物证重建设备

陕西修业临颖建设工程公司致力于高端实验室规划及咨询、实验室工程设计与技术服务的智慧实验室系统解决方案服务，自成立以来，公司致力于为国内一线科研用户提供实验室整体设计、施工及智能化解决方案服务，凭借实验室领域权威的专家团队和丰富的设计经验，陕西修业临颖获得了市场及用户的高度认可，并与各大领域科研机构达成战略合作，共建智慧实验室，打造未来实验室建设与改造的标杆。 我们的优势 真的站在用户的角度并具备极强的需求洞察能力量 具备优秀的资源整合能力 具备专业的解决用户难题的能力 具备岗位专家所具有的素质、能力和作风 具备高效协同的意识和持续创新的能力 我们的理念 功能性：实验室建设的好坏，最核心的内容是试验区域内的仪器设备是否能最大限度发挥效用，达到科研、教学等方面的要求。　 人性化：适当地色彩搭配、对于非功能性区域的合理布置，让实验者在紧张的工作之余享受人文关怀。 前瞻性：随着城市发展，周围设施的变化，环境会有变化。会影响到电子显微镜的使用。所以，及为保证长期有效使用及为预防未来周边环境环境恶化计，设计和建设需要有一定的前瞻性。 美观性：实验室建设改过程中，选择明快亲切的色彩，符合人体工程学的外形尺寸，方便、美观大方的样式，为实验室工作人员提供安全、舒适的工作环境。　 我们的设计原则 核心：以科研为中心进行设计创作。 舒适性：舒适的室内设计是离不开充足的阳光，无污染的清晰空气、安静的氛围，在本方案中，采用室内空间与光线的配合，营造出轻松安静的氛围。 概念：本次设计针对性较强，为生命科学科研实验室，本次方案设计中我们想打破那种气氛沉河的科研气氛，从色彩以及材料上入手使得整个空间突破压抑的气氛，在长时间的科研后，从视觉上对人进行一种视觉上的放松，从而优化整个科研空间。我们会从从家具的选择到空间中的排列、摆放，还有颜色的描配上，使空间具有独特的精神与心理需求的设计为高目的。，在发挥现有的物质条件，在满足使用功能的同时，来实现并创造出巨大的精神价值。 欧波同希望携手各电子显微镜使用单位共同打造专属功能合理、环境优良的实验室环境。

莱伯泰科公司一直致力于实验室工程整体解决方案，秉承安全、环保、节能、高效和新颖的国际化先进理念，不断创新，形成了独特的实验室建设模式，为国内实验室用户提供了优质的超净实验室建设整体解决方案。以专业的实验室理论、独特的设计理念和丰富的实践经验为您的实验室提供设计合理的净化通风空调系统，保证超净实验室实用、安全和舒适。安全高效的电气及自动控制系统温度、湿度、压力等工作状态实时监控，莱伯泰科公司专业开发的多点式自动控制核心技术保证了超洁净实验室的高效运转。安全便捷的集中供气系统根据实验室的运行情况为您量身定做气体管道系统，选择合适的配置，达到最佳气体输送要求，对有毒有害气体进行专业化安全处理。实验室纯水供应系统普通区高纯水进回水管道采用Clean-PVC材质，洁净区进回水管线采用PVDF材质，实验室内设置二次超纯，超纯水机出水水质低于18.2（25℃）MΩcm。高效环保的废气废水处理系统根据用户使用环境以及实验要求，莱伯泰科公司提供自主设计的干法和湿法废气处理解决方案以及实验室废水处理解决方案，保证实验室环境的清新和净化。

对涉火、涉爆案（事）件现场常见的磁性、非磁性的微小金属物证进行快速筛选，综合筛选的检出率达90%以上。极大地缓解了涉火、、涉爆现场大量金属物证及干扰物对人工筛选工作的难度和强度，对涉火、涉爆现场关键物证快速发现提取具有重要的实战价值。产品优势【一键操作】：操作简单，有色金属和非金属物质自动分离【小尺寸设计】：涡电流分选机成功小型化，便于现场使用【自动化设备】：分选过程高效全自动，无需人员监控【高效提取】：分选准确率超过95%，大大缩短工作时间【分选范围广】：分选粒径范围大，1-6nm的铜（铝）微珠和分段物均可分选

【产品简介】iForenOCT 1310 高分辨物证断层检验仪由公安部物证鉴定中心和北京鉴知技术有限公司共同研发，采用新型三维穿透成像技术，能在案件现场对物证进行原位、无损、快速、超高分辨的三维内部结构成像。高分辨物证断层检验仪可用于胶带、油漆、指纹、皮肤毛囊、针刺伤、朱墨时序等物证的检验与分析。对于外观相似的物证，高分辨物证断层检验仪可通过测量物证内部的结构及光学特征参数进行溯源，有助于在案件现场发现常规方法难以发现的隐藏物证。【技术特点】1、不损伤物证，采用1310nm宽带近红外光源，低能量无损伤；2、深入探测，多层分析，检测深度范围200μm-2mm；3、高清成像，三维成像空间分辨率达10μm，成像信噪比＞100dB 4、内部结构实时成像，二维实时断层成像速度达100帧每秒；5、快速重构物证三维形貌和内部影像，三维体成像时间＜10s；6、整机轻便，可随身携带，操作简单直观，适合现场使用；7、扫描成像范围＞6mm×6mm【可检测物证】胶带、尤其、指纹、皮肤毛囊、针刺伤、朱墨时序等各类物证

1 产品概述: 立式溅射镀膜设备，如TS-CJX/M系列，是一种广泛应用于制备各类光学膜和装饰膜的先进设备。该设备采用磁控溅射技术，通过高能离子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材表面，形成所需的薄膜层。立式结构设计使得设备在处理大面积基片时具有更高的效率和稳定性。2 设备用途：溅射镀膜设备（立式）的用途广泛，主要包括以下几个方面：光学领域：用于制备眼镜、光学镜片、摄影镜头等光学设备的镀膜，增加其防反射、增透、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、显示器件、太阳能电池板等电子元件的制造中，用于增加导电性、隔热性、防蚀性等功能。汽车工业：用于汽车镜片、灯具、车身涂层等零部件的制造，提高表面硬度、耐蚀性、抗划伤性等性能。医疗设备：在医疗器械的金属镀膜中采用溅射镀膜技术，以提高耐腐蚀性、生物相容性，并增加设备的功能性。3 设备特点溅射镀膜设备（立式）具有以下显著特点：高效沉积：溅射镀膜技术以其高沉积速率著称，能够在较短时间内形成均匀且高质量的薄膜。磁控溅射通过施加磁场进一步增加等离子体密度，提高溅射速率和沉积效率。低温操作：溅射镀膜过程中的低温环境能够有效避免基片材料因高温而发生降解或形变，保证薄膜和基片的整体性能。这对于温度敏感材料的镀膜尤为重要。均匀薄膜：溅射过程中，等离子体在靶材表面均匀分布，确保靶材原子的溅射均匀性。旋转基片技术进一步提高了薄膜在大面积基片上的均匀性。多样化靶材选择：溅射镀膜技术能够处理多种材料，包括金属、合金、陶瓷和复合材料，适用于不同工艺需求。 4 技术参数和特点：溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。仅基板搬送和侧面镀膜的方式节约空间的设计可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件根据镀膜物不同选择不同的阴排列丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应

