功能(1)SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

星石科技致力于微纳米力学检测和设备服务，2017 年成立至今已与多个科研院所，知名企业以及高校进行过合作。 业界独家：可根据需求独立定制金刚石 进行微纳米力学测试服务。 目前的能力所及 ◆ 载荷-位移曲线，摩擦力、声信号 ◆ 可提供最小20微牛到最大200牛的载荷 ◆ 材料的弹性，弹塑性和粘塑性力学表征及梯度分析 ◆ 各式金刚石压头定制 可检测材料范围 ◆ 金属，陶瓷，高聚物，复合材料及接缝点 ◆ 大体积材料，涂层，多相材料，纤维 ◆ 颗粒，胶囊及其他微观结构 检测结果的用途 ◆ 项目研发 ◆ 质量管理 ◆ 失效分析 ◆ 科学研究 ◆ 有限元建模验证 常规测试 ◆ 硬度 ◆ 杨氏模量 ◆ 硬度及模量分布图 ◆ 断裂韧性 ◆ 蠕变和应力松弛 动态测试 ◆ 连续刚度测试 ◆ 冲击测试 ◆ 储存/损耗模量 特殊测试 ◆ 微柱压缩测试 ◆ 屈服应力/应变 ◆ 生物软材料测试 ◆ 高粘性表面测试 ◆ 纳米压痕+AFM成像 ◆ 颗粒强度测试 ◆ 薄膜抗穿刺测试 划痕与摩擦测试 ◆ 摩擦系数 ◆ 抗磨测试 ◆ 涂层结合力 ◆ 疲劳测试 ◆ 内聚力失效测试 1. 锂电池颗粒的压缩试验；（通过测试得到颗粒 收到载荷挤压之后的载荷和变形的关系， 来获得各种颗粒的强度） 2. 小尺度区域粘结剂的模量测试；（通过特殊针尖设计，来获得高分子粘结剂 um 尺度范 围内的存储、损坏模量等信息） 3. 极片截面的纳米力学测试（测试表面微米级别的模量的分布，反应涂布之后的均匀性）； 4. 隔离膜纳米力学分析 （通过特殊设计的结构来进行微观针刺试验，从微米和纳米尺度来 测试和评估隔离膜的耐刺穿能力） 5.薄膜及涂层的纳米力学测试（测试多层/复合结构的不同深度的硬度、模量） 样品示意图：样品尺寸要求：直径小于 30mm，高小于 20mm 特别注意： 1.制备试样时，尽量制作便于夹具夹住的试样形状，任何微小的移动是不允许的。 2. 压痕测试的时候压痕深度大于 20 Ra(表面粗糙度)

多肽合成微阵列点样工作站 多肽阵列制作点样应用复杂的实验，简单的仪器无法满足？定制高通量液体处理工作站，按照您的实验需求配套定制！ Aurora多肽微阵列点样仪简介 **生物微阵列喷印技术，为基因组、蛋白质组、药物筛选、靶标确认、表位定位、疫苗开发等基础科学研究领域提供革新性的研究技术。**基于自身液体处理平台，VERSA110多肽微阵列点样仪，可实现自动化纳升级到微升级的液体接触时印迹。可以高重复性地在玻片、膜、微孔板平台和其他适合基质表面建造微阵列。**为蛋白质组学、基因组学提供快速、高通量且相容性高的研究方法。欧罗拉生物科技有限公司始于1990年，是生命科学、环境科学、药物研发/安全和化学分析研究等实验室自动化方案设计与研发的全球性领 导者。我们提供的技术与服务可以在提高质量、准确度和精确度的同时提高样品处理量。产品包括：自动化液体处理工作站、原子吸收光谱仪、原子荧光光谱仪、离子通道筛选技术-离子通道阅读器和微波消解系统，它们可以在水质检测、学术研究、农业检测、分子检测、环境检测、食品安全、法医法证、公共卫生、畜牧兽医、药物开发等应用领域中提供高销量的样品处理。我们的总部设在加拿大，2007年，Aurora Biomed开设了其亚洲销售和服务中心，以促进向快速增长的亚洲市场的扩张。为了进一步扩大Aurora的市场范围，我们在全球80多个国家建立了积极的经销商网络，为客户提供销售和服务支持。自2003年起，Aurora是每年精密医疗和离子通道年会的主办方。会议旨在将业界和领 先的学术研究人员聚集在一起，分享知识、交流想法，并建立富有成效的合作伙伴关系。该会议每年在加拿大和中国之间轮流召开，吸引世界各地的顶 尖科学家就药物研发和个性化医学展开发人深省的讨论。它使Aurora和社会能够掌握尖 端技术和创新研究的脉搏。欧罗拉生物科技有限公司是生命科学、环境科学、药物研发/安全和化学分析研究等实验室自动化方案设计与研发的全球性厂家。我们提供的技术与服务可以在提高质量、准确度和精确度的同时提高样品处理量，我们致力于提高人类生活质量及环境的可持续性。欧罗拉致力于为各种研究领域的科学家提供自动化液体处理系统，包括：医药、生物技术、农业、食品科学和法医。VERSA系列作为液体处理系统，可以提高处理效率和数据质量，降低重复烦琐工作带来的不稳定性和减少试剂成本。 Aurora多肽微阵列点样仪应用领域 多肽微阵列应用领域：**癌症早期诊断**蛋白相互作用研究**蛋白修饰研究**疫苗与药物开发Aurora微阵列点样仪应用方向：**微定量喷点**基因芯片**细胞培养**研发或生产应用**基因表达，DNA筛查**多肽合成**细胞点样，药物筛选 Aurora多肽微阵列点样仪特点 可实现自动化纳升级到微升级的液体接触式印迹。