无掩模曝光机

紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机，适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外曝光机配件特点1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；3）超强的功率密度4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；5）方便用户使用的触摸屏配置；6） 不需要预热；7）计算机控制紫外光源强度调节；8）自动晶圆装载和卸载功能；9）超低能耗；紫外曝光机配件参数分辨率：2微米发射光谱：365+/-5nm, 385+/-5nm4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10%暴晒时晶圆温度加热:暴晒循环：1秒~18小时记忆的曝光循环数： 10个功率：180W重量：8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源： 110V/230v50Hz

产品特点采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机，365nm波长直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件全自动化的对焦和套刻，易于使用晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um套刻精度： 0.2um500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟500um最小线宽可灰度曝光（128阶）尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间通用参数应用微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作 教学、科研 参数MCML-110AMCML-120AWavelength 波长365nm365nmMax. frame 最大帧100mm x 100mm100mm x 100mmResolution 分辨率1.0um500nmGrayscale lithography灰度光刻64 levels128 levelsMax exposure最大曝光量500mJ/cm22000mJ/cm2Alignment accuracy对准精度200nm100nmfield curvature场曲率 1 um 1 umSpeed速度5mm2 /sec2.5mm2 /secInput file输入文件BMP, GDSIIBMP, GDSIIZ level accuracyZ级精度1 um1 umEnvironment环境20~25℃20~25℃ 样品

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

飞秒激光微加工系统配件是美国制造商专业为大学和研究机构而研发的世界级领先产品，具有超高的精度和灵活性和多功能性，非常适合实验室多通途飞秒激光科学研究和微加工研究。我们专注于超快激光的研究和应用，在全球率先开发出成熟的飞秒激光微细加工系统配件，使得超快激光技术在实验室中成熟，并成功用于工业生产，专业为科研机构的实验室而设计，配备高达纳米精度和分辨率的线性定位平台，配备超高性能的扫描振镜以及多功能的控制软件。 我们提供的参数配置是激光脉宽科研级微加工系统满足了科研人员的诸多应用，它可以直接安装到光学平台上，大大节省实验时间，并能够快速培训新操作人员。是科研机构进行激光微加工实验的不二选择。 这套系统是各种研究所进行激光微加工实验的理想选择。我们经验丰富的工程师可以与国内广大研究所合作，把我们的经验和知识与您共享，为您提供优质的用户定制化服务和产品。提供的系统搭建服务：1）提供精密的用户定制化的目标定位系统，还可以提供软件。2）对飞秒激光器和定位系统进行集成和同步控制3）提供用户友好界面的软件用于各种激光扫描和定位系统。为工业/科研用户提供的定制化服务：1）为广大客户提供用户定制化的飞秒激光微加工解决方案2）如果您已经有飞秒激光器，我们可以为您提供自动化控制和同步控制以及精密定位等服务。飞秒激光微细加工系统配件特色：*高速微加工*亚微米分辨率处理高度复杂样品*飞秒微加工模式对加工区的热影响最小化* 纳米精度的定位* 精密激光束传导系统* 非常方便改变激光参数* 软件控制所有的硬件 飞飞秒激光微加工系统软件控制功能：* 控制XYZ定位平台*控制扫描振镜* 控制激光参数* 控制机械视图* 偏振态* 控制激光在工作区的功率应用* 表面微结构加工，微纳结构加工，微结构构造，微纳结构构造；* 透明材料的折射率改变；* 太阳能面板加工；* 2.5D铣销加工* 三维多光子聚合 * 光致刻蚀；* 激光划线飞秒激光加工案例参考 强劲优势：* 高达4倍频的4种波长激光光源* 改变聚焦光学器件* 定位聚焦光束× 自动聚焦光束到样品表面* 自动确认样品的倾斜程度* 对加工过程进行成像监控

主要特点 1、本机动作模仿人手操作，下盘不动， 由上压杆带动样品做8字形往复运动。 可 做调整， 研磨压力及速度均可做调整。 2、采用多机同时工做，可实现无人看守快 速抛光。 3、该机价格便宜，经久耐用，操作方便。