基因实验室常用于生物安全实验室、检测实验室、公安系统实验室等。DNA分析技术在集成公安机关应用广泛，无论在刑事领域还是民事范畴， 其认定或排除犯罪嫌疑人、个体识别、亲权鉴定等作用均不可替代DNA 物证系全息物证，其局部包含着整体全部的信息，与传统的痕迹物证相比具有不可替代的优势， 尤其是DNA 技术本身的发展和DNA 数据库的建设将为鉴识科学插上飞翔的两翼。一、DNA实验室的功能区分区设置公安局系统实验室，主要用于刑侦破案辅助侦查，多为DNA鉴定实验室、化验实验室和PCR洁净实验室。常见的公安局(刑侦)实验室主要包括DNA、法医物证、理化、毒化、痕迹检验、文件检验以及影像技术等专业实验室。DNA实验室分为四个相对独立的区域：DNA提取区、PCR扩增区、检测区和检材保存实验数据分析处理区，是按照国际和国内公安部的标准进行建设。公安DNA实验室设计的高度一般为2.6-3米，各功能间将根据其不可逆工艺流程、实际用途、设备摆放及人性化等因素通盘布局划分：1. 普通实验区---法医物证常规检验室、法医物证存储室、受案室、检材室、骨骼提取实验室、数据比对分析室、紧急淋浴洗眼间、洁具间、洗衣间、测序仪专用UPS机房；2. 特殊实验区/污染控制区——更鞋/缓冲走廊、更衣/缓冲间、现场物证DNA提取间（30-50㎡）、嫌犯血样DNA提取间(15-30㎡）、试剂混配间(15-30㎡）、PCR扩增间(15-30㎡）、扩增产物测序间(15-30㎡）；二、SAREN三仁关于DNA实验室的建设建议1. 严格来说整个区域是需要有洁净度要求的，一般在10万级到万级左右，目前大部分单位在建设时没这方面概念，只用彩钢板隔断做成洁净区域。2. 地板用PVC比较好。PVC地板相对耐用，花色也有选择技巧，即使老化更换也简便。也有采用环氧树脂自流坪地面，不过这种不太推荐, 地板不耐磨，且不容易维护和更新。3. 首要考虑的因素——“安全”问题。实验室是最易发生爆炸、火灾、毒气泄露等的场所。三仁在做平面设计的时候，会要求保持实验室的通风流畅、逃生通道畅通，根据国际人体工程学的标准。4. 污染控制区基本格局：各功能间相互串通，即用套间方式进行人流/物流，此案应严禁采用，首先从房间格局上避免交叉污染；设置独立缓冲间为好（尤其是DNA提取间、PCR扩增间、试剂混配间），且人流/物流分道，流程相临间应设置物流传递窗；设置共用缓冲间/缓冲走廊为亦可。三、DNA实验室的设计要求1. 实验台与实验台通道划分标准(通道间隔用L表示) 　　① L 500mm时，一边可站人操作；　　② L 800mm时，一边可坐人操作；　③ L 1200mm时，一边可坐人，一边可站人，中间不可过人 　④ L 1500mm时，两边可坐人，中间可过人；　　⑤ L 1800mm时，两边可坐人，中间可过人可过仪器。2. 单人单面的工作空间中：走道间距为4英尺，约1200mm；置物高度为5英尺，约1500mm；操作间隙为2.5英尺，约750mm；3. 双人双面的工作空间中：走道间距为5英尺，约1500mm；置物高度为5英尺，约1500mm；操作间隙为2.5英尺，约750mm；4. 实验工作台与安全设备的走道间距为6英尺，约1800mm 5. 安全设备间的走道间距为6英尺。6. 实验室走廊及门窗的尺寸要求：走廊宽度应5英尺，门框尺寸（宽*高）：3英尺*7英尺（国内900mm*2000mm）；四、DNA实验室的仪器设备配置实验室配备一般来说标准是：一台高通量的基因分析仪，两台PCR扩增仪，一台纯水仪、一台DNA纯化仪，以及离心机、保温仪、振荡器、生物安全柜、移液器、冰箱等若干。要求仪器设备应定期保养维护、检定、校准（可以根据自己的需求在此基础上增加一些仪器，主要是看实验室的大小设计）。

2021生产建设项目水土保持监测设备、水土流失观测常规设备清单，由山东齐农信息科技有限公司提供，山东齐农信息科技有限公司是一家集农产品、食品、生态环境检测技术创新和产品生产与一体的高新技术企业。产品主要应用于土壤、水、大气、农产品、食品、化工等领域的检测。为农业、林业、气象、水利、环境、农产品检测等相关领域提供综合解决方案。2019生产建设项目水土保持监测设备、水土流失观测常规设备清单，由山东齐农信息科技有限公司提供。

1 产品概述: 卷绕式溅射设备，也称为卷绕磁控溅射镀膜机，是一种在真空环境下，利用磁控溅射技术将金属、合金、化合物或陶瓷等材料沉积到连续卷绕的柔性基材（如塑料薄膜、金属带等）上的先进镀膜设备。该设备主要由溅射室、卷绕系统、磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。在溅射过程中，通过高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基材上，形成所需的薄膜层。2 设备用途：卷绕式溅射设备具有广泛的应用领域，主要包括但不限于以下几个方面：柔性电子：用于在柔性基材上镀制各种介质膜、导电膜等，如ITO透明导电膜，广泛应用于柔性线路板、柔性显示器件等领域。太阳能电池：在金属带上镀制光学多层膜，用于制作薄膜太阳能电池，提高光电转换效率。包装与防伪：在包装材料上镀制防伪膜层，提高产品的防伪性能和美观度。电容器：在电容器电极上镀制金属薄膜，提高电容器的性能。3 设备特点卷绕式溅射设备具有以下几个显著特点：高效连续生产：设备采用连续卷绕的方式，实现了对柔性基材的连续镀膜处理，大大提高了生产效率。镀膜质量高：磁控溅射技术具有镀膜温度低、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点，能够制备出高质量的薄膜层。镀膜材料范围广：可适用于多种材料的镀膜处理，包括金属、合金、化合物和陶瓷等。 4 技术参数和特点：可根据工艺或生产性选择各种模组。通过任意、追加选择模组，可实现各种用途。在地面高度可以进行设备操作。优秀的氛围分隔性能和成膜工艺的改善，使高速率生产高品位的薄膜成为可能。触摸屏用配线膜、透明导电膜以及透明薄膜等。FPC用电膜

1 产品概述: 批次式溅射设备通常具有较大的处理腔室，能够同时处理多个基片或大面积基片。设备内部配备有精密的靶材安装系统、基片旋转装置、真空系统以及控制系统等关键部件。在工作时，设备首先通过真空系统抽除腔室内的空气，达到所需的真空度，然后通入工作气体（如氩气）并施加电压，使气体电离产生高能粒子。这些高能粒子轰击靶材表面，将靶材原子或分子溅射出来，并沉积在旋转的基片表面，形成均匀的薄膜。2 设备用途：批次式溅射设备在多个领域具有广泛的应用，主要包括：光学领域：用于制备光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜，以改善其透光性、反射率等光学性能。电子领域：在半导体器件、集成电路、平板显示器等电子产品的制造过程中，用于制备导电膜、绝缘膜、扩散阻挡层等功能性薄膜。汽车工业：在汽车零部件（如车灯、车窗、车身装饰件等）的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能，同时提高美观度。3 设备特点批次式溅射设备具有以下显著特点：高效性：能够同时处理多个基片或大面积基片，显著提高生产效率。均匀性：通过基片旋转装置和精密的靶材安装系统，确保薄膜在基片表面的均匀分布。灵活性：可更换不同材质的靶材，以制备不同种类的薄膜，满足不同工艺需求。可控性：配备有先进的控制系统，可精确控制溅射过程中的各项参数（如电压、电流、气体流量等），以获得所需的薄膜性能。 4 技术参数和特点：批次式溅射设备SV系列SV系列为纵型batch式溅射设备。为可以处理大量基板的回转型设备。SV-4540、6040、9045为回转型设备基板装载量大、适用于小~中规模的生产或少量多品种的生产各种基板上的电膜成膜、绝缘膜、电介质膜成膜