高的密度高地在玻璃、纤维素膜、滤纸、微孔板以及其他特殊处理的载体矩阵上，建立多肽、核酸肽、基因等微阵列，为蛋白组学、基因组学提供快速、高通量且相容性高的研究方法接触式点印，在各种合适的基质上制备各种样品的微阵列，点与点少于1mm，定位校正，可在每个点点上多个样品点样针高效清洗，内外都彻底冲洗，管路可耐受各种有机溶剂软件功能强大，方便易学，支持点印序列导入导出，自动生成阵列排布高效过滤安全封闭外罩，具备消毒照明功能，确保步骤外部环境污染微阵列工作站特色功能：**高通量，可同时制备多张玻片、尼龙膜等**专门配置清洗站、干燥站、高效过滤安全罩等**定制化功能，例如容易结晶可定制保湿功能，细胞培养可定制温度控制功能和二氧化碳浓度控制功能，细胞形态分析下游实验可定制细胞成型功能等， Aurora多肽微阵列点样仪产品规格 盘面容量4个盘面，液体处理模块单通道，双注射泵。4通道+试剂喷加器吸液范围自40nL-100μL可调。CV值，1μL≤5%开放性基片不受限制，可在玻片、尼龙膜、试剂、硅片、不锈钢板上点样（点样矩阵通过软件自行设计）。移盘系统移盘架适配耗材24/48个试管/小瓶，96深孔盘特色模块氮吹模块。加热振荡器（2400rpm，RT-90℃）。液面探测。高效过滤安全罩。试剂槽/冷却板相关模块点样钢针复杂的实验，简单的仪器无法满足？定制高通量液体处理工作站，按照您的实验需求配套定制！更多仪器模块配置根据你的实验项目需求推荐，欢迎点击【一键咨询】，【发送留言】后我们会马上联系您 Aurora多肽微阵列点样仪原理 自动化解决方案将会大幅度提高实验通量和效率，同时也降低实验成本，实现高通量、微型化、快速化。 Aurora多肽微阵列点样仪应用案例 喷印示例：多种基质、密度、形状:Aurora微阵列点样仪用户案例: Aurora产品应用报告列表（部分），更多更新欢迎查阅Aurora官网~ Applications Genomics &bull Automated Isolation of Genomic DNA using the MACHEREY- NAGEL NucleoMag Plant kit by Aurora Biomed’s VERSA 1100 &bull Automated Isolation of Genomic DNA using the MACHEREY-NAGEL NucleoMag Blood 200μL kit by Aurora Biomed’s VERSA 1100 &bull 采用性犯罪试剂盒差异消化方法在VERSA 1100自动化应用 &bull VERSA&trade 1100 GENE在下一代测序（NGS）文库制备自动化的可行性验证 &bull 全血样品中核酸提取应用报告 &bull 植物样品中核酸提取应用报告 &bull Automation of DNA Extraction &bull PCR Setup &bull Automation of Reverse Transcriptase PCR &bull Automation of Real time PCR &bull Automation of RNA Sequencing &bull Automation of Next Generation Sequencing &bull Automation of DNA Microarray &bull Automation of Miniprep &bull Automation of Sanger Sequencing &bull Automation of On-Slide (Amplislide) PCR Setup using VERSA&trade 110 PCR Setup Workstation &bull Food Safety Monitoring using VERSA&trade 110 NAP Workstation &bull Hot-Start PCR using VERSA&trade 110 PCR Workstation &bull DNA Isolation from Saliva (Invitek Forensic DNA Isolation Kit) &bull Nucleic Acid Prep for Avian Flu Viral RNA &bull β-Actin and Whole Genome Amplification (Sigma & Promega kits) &bull Genomic DNA Isolation from Blood (Promega) &bull Automation of Molecular Pathology Applications on the VERSA&trade 10 PCR Setup Workstation &bull Automated System for High Throughput PCR SetupExtraction &bull 高通量固相萃取&气相色谱-质谱联用方法定量检测吸毒者尿液中甲基苯丙胺和苯丙胺 &bull HTS Flux Assay Automation &bull Validation of Automated Liquid Liquid Extraction of 25-hydroxy vitamin D &bull Automation of Sample Preparation and Introduction into NMR Tubes &bull Liquid Liquid Extraction of β-carotene &bull Automation of Protein PurificationGeneral Liquid Handling &bull High-Density Peptide Array Printing &bull Specimen Staining for TEM (Array printing) &bull Automated Slide-Based Assay Setup using VERSA&trade 110 Workstation欢迎点击【一键咨询】，【发送留言】后我们会马上联系您，为您的实验或应用需求推荐合适的仪器配置

ULTRA半导体級別图形发生器 The Semiconductor Laser Mask Writer光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

技术特点：超高定位精度高动态多运动模式：定位/扫描兼容超高真空运动行程：50~200um 应用领域：超分辨显微成像表面微纳结构光学检测 规格参数：型号NP-OL-Z-100运动轴Z传感器类型电容式位移传感器行程 (um)100闭环分辨率 (nm)0.35空载谐振频率 (Hz)900最大负载 (kg)2材料铝合金尺寸 (mm)75X95X80纳米定位平台

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

中图仪器SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以白光干涉技术为原理，获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范围两大优点，适用于从超光滑到粗糙、平面到弧面等各种表面类型，让3D测量变得简单。SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以3D非接触方式，测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）。产品功能(1)SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。产品特点参数测量：粗糙度、微观轮廓尺寸、角度、面积、体积，一网打尽；环境噪声检测：实时监测，纳米波动，也无可藏匿；双重防撞保护：软件ZSTOP和Z向硬件传感器，让“以卵击石"也能安然无恙；自动拼接：3轴光栅闭环反馈，让3D拼接“天衣无缝"；双重振动隔离：气浮隔振，吸音隔振，任你“地动山摇，我自岿然不动"。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW1白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

阵列喷印生物芯片制作仪 欧罗拉VERSA移液工作站 Aurora阵列喷印生物芯片制作仪简介 Aurora秉着创新、进取、应用推动市场的理念，不断发展VERSA系列自动化液体处理工作站。在中国，生物科技产业正迅速成长。近年来，我公司先后与中国科学院广州生物医药与健康研究院以及国内多家生物科技企业联合进行研究开发工作。其中高通量分子诊断自动化产品是我们的产品发展重点。 VERSA系列阵列制作工作站有多种配置，满足不同用户对不同的阵列制作的需求。典型的用途是制作中低密度的生物芯片，如蛋白芯片，诊断芯片等。具体规格请咨询Aurora中国，以获得更多技术说明。 **生物微阵列喷印技术，为基因组、蛋白质组、药物筛选、靶标确认、表位定位、疫苗开发等基础科学研究领域提供革新性的研究技术。**基于自身液体处理平台，微阵列点样仪，可实现自动化纳升级到微升级的液体接触时印迹。可以高重复性地在玻片、膜、微孔板平台和其他适合基质表面建造微阵列。**为蛋白质组学、基因组学提供快速、高通量且相容性高的研究方法。欧罗拉生物科技有限公司始于1990年，是生命科学、环境科学、药物研发/安全和化学分析研究等实验室自动化方案设计与研发的全球性领 导者。我们提供的技术与服务可以在提高质量、准确度和精确度的同时提高样品处理量。产品包括：自动化液体处理工作站、原子吸收光谱仪、原子荧光光谱仪、离子通道筛选技术-离子通道阅读器和微波消解系统，它们可以在水质检测、学术研究、农业检测、分子检测、环境检测、食品安全、法医法证、公共卫生、畜牧兽医、药物开发等应用领域中提供高销量的样品处理。