无掩膜光刻机

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无掩膜光刻机相关的厂商

  • 400-860-5168转4830
    魔技纳米科技创立于2017年,是一家高精度微纳三维装备制造与服务提供商、国家高新技术企业、省专精特新企业。主要业务为高端激光微纳三维直写光刻设备的研发、生产、销售及技术服务等。研发团队拥有十余年微纳三维制造技术经验,在光学、电气、机械、软件、材料等方面,拥有完整的自主开发能力,可以为多行业应用场景提供专业的一体化解决方案。企业推出了高精度纳米级3D打印设备、超快激光加工中心、无掩膜直写光刻设备三大系列及多款光刻胶产品,其中自主研发的商用纳米级三维激光直写系统,可实现70纳米精度的三维结构加工。凭借高精度、高速度、大幅面和长时稳定性等技术优势,实现了科研探索到商业化应用的跨越,有力推动了微纳三维制造在生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件、航空航天等领域的规模化工业生产。
  • 400-860-5168转6134
    南通宏腾微电子技术有限公司(NTHT Semiconductor Technologies Limited)是一家专业的微纳材料、半导体和微电子材料及器件研发仪器及设备的供应商。南通宏腾微电子技术有限公司所销售的仪器设备广泛用于高校、研究所、以及半导体和微电子领域的高科技企业。南通宏腾微电子目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪; - 快速退火炉; - 回流焊炉,共晶炉,钎焊炉,真空烧结炉; - 电子束蒸发镀膜机,热蒸发镀膜机 - 探针台,低温探针台,微探针台; - 金刚石划片机; - 球焊机,锲焊机; - 磁控溅射镀膜机; - 原子层沉积系统,等离子增强原子层沉积设备; - 电化学C-V剖面浓度分析仪(ECV Profiler); - 扫描开尔文探针系统; - 光学膜厚仪; -贴片机 -PECVD\CVD;-脉冲激光沉积系统-PLD-纳米压印;-等离子清洗机、去胶机;-反应离子刻蚀RIE - 光刻机、无掩膜光刻机; - 匀胶机; - 热板,烤胶板; -少子寿命、太阳能模拟器;-NMR-瞬态能谱仪-外延沉积-等离子清洗机-离子注入-划片机、裂片机光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机 等等…
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  • 400-860-5168转4527
    公 司 简 介深圳市蓝星宇电子科技有限公司-蓝星宇科技(香港)有限公司,经过十多年的半导体/微电路/光电专业技术沉淀,可以根据客户特殊要求提供定制化服务,研发设计组装:紫外臭氧清洗机(UV清洗机), 晶圆清洗机,等离子清洗机/去胶机,超声/兆声清洗机等,拥有自主品牌专利及注册商标。公司自成立以来一直专注于半导体/微电路和光电/光学领域的设备集成及技术服务,拥有一支在半导体制造、微电路及光电/光学等领域经验丰富的专业技术团队。我们代理欧美日多家高科技设备厂家高性价比产品, 始终坚持创新, 技术, 服务, 诚信共创价值共赢的企业文化,为广大中国及海外客户提供最先进的仪器设备和材料的整体解决方案。 应用领域: 半导体/微纳加工,微电路,光电/光学, 材料科学等领域的研发和生产, 客户群体例如高等院校, 研究院所,科技企业等。目前蓝星宇科技已与众多国际知名半导体制造设备及检测设备企业建立了良好的长期合作关系:半导体/微纳,光电/光学 产品主要有: 德国ParcanNano(Nano analytik)针尖光刻机,电子束光刻机EBL, 激光直写光刻机,紫外光刻机,微纳3D打印机, 德国Sentech刻蚀机/镀膜机及原子沉积, 英国HHV磁控/电子束/热蒸发镀膜机, 日本爱发科ULVAC生产型磁控溅射装置/干法刻蚀机, 德国/法国微波等离子沉积机MPCVD, 芬兰Picosun原子层沉积机, 日本/德国电子显微镜/FIB-SEM, 日本理音RION液体光学颗粒度仪, 德国Bruker布鲁克原子力显微镜/微纳表征/光谱仪, 美国THERMO FISHER赛默飞光谱/色谱/质谱/波谱仪, 美国Sonix超声波显微镜, 德国KSI超声波显微镜, 德国耐驰Netzsch热分析仪, 德国Optosol吸收率发射率检测仪, 俄罗斯Optosystem准分子激光器, 日本SEN UV清洗机/UV清洗灯, 美国Jelight紫外清洗机/紫外灯管, 德国等离子清洗机/去胶机等先进技术产品。我们以高性价比的优势为客户提供优质的产品与服务,为高等院校, 科研院所,科技企业等高端客户提供仪器设备和材料。 客户参考(排名不分先后):企业客户:华为技术有限公司, 深圳市鹏芯微集成电路制造, 深圳清力技术, 安徽格恩半导体, 苏州稀晶半导体科技, 矽品半导体, 厦门海辰新能源科科, 中核同创(成都)科技, 洛玛瑞芯片技术(常州),伟创力科技, 奥普科星河北科技,广东五星太阳能,广东万和集团,西安西测股份, 普源精电科技, 普源精电科技股份, 上海蔚来汽车, 北京华脉泰科, 广医东金湾高景太阳能科技, 深圳汇佳成电子, 深圳市化讯半导体材料, 珠海珍迎机电, 合肥鼎材科技, 山东金晶节能玻璃, 江苏云意电气股份, 广东风华高新科技技股份, 浙江中能合控股集团, 四川信通电子科技等。科研院所/高等院校: 北京航空航天大学, 汕头大学, 南方医科大学, 清华大学, 北京大学, 复旦大学, 西北工业大学, 南京医科大学, 香港中文大学, 香港城市大学, 苏州大学, 深圳职业技术学院, 南京大学合肥国家试验室, 上海交通大学医学院, 华南理工大学, 深圳大学, 南方科技大学, 深圳技术大学, 中国科学院理化技术研究所, 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院, 桂林电子科技大学, 上海硅酸盐研究所, 中国航天五院,中科合肥智慧农业协同创新研究院等。我们热诚欢迎国内外客户, 先进仪器设备/材料制造商, 科技企业及医疗机构与我们联系开展各层面的合作共创价值共赢!产品:光刻机(针尖/电子束光刻机EBL,紫外光刻机,激光直写光刻机),镀膜机(磁控溅射机,电子束蒸发机,化学沉积机,微波等离子沉积机,原子层沉积机ALD),等离子刻蚀机ICP/RIE,去胶机,双光子微纳3D系统,准分子激光器,颗粒度仪, 原子力显微镜,电子显微镜/FIB-SEM,超声波扫描显微镜, 开封机,太阳能吸收率发射率检测仪,紫外臭氧清洗机,UV清洗机,晶圆清洗机,UV清洗灯,曝光灯,光刻胶/UV胶,晶圆/硅片/外延片等。联系方式: Johny 廖敬强GM:13538131258,0755-29698758 Q:583129932,johny.liao@lxyee.net Kelly 徐翠兰:15915408056,0755-81776600 Q:1053054539, kelly.xu@lxyee.net 深圳地址:深圳宝安沙井共和第四工业区昊海弘工业园A6栋7楼761-764 香港地址:Flat/RM 803 Chevalier House 45-51 Chatham Road South Tsim Sha Tsui KL HK . TEL:0852-26681868, 26681899 感谢您的关注 Thanks for your attention ^_^
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无掩膜光刻机相关的仪器