CMA实验室建设要求：实验室资质认证对场所环境和设施设备的通用要求1. 场所环境 检验检测机构应有固定的、临时的、可移动的或多个地点的场所，上述场所应满足相关法律法规、标准或技术规范的要求。检验检测机构应将其从事检验检测活动所必需的场所、环境要求制定成文件。 检验检测机构应确保其工作环境满足检验检测的要求。检验检测机构在固定场所以外进行检验检测或抽样时，应提出相应的控制要求，以确保环境条件满足检验检测标准或者技术规范的要求。 检验检测标准或者技术规范对环境条件有要求时或环境条件影响检验检测结果时，应监测、控制和记录环境条件。当环境条件不利于检验检测的开展时，应停止检验检测活动。 检验检测机构应建立和保持检验检测场所良好的内务管理程序，改程序应考虑安全和环境的因素。检验检测机构应将不相容活动的相邻区域进行有效隔离，应采取措施以防止干扰或者交叉感染。 检验检测机构应对使用和进入检验检测质量的区域加以控制，并根据特定情况确定控制的范围。2. 设备设施⑴ 设备设施的配备检验检测机构应配备满足检验检测机构（包括抽样、数据处理和分析）要求的设备和设施。用于检验检测的设施，应有利于检验检测工作的正常开展。设备包括检验检测活动所必须并影响结果的仪器、软件、测量标准、标准物质、参考数据、试剂、消耗品、辅助设备或相应组合装置。检验检测机构使用非本机构的设施和设备时，应确保满足本标准要求。a. 租用仪器设备的管理应纳入本检验检测机构的管理体系。b. 本检验检测机构可全权支配使用，即：租用的仪器设备由本检验检测机构的为人员操作、维护、检定或校准，并对使用环境和贮存条件进行控制。c. 在租赁合同中明确规定租用设备的使用权。d. 同一设备不允许在同一时期被不同检验检测机构共同租赁和资质认定。⑵ 设备设施的维护检验检测机构应建立和保持检验检测设备和设施管理程序，以确保设备和设施的配置、使用和维护满足检验检测工作要求。⑶ 设备管理a. 检验检测机构应对检验检测结果、抽样结果的准确性或有效性有影响或计量溯源性有要求的设备，包括用于测量环境条件等辅助测量设备有计划地实施检定或校准。设备在投人使用前,应采用核查、检定或校准等方式,以确认其是否满足检验检测的要求。所有需要检定、校准或有有效期的设备应使用标签、编码或以其他方式标识,以便使用人员易于识别检定、校准的状态或有效期。b. 检验检测设备,包括硬件和软件设备应得到保护,以避免出现致使检验检测结果失效的调整。检验检测机构的参考标准应满足溯源要求。无法溯源到国家或国际测量标准时，检验检测机构应保留检验检测结果相关性或准确性的证据。c. 当需要利用期间核查以保持设备的可信度时,应建立和保持相关的程序。针对校准结果包含的修正信息或标准物质包含的参考值，检验检测机构应确保在其检测数据及相关记录中加以利用并备份和更新。⑷ 设备控制检验检测机构应保存对检验检测具有影响的设备及其软件的记录。用于检验检测并对结果有影响的设备及其软件,如可能,应加以标识。检验检测设备应由经过授权的人员操作并对其进行正常维护。若设备脱离了检验检测机构的直接控制,应确保该设备返回后,在使用前对其功能和检定、校准状态进行核查,并得到满意结果。⑸故障处理设备出现故障或者异常时，检验检测机构应采取相应措施,如停止使用,隔离或加贴停用标签、标记,直至修复并通过检定、校准或核查表明能正常工作为止。应核查这些缺陷或偏离对以前检验检测结果的影响。⑹ 标准物质检验检测机构应建立和保持标准物质管理程序。标准物质应尽可能溯源到国际单位制(SI)单位或有证标准物质。检验检测机构应根据程序对标准物质进行期间核查。以上就是关于实验室资质认定（CMA）对场所环境和设施设备的新通用要求，希望对大家有所帮助。

ULVAC 研究开发用溅射设备 QAM系列低真空工艺环境本设备具备约1Pa～0.1Pa的等离子体持续放电压力范围，与传统设备相比能 够在更低压力下进行溅射成膜。多组分共溅射/多层膜溅射本设备具有多阴极同时对准衬底中心的结构，从而能够进行多组分共溅射成 膜。另外可以通过控制挡板开闭实现多层膜的制备。良好的膜厚分布本设备采用对衬底倾斜的入射方式，从而能够实现非常良好的膜厚分布。LTS的采用本设备通过采用ULVAC的LTS ※ 1专利技术，从而能够尽可能的抑制阴极附近的不均匀等离子体对衬底的影响。并且，该技术还能够尽可能的抑制来自阴极磁铁磁场的影响。 注）※ 1：LTS：Long Throw Sputter对磁性材料薄膜的对应本设备中使用的阴极能够对应各种磁性材料（Fe、Ni、Co等）。操作界面前置本设备通过将操作界面集中配置在设备前方，使得操作者能够仅在设备正面完 成设备的开启、关闭以及成膜等操作。先进的功能、直观的的操作以及安全性的实现Repeatability能够确保再现性本设备能够将成膜和加热的相关参数作为Recipe保存，从而通过自动运行来实现高再现性的实验。Safety能够在Interlock设置下安全操作本设备能够通过设置Interlock来防止误操作，从而实现对设备的保护和对人身安全的确保。同时，本设备能够一并管理设备状态，还能够 任意设定靶材寿命等参数在某数值下报警。Intuitive operation直观的操作界面本设备中排气和工艺的操作按钮以动作流程为基准而配置，从而能够直观地进行操作工艺。Analysis能够进行工艺数据分析本设备能够每隔１秒将工艺进行时的压力、加热、成膜时间的当前值作为履历并按时间序列(Time Series)记录。收集的数据以文本格式保在外部存储器中，并且能够利用计算机对保存的数据进行分析和记录。 高拓展性本设备能够通过模块的增设，来对应更多的用途。低真空工艺环境本设备具备约1Pa～0.1Pa的等离子体持续放电压力范围，与传统设备相比能够在更低压力下进行溅射成膜。多组分共溅射/多层膜溅射本设备具有多阴极同时对准衬底中心的结构，从而能够进行多组分共溅射成膜。另外可以通过控制挡板开闭实现多层膜的制备。良好的膜厚分布本设备采用对衬底倾斜的入射方式，从而能够实现非常良好的膜厚分布。采用LTS技术本设备通过采用ULVAC的LTS※1专利技术，从而能够尽可能的抑制阴极附近的不均匀等离子体对衬底的影响。并且，该技术还能够尽可能的抑制来自阴极磁铁磁场的影响。注）※1：LTS：Long Throw SputterUHV对应本设备通过使用可加热式的各配置，使得成膜腔室的压力能够到达1×10-6Pa※2以下。注）※2：本设备采用O-Ring Seal结构，与传统设备的金属Seal结构相比更加容易进行维护保养。对磁性材料薄膜的对应本设备中使用的阴极能够对应各种磁性材料（Fe、Ni、Co等）。 诸单元型 号QAM-4D 成膜腔室处理方式Load-Lock式阴极型式Long Throw Magnetron Sputtering●Helicon-Sputtering※1 ※可选阴极数2英寸阴极（磁性材料、非磁性材料共用）zui多搭载8台搭载电源DC500W 1台● DC500W、RF300W※2 zui多搭载8台 ※可选到达压力（UHV对应）1×10-4Pa 以下 （●1×10-6Pa 以下能够对应※3 ※可选）对应衬底尺寸Max.φ4英寸×1枚膜厚分布±5％以内（Al成膜式、衬底回转并用）衬底加热装置● 红外线灯式加热器 zui大500 ℃ ※可选● 高温型加热器 zui大800℃ ※可选排气系统1）分子泵2）油旋片泵● 干式泵 ※可选zui大气体输入量Max.50sccm（Ar）●Max.10sccm（O2） ※可选● Max.10sccm（N2） ※可选靶材尺寸φ2英寸腔体加热方式● 110℃烘烤 (包含腔体水冷却） ※可选 真空预抽室到达压力（分子泵对应）40Pa以下（●1×10-3Pa 以下 ※可选）搬送方式真空机械手式排气系统油旋片泵（● 分子泵与成膜室共用）※可选操作控制系统排气触屏式（PLC控制器） 远程手动※4 全自动※5成膜 厂务系统电力3φ AC200V 50 / 60Hz冷却水20～28℃、电阻率5KΩ以上、 供给压力0.2 ～ 0.3MPa压缩空气0.5 ～ 0.7MPa接地A类、D类