我们的总部设在加拿大，2007年，Aurora Biomed开设了其亚洲销售和服务中心，以促进向快速增长的亚洲市场的扩张。为了进一步扩大Aurora的市场范围，我们在全球80多个国家建立了积极的经销商网络，为客户提供销售和服务支持。自2003年起，Aurora是每年精密医疗和离子通道年会的主办方。会议旨在将业界和领 先的学术研究人员聚集在一起，分享知识、交流想法，并建立富有成效的合作伙伴关系。该会议每年在加拿大和中国之间轮流召开，吸引世界各地的顶 尖科学家就药物研发和个性化医学展开发人深省的讨论。它使Aurora和社会能够掌握尖 端技术和创新研究的脉搏。 Aurora阵列喷印生物芯片制作仪应用领域 微阵列点样仪应用方向：**微定量喷点**基因芯片**细胞培养**研发或生产应用**基因表达，DNA筛查**多肽合成**细胞点样，药物筛选**临床的分子生物学诊断领域，低密度蛋白和基因芯片的制作方面 Aurora阵列喷印生物芯片制作仪特点 具备8通道钢针，能同时或者单独工作，快速制作阵列；非接触式喷印；接触式喷印，20 nL溶液的RSD10 %； 能对各种膜材料，玻片和酶标盘进行点样；钢针内外清洗功能，最小化携带污染，特殊的设计避免洗液残留；点与点间距可根据客户需要调整，最少间距为0.1 mm；能对各种膜材料，玻片和酶标盘进行点样，特别适合于从事蛋白的固相合成钢针内外清洗功能，最小化携带污染，同时特殊的设计避免洗液残留软件配合蛋白合成流程，合成的长度和移框的范围进行自定义，用户只需要输入氨基酸序列和制定合成的参数，即可自动计算生成所有点的序列，操作简易，方便。微阵列工作站特色功能：**高通量，可同时制备多张玻片、尼龙膜等**专门配置清洗站、干燥站、高效过滤安全罩等**定制化功能，例如容易结晶可定制保湿功能，细胞培养可定制温度控制功能和二氧化碳浓度控制功能，细胞形态分析下游实验可定制细胞成型功能等， Aurora阵列喷印生物芯片制作仪产品规格 盘面容量4个盘面吸液范围具备单通道钢针，精确点印5~100 nL溶液开放性基片不受限制，可在玻片、尼龙膜、试剂、硅片、不锈钢板上点样（点样矩阵通过软件自行设计）重量标准96孔或者Epp管溶液盘约70cm*60cm*86cm相关模块点样钢针更多仪器模块配置根据你的实验项目需求推荐，欢迎点击【一键咨询】，【发送留言】后我们会马上联系您 Aurora阵列喷印生物芯片制作仪原理 自动化解决方案将会大幅度提高实验通量和效率，同时也降低实验成本，实现高通量、微型化、快速化。 Aurora阵列喷印生物芯片制作仪应用案例 喷印示例：多种基质、密度、形状:Aurora微阵列点样仪用户案例: Aurora产品应用报告列表（部分），更多更新欢迎查阅Aurora官网~ Applications Genomics &bull Automated Isolation of Genomic DNA using the MACHEREY- NAGEL NucleoMag Plant kit by Aurora Biomed’s VERSA 1100 &bull Automated Isolation of Genomic DNA using the MACHEREY-NAGEL NucleoMag Blood 200μL kit by Aurora Biomed’s VERSA 1100 &bull 采用性犯罪试剂盒差异消化方法在VERSA 1100自动化应用 &bull VERSA&trade 1100 GENE在下一代测序（NGS）文库制备自动化的可行性验证 &bull 全血样品中核酸提取应用报告 &bull 植物样品中核酸提取应用报告 &bull Automation of DNA Extraction &bull PCR Setup &bull Automation of Reverse Transcriptase PCR &bull Automation of Real time PCR &bull Automation of RNA Sequencing &bull Automation of Next Generation Sequencing &bull Automation of DNA Microarray &bull Automation of Miniprep &bull Automation of Sanger Sequencing &bull Automation of On-Slide (Amplislide) PCR Setup using VERSA&trade 110 PCR Setup Workstation &bull Food Safety Monitoring using VERSA&trade 110 NAP Workstation &bull Hot-Start PCR using VERSA&trade 110 PCR Workstation &bull DNA Isolation from Saliva (Invitek Forensic DNA Isolation Kit) &bull Nucleic Acid Prep for Avian Flu Viral RNA &bull β-Actin and Whole Genome Amplification (Sigma & Promega kits) &bull Genomic DNA Isolation from Blood (Promega) &bull Automation of Molecular Pathology Applications on the VERSA&trade 10 PCR Setup Workstation &bull Automated System for High Throughput PCR SetupExtraction &bull 高通量固相萃取&气相色谱-质谱联用方法定量检测吸毒者尿液中甲基苯丙胺和苯丙胺 &bull HTS Flux Assay Automation &bull Validation of Automated Liquid Liquid Extraction of 25-hydroxy vitamin D &bull Automation of Sample Preparation and Introduction into NMR Tubes &bull Liquid Liquid Extraction of β-carotene &bull Automation of Protein PurificationGeneral Liquid Handling &bull High-Density Peptide Array Printing &bull Specimen Staining for TEM (Array printing) &bull Automated Slide-Based Assay Setup using VERSA&trade 110 Workstation欢迎点击【一键咨询】，【发送留言】后我们会马上联系您，为您的实验或应用需求推荐合适的仪器配置

压电纳米定位台是一款三维运动的压电平 台，行程可高达 100μm，适用于小型样品的三维纳米定位应用。产品特点■ 高速响应■ 压电陶瓷驱动■ 较高的重复定位精度■ 纳米级位移分辨率■ 机体材料为铝合金■ 具有开环和闭环两种控制方式■ 采用数控、线切割等加工工艺，严格保证结构精度■ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构■ 采用精机的表面处理工艺，提高了适应不同工作环境的能力

德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X重新定义精密加工。 全新的量子X是世界上基于双光子灰度光刻(2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网首创的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。Quantum X软件实时控制和监控打印作业，并执行自动系统校准。用户-机器交互由专用触摸屏或远程控制界面支持。 关键特性2.5 d高速精密加工超光滑的表面和卓越的形状精度设计自由度，亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程，例如校准， 作业执行和监视广泛的基材树脂组合，通过作业队列触摸屏和远程控制界面，连续执行各种打印作业 Technical SpecificationsPrinting technology：Two-Photon Grayscale Lithography (2GL)Minimum XY feature size：160 nm typical 200 nm specified*Finest XY resolution：400 nm typical 500 nm specified*Finest vertical steps：10 nm, quasi-continuous topographies possibleMinimum surface roughness Ra：≤ 10 nm*Scan speed：≤ 250 mm/s*Area printing speed：3 mm2/h typical for diffractive optical elements