  • 无掩膜光刻机 400-860-5168转5919
    1. 产品概述ACA无掩膜光刻机系列是科研版的无掩膜版紫外光刻机,其基于空间光调制技术,实现了数字掩膜光刻,灵活性使其成为科学研究。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源,设备稳定,上手简单。其的原位光绘和交互式套刻指引功能,让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持,助力科学研究域的发展和创新。2. 特色参数特征尺寸0.8μm6英寸光刻面积高精度步进光刻无掩膜光刻机3. 应用案例微流道芯片二维材料电光学掩膜版MEMS器件灰度光刻4. 公司简介:托托科技(苏州)有限公司是一家注于显微光学加工和显微光学检测域的公司,在基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术域中进行了数年的深入研究和技术积累,其研制和生产的无掩膜紫外光刻机一经问世,就受到了诸多客户的青睐,在科研和工业域都有广泛的应用。例如,在微纳加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型传感器等;在光电子域,可以用于制作光栅、衍射光学元件等。 托托科技致力于设备底层技术的研究和积累,不断寻求技术的突破,努力为客户带来更好的设备和更好的使用体验,帮助客户创造更高的价值。
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  • DMD无掩膜光刻机 400-860-5168转2831
    DMD无掩膜光刻机产品负责人:姓名:郭工(Barry)电话:(微信同号)邮箱:DMD无掩膜光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种电阻和基片。SMART PRINT UV可以生产任何微米分辨率的二维形状,而不需要硬掩模。基于改进后的标准投影技术,投影出具有微米分辨率的图像,无掩膜光刻机SmartPrint无需任何进一步步骤,就能直接从数字掩模光刻出您要的图。无掩膜光刻机SmartPrint主要应用是微流体,生物技术和微电子等领域光刻表面微纳图案。DMD无掩膜光刻机主要特性:兼容i、h、g线光刻胶SmartPrint-UV配备了385 nm LED源,以兼容标准i, h和g线光刻胶,如SU8或AZ1500系列适用于各种各样的基材我们的物镜范围经过精心选择,具有较长的工作距离(高达3厘米),使SP-UV成为一种非接触式技术,因此兼容非标准基材(非平的,灵活的,厚的)。可调直写范围和分辨率——用户可获得四种不同的直写分辨率 直写分辨率1.5um 兼容任何尺寸的样品,最大5平方英寸 对齐方式直观——反馈相机与第二束590nm准直光源叠加使用DMD无掩膜光刻机体积小,性价比高DMD无掩膜光刻机应用领域:DMD无掩膜光刻机指标参数:
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  • 1. 产品概述:Speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机,其配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性,更在这一基础上,拥有了更高的光刻效率。其的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中,它能够发挥出其高效的优势,为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择,满足了市场对于高效率、高质量生产的需求。二维材料电光学掩膜版MEMS器件灰度光刻微流道芯片特征尺寸1μm8英寸光刻面积高速扫描光刻无掩膜光刻机托托科技(苏州)有限公司是一家注于显微光学加工和显微光学检测域的公司,在基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术域中进行了数年的深入研究和技术积累,其研制和生产的无掩膜紫外光刻机一经问世,就受到了诸多客户的青睐,在科研和工业域都有广泛的应用。例如,在微纳加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型传感器等;在光电子域,可以用于制作光栅、衍射光学元件等。托托科技致力于设备底层技术的研究和积累,不断寻求技术的突破,努力为客户带来更好的设备和更好的使用体验,帮助客户创造更高的价值。Speed系列是高速版的无掩膜版紫外光刻机,其无掩膜光刻机配备了先进的高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性,更在这一基础上,拥有了更高的光刻效率。其的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中,它能够发挥出其高效的优势,为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择,满足了市场对于高效率、高质量生产的需求
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无掩膜光刻机相关的资讯