2021年水土保持监测设备清单-生产建设项目产品清单型号：QN系列品牌：华登电子产地：山东济南

土壤检测实验室建设仪器设备配套方案【来因科技】土壤检测实验室建设仪器设备配套方案，科研型高精度土壤肥料养分检测仪测土壤铵态氮、磷、钾三项要20分钟，测肥料氮、磷、钾三项需50分钟左右，微量元素单项检测需20分钟左右。土壤测定仪 IN-HT300便携式土壤养分测定仪报价→https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104395/C460708.htm科研型高精度肥料养分检测仪坚固耐用，便于携带；外接电压显示盘，可以直接显示即时检测电压，确保检测环境稳定，保证检测精确度；内置测土配方施肥系统，检测完成后可直接进行测土配方施肥计算；同时具有单独配方施肥计算模块；仪器内置百余种常见经济作物标准养分值，内置施肥校正系数，可对目标产量计算施肥量，以此指导农业生产；测土配方施肥结果可打印，打印内容包含作物种类、肥料种类、目标产量、需求总量、建议施肥方案；4种专用实验光源（红、蓝、绿、橙），光源波长稳定，寿命长达10万小时级别，重现性好，准确度高。土壤检测实验室建设仪器设备配套方案一 科研级高精度肥料实验室建设仪器设备配套方案（科研级）检测肥料、氮磷钾、有机质、微量元素、重金属、酸碱度(pH)、序号产品名称规格数量备注1科研型高精度肥料养分检测仪IN-HT3001检测项目：肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞。（可拓展检测土壤氮磷钾，有机质，微量元素，重金属)作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾标配试剂：肥料氮磷钾、有机质试剂一套2万分之一天平 量程200g/精度0.00011称量样品重量3超纯水机10L1提供蒸馏水4往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品5水浴锅双孔1加热溶解样品6电炉1kw1加热溶解样品7铁架台100克1前处理固定8样品缩分机3mm1均分样品 9样品粉碎机100g1样品粉碎10移液枪1-5ml2取样操作11PH计精度：0.01 误差：±0.11检测酸碱度12肥料电子水分测定仪0.02%1肥料水分快速测定土壤检测实验室建设仪器设备配套方案二 序号产品名称规格数量备注1科研型高精度土壤肥料养分检测仪IN-HT3001检测项目：土壤：土壤铵态氮、土壤有效磷、土壤速效钾、土壤硝态氮、土壤水解氮、土壤全氮、土壤全磷、土壤全钾、土壤有机质（丘林法）、土壤有机质（浸提法）、土壤钙、土壤镁、土壤硫、土壤硅、土壤硼、土壤铁、土壤铜、土壤锰、土壤锌、土壤氯、土壤铅、土壤砷、土壤铬、土壤铬、土壤汞、PH、含盐量、水分。肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾内置测土配方施肥系统，检测完成后可直接进行测土配方施肥计算；同时具有单独配方施肥计算模块；仪器内置百余种常见经济作物标准养分值，内置施肥校正系数，可对目标产量计算施肥量。2植物病害诊断仪IN-ZWB011检测细菌、真菌和病毒等残留。3土壤温度水分盐分PH测定仪IN-WSYP1土壤温度水分盐分PH测定仪采用一体化结构设计，可快速准确测量土壤中含水量、温度、电导率（盐分）、酸碱度，可对多处样地、不同土壤深度的水分含量温度盐分和PH进行快速检测。4肥料电子水分测定仪IN-SFY1快速测定水分5球磨机IN-100L1研磨样品6万分之一天平量程200g/精度0.00011 称量样品重量7盐分计范围：0.01%～1.00%1检测盐分相对误差：±5%8酸度计精度0.1/0-14PH1检测酸碱(PH)9超纯水机10L1 提供蒸馏水10往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品11水浴锅双孔1加热溶解样品12电炉1kw1加热溶解样品13取土钻2取样工具14土壤样品粉碎机100克1粉碎样品15土壤样品筛2个1筛分样品16样品缩分机2均分样品17刻度移液管一套1ml、2ml、5ml、10ml18三角瓶5100ml19容量瓶5100ml20砷反应装置1检测重金属砷21碱解氮反应装置1检测碱解氮22移液枪头若干搭配移液枪使用23移液枪1-5ml3取样操作24肥料样品缩分机缩分粒度小于3mm1均分样品25口罩若干防护使用26防护衣4件防护使用27实验室手套一套防护使用28实验室器皿一宗洗瓶、角勺、铝盒、吸球、比色皿等29垃圾桶4废品收纳30推车1辆物资运输31 冰箱1台放试剂物资等使用

有机肥厂实验室建设仪器设备配套方案【来因科技】有机肥厂实验室建设仪器设备配套方案，科研型高精度肥料养分检测仪测土壤铵态氮、磷、钾三项要20分钟，测肥料氮、磷、钾三项需50分钟左右，微量元素单项检测需20分钟左右。科研型高精度肥料养分检测仪坚固耐用，便于携带；外接电压显示盘，可以直接显示即时检测电压，确保检测环境稳定，保证检测精确度；内置测土配方施肥系统，检测完成后可直接进行测土配方施肥计算；同时具有单独配方施肥计算模块；仪器内置百余种常见经济作物标准养分值，内置施肥校正系数，可对目标产量计算施肥量，以此指导农业生产；测土配方施肥结果可打印，打印内容包含作物种类、肥料种类、目标产量、需求总量、建议施肥方案；4种专用实验光源（红、蓝、绿、橙），光源波长稳定，寿命长达10万小时级别，重现性好，准确度高。有机肥厂实验室建设仪器设备配套方案一 科研级高精度肥料实验室建设仪器设备配套方案（科研级）检测肥料、氮磷钾、有机质、微量元素、重金属、酸碱度(pH)、序号产品名称规格数量备注1科研型高精度肥料养分检测仪IN-HT3001检测项目：肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞。（可拓展检测土壤氮磷钾，有机质，微量元素，重金属)作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾标配试剂：肥料氮磷钾、有机质试剂一套2万分之一天平量程200g/精度0.00011称量样品重量3超纯水机10L1提供蒸馏水 4往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品5水浴锅双孔1加热溶解样品6电炉1kw1加热溶解样品7铁架台100克1前处理固定8样品缩分机3mm 1均分样品9样品粉碎机100g1样品粉碎10移液枪1-5ml2取样操作11PH计精度：0.01 误差：±0.11检测酸碱度12肥料电子水分测定仪0.02%1肥料水分快速测定 有机肥厂实验室建设仪器设备配套方案二 序号产品名称规格数量备注1科研型高精度土壤肥料养分检测仪IN-HT3001检测项目：土壤：土壤铵态氮、土壤有效磷、土壤速效钾、土壤硝态氮、土壤水解氮、土壤全氮、土壤全磷、土壤全钾、土壤有机质（丘林法）、土壤有机质（浸提法）、土壤钙、土壤镁、土壤硫、土壤硅、土壤硼、土壤铁、土壤铜、土壤锰、土壤锌、土壤氯、土壤铅、土壤砷、土壤铬、土壤铬、土壤汞、PH、含盐量、水分。肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾内置测土配方施肥系统，检测完成后可直接进行测土配方施肥计算；同时具有单独配方施肥计算模块；仪器内置百余种常见经济作物标准养分值，内置施肥校正系数，可对目标产量计算施肥量。2植物病害诊断仪IN-ZWB01 1检测细菌、真菌和病毒等残留。3土壤温度水分盐分PH测定仪IN-WSYP1土壤温度水分盐分PH测定仪采用一体化结构设计，可快速准确测量土壤中含水量、温度、电导率（盐分）、酸碱度，可对多处样地、不同土壤深度的水分含量温度盐分和PH进行快速检测。4肥料电子水分测定仪IN-SFY1快速测定水分5球磨机IN-100L1研磨样品6万分之一天平量程200g/精度0.00011称量样品重量7盐分计范围：0.01%～1.00%1检测盐分相对误差：±5%8酸度计精度0.1/0-14PH1检测酸碱(PH)9超纯水机10L1提供蒸馏水10往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品11水浴锅双孔1加热溶解样品12电炉1kw1加热溶解样品13取土钻2取样工具14土壤样品粉碎机100克1粉碎样品15土壤样品筛2个1筛分样品16 样品缩分机2均分样品17刻度移液管一套1ml、2ml、5ml、10ml18三角瓶5100ml19容量瓶5100ml20砷反应装置1检测重金属砷21碱解氮反应装置1检测碱解氮22移液枪头若干搭配移液枪使用23 移液枪1-5ml3取样操作24肥料样品缩分机缩分粒度小于3mm1均分样品25口罩若干防护使用26防护衣4件防护使用27实验室手套一套防护使用 28实验室器皿一宗洗瓶、角勺、铝盒、吸球、比色皿等29垃圾桶4废品收纳30推车1辆物资运输31冰箱1台放试剂物资等使用

创新将质谱检测和快检技术融为一体，是目前市面唯一无需前处理、直接取样且无侵入式取样的检测设备。设备在保留了质谱高灵敏、准确的优点，将单次检测时间缩短至20秒内，是公安痕量限速检测鉴定的一大利器。离子源还可适配市面各家单质谱，搭载至移动毒物查缉车上，最大程度满足客户需求。产品优势：| 取样便捷 实用易用 | 探针接触取样，物体表面和生物表面接触、液体蘸取可进行半定量取样| 快速高效 精确度高 | 无需任何前处理20秒内完成200种以上项目检测，可达ppb级| 检测物质 覆盖全面 | 检测范围内已有746种毒物（含合成大麻素、新精神活性物质等新型毒物）、易制毒化学品、食药中非法添加物有毒物质等，数据库还可拓展检测及判读数据库。应用场景：| 污水溯源 | 污水毒情溯源| 物流快筛 | 毒物痕量现场稽查及寄递物流快检| 活动保障 |大型活动现场安全保障