金刚石研磨抛光片适用于：集成电路交叉切片TEM /FIB前的样品打薄处理非密封试样抛光光纤研磨（4英寸和5英寸都可以）微米（um）8”（不带背胶）8”（带背胶）10”（不带背胶）12”（带背胶）12”（不带背胶）3550-3003850-3011850-312383050-3004050-3012050-3104050-3016050-312401550-3004550-3012550-3016550-31245950-3005050-3013050-3017050-31250650-3005550-3013550-3105550-3017550-31255350-3006050-3014050-3106050-3018050-31260150-3006550-3014550-3106550-3018550-312650.550-3007050-3015050-3107050-3019050-312700.2550-3007350-301530.150-3007550-3015550-3019550-31275组合包50-30076 (每个微米精度各1张)50-30156 (每个微米精度各1张)B型金刚石研磨片B型金刚石研磨片的金刚石颗粒中含有树脂聚合迈拉膜的陶瓷珠。随着陶瓷珠的磨损，新的金刚石颗粒暴露出来以允许连续的、强力的材料研磨。与标准金刚石研磨片相比，B型膜片提供了一级级的粗磨，通常是用于封装的样品。微米（um）8”（不带背胶）8”（带背胶）12”（带背胶）950-30050B50-30130B50-30170B650-30055B50-30135B50-30175B350-30060B50-30140B50-30180B150-30065B50-30145B50-30185B0.550-30070B50-30150B50-30190B氧化铝、碳化硅和氧化硅研磨片分为氧化铝、碳化硅和硫化硅三种，分别是由聚酯薄膜涂以含有氧化铝、碳化硅、氧化硅粒子的树脂所组成的。推荐用于细磨和研磨那些边缘保持很重要的样品。氧化铝：用于铁的材料、玻璃的研磨碳化硅:推荐用于有色金属和聚合物研磨氧化硅:建议作为一种替代胶和布的材料进行SEM和TEM样品最后的抛光。特点：*微米级优质磨料在30到0.01微米等级下精密生产完成*高精度的保证均匀性和平面度*抗水、油和大多数溶剂*颜色编码可快速分辨*用于封装或非封装的样品*不推荐用于研磨头的应用微米（um）氧化铝（不带背胶，pk/50）氧化铝（带背胶，pk/50）碳化硅氧化铝（pk/50）氧化硅3050-2004050-200751550-200801250-20045950-2005050-2012050-20085550-2005250-2012350-20090350-2005550-20125150-2006050-2013050-200950.350-2006550-201350.0550-200670.0150-20097（pk/20）组合包50-20070（每个微米精度各10张）50-20070（每个微米精度各10张）

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

微波等离子体源配件是具有着高度灵活性微波等离子体发生器，可有效应用在各种精密复杂的科研实验中。微波等离子体源配件特点创造性地使用分子气体混合物补充的纯氩气，氦气，确保了将化学工艺与具体应用的要求相匹配。对于表面净化、超细清洗和表面活化以及实时样品制备的形态分析方法这些多样化应用，广泛的操作范围内的气体流量和微波功率，以及固有的高等离子体温度是必不可少的先决条件。具有上述性能，成为了工业和研究领域里生产和分析应用的强大工具。等离子体作为一种高新技术，广泛用于科学研究和工业应用，是表面处理中不可或缺的工具。等离子技术运用广泛，主要用于那些质量，生产力，环境的可持续性，精密度和灵活性很重要的应用。微波等离子体源配件特征紧凑和移动型灵活性高微波等离子体源应用广泛激活精洗净化形态分析（如有机汞，铅，锡化合物）化学反应器?处理技术和生物材料复杂的几何形状很难接近的位置精确和逐点操作惰性和分子气体提供能源多功能加工一体化微波等离子体源配件概述描述用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置手持装置尺寸 80x 65X 50mm（1.50米电缆接头）手持装置重量 0.5kg基本单元尺寸 110x 230x 375mm （高x宽x深）基本单元重量 6.5公斤电源 110-230VAC, 50/60 Hz功耗运输和储存条件温度 - 40°C - 70°C相对湿度 10% - 100%工作条件温度15°C - 40°C相对湿度 15% - 75%气压 800 hPa -1060 hPa资源工艺气体氩* *根据要求，提供其他气体和混合物微波频率 2.45GHz正向功率 10 W至60 W（可选）气体流量 0.6- 6升/分钟等离子量 约10mm3电子密度 高达2 x1021m-3气体温度 高达1700°C*取决于工艺气体和功率交付内容等离子体源装置微波发生器微波连接器电缆线

主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

氧化铝和碳化硅研磨/抛光垫由微米极，高强度聚酯为微米极均匀分散的碳化硅或氧化铝颗粒提供统一的基底，可重复使用，主要应用于金属，塑料，金相学，薄膜，软盘，光线连接器的研磨抛光，尺寸：8英寸包装：25张/包