  • 重磅!俄罗斯计划研发无掩模X射线光刻机
    4月2日消息,据外媒报道,俄罗斯莫斯科电子技术学院(MIET)已经接下了贸工部的6.7亿卢布资金(约合5100万元人民币),准备研发制造芯片的光刻机,并号称该款光刻机工艺可以达到EUV级别,但技术原理完全不同,他们研发的是基于同步加速器和/或等离子体源的无掩模X射线光刻机。文章内容显示:“MIET已经在无掩模EUV光刻领域取得了进展,包括与国内其他科研机构和科学家团体联合开展的研究。该项目还将涉及Zelenograd公司ESTO和Zelenograd同步加速器,现在是国家研究中心库尔恰托夫研究所的技术储存综合体(TNK)Zelenograd。“基于在该国运行和发射的同步加速器,特别是在TNKZelenograd的同步加速器以及国内等离子源的基础上,创造技术和设备,将使处理具有设计标准的半导体晶片成为可能28nm、16nm及以下,”招标文件包含这项研究工作(研发)的要求。“无掩模X射线纳米光刻技术和正在开发的设备在国内和世界上都没有类似物。”据了解,X射线因为波长很短,几乎没有衍射效应,所以很早就进入了光刻技术研发的视野内,并且在八十年代就有了X射线光刻。九十年代,IBM在美国佛蒙特州建了一条采用同步辐射光源的X射线光刻机为主力的高频IC生产线,美国军方为主要客户。而当年X射线光刻技术,是当时的下一代光刻技术的强有力竞争者。后来随着准分子激光和GaF透镜技术的成熟,深紫外光刻技术延续了下去,在分辨率和经济性上都打败了X射线光刻。X射线光刻就退出了主流光刻技术的竞争。现在用X射线光刻的,主要是LIGA技术,用来制造高深宽比结构的一种技术,可以制造出100:1的深宽比,应用于mems技术当中。目前国内有两个地方可以做X射线光刻,一个是合肥同步辐射,一个是北京同步辐射。由于X射线准直性非常好,传统的X射线光刻,是1:1复制的。掩模版使用的是硅梁支撑的低应力氮化硅薄膜,上面有一层图形化的金,作为掩蔽层。曝光方式采用扫描的方式,效率不高。目前最先进的光学光刻是EUV,极紫外光刻。我们也称之为软X射线光刻,既有光学光刻的特征,也有X射线光刻的特征。极紫外波长很短,没有透镜能够放大缩小,所以只能采用凹面镜进行反射式缩放。而掩模版也采用反射式,曝光方式也是扫描,整个系统在真空下运行。公开资料显示,承接了光刻机研发计划的“MIET”是俄罗斯高科技领域领先的技术大学。通过将现代实验室、对教育过程的全新认识以及教育、科学和工业进行独特整合,MIET成为微电子和纳米电子、电信和信息技术领域培训专家的领导者。该大学是俄罗斯大学发明活动排名中最强大的三所大学之一,是莫斯科国立大学排名中排名前五的技术大学之一,也是著名的英国出版物《泰晤士报》排名前20位的俄罗斯大学之一高等教育。实际上俄罗斯早已在芯片制造业上遭到了美国制裁。俄国内唯二半导体企业Ангстрем公司原计划通过AMD购买必要工艺设备,但这笔交易由于2016年Ангстрем公司上了美国商务部制裁名单而中止,其在泽列诺格勒的工厂因为制程工艺落后无法获得足够订单长期处于亏损状态债务超过1000亿卢布,2019年其最大债权方VEB.RF(俄罗斯国家开发集团)对其进行破产重组。当然俄另一家芯片制造商Микрон因祸得福获得了利用Ангстрем生产车间改造28纳米制程新生产线的机会,为其节省了10亿美元。俄国内半导体消费市场不到全球份额2%,如果没有政府推动,针对这样小市场的产业需求去研发制造需要投入几百亿美元成本的DUV\EUV光刻机是经济上极不合理的(全世界产业市场也就那么大)。另一方面俄军用、航天市场对芯片需求的批量不大,但种类多,需要经济上合理的小批量、多品种的产能。适用于大批量生产的投影式光刻机不能满足这种产业需求。俄国内有两条使用8英寸晶圆的生产线,分别属于АО «Микрон»和ООО «НМ-ТЕХ» 。6英寸晶圆的四条生产线,分属АО «Микрон», АО «Ангстрем», АО «ВЗПП-Микрон»和НИИСИ РАН,前面三个都属于上世纪90年代至本世纪初技术水平,值得注意的是最后那个用的是新的无掩膜直写。2014年荷兰Mapper公司与俄RUSNANO公司合资在莫斯科组建一家生产无掩膜光刻机核心组件微机电光学元件的工厂。该工厂生产的电子光学元件可以将一束电子束分成13000束电子束,并对每束电子束进行控制,从而极大提高了无掩膜电子束光刻机的生产效率,使这类光刻机用于设计阶段样品制造外,更加适应小批量生产的需求。Mapper公司多束无掩模光刻机,可以用于32纳米制成,其核心部件即由俄罗斯制造。更早时候,RUSNANO投资了瓦迪姆.拉霍夫斯基教授团队研制的纳米级定位器,使用该项技术可用于加工10纳米精度的非球面光学元件(用于紫外和X波段)。而这位瓦迪姆.拉霍夫斯基,是位大牛。1992年他与苏联时期在全联盟计量科学研究所工作的同事创立一家小公司接一些为苏联时期电子产品生产零件的零散订单。在生产过程中,他们被掩膜缺陷反复折腾,随着制成工艺缩小,就会出现新的问题,之前提出的解决方法都不再有效。而所需要的投资也越来越高,单是掩膜成本就从0.5微米时代的400美元增加到如今的70万美元以上。这时候拉霍夫斯基想到如果用全息生成图像的方法就可以避免掩膜缺陷对产品质量造成影响,据估计,即便缺陷占据全息掩膜面积1%,实际创建的图像质量也不会受到影响。掩膜局部缺陷对成像质量的影响降低了9-10个数量级。这同样可以延长掩膜的使用寿命和降低透镜成本(只需要简单的透镜来照射面罩),甚至利用这一技术可以实现3D光刻。但根据全息图像计算全息掩膜时,他们遇到了数学难题,为此他找到了现代渐近衍射理论的创始人弗拉基米尔安德烈耶维奇博罗维科夫教授,教授为他提供了计算方法。然而全息掩膜的计算量仍然需要超级计算机才能完成。之后他的开发团队致力于简化算法,直至能够在微机上实现,同时他们开发了一个软件包,用以生成全息掩膜(在此过程中他们发现如果用平面波再现全息图将使掩膜的拓扑结构变得无法制造,为此他们通过数学方法解决了会聚球面波的难题)。最初他找到RUSNANO,希望获得对其研发的全息投影光刻技术的投资。但RUSNANO的态度令他感到失望。之后这位老哥找到SEMI欧洲分会主席,于是他获得了瑞士Empa资金支持,并在2015年成立了Nanotech SWHL GmbH公司。按照这位大牛的观点,俄政府领导人熟悉大工业,但不熟悉技术密集型产业,缺乏苏联政府那样对有产业潜力的先进技术孵化投资的远见。而此次外媒报道的无掩膜X射线光刻机虽然无法满足大批量生产的需求。不过2020至2021年9月份,俄整个电子工业只得到2660亿卢布拨款,一座28纳米生产线和配套晶圆厂至少也要投资上万亿卢布,投入这么大一笔费用,俄国内市场也难以提供足够订单维持其运转。光刻机、芯片制造从来不是自古华山一条道,解决不同需求有不同的技术路径(例如大批量生产方面压印法也是比较有发展前景的工艺)。
