薄膜分析系统

薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS10-Film适用范围： 非晶硅薄膜电池、CIGS 薄膜电池、CdTe 薄膜电池、非晶/ 微晶双结薄膜电池、非晶/ 微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等光谱范围：300~1700nm电池结构：单结、多结太阳电池可测参数：光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度可测样品面积：300mm×300mm● 集成一体化turnkey系统● 大面积薄膜电池测试专用● 超大样品室，光纤传导● 背面电极快速连接● 反射率、内外量子效率同步测试● 快速高效售后服务 SCS10-Film系统规格 光源150W高稳定性氙灯，光学稳定度≤0.4%，光纤传导测试光斑尺寸2mm~10mm可调单色仪三光栅DSP扫描单色仪波长范围300nm~1700nm波长准确度±0.2nm（@1200g/mm,500nm)扫描间隔最小可达0.1nm，默认设置10nm输出波长带宽0.1nm~10nm可调，默认设置5nm多级光谱滤除装置根据波长自动切换，消除多级光谱的影响光调制频率4~400Hz标准探测器进口Si光电探测器，含校正测试报告数据采集装置灵敏度直流模式：100nA；交流模式：2nV测量重复精度0.6%( 400~1000nm范围0.3%)测量速度单次光谱响应扫描 1min 完整流程扫描 5min(扫描间隔10nm）样品加持探针样品台，156mm×156mm，特殊样品台可定制*Mapping扫描速度：20点/s（@0.5mm step）分辨率：0.5mm仪器尺寸主机：；样品室：控制机柜：800mm×600mm×1300mm计算机及软件系统含工控计算机、显示器、鼠标、键盘，正版windows 7操作系统，系统软件安装光盘

仪器简介：高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件，是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱，入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言，这是一项前所未有的新功能，使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数：光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注：宽光谱型提供两个检测器，可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e)，但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟，这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟，取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm （可选） 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层，两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um，取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜0.1% ＜1% 消光系数 ＜1% ＜3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 ＜1% ＜3% 折射率 ＜1% ＜3% 消光系数 ＜1% ＜3% 重现性 透射率 ＜0.01% ＜0.1% 反射率 ＜0.01% ＜1% 折射系数 ＜0.01% ＜0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° （标准单元）或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变（可变角版本）或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统)，250um（选件） 电源 220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度，可变角度，X-Y样品扫描台，多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件（s-、p-或非偏振）。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点：主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n)，吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处，同时对透过光谱和发射光谱进行测定，保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱，全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能，而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库，它允许对材料进行预先定义，以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统，它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置，它提供完全马达驱动的，可由PC机控制入射光的角度，入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描，样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm，同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选，它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度，那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ，用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台：可控制样品温度至150度，测定变温下的T和R，对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机：对样品进行显微分析。 微光斑附件：将入射光斑聚焦至200微米，特别适合表征微小样品和局部区域。

PHI 4700薄膜分析仪产品介绍产品名称：薄膜分析仪产品型号：PHI 4700品 牌：日本ULVAC-PHI产 地：日本前言在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决制程上的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配高感度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，成本效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。优点量化薄膜的成分 层的厚度测量检测相互扩散层 微米范围多点分析基本规格全自动多样品纵深分析: PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有绝佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。高感度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入镜头可提供最高的灵敏度和大幅缩短样品侦测时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与制程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的最小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG- 5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会停止高能量的中性原子，从而改善了接口定义和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有摩打及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，透过减少构件与溅射在一个固定样本的位置，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和最理想样品的定位是由一个强大的&ldquo 自动Z轴定位&rdquo 功能所提供。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设立测量及其模板。可选用配备热/冷样品座样品真空传送付仪（Sample Transfer vessel）应用领域半导体薄膜产业微电子封装产业无机光电产业微摩擦学