主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30μmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15μmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9μmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6μmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3μmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1μmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5μmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1μmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30μmGFA-04-30GFA-08-30黄色12μmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9μmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3μmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1μmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3μmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30μmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012μmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129μmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93μmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31μmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

MultiDrive MT 150.5 Milling tube, autoclavableMT150.5研磨杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于样品干磨。该塑料研磨杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 MT150.5研磨杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该研磨杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加研磨杯的使用次数。研磨杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：150mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该研磨杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。MultiDrive TC 1 Protective housing组合MultiDrive MT 150和BT 250使用的防护罩MultiDrive BT 250.5 Blending tube, autoclavableBT 250.5 匀浆杯与MultiDrive control 多功能破碎仪配合使用，最适合于湿磨工艺。该塑料匀浆杯，透明设计，方便实验者持续观察样品匀浆过程中的变化。 BT250.5匀浆杯集成RFID芯片，自动识别样品杯和相应的使用时间。该匀浆杯的标准配置中均包含了5个密封圈，即1包TS1。通过更换密封圈，可增加匀浆杯的使用次数。匀浆杯均可高温灭菌，有效杜绝交叉污染。 数量：5个/包 最大可用体积：250mL 最大进料粒度：10 mm/5 Mohs 与介质接触的材料：不锈钢、PCTG FDA合规性：是 注：出于安全考虑，使用该匀浆杯时，必须使用TC 1防护罩。如未使用TC 1，则MultiDrive将无法启动。请一并订购TC 1保护罩。

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

适用于研磨珠敲打式均质器，对各种样品进行高效破碎，用于蛋白、核酸的提取以下为Bertin原装kits，无DNA酶、RNA酶货号描述包装适用样品0.5ml研磨KitKT03961-1-203.05CK14-0.5mL 柔嫩组织研磨kit50/包微量的柔嫩动、植物组织等KT03961-1-204.05VK05-0.5mL 微生物研磨kit50/包微量的酵母菌、真菌等　　　　2ml研磨KitKT03961-1-001.2MK28 坚韧组织研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-002.2CK28 坚韧组织研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-003.2CK14 柔嫩组织研磨kit50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等KT03961-1-004.2VK05 微生物研磨kit50/包酵母菌、真菌等微生物KT03961-1-005.2VK01 微生物研磨kit50/包细菌KT03961-1-006.2SK38 土壤研磨kit50/包土壤、粪便等KT03961-1-009.2CKMix 坚韧、柔嫩组织通用研磨kit50/包坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-010.2CK01 细菌研磨kit50/包细菌以下为Bertin原装管壁加硬型2ml研磨kits（超硬管）KT03961-1-007.2CK28-R 加强型坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如羽毛、皮肤、种子等KT03961-1-008.2MK28-R 加强型坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如羽毛、皮肤、种子等KT03961-1-013.2CKMix50-R 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等KT03961-1-014.2CK68-R 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等　　　　7ml研磨KitKT03961-1-302.7CK28 坚韧组织研磨kit50/包相当坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-303.7SK38 土壤研磨kit50/包土壤、粪便等KT03961-1-304.7VKMix 细菌、真菌通用研磨kit50/包酵母菌、真菌等微生物KT03961-1-305.7CK01 细菌研磨kit50/包细菌KT03961-1-306.7CKMix50 超强型坚韧组织研磨kit50/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等KT03961-1-307.7CK14 柔嫩组织研磨kit50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等　　　　15ml研磨KitKT03961-1-502.15CK28 坚韧组织研磨kit25/包相当坚韧的动、植物组织等，如肌肉、心脏、叶片、根须等KT03961-1-510.15CK01 细菌研磨kit25/包细菌KT03961-1-514.15CK68 超强型坚韧组织研磨kit25/包极其坚韧的动、植物组织等，如牙齿、骨骼、坚果等注： 研磨珠选择的一般规律是：样品硬度越强、韧度越高，选择的珠子密度、直径也就越大 珠子的选择并没有绝对性，一种样品可以同时适用多种珠子 科研人员往往选择与样品颗粒大小接近的珠子，并且密度较大的为首选 有的使用者，喜欢把同种质地不同直径的珠子按体积比搭配使用

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏美国QMAXIS金刚石抛光膏，高品质的金相研磨抛光膏，用于以玻璃、陶瓷、硬质合金等高硬度材料制成的量具、刃具、光学仪器、医疗器械和其它高光洁度工件的加工，以及金相试样制备的研磨抛光。尤其适用于易被金刚石颗粒嵌入的、对水敏感的材料的研磨抛光。既有PolyPaste 多晶金刚石抛光膏，也有MonoPaste 单晶金刚石抛光膏。订货信息如下：PolyPaste 多晶金刚石和MonoPaste 单晶金刚石抛光膏