  • 南科大采购无掩膜光刻机,接受进口产品投标
    p style=" line-height: 150% text-indent: 2em text-align: justify " span style=" font-size: 16px line-height: 150% font-family: arial, helvetica, sans-serif " 10月9日,南方科技大学(简称“南科大”)采购与招标管理部发布《SUSTech-2020-189 电子系无掩膜光刻机采购项目》的招标公告,预算达350万元。 /span /p p style=" line-height: 150% text-indent: 2em text-align: justify " span style=" font-size: 16px line-height: 150% font-family: arial, helvetica, sans-serif " 本次采购的光刻机的激光光源375nm,要求使用寿命10000小时。同时特别要求光刻机的最小图形线宽达到1微米,直写速率达到500平方毫米每分钟,局域对准误差(3σ)为 0.25微米以及全域对准误差(3σ)为0.5微米。 /span /p p style=" line-height: 150% text-indent: 2em text-align: justify " span style=" font-size: 16px line-height: 150% font-family: arial, helvetica, sans-serif " 本次招标接受投标人选用进口产品参与投标,但不排斥国内产品。进口产品是指通过海关验放进入中国境内且产自关境外的产品,即所谓进口产品是指制造过程均在国外,如果产品在国内组装,其中的零部件(包括核心部件)是进口产品,则应当视为非进口产品。采用“接受进口”的产品优先采购向我国企业转让技术、与我国企业签订消化吸收再创新方案的供应商的进口产品。 /span /p p style=" line-height: 150% text-indent: 2em text-align: justify " span style=" font-size: 16px line-height: 150% font-family: arial, helvetica, sans-serif " 以下为项目详情: /span /p p span style=" font-family: 宋体 " 项目编号: /span span style=" font-family: 宋体 " SUSTech-2020-189& nbsp & nbsp /span /p p style=" line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 项目类型:货物类 /span /p p style=" line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 货币类型:人民币 /span /p p style=" line-height: 150% text-indent: 2em " span style=" line-height: 150% font-family: 宋体 " 根据相关法律法规的规定,本项目采用公开招标的方式实施采购,现将该项目采购公告进行公示,有关事项如下,欢迎合格投标人参与本项目投标: /span /p p style=" margin-top:8px margin-right:0 margin-bottom:8px margin-left:0 line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 一、招标内容: /span /strong /p table border=" 1" cellspacing=" 0" cellpadding=" 0" width=" 631" style=" border-collapse:collapse border:none" tbody tr style=" height:30px" class=" firstRow" td width=" 95" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 序号 /span /p /td td width=" 230" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 货物名称 /span /p /td td width=" 104" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 数量 /span /p /td td width=" 101" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 单位 /span /p /td td width=" 101" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 备注 /span /p /td /tr tr style=" height:30px" td width=" 95" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 1 /span /p /td td width=" 230" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 无掩膜光刻机 /span /p /td td width=" 104" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 1 /span /p /td td width=" 101" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 套 /span /p /td td width=" 101" style=" border: 1px solid rgb(0, 0, 0) padding: 5px " height=" 30" p style=" text-align:center text-autospace:none" span