一个国家的实验室水平标志着科技与经济的发达程度，直接影响着科研成就，我国的实验室已经进入专业化环保化科技化安全化综合化，推动着科学的进步和国民经济的发展。实验室建设是解决很多企业综合发展的一个新阶段。专业的实验室建设可以合理节省资金，科学发展，对未来实验室的需求建设有好的可持续性发展，安全节能环保智能化应用都是实验室规划及建设的重点。　　随着计算机和信息技术在实验室的应用，对传统的实验室建设与管理观念产生了巨大的冲击，信息技术正在逐渐地改变着实验室的建设模式和管理模式，计算机智能化的出现，使大量脑力及体力劳动被高效，准确，灵活的智能化系统取代，告别传统的繁琐工作程序，简化实验室工作流程，提高工作的效益，让实验室工作更安全，更方便，更省时，更省力，更体现个性化和人性化的结合。使工作人员身心更健康，在新的实验室空间里提高综合发展，激发工作灵感。　　实验室建设将安全节能环保作为实验室规划设计重中之重的首要考虑问题，对于实验室废气废渣的处理等问题，都要注重，因此操作人员的身心健康和社会环境放在首要位置，因此改变实验室落后的现状，为实验室工作者创造安全，高效，舒适，环保的环境并保护环境，是人类的共同愿望。一定要建立绿色环保的智能化实验室，标志着一个崭新的科技实验室时代。　　实验室装修设计，不是装修的越贵越好，而是实验室装修设计要符合未来发展和适合自己应用方向目标及安全问题为核心内容。北京华旭只专注实验室工程事业，从事20年之久，经验丰富，团队技术好，欢迎参考我们，实验室工程包括实验室通风，空调，洁净，环保，供气，给排水，纯水，供电，智能化，安全防护，管道系统。北京华旭承接各种实验室工程总包服务，欢迎咨询了解更多实验室装修与设计。

溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO，AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利，包括：多腔室PECVD沉积系统 – 主要产品 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅（微晶硅）材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作）公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括：材料器件非晶硅（a-Si:H)薄膜硅太阳电池纳米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶体管氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)成像器件氧化锌(AZO)，铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)X光探测器MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。

溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO，AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利，包括：多腔室PECVD沉积系统 – 主要产品 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅（微晶硅）材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作）公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括：材料器件非晶硅（a-Si:H)薄膜硅太阳电池纳米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶体管氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)成像器件氧化锌(AZO)，铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)X光探测器MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。

1 产品概述: Load-lock式溅射设备是一种采用Load-lock（预真空锁）技术的溅射镀膜设备。这种设备通过在真空溅射室之前增加一个预真空锁室（Load-lock chamber），实现了基片在预真空环境下进行快速装卸，同时保持了溅射室的高真空状态，避免了因频繁开闭溅射室而导致的真空度下降和污染问题。该设备结合了高真空溅射技术和自动化的基片处理系统，提供了高效、稳定且可控的薄膜制备解决方案。2 设备用途：Load-lock式溅射设备主要用于制备高质量、高性能的薄膜材料，广泛应用于以下几个领域：光学领域：用于光学镜片、滤光片、反射镜等光学元件的镀膜，以改善其光学性能，如透光性、反射率等。电子领域：在半导体器件、集成电路、平板显示器等电子产品的制造过程中，用于制备导电膜、绝缘膜、扩散阻挡层等功能性薄膜。汽车工业：在汽车零部件的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能，同时提高美观度。3 设备特点Load-lock式溅射设备具有以下几个显著特点：高效性：通过Load-lock技术，实现了基片的快速装卸，减少了真空室暴露于大气的时间，提高了生产效率。高真空度：溅射室始终保持高真空状态，有效避免了污染和氧化问题，保证了薄膜的纯净度和质量。自动化程度高：设备配备有自动化基片处理系统，能够实现基片的自动装卸、旋转和定位，减少了人工干预，提高了生产的一致性和稳定性。 4 技术参数和特点：活用过往的工艺及数据的know-how，创新的的便利设计在Load-lock室内搭载cassette机构（可选）提升生产能力基板搬送尺寸大为. φ300mm（膜厚均一性保证部分为中心φ200mm部份）可对应多个cathode多层成膜/共溅射可由touch panel操作开始自动制程、输入recipe实现省力化运作可对应Data-logging

在作物成长的过程中，它所需要的营养元素众多。但无论是磷、氮、钾这些常规的营养物质，还是钙、镁、硼这些微量元素，都不比有机质的功效来得大。有机质能为作物提供食物，加快其生长发育的进程。而且有机质对于土壤环境的可持续发展也有着积极的作用。它能改善土壤的性质，增强土壤保水保肥的能力，激发土壤微生物的活性，减少土壤中的重金属和农药残留。然而，在土壤环境日益恶劣的当下，土壤中原有的有机质含量与日俱减。这就致使人们不得不通过施加肥料的方式来增加土壤中的有机质含量。但是，市面上的肥料种类多，如：复合肥、复混肥、掺混肥、BB肥、有机肥、无机肥、水溶肥、叶面肥、微生物肥料等等，质量参差不齐，如何辨别肥料是否有效成了当务之急。肥料厂实验室建设配置方案配备科研型高精度肥料养分检测仪，能够检测肥料中的氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞等等。肥料厂实验室建设方案主要包括科研型高精度肥料养分专用检测仪、肥料电子水分测定仪、万分之一天平、往复振荡器、 超纯水机、砷反应装置、碱解氮反应装置、肥料样品缩分机等设备。肥料厂专用高标准实验室建设仪器设备配套方案可以保证农产品质量安全和生态环境安全，对于提高人民生活水平质量具 有重要的意义。　　肥料厂实验室建设配套方案是食品安全、人体健康、环境保护所需要的，我们要重视起来，并付诸实际行动，消费者选择肥料的时候，要选择专业的肥料厂生产厂家，做好全面的考察。随着社会的进步和科技的发展，人们逐渐意识到农业生产过程中施用肥料造成的危害及其严重程度，加强无公害化农业的 实施，降低农产品的农药残留量，把控肥料生产质量，提高农产品效益，是肥料厂经营者获得大家信赖的基础。肥料厂实验室建设仪器设备配套方案（科研级）检测土壤、肥料氮磷钾、碱解氮、有机质、微量元素、重金属、酸碱度(pH)、含盐量序号产品名称规格数量备注1科研型高精度土壤肥料养分检测仪IN-HT3001检测项目：土壤：土壤铵态氮、土壤有效磷、土壤速效钾、土壤硝态氮、土壤水解氮、土壤全氮、土壤全磷、土壤全钾、土壤有机质（丘林法）、土壤有机质（浸提法）、土壤钙、土壤镁、土壤硫、土壤硅、土壤硼、土壤铁、土壤铜、土壤锰、土壤锌、土壤氯、土壤铅、土壤砷、土壤铬、土壤铬、土壤汞、PH、含盐量、水分。肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾内置测土配方施肥系统，检测完成后可直接进行测土配方施肥计算；同时具有单独配方施肥计算模块；仪器内置百余种常见经济作物标准养分值，内置施肥校正系数，可对目标产量计算施肥量。2植物病害诊断仪IN-ZWB011检测细菌、真菌和病毒等残留。3土壤温度水分盐分PH测定仪IN-WSYP1土壤温度水分盐分PH测定仪采用一体化结构设计，可快速准确测量土壤中含水量、温度、电导率（盐分）、酸碱度，可对多处样地、不同土壤深度的水分含量温度盐分和PH进行快速检测。4肥料电子水分测定仪IN-SFY1快速测定水分5球磨机IN-100L1研磨样品6 万分之一天平量程200g/精度0.00011称量样品重量7盐分计范围：0.01%～1.00%相对误差：±5%1检测盐分8酸度计精度0.1/0-14PH1检测酸碱(PH) 9超纯水机10L1提供蒸馏水10往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品11水浴锅双孔1加热溶解样品12电炉1kw1加热溶解样品13取土钻2取样工具14土壤样品粉碎机100克1粉碎样品 15土壤样品筛2个1筛分样品16样品缩分机 2均分样品17刻度移液管一套1ml、2ml、5ml、10ml18三角瓶5100ml19容量瓶5100ml20砷反应装置1检测重金属砷21碱解氮反应装置1检测碱解氮22移液枪头若干搭配移液枪使用23移液枪1-5ml3取样操作24肥料样品缩分机缩分粒度小于3mm1均分样品25口罩若干防护使用26防护衣4件防护使用27实验室手套一套 防护使用28实验室器皿一宗洗瓶、角勺、铝盒、吸球、比色皿等29垃圾桶4废品收纳30推车1辆物资运输31冰箱1台放试剂物资等使用