微课是近几年来教育信息化方面的研究热点，微课开发甚至已经超过传统的多媒体课件制作，成为当前数字化学习资源建设的重点。同时，微课作为一种现代化教育的新形势，微课受到国内外教育者的广泛关注，在移动学习和在线学习等方面得到应用并取得良好教学效果，微课不仅改变了学生的学习方式也深刻的影响到教师的专业发展。视讯天行专业蓝 ( 绿 ) 抠像技术，没有噪点、没有蓝边，成像清晰，边缘分明，立体感强。视讯天行独特的消色功能可纠正由于蓝 ( 绿 ) 背景造成的人物皮肤上的淡蓝 ( 或绿 ) 色反光，消除颜色溢出，使人或物体的边缘更加自然。实时抠像、实时渲染、无限蓝箱功能，当摄像机拍摄到不想拍摄的景物时，可以用虚拟场景将其遮挡，实现很小的的蓝 ( 绿 ) 抠像背景也可作出逼真的大演播室效果。视讯天行具备无轨虚拟演播系统功能，支持不低于六个虚拟机位，虚拟机位一键预设及复位，灵活可调，无需真实摄像机移动，自动模拟专业的摇臂摄像机，推、拉、摇、移及航拍等 360 度场景拍摄。倒影功能，场景中无论元素或人物实现倒影功能，倒影强度可调，人物倒影与影子融入场景后使合成画面更加真实。支持最多三路虚拟大屏，虚拟大屏可设置为播放 PPT 文件，本地或外部插入多媒体文件，具有 PPT 及媒体文件播控功能。每一路虚拟大屏都有对应的功能按键，可实现实时一键全屏及返回操作。具有画笔功能，支持七种颜色画笔，四种不同粗细画笔线条，橡皮擦和一键消除功能，具有八种几何图形一键绘制功能，方便使用者在讲解时进行圈划，标注等操作。所见即所得，视讯天行系统主界面即可实时监视系统最终生成视频图像内容，无须额外按键打开才能监视。使用者可根据自己需求，从素材库中随时插入台标，台标可灵活进行XY轴调整及XY轴大小缩放。使用者可随时添加 2D / 3D 字幕，滚动/静止可调，3D 字幕可设置起始点和宽度，可描边，字体颜色和描边颜色可自由调整。内置切换台功能，多个虚拟机位及虚拟大屏场景之间可实时切换，并支持多种切换转场。转场速度快慢可调。整体场景背景色可任意设置。专业的曲线调色功能，可实现摄像输入信号及整体场景进行调色，环境光调色，整体亮度调节。独特的真三维虚拟仿真场景智能搭建系统，各种虚拟场景部件模块化、素材化，用户可根据自己的需求在几分钟内自由搭建三维虚拟场景， 搭建完毕后可直接保存为固定场景，方便以后使用。场景具有锁定/解锁功能，解锁后，场景的背景墙、演播桌等部件可以进行位置调整或更换。搭建和正常使用时支持快捷键操作，使用更加便捷。动画效果也可作为场景元素进行添加。轨道区域内即可进行多媒体音视频素材剪辑，可对背景视窗实时控制、裁剪，根据场景的使用需要关闭或打开背景视窗，提供背景视频文件的声音静音功能，提供背景音频文件剪切功能，可任意截取音频文件中的某段音乐播放。软件界面可直接网络搜索音乐并下载，用户可自由选择背景音乐。录制功能，演播过程中可实时进行录制，支持录制为主流的视频文件格式，支持后期编辑。录制文件路径可设定。流媒体直播功能：系统可将在播的节目实时编码输出流媒体，推动视频服务器发布向多用户发布。通过流媒体服务器可支持无限制客户在线同事观看，支持 rtmp 协议流媒体。视讯天行微课教室系统（VSM），是专门针对校园的一套完整系统。通过校园虚拟演播室系统进行叠加字幕LOGO、采集、录制、制作、网络直播、高标清虚拟抠像、多画面、远程控制等功能。配合教师准备的教材，就可以将教师人像结合在任何教学所需的场景。使用提词器，老师可直接观看自己合成后的画面并调整位置。除此之外，视讯天行微课室还具有校园电视广播功能，可通过校园内网让教室电视播放需要播放课程、宣传视频或通知，使整个校园都可以联系起来。视讯天行本着创新开拓的企业文化保持对新科技市场的敏锐嗅觉以及新技术深入探索，以非比寻常的前瞻，针对传统教育、互联网时代应运而生的——微课系统 视讯天行对微课系统的产生和市场推广，首先深刻领会来自于形式上的变化，而“微”则是其形式变化的首要特征和主要特征。这里我们先表述一下形式上会产生三类变化，分别是：课件、教案、习题等构成，这些都只是课堂教学中使用的部分资源，是基于教师对课堂教学的理想化设计而制作出来的，而“微课”是以视频为主要内容的“整体性”资源，所蕴含的信息量及对课堂教学的反映是其他难以比拟的 另外，课堂教学视频因时间长、容量大、消化慢而与互联网传播规律相悖，所以有传播与分享的发展瓶颈，而微课因“时间短”这一核心特征解决了之前的传统束缚和不足 所以，微课作为一种新型的学习途径改变了学生的常规学习方式和学习模式，成功引起了教育界的广泛关注，成为教育工作者研究的重点。微课的特点就是“麻雀虽小，五脏俱全”课程时长控制在10分钟左右，以教师教授为主，引导学生发现问题、分析问题、最终解决问题。不是传统教程的删减版、也不是压缩版、更不是课堂的片段而是内容丰富充实的微课例，片段教学。　　时间短——课件内容浓缩为主，将原来传统45分钟的大课化整为零，分解成单独的知识点，提升学生的学习效率 　　内容精——因课时短，所以集中于教学疑难点进行针对性教学，真正意义上解决学生学习中的疑难问题 　　时空限制小——抓住碎片化的时间及各种移动设备+互联网，有别于传统的只能课堂教学的固化模式，随时随地就是微课不变的魅力 　　虽然“微课”是个舶来品，视讯天行遵循对微课内涵的认知及发展，不断完善着产品的功能适应各类市场发展需求，让更多的莘莘学子从这个互联网高速发展的时代获得更便捷的学习方式。