style=" font-size:16px font-family:宋体" 接受进口 /span /p /td /tr /tbody /table p style=" margin-top:8px line-height: 150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体" 具体参数详见招标文件 /span /p p style=" line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 本项目预算金额为: span 3,500,000.00 /span 元 /span /p p style=" line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 本项目评标办法为:综合评分法 /span /p p style=" margin-top:8px margin-right:0 margin-bottom:8px margin-left:0 line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 二、投标人资格要求: /span /strong /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 1. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 投标人须为国内合法注册登记的法人; /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family: 宋体" 2. /span span style=" font-size:16px line-height: 150% font-family:宋体" 本次招标不接受联合体投标,中标后不允许分包、转包; /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family: 宋体" 3. /span span style=" font-size:16px line-height: 150% font-family:宋体" 本次招标接受投标人选用进口产品参与投标,但不排斥国内产品,进口产品是指通过海关验放进入中国境内且产自关境外的产品; /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 4. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 参与本项目投标前三年内,投标人在经营活动中没有重大违法记录,不存在被有关部门禁止参与招标采购活动且在有效期内的情况; /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 5. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 投标人须在本校进行投标登记并领取招标文件。 /span /p p style=" margin-top:8px margin-right:0 margin-bottom:8px margin-left:0 line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 三、报名的时间、地点及方式: span style=" color:red" (自助投递) /span /span /strong /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体" 1. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 投递时间:北京时间【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 09 /span 】日至【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 19 /span 】日,每天 span 9:00 /span 至 span 17:00 /span (节假日除外)。 /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 2. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 自助投递地点:南方科技大学 span 3 /span 号门投标报名资料投递箱。 /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 3. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 报名方式:填写《投标报名登记表》、《诚信承诺函》,并提供企业营业执照副本复印件、法定代表人证明书(含身份证复印件)、法定代表人授权委托书(含身份证复印件)、 /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 社保部门出具的被授权人近三个月社保证明资料, /span span style=" font-size:16px line-height: 150% font-family:宋体 color:black" 以上资料必须加盖公章、统一密封在一个档案袋内放入指定投递箱。是否报名成功以南方科技大学采购与招标管理部电子邮件回复为准。 /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 4. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 报名成功并领取了招标文件,而不参加投标的潜在投标人,请在开标前 span 3 /span 日以书面形式通知招标人,书面文件密封在一个档案袋内放入指定投递箱,格式自拟。 /span /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 5. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 投标人递交投标文件时提供的所有资料必须真实、有效,若发现有提供虚假资料投标的将取消其投标资格,并将上报相关部门根据国家相关规定予以处罚。 /span /p p style=" margin-top:8px margin-right:0 margin-bottom:8px margin-left:0 line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 四、质疑受理时间: /span /strong /p p style=" text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 投标人可在【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 15 /span 】日 span 17:00 /span 前,以书面形式(加盖公章)通知招标人,书面文件密封在一个档案袋内放入指定投递箱,并将质疑文件 span Word /span 版本发送至 span zhaobb@sustech.edu.cn /span ,质疑受理时间以两份材料收齐时间起算,逾期不予受理。针对同一采购程序环节的质疑须在法定质疑期内一次性提出。 /span /p p style=" text-align:left line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height: 150% font-family:宋体 color:black" 五、出于疫情防控需要,此项目不邀请投标代表出席开标。请各投标人法定代表人或其授权代表人(须携带身份证原件)在本项目要求递交投标文件的时间,将投标文件递交至南方科技大学 span 3 /span 号门接收投标文件处,逾期不予受理。 /span /strong /p p style=" text-align:left line-height:150%" strong span style=" font-size:16px line-height: 150% font-family:宋体 color:black" 六、投标截止时间、开标时间及地点: /span /strong /p p style=" text-align:left text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 1. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 递交投标文件时间:【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 21 /span 】日 span 09:30-10:00 /span (北京时间) /span /p p style=" text-align:left text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 2. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 投标截止时间:【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 21 /span 】日 span 10:00 /span (北京时间) /span /p p style=" text-align:left text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 3. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 递交投标文件地点:南方科技大学 span 3 /span 号门接收投标文件处 /span /p p style=" text-align:left text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 4. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 开标时间:【 span 2020 /span 】年【 span 10 /span 】月【 span 21 /span 】日 span 11:00 /span (北京时间) /span /p p style=" text-align:left text-indent:32px line-height:150%" span style=" font-size: 16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 5. /span span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 开标地点:南方科技大学创园 span 4 /span 栋 span 211 /span 开标室。 /span /p p style=" margin: 8px 0px text-indent: 32px line-height: 150% " span style=" font-size:16px line-height:150% font-family:宋体 color:black" 开标结果与评标结果,将在南方科技大学采购与招标管理部网站进行公示。 /span /p
  • 新型激光直写无掩模光刻机在孚光精仪发布问世
    孚光精仪在上海,天津同时发布一款新型激光直写式雾无掩模光刻系统。这款无掩模光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领先的无掩模光刻系统。这款激光直写无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。 激光直写无掩模光刻系统特色尺寸:925x925x1600mm内置计算机控制接口激光光源:375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置 详情浏览:http://www.f-opt.cn/guangkeji.html 激光直写无掩模光刻机参数线性写取速度:500mm/s位移台分辨率:100nm重复精度: 100nm晶圆写取面积:1—6英寸衬底厚度:250微米-10毫米激光点大小:1-100微米准直精度:500nm Email: info@felles.cn 或 felleschina@outlook.com Web: www.felles.cn (激光光学精密仪器官网) www.felles.cc (综合性尖端测试仪器官网) www.f-lab.cn (综合性实验室仪器官网) Tel: 021-51300728, 4006-118-227