微纳米图形的制作已成为半导体器件、微机电系统和纳米科学等研究中的基本手段。但传统设备昂贵、庞大，NanoPattern图形发生器可以利用电子束/离子束/探针具有容易控制和分辨率高的特点方便地获得微纳米图形。而且不像普通光刻机需要先制作掩膜，并且有更高的分辨率和灵活性。NanoPattern图形发生器可利用扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜的外接扫描口、束流测量装置和二次电子检测输出等而使其升级获得微纳米图形制作的功能并且不损失电镜原来的任何功能。结合扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜上的其他功能如电子

无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸：925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源：375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度：500mm/s重复精度： 100nm晶圆写取面积：1—6英寸衬底厚度：250微米-10毫米激光点大小：1-100微米准直精度：500nm

精密抛光具可用于光学显微镜，扫描电子显微镜及原子力显微镜样品的常规制备，也可通过有角度的研磨抛光得到楔形样品进行透射电镜表征观察和聚焦离子束微纳加工，再研磨抛光的过程中可适时在光镜下观察样品的状态。

氧化铝刚玉陶瓷研磨球 氧化铝研磨球 陶瓷研磨球 高铝球5m-50mm各种规格齐全，外观为白色球状，滚轴球磨机 大小型球磨机 行星式球磨机配套用高强度氧化铝，陶瓷球，瓷球，研磨球，刚玉球，耐磨瓷球，高铝球，抛光球，陶瓷微球。用途：1.配套行星球磨机2.耐磨陶瓷微珠主要应用于非金属矿产品粉料（如硅酸锆、高岭土、重质碳酸钙等）及涂料、油漆、食品等行业的物料研磨与分散以及金属件的抛光使用，适用于各种球磨、研磨和抛光设备。也可以在浇筑时加在橡胶里增加耐磨系数。特点：（1）主要成分为氧化铝（≥92%）， 对被研磨物料的品质没有影响。（2）产品比重大（≥3.60g/cm3)，能大幅度提高研磨效率，降低研磨时间，节省能耗，降低成本；同时有效增加球磨机有效容积,从而增加研磨物料的加入量。（3）产品硬度高，磨耗低，能大大延长研磨体的使用寿命。（4）产品白度高，不会对被研磨物料的颜色产生影响。氧化铝陶瓷球化学成分成分Al2O3Na2OMgOSiO2CaOOtherWt%94%210.51.51物理性质比重散重维氏硬度挤压强度软化点包装3.7kg/dm32.2kg/L1300kg/mm220000＞1400℃25kg/包

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏原装进口美国QMAXIS金刚石抛光膏，含有高浓度的金刚石，与水基、或酒精基、或油基的抛光冷却润滑液配合使用。广泛用于不规则样品的手动研磨抛光，尤其适合易被金刚石颗粒嵌入的和对水敏感的材料的研磨和抛光。PolyPaste多晶金刚石抛光膏MonoPaste单晶金刚石抛光膏订货信息：PolyPaste 多晶金刚石抛光膏颜色粒径10g/支白色0.25μmPPP-025-10灰色1μmPPP-1-10黄色3μmPPP-3-10橙色6μmPPP-6-10绿色9μmPPP-9-10蓝色15μmPPP-15-10订货信息：MonoPaste 单晶金刚石抛光膏颜色粒径5g/支20g/支白色0.25μmPMP-025-5PMP-025-20灰色1μmPMP-1-5PMP-1-20黄色3μmPMP-3-5PMP-3-20橙色6μmPMP-6-5PMP-6-20绿色9μmPMP-9-5PMP-9-20蓝色15μmPMP-15-5PMP-15-20