仪器简介：kSA MOS ThermalScan 薄膜热应力测量系统（薄膜应力仪，薄膜应力计，薄膜应力测试仪），测量光学设计MOS传感器，同时kSA公司荣获2008 Innovation of the Year Awardee！系统采用非接触MOS激光技术；不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量，而且还可二维应力Mapping成像统计分析；同时可准确测量应力、曲率随温度变化的关系；部分参考用户：中国计量科学研究院电学与量子所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、北京航空材料研究院、苏州大学、中国科学院成都光电技术研究所中国科学院力学所、华南理工大学材料学院、中国空间技术研究院、阿里巴巴达摩院、清华大学、天津理工大学、上海大学、中国科学院兰州空间技术物理研究所、中国航空制造技术研究院、深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司；Harvard University ，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University ， Karlsruhe Research Center，Max Planck Institute，IBM.，Seagate Research Center, Phillips Semiconductor, NEC，Nissan ARC, Nich ia Glass Corporation等。同类设备：*薄膜应力测试仪（薄膜应力测量系统，薄膜应力计）；*薄膜残余应力测试仪；*实时原位薄膜应力测量系统；技术参数： Film Stress Tester, Film Stress Measurement System，Film Stress Mapping System 1.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C； 2.曲率分辨率：100km； 3.XY双向程序控制扫描平台扫描范围：up to 300mm（可选）； 4.XY双向扫描速度：可达20mm/s； 5.XY双向扫描平台扫描步进分辨率：2 μm ； 6.样品holder兼容：50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直径样品； 7.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全面积扫描； 8.成像功能：样品表面2D曲率、应力成像，及3D成像分析； 9.测量功能：曲率、曲率半径、应力强度、应力、Bow和翘曲等； 10.温度均匀度：优于±2摄氏度； 主要特点： 1.MOS多光束技术（二维激光阵列）； 2.变温设计：采用真空和低压气体保护，温度范围RT~1000°C； 3.样品快速热处理功能； 4.样品快速冷却处理功能； 5.温度闭环控制功能，保证优异的温度均匀性和精度 6.实时应力VS.温度曲线； 7.实时曲率VS.温度曲线； 8.程序化控制扫描模式：选定区域、多点线性扫描、全面积扫描； 9.成像功能：样品表面2D曲率成像，定量薄膜应力成像分析； 10.测量功能：曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等； 11.气体（氮气、氩气和氧气等）Delivery系统；实际应用：

产品简介：BSD-PB泡压法薄膜孔径分析仪，可准确测试滤膜、隔膜、织物、纤维、陶瓷、烧结金属等材料的通孔的最大孔径、最小孔径、平均孔径、孔径分布及渗透率，适用于研发、生产过滤材料及相关的科研单位和企业用户。BSD-PB泡压法薄膜孔径分析仪产品特点： 孔径测试范围：0.02-500um；多样品池设计针对不同尺寸样品，特殊样品可单独设计；具有全自动真空助润装置，可大大加速浸润时间，提高测试效率50%以上；根据待测样品不同，多种浸润液体可选；高精度双流量传感器，流量分段测量，量程互补，自动切换；高精度双压力传感器，分段压力测试，程序自动判断，自动切换；全不锈钢管路，金属硬密封，密封性好，耐压高，耐腐蚀；全程自动化智能化运行，无需人工值守，亲和的真人语音操作提示；详尽的仪器运行日志显示与记录，可精确到秒，全程实验记录可追溯；多项专利技术保障仪器稳定性和准确性； 气体流动法薄膜孔径分析仪测试理论： 以某种膜材料为例，将膜用可与其浸润的液体充分润湿，由于表面张力的存在，浸润液将被 束缚在膜的孔隙内；给膜的一侧加以逐渐增大的气体压强，当气体压强达到大于某孔径内浸润液的表面张力产生的压强时，该孔径中的浸润液将被气体推出；由于孔径越小，表面张力产生的压强越高，所以要推出其中的浸润液所需施加的气体压强也越高；同样，可知，孔径最大的孔内的浸润液将首先会被推出，使气体透过，然后随着压力的升高，孔径由大到小，孔中的浸润液依次被推出，使气体透过，直至全部的孔被打开，达到与干膜相同的透过率； 首先被打开的孔所对应的压力，为泡点压力，该压力所对应的孔径为最大孔径； 在此过程中，实时记录压力和流量，得到压力-流量曲线；压力反应孔径大小的信息，流量反应某种孔径的孔的多少的信息；然后再测试出干膜的压力-流量曲线，可根据相应的公式计算得到该膜样品的最大孔径、平均孔径、最小孔径以及孔径分布、透过率。气体流动法薄膜孔径分析仪专业制造商贝士德,测试精度高,重复性好,气体流动法薄膜孔径分析仪提供专业的售前技术支持和优质的售后服务.