农林院校土肥实验室建设主要仪器设备清单@农林院校土肥实验室建设主要仪器设备清单　　品牌：云唐® 型号：YT-TRX04　　全项目土壤肥料养分检测仪器特点：　　1、可检测土壤及化肥、有机肥(含叶面肥、水溶肥、喷施肥等)、植株中的速效氮、速效磷、有效钾、全氮、全磷、全钾、有机质、酸碱度、含盐量，钙、镁、硫、铁、锰、硼、锌、铜、氯、硅、钼等各种中微量元素以及铅、铬、镉、汞、砷、镍、铝、氟、钛、硒等各种重金属含量。　　2、安卓智能操作系统，采用更加高效和人性化操作，仪器标配wifi无线上传、4G联网传输，快速上传数据。　　3、内置作物专家施肥系统，可对百余种全国农业、果树、经济作物的目标产量计算推荐施肥量，依据施肥配方科学指导农业生产。　　4、采用精密旋转比色池设计，光源一致性更加精确保证检测精度。一次性可快速检测12个样品，极大提升检测效率，降低检测成本。　　5、内置植物营养诊断标准图谱，根据各农作物营养缺失的图片，进行叶面对比，诊断丰缺。　　6、采用高精度滤光片技术自主专利分析方法(专利号：ZL 2018 2 1777724.7)，比色槽部分采用标准1cm比色皿，无机械位移及磨损，光路测试定位精确，有效屏蔽外光干扰，保证检测结果优于国标要求。　　7、仪器具有4G内存，可长期存储数据，并配有上传平台，无需数据线，数据可直接无线上传，方便进行数据管理和数据长期分析。　　8、仪器可自由编辑打印信息，仪器内置新一代高速热敏打印机，检测完成可自动打印检测报告和二维码。　　9、高灵敏7寸电容触摸屏，高清晰高交互显示，大程度降低传统仪器的繁琐操作和失误。　　10、每个通道均配置四波长冷光源，所有光源实现恒流稳压，保证波长稳定。 硅半导体作为信号接收系统，寿命长达10万小时级别。重现性好，准确度高。　　11、高强度PVC工程塑料手提箱设计，坚固耐用，便于携带，供电方式为交直流两用，可野外流动测试配套成品药剂。　　一、功能多、测试项目齐全：　　1、土壤养分：●铵态氮、硝态氮、速效磷、速效钾、有机质、全氮、pH值、含盐量、水分、碱解氮等十项 ●中微量元素：钙、镁、硫、铁、锰、硼、锌、铜、氯、硅、钼等。　　2、肥料养分：●单质化肥中的氮、磷、钾 ●复(混)合肥及尿素中的铵态氮、硝态氮、磷、钾、缩二脲 ●有机肥中速效氮、速效磷、速效钾、全氮、全磷、全钾、有机质，各种腐植酸、微量元素(钙、镁、硫、铁、锰、硼、锌、铜、氯、硅、钼)等。　　3、植株养分：●植株中的氮素、磷素、钾素 硝酸盐、亚硝酸盐 钙、镁、硫、铁、锰、硼、锌、铜、氯、硅、钼等项。　　4、烟叶养分：全氮、全磷、全钾、还原糖、水溶性总糖、硼、锰、铁、铜、钙、镁等20项。　　5、土壤、肥料重金属：铅、铬、镉、砷、汞、镍、铝、氟、钛、硒等十余种重金属。　　6、食品(水果、蔬菜等):硝酸盐、亚硝酸盐、重金属(铅、铬、镉、砷、汞、镍、铝、氟、钛、硒)等项。　　7、水质：●铵态氮、硝酸盐、亚硝酸盐、磷、钾、硬度、PH、铁、铜、锰、锌、硼、氯、硫、硅、钼等。　　二、全项目土壤肥料养分检测仪器技术指标：　　1.电源：交流 220±22V 直流 12V+5V(仪器标配内置锂电池也可用车载电源)　　2.功率： ≤5W　　3.量程及分辨率：0.001-9999　　4.重复性误差： ≤0.02%(0.0002，重铬酸钾溶液)　　5.仪器稳定性：一个小时内漂移小于0.3%(0.003，透光度测量)。仪器开机预热5分钟后，三十分钟内显示数字无漂移(透光度测量) 一个小时内数字漂移不超过0.3%(透光度测量)、0.001(吸光度测量) 两个小时内数字漂移不超过0.5%(0.005，透光度测量)。　　6.线性误差： ≤0.1%(0.001，硫酸铜检测)　　7.灵敏度：红光≥4.5 ×10-5 蓝光≥3.17×10-3 绿光≥2.35×10-3 橙光≥2.13×10-3　　8.波长范围 ：红光：680±2nm 蓝光：420±2nm 绿光：510±2nm 橙光：590±4nm　　9.PH值(酸碱度)： (1)测试范围：1～14 (2)精度：0.01 (3)误差：±0.1　　10.含盐量(电导)：(1)测试范围：0.01%～1.00% (2)相对误差：±5%　　11.土壤水分技术参数水分单位：﹪(g/100g) 含水率测试范围：0-100﹪ 误差小于0.5%　　12.土壤中速效N、P、K三种养分一次性同时浸提测定、科学推荐施肥量(农业部速测行业标准起草者)　　13.肥料中氮(N)、磷(P)、钾(K)等养分同时、快速、准确检测(专利技术)　　14.测试速度：测一个土样(N、P、K)≤30分钟(含前处理时间，不需用户提供任何附件)　　15.同时测8个土样≤1小时(含前处理时间)　　16.仪器尺寸：43×34.5×19cm, 主机净重：5.1kg　　三、测试速度：　　测一个土壤样品(N、P、K)≤30分钟，同时检测三个土壤样品(N、P、K)≤40分钟 　　测试一个肥料样(N、P、K)≤50分钟，同时检测三个肥料样品(N、P、K)≤1.5小时。　　四、测试误差：　　土壤误差≤5% 肥料单项误差≤0.5%，氮磷钾三项误差≤1%。　　五、产品仪器特点：　　全项目土壤肥料养分检测仪功能全：测试项目国内外全面(各类药剂均可选购)。　　配套齐全：该仪器集药、器、仪为一体，携带方便，相当于一个小型实验室。适于农业服务部门或农资经销商、肥料厂商测土施肥和鉴别肥料真假。　　操作简便、速度快捷，成品药剂开瓶即用，无须配置。　　性能可靠：工作稳定性优于国家标准JJG179-90指标的6倍，重复性达到光栅型分光光度计指标水平。　　六、售后服务：　　仪器整机质保五年，终身免费维修服务，免费邮寄仪器、免费培训。　　终身免费提供土肥等农业相关技术支持!　　七、全项目土壤肥料养分检测仪配置清单：仪 器 箱 药 品 箱 序号 名 称 数量 序号 名 称 数量 01主机(内置打印机)1台 01土壤养分测定用药一套 见说明书 02PH电极 1个 02三角瓶100ml2只 03TDS计1个03小反应瓶 9只 04比色皿 4只 04容量瓶 1个 05电子天平（100g/0.01g） 1台 05洗瓶 1个 06熔断器 2个 06角勺 1套 07刻度吸管1、5、10ml各1支 07定性滤纸 2盒 08主机电源线 1根 08吸球 1个 09直流12V线 1根 09小铝盒 1个 10说明书、合格证 1套 10量筒（50mL） 1个 111110ml离心管 40个 1212离心管架 1个

SD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 离子溅射部分是比较常用的镀膜方式，是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。 热蒸发部分是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。热蒸发主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数：仪器尺寸 ：主机 300mm×360mm×380mm（W×D×H） 蒸镀 300mm×360mm×160mm（W×D×H）真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）溅射靶材：Au溅射靶材大小：φ50mm样品台：样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，样品台可调节高度。也可根据 自身要求定制样品台溅射工作电压：0-1600V (DC)可调溅射电流：0-50mA溅射定时：0-360S蒸碳电流 0-100A(AC)蒸发材料：碳纤维 蒸发工作电压：0-30V蒸发时间：0-1S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种 输入电压：220V(可做110V),50HZ真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。6、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构

ETD-2000C型离子溅射仪在ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点，可以满足广大SEM用户样品制备的需要。 离子溅射部分是比较常用的镀膜方式，是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。 具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。 热蒸发部分是把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。热蒸发主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数：仪器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）溅射靶材：Au（标配），也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。溅射靶材大小：φ50mm样品台：样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台溅射工作电压：0-1600V (DC)可调溅射电流：0-50mA溅射定时：0-360S蒸碳电流 0-100A(AC)蒸发材料：碳纤维 蒸发工作电压：0-30V蒸发时间：0-1S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种 输入电压：220V(可做110V),50HZ真空泵： 2升机械旋转泵（国产VRD-8）特点：1、简单、经济、可靠。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、真空保护可避免真空过低造成设备短路。4、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。5、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。6、数字计时器定时自由方便。7、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料