订货编号描述包装应用范围19-6101.5ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6121.5ml研磨管预装0.5mm玻璃珠50/包真菌、酵母和孢子等微生物19-6171.5ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6181.5ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-6212ml研磨管预装0.1mm玻璃珠50/包细菌、单细胞藻类19-6222ml研磨管预装0.5mm玻璃珠50/包真菌、酵母和孢子等微生物19-622D2ml研磨管预装0.5mm玻璃珠，无菌无核酸酶50/包真菌、酵母和孢子等微生物19-6230.5ml研磨管预装0.15mm石榴石珠50/包细菌、单细胞藻类19-6242ml研磨管预装0.7mm石榴石珠50/包真菌、酵母和孢子等微生物19-6250.5ml研磨管预装0.25mm石榴石珠50/包细菌、单细胞藻类19-6260.5ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6272ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-627D2ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠，无菌无核酸酶50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6282ml超硬研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-628D2ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠，无菌无核酸酶50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-6202ml超硬研磨管预装2.4mm不锈钢珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-620D2ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠，无菌无核酸酶50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6707ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6777ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6787ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-615815ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-635030ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6350Z30ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠和6.5mm陶瓷珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-635730ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6357Z30ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠和6.5mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-635830ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6358Z30ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠和6.5mm陶瓷珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6350K30ml研磨管预装2.4mm不锈钢珠50/包硬组织、干磨、皮肤、肌肉、骨骼、毛发、根系、种子19-6357K30ml研磨管预装1.4mm陶瓷珠50/包柔嫩的动、植物组织等，如肝脏、脑、脂肪、浆果等19-6358K30ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织19-650850ml研磨管预装2.8mm陶瓷珠50/包坚韧组织、心脏、肌肉、皮肤、肌腱或植物组织

公司主营：美国PE、戴安DIONEX离子色谱耗材，PE元素灯/PE石墨管/PE氘灯/PE钨灯/PE基体改进剂/PE样品杯/PE GCMS灯丝/PE ICP火炬/PE氧化铝注入管/PE雾化器大量现货！美国Perkinelmer（珀金埃尔默）耗材常备现货：元素灯、石墨管、样瓶杯、取样毛细管、进样针、雾化器、矩管、中心管、泵管、顶空瓶、隔垫、瓶盖、色谱瓶、热脱附管、干燥剂、钨灯、氘灯、铝制等珀金埃尔默的漫反射备选产品订货信息：产品描述部件编号漫反射大容量样品杯L1201654漫反射微量样品杯L1201655多用途漫反射样品杯夹具L1201865漫反射用金属镀层式金刚砂研磨垫（100件装）L1275106漫反射用无涂层式金刚砂研磨杵（100件装）L1271021漫反射用金属镀层式金刚石研磨杵（100件装）L1275105漫反射用无涂层式金刚石研磨杵（100件装）L1275102Pike 漫反射备选产品订货信息：产品描述部件编号EasyDiff小号样品杯（每包2个）L1272345EasyDiff大号样品杯（每包2个）L1272346EasyDiff样品载玻片L1272347EasyDiff金刚砂研磨圆盘（100件装）L1272348EasyDiff金刚石研磨圆盘（50件装）L1272349EasyDiff样品杯夹具和底座L1272350EasyDiff EasiPrep样品制备工具包L1272351EasyDiff对准镜L1272352EasyDiff研磨工具包L1272375DiffusIR加热备选产品；需要DiffusIR温控器（产品配备情况根据具体的销售区域而定）L1272344DiffusIR环境箱（900°C）L1272458DiffusIR环境箱（500°C）L1272459用于环境箱的DiffusIR温控器（220V，英国）L1272461用于环境箱的DiffusIR温控器（220V，欧洲）L1272462用于环境箱的DiffusIR温控器（110V，60Hz）L1272463

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

中文名称：美国珀金埃尔默漫反射研磨工具包英文名称：EasyDiff Abrasion Kit货 号：L1272375品 牌：PerkinElmer、珀金.埃尔默、美国PE 用于IR红外分析仪器珀金埃尔默漫反射研磨工具包L1272375美国PE常用货号：L1272116 Crystal Polishing Pad, g. 6 IRL1272249 Low-e Microscope Slides, g. 25 IRL1272348 EasyDiff SiC Abrasive Disks, g. 100 IRL1272349 EasyDiff Diamond Abrasive Disks, g. 50 IRL1272351 EasyDiff EasyPrep Sample Preparation Kit IRL1272375 EasyDiff Abrasion Kit IR公司主营：美国PE、戴安DIONEX离子色谱耗材，PE元素灯/PE石墨管/PE氘灯/PE钨灯/PE基体改进剂/PE样品杯/PE GCMS灯丝/PE ICP火炬/PE氧化铝注入管/PE雾化器大量现货！美国Perkinelmer（珀金埃尔默）耗材常备现货：元素灯、石墨管、样瓶杯、取样毛细管、进样针、雾化器、矩管、中心管、泵管、顶空瓶、隔垫、瓶盖、色谱瓶、热脱附管、干燥剂、钨灯、氘灯、铝制等