无掩膜光刻机相关的方案

  • 氦质谱检漏仪光刻机检漏
    上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
  • 氦质谱检漏仪电子束光刻机检漏
    上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件, 通信设备等多个领域的研发及生产. 经过伯东推荐采购氦质谱检漏仪 ASM 310 用于电子束光刻机腔体检漏.
  • 小型台式无掩膜光刻机助力开发新型晶体管实现新冠肺炎快速筛选
    在新冠疫情大流行的背景下,从大量人群中快速筛查出受感染个体对于流行病学研究有着十分重要的意义。目前,新冠病毒诊断方法包括血清学和病毒核酸测试,主要是以分析逆转录聚合酶链反应作为金标准,此方法在检测中核酸提取和扩增程序耗时较长,很难满足对广泛人群进行筛查的要求,因此,亟需发展一种快速的监测方法应对新冠疫情。近期,复旦大学魏大程教授课题组利用MicroWriter ML3小型台式无掩膜光刻机制备出基于石墨烯场效应晶体管(g-FET)的生物传感器。该传感器上拥有Y形DNA双探针(Y-双探针),可灵敏且快速的实现新冠病毒的核酸检测分析。该传感器中的双探针设计,可以同时靶向新冠病毒核酸的两个目标基因区域:ORF1ab和N基因,从而实现更高的识别率和更低的检出限(0.03份μ L− 1)。这一检出限比现有的核酸分析低1-2个数量,可避免混检过程中样本病毒载量较低而产生漏网之鱼,实现的混合测试。该传感器也具有快的检测速度,快的核酸检测速度约为1分钟。由于快速、超灵敏、易于操作等特点以及混合检测的能力,这一传感器在大规模范围内筛查新冠病毒和其他流行病感染者方面具有巨大的应用前景。