电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。 特点和优点 ✬ 高性能离子溅射✬ 独特的即插即用溅射模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计，CCU-010 LV_SP-010为磁控离子溅射镀膜仪。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。溅射模块 SP-010 & SP-011两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长-非常适合需要较厚膜的应用；可选多种溅射靶材。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。等离子刻蚀单元 ET-010在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀膜后进行等离子刻蚀处理，从而对膜层表面进行改性。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV系列镀膜仪版本除了电镜制样设备CCU-010 LV_SP离子溅射镀膜仪之外，还可以选择：CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 触摸屏操控，配方可编程，保证结果可重复；具有断电时系统自动排气功能，防止系统被前级泵油污染。

Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 溅射平台专为磁控溅射沉积应用而设计。为满足 UHV 溅射工艺需求而定制的腔室设计、具有高级编程、负载锁定功能的行业最佳软件控制系统以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新设计提供的一些优势。® LAB Line 系列与以下技术兼容：TORUS 磁控溅射（多达 12 个光源）® 可根据要求提供定制配置KJLC创新的eKLipse&trade 软件允许用户友好的配方创建以及图形用户界面，该界面对于新的PVD用户来说是直观的，而对于经验丰富的专业人士来说则是高级的。有关此直观、可靠的软件包的更多信息，请参阅“软件”选项卡。应用：R&D 溅射沉积微电子学（金属、金属氧化物、电介质）数据存储（磁性薄膜）磁性隧道结超导材料约瑟夫森交界处光学薄膜和光子学LAB Line 是 Kurt J. Lesker 的 UHV 磁控溅射平台。只有 KJLC 提供 Mag-Keeper 溅射源，该溅射源在阴极体中具有零 O 形圈和磁耦合靶材，可轻松更换靶材。我们的冷却井设计可在高达 200 瓦/英寸的功率密度下运行2.该阴极设计用于溅射厚达 0.375 英寸的目标。如果没有压紧夹或暗空间屏蔽，这种阴极能够运行低至 1mTorr（取决于材料）。圆顶百叶窗设计消除了标准翻转或摆动百叶窗所需的额外交叉污染屏蔽需求。单击以了解有关溅射速率和均匀性的更多信息。LAB Line 专为实现最佳均匀性而设计，并允许。左边的图表显示了按沉积类型和衬底晶圆直径划分的平均预期均匀性。使用轮廓仪或光谱反射仪进行厚度测量。实际可实现的均匀性将取决于系统和过程参数的最终配置。

科研级高精度土壤实验室建设仪器设备配套方案（新版）（科研级）检测土壤、肥料氮磷钾、碱解氮、有机质、微量元素、重金属、酸碱度(pH)、含盐量序号产品名称规格数量备注1科研型高精度土壤养分检测仪IN-HT3001检测项目：土壤：土壤铵态氮、土壤有效磷、土壤速效钾、土壤硝态氮、土壤水解氮、土壤全氮、土壤全磷、土壤全钾、土壤有机质（丘林法）、土壤有机质（浸提法）、土壤钙、土壤镁、土壤硫、土壤硅、土壤硼、土壤铁、土壤铜、土壤锰、土壤锌、土壤氯、土壤铅、土壤砷、土壤铬、土壤铬、土壤汞、PH、含盐量、水分。肥料：氮肥中铵态氮、肥料硝态氮、尿素氮、缩二脲、磷肥中磷、磷肥中水溶性磷、钾肥中钾、复合肥全氮、复合肥全磷、复合肥全钾、有机肥全氮、有机肥全磷、有机肥全钾、有机肥硝态氮、有机肥速效磷、有机肥速效钾、有机肥酸解氮、有机质、水溶性腐植酸（风化煤）、水溶性腐植酸（褐煤）、水溶性腐植酸（泥炭）、游离态腐植酸（风化煤）、游离态腐植酸（褐煤）、游离态腐植酸（泥炭）、水溶肥全氮、水溶肥全磷、水溶肥全钾、叶面肥全氮、叶面肥全磷、叶面肥全钾、水中氮、水中磷、水中钾、水中氮（浑浊）、水中磷（浑浊）、水中钾（浑浊）、肥料钙、肥料镁、肥料硫、肥料硅、肥料硼、肥料铁、肥料铜、肥料锰、肥料锌、肥料氯、肥料铅、肥料砷、肥料铬、肥料镉、肥料汞作物：作物硝态氮、作物铵态氮、作物磷、作物钾、作物钙、作物镁、作物硫、作物硅、作物硼、作物铁、作物铜、作物锰、作物锌、作物氯植株：植株全氮、植株全磷、植株全钾标配试剂：土壤氮磷钾、有机质试剂一套 2万分之一天平量程200g/精度0.00011称量样品重量3盐分计范围：0.01%～1.00%相对误差：±5%1检测盐分4酸度计精度0.1/0-14PH1检测酸碱(PH)5超纯水机10L1提供蒸馏水6往复振荡器数显调速0-300r/min1加速溶解样品7水浴锅双孔1加热溶解样品8电炉 1kw1加热溶解样品9土壤样品粉碎机100克1粉碎样品10土壤样品筛2个1筛分样品11砷反应装置1检测重金属砷12碱解氮反应装置1检测碱解氮13移液枪1-5ml2取样操作14铁架台1加速溶解样品合计（￥46800元）含普票含运费

●主要功能：多靶复合磁控溅射镀膜机，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，具有极高的实用性和通用性（三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等），能够提供高水平功能薄膜研制，特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、自洁净薄膜、等领域前沿研究，同时可选配等离子刻蚀功能和辅助镀膜。1. 主体和腔室：全封闭框架结构，机柜和主机为一体式结构，骨架默认为白色，门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。真空腔室采用优质0Cr18Ni9不锈钢材质（SUS304），腔体尺寸不小于为：ø 450x500mm；真空室为前开门方式，采用铰链连接，自动锁紧，并配有门到位开关，彻底杜绝误操作；真空腔室设置DN100观察窗口，位置在真空腔体正前方。2. 真空系统：2.1 极限真空度≤Pa（空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气）。2.2 真空配置。 前级泵为机械真空泵，抽速优于8L/S，超高分子泵一台，抽速1200L/S。2.3 真空测量：采用进口全量程真空计，优选德国莱宝与瑞士inficon。3. 工件盘系统：配备工件盘一套，可安装4英寸基片1片，选配高温工件盘＜800℃。4. 磁控溅射系统：配置三只2-4英寸溅射阴极，三只靶均能兼容直流和射频溅射，并可单独自由切换，磁控靶安装与真空室底部，向上溅射成膜。5.充气系统：二路分别配置MFC质量流量控制器，均为0-100SCCM，准确度±1%F.S，线性±0.5%F.S,重复精度±0.2%F.S。5. 其他：配置断水保护，配置冷水机组，冷水机制冷量为5000Kcal；设备配备小型静音空压机；保修期1年，维修响应时间不超过24小时。6. 操作系统及安全监控：采用人机界面+西门子PLC实现对设备集中自动控制；所有控制系统和电气安装均与主机集成在一起，避免控制柜与主机之间线路放在地上或从顶部引入带来的问题，模块化设计能确保社保维护维修的便捷性。