薄膜相变分析仪是一款对相变材料相变特性进行测量与分析的精密光电仪器，可通过自动测量分析薄膜或者粉体等相变材料的热滞回线、相变温度、热滞宽度、相变幅度等特性参数。先进的模块化设计理念、精密的光探针技术、高端的进口芯片、便捷的自动测试分析软件、以及时尚的外观，使该仪器成为二氧化钒等相变材料研究的不二选择。中国科学院广州能源研究所，深圳大学等单位为典型用户。薄膜相变分析仪技术特点：1、精密光学测量技术，可进行单层、多层和超小样品的测量,且灵敏度更高2、非接触式信号采集，避免了接触式探针测量对样品的损伤和不稳定性缺点3、先进的光探针技术，使得采样范围最小直径可达300微米4、全自动一-键测量，操作简单，省时、省事5、超高采样速率1测量快速、准确，工作效率高6、触摸屏操作与电脑操作两种模式,测量随心所欲7、升温速率无级可调，根据实际需求任意选择8、与DSC测量相比，具有超高性价比9、科研型与基础型，满足不同需求技术规格1、仪器型号PTM17002、工作波长1550nm (特殊需要波长可定制)3、样品台温度范围:室温~120°C，温度精度+0.1°C4、采样频率1Hz5、最小采样范围直径300um6、红外非接触测温模式7、自然冷却与风冷两种降温模式8、加热速率无级可调9、设定参数后自动测量出薄膜相变的热滞回线10、USB2.0高速数据接口11、测试分析软件可得到相变温度、热滞宽度等特性参数12.可以Exce形式导出各原始测试数据和分析数据，以word形式导出测试分析报告

F10-RT 薄膜厚度测量仪同时测量反射和透射以真空镀膜为设计目标，F10-RT 只要单击鼠标即可获得反射和透射光谱。 只需传统价格的一小部分，用户就能进行全面分析、确定 FWHM 并进行颜色分析。可选的厚度和折射率模块让您能够充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。测量结果能被快速地导出和打印。选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

F10-AR薄膜厚度测量仪易于使用而且经济有效地分析减反涂层和镜头上的硬涂层F10-AR 是为简便而经济有效地测试眼科减反涂层设计的仪器。价格大大低于当今绝大多数同类仪器，应用几项技术， F10-AR 使线上操作人员经过几分钟的培训，就可以进行厚度测量。在用户定义的任何波长范围内都能进行最低、最高和平均反射测试。我们有专门的算法对硬涂层的局部反射失真进行校正。 我们的 AutoBaseline 能增加基线间隔，提供比其它光纤探头反射仪高出五倍的精确度。利用可选的 UPG-F10-AR-HC 软件升级能测量 0.25-15um 的硬涂层厚度。 在减反层存在的情况下也能对硬涂层厚度进行测量。无须处理涂层背面我们特殊的探头设计能抑制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射，使用更厚的镜头抑制的更多。就像我们所有的台式仪器一样，F10-AR 需要连接到您装有 Windows 计算机的 USB 端口上并在数分钟内即可完成设定。选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

日本TOHO FLX系列 薄膜应力量测设备FLX系列设备是由日本TOHO公司所生产的，广泛应用于半导体行业薄膜应力的量测。测试原理 在硅晶圆或者其他材料基地上附着薄膜，由于衬底于薄膜的物理常数不同，将会产生应力而导致衬底基板形变。由于均匀附着的薄膜引起的形变表现为基板翘曲，因此，可依据翘曲（曲率半径）的变化量计算应力。本薄膜应力测量设备用下述方法测量附着表面上的薄膜引起的基板曲率半径变化量。设备特点 （1）双光源扫描（可见光激光源及不可见光激光源），系统可自动选择zui佳匹配之激光源；（2）系统内置升温、降温模拟系统，便于量测不同温度下薄膜的应力，温度调节范围为-65℃至500℃；（3）自带常用材料的弹性系数数据库，并可根据客户需要添加新型材料相关信息至数据库，便于新材料研究；（4）形象的软件分析功能，用于不同测量记录之间的比较，且测量记录可导出成Excel等格式的文档；（5）具有薄膜应力3D绘图功能；主要规格 型号FLX-2320-SFLX-2320-RFLX-3300-TFLX-3300-R温度温度范围室温～50O°C（可选： -65'C~500'C)室温室温～50O°C（可选： －65'C~500'C)室温升温速度~25'C／分钟 (Max.)------~25'C／分钟 (Max.)------调节功能内置调零机构------内置调零机构------样品尺寸75-200mm75-200mm300mm300mm扫描范围200mm200mm300mm300