无掩膜光刻机相关的资料

无掩膜光刻机相关的试剂

无掩膜光刻机相关的论坛

  • 光刻机工作原理和组成

    光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,不同光刻机的成像比例不同,有5:1,也有4:1。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图(即芯片)。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。现在最先进的芯片有30多层。http://www.whchip.com/upload/201608/1471850877761920.png 上图是一张光刻机的简易工作原理图。下面,简单介绍一下图中各设备的作用。测量台、曝光台:承载硅片的工作台,也就是本次所说的双工作台。光束矫正器:矫正光束入射方向,让激光束尽量平行。能量控制器:控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置:设置光束为圆型、环型等不同形状,不同的光束状态有不同的光学特性。遮光器:在不需要曝光的时候,阻止光束照射到硅片。能量探测器:检测光束最终入射能量是否符合曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。掩模版:一块在内部刻着线路设计图的玻璃板,贵的要数十万美元。掩膜台:承载掩模版运动的设备,运动控制精度是nm级的。物镜:物镜由20多块镜片组成,主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小,再被激光映射的硅片上,并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大,精度的要求高。硅片:用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸,尺寸越大,产率越高。题外话,由于硅片是圆的,所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系,根据缺口的形状不同分为两种,分别叫flat、notch。内部封闭框架、减振器:将工作台与外部环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,并维持稳定的温度、压力。

  • 微流控芯片光刻机优势及特色

    [b]微流控芯片光刻机[/b]专业为[b]微流控芯片制作[/b]而设计,用于[b]刻画制作微结构[/b]表面,全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料。[b]微流控芯片光刻机[/b]采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。[b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html]微流控芯片光刻机[/url]特色[/b]可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/photolithography-MS10.JPG[/img]无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/microcontact-printing.JPG[/img]微流控芯片光刻机:[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html[/url]

无掩膜光刻机相关的耗材

  • 无掩膜光刻机配件
    无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利,大大提高影印和新产品研发的效率,节省时间,是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸:925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源:375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度:500mm/s重复精度: 100nm晶圆写取面积:1—6英寸衬底厚度:250微米-10毫米激光点大小:1-100微米准直精度:500nm
  • 微流控芯片光刻机系统配件
    微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计,用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念,一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能,而且不需要无尘环境,用户安装使用不再需要单独建设超净间,从而大大提高用户的使用经济性和方便性。 微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作,适合几乎所有常用材料,可以根据用户的芯片衬底基片尺寸,形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统,具有两个易操作的软件,用户可以创建个人微结构图案,从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势,非常适合加工微纳结构用于MEMS,BioMEMS,微流控系统,传感器,光学元件,MicroPatterning微图案化,实验室单芯片,CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构,从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管(波长405纳米- 50毫瓦),光学扫描器和F-θ透镜(405纳米)。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用,较好的再现性和较高的质量,焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用,修改或其他用户使用。 编号 名称 MSUP 基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。
  • 飞秒激光直写光刻系统配件
    秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机,基于多光子聚合技术,适合市场上的各种光刻胶,能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制,简单的3D模型通过这种软件即可生成,对于比较复杂的3D模型,用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作,然后导入到三维光刻机的软件中,这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源,精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先,待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构,200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复,这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择,从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后,未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序: 在所需的微纳结构形成后,它被浸入到几种不同的溶剂中,以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的,重要参数可以根据要求而设定:浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象,可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件(三维光子晶体) ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学(光学端面微结构制作) ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学
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