NEOSCAN N80 高分辨台式显微CT NEOSCAN N80 采用先进的 X 射线成像技术， 可以对各种样品进行高精度的扫描。 它配备了高性能的 X 射线源和 精密的探测器， 能够快速获取大量的投影图像。 通过计算机重建和处理， N80 能够生成高质量、高分辨率的三维 图像， 展示样品内部的微观结构和细节。【产品特点】01. 高分辨成像，极佳的图像质量：最大放大倍率下的亚微米像素可进行相衬检索，极佳的图像质量低对比分辨率为 2 微米02. 全能型仪器，应用范围广泛: X 射线源电压可高达 110 kV,适用于地质、复合材料、骨骼、牙科、电子等领域...03. 高兼容性，样品尺寸大: 适用任意尺寸、任意形状的样品，兼容高达 100 mm、长度 200 mm 的大物体，无需特别的样品制备过程04. 闭管射线源设计，寿命长免维护：采用独家的闭管透射式 X 射线源，使用寿命长，免维护，使用成本低05. 一体化软件，免费升级：整合了扫描、重构、计算、输出模型等多种功能，软件免费，界面直观易用 台式显微 CT（Micro CT）技术具有以下特点： 1. 高分辨率成像：显微 CT 能够提供高分辨率的三维成像，揭示微小物体的内部结构细节。它可以捕捉微观尺度的细微特征，使研究人员能够观察和分析样品的微小结构。 2. 非破坏性成像：显微 CT 通过使用X射线成像技术，可以对样品进行非侵入式的成像，无需破坏或改变样品的形态。这使得样品可以被多次扫描，进行长时间的观察和分析。 3. 三维重建：显微CT可以通过多个角度的投影图像进行计算机重建，生成高质量的三维体素数据集。这使得研究人员能够以三维视角观察和分析样品的内部结构，提供更全面的信息。 4. 多样品适用性：显微CT技术适用于各种样品类型，包括固体材料、生物组织、岩石、化石等。无论是刚性样品还是柔性样品，显微CT都能够提供高质量的成像和分析。 5. 量化分析能力：除了提供直观的三维成像，显微CT还可以进行定量分析。通过对密度分布、孔隙度、尺寸等参数的测量，可以获得样品的定量数据，用于研究和比较不同样品的特性。【NEOSCAN 显微 CT 应用领域】材料：力学性能分析，应力分布和断裂点分析材料：3D打印零件精度分析和缺陷分析材料：锂电池内部分层结构材料：碳纤维材料缺陷分析材料：混凝土力学性能和裂缝分析材料：过滤效率，过滤器堵塞和寿命研究 医学：牙科填料研究医学：骨科骨小梁结构分析医学：人造关节形态尺寸研究法医：物证鉴定生物：小动物高精度扫描，生物进化、分类研究农业：根系分布研究，种质改良农业：植物表型提取 食品：面团发酵过程和冰淇淋结构分析，口感改良制药：分析不同压缩方法带来的药片内部裂缝和孔隙，改进片剂压缩工艺制药：分析胶囊微孔和涂层对内容物释放的影响，优化胶囊设计和工艺 3D打印：制造精度分析机械加工：铝合金铸件内部孔洞分析和工艺优化 机械加工：零件质量检测，误差分析电子：PCB电路板上的锡焊空洞电子：LED封装缺陷测试 考古：透过化石表面沉积物分析内部结构地质：砂岩粒度和孔隙率分析，评估石油提取容易程度【应用成像分享】NEOSCAN 品牌介绍作为比利时显微CT仪器设计和生产领域的创新者，NEOSCAN 以其卓越的技术和创新能力赢得了国际市场的认可。NEOSCAN台式显微CT技术融合了X射线成像和计算机重建技术，能够以非侵入式的方式对微小物体进行高分辨率的三维成像和分析。现有的产品线包括N60、N70 和 N80，可提供样品精确的内部结构信息、空腔孔隙和组分差异的密度信息，并可输出三维模型进行仿真分析。

PRO Line PVD 75多功能溅射、电子束和热蒸发沉积平台Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平台的下一代薄膜沉积系统。PVD 75 在全球拥有 400 多台设备，是一款久经考验、坚固耐用且用途广泛的设计。PRO Line PVD 75 建立在原始设计的成功基础上，改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板加载以及用于优化薄膜性能的众多功能是这种创新的设计提供的一些关键优势。® 规格室箱形304L不锈钢腔体内部尺寸：15.25“ 宽 x 16.50” 深 x 24“ 高（387.4mm x 419.1mm x 609.6mm）铝，O 形圈密封，铰链，前检修门沉积技术热蒸发最多四艘 4 英寸的单艘船，或六艘 2 英寸的船组件TORUS 磁控溅射源多达 6 个 2 英寸或 3 英寸光源多达 4 个 4 英寸信号源电子束蒸发源4 口袋 8cc8 口袋 12cc6 口袋 20ccLTE10 有机沉积源最多两个 10cc 源沉积方向热蒸发向上TORUS 磁控溅射源向上、向下或侧溅射电子束蒸发向上LTE有机沉积向上底物操作旋转、加热、冷却、偏置、负载锁定兼容电源DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 电源

中图仪器WD4000半导体晶圆多维度几何形貌特征检测设备通过非接触测量，将晶圆的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度，TTV，BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。WD4000半导体晶圆多维度几何形貌特征检测设备系统自动测量 Wafer 厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等参数，同时生成Mapping图；2、采用白光干涉测量技术对Wafer表面进行非接触式扫描同时建立表面3D层析图像，显示2D剖面图和3D立体彩色视图，高效分析表面形貌、粗糙度及相关3D参数；3、基于白光干涉图的光谱分析仪，通过数值七点相移算法计算，达到亚纳米分辨率测量表面的局部高度，实现膜厚测量功能；4、红外传感器发出的探测光在Wafer不同表面反射并形成干涉，由此计算出两表面间的距离（即厚度），可适用于测量BondingWafer的多层厚度。该传感器可用于测量不同材料的厚度，包括碳化硅、蓝宝石、氮化镓、硅等。测量功能1、厚度测量模块：厚度、TTV(总体厚度变化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；2、显微形貌测量模块：粗糙度、平整度、微观几何轮廓、面积、体积等。3、提供调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能。其中调整位置包括图像校平、镜像等功能；纠正包括空间滤波、修描、尖峰去噪等功能；滤波包括去除外形、标准滤波、过滤频谱等功能；提取包括提取区域和提取剖面等功能。4、提供几何轮廓分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。几何轮廓分析包括台阶高、距离、角度、曲率等特征测量和直线度、圆度形位公差评定等；粗糙度分析包括国际标准ISO4287的线粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全参数；结构分析包括孔洞体积和波谷。WD4000半导体晶圆多维度几何形貌特征检测设备兼容不同材质不同粗糙度、可测量大翘曲wafer、测量晶圆双面数据更准确。可实现砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。产品优势1、非接触厚度、三维维纳形貌一体测量集成厚度测量模组和三维形貌、粗糙度测量模组，使用一台机器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三维形貌的测量。2、高精度厚度测量技术（1）采用高分辨率光谱共焦对射技术对Wafer进行高效扫描。（2）搭配多自由度的静电放电涂层真空吸盘，晶圆规格可支持至12寸。（3）采用Mapping跟随技术，可编程包含多点、线、面的自动测量。3、高精度三维形貌测量技术 （1）采用光学白光干涉技术、精密Z向扫描模块和高精度3D重建算法，Z向分辨率高可到0.1nm；（2）隔振设计降低地面振动和空气声波振动噪声，获得高测量重复性。（3）机器视觉技术检测图像Mark点，虚拟夹具摆正样品，可对多点形貌进行自动化连续测量。4、大行程高速龙门结构平台（1）大行程龙门结构(400x400x75mm)，移动速度500mm/s。（2）高精度花岗岩基座和横梁，整体结构稳定、可靠。（3）关键运动机构采用高精度直线导轨导引、AC伺服直驱电机驱动，搭配分辨率0.1μm的光栅系统，保证设备的高精度、高效率。5、操作简单、轻松无忧（1）集成XYZ三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前准工作。（2）具备双重防撞设计，避免误操作导致的物镜与待测物因碰撞而发生的损坏情况。（3）具备电动物镜切换功能，让观察变得快速和简单。无图晶圆厚度、翘曲度的测量通过非接触测量，将晶圆上下面的三维形貌进行重建，强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度、粗糙度、总体厚度变化(TTV)，有效保护膜或图案的晶片的完整性。 无图晶圆粗糙度测量Wafer减薄工序中粗磨和细磨后的硅片表面3D图像，用表面粗糙度Sa数值大小及多次测量数值的稳定性来反馈加工质量。在生产车间强噪声环境中测量的减薄硅片，细磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次测量数据计算重复性为0.046987nm，测量稳定性良好。部分技术规格品牌CHOTEST中图仪器型号WD4000系列测量参数厚度、TTV(总体厚度变化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等可测材料砷化镓、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、 铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、氮化镓、玻璃、外延材料等厚度和翘曲度测量系统可测材料砷化镓 氮化镓 磷化 镓 锗 磷化铟 铌酸锂 蓝宝石 硅 碳化硅 玻璃等测量范围150μm~2000μm扫描方式Fullmap面扫、米字、自由多点测量参数厚度、TTV(总体厚度变 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、线粗糙度三维显微形貌测量系统测量原理白光干涉干涉物镜10X(2.5X、5X、20X、50X,可选多个)可测样品反射率0.05%~100粗糙度RMS重复性0.005nm测量参数显微形貌 、线/面粗糙度、空间频率等三大类300余种参数膜厚测量系统测量范围90um(n= 1.5)景深1200um最小可测厚度0.4um红外干涉测量系统光源SLED测量范围37-1850um晶圆尺寸4"、6"、8"、12"晶圆载台防静电镂空真空吸盘载台X/Y/Z工作台行程400mm/400mm/75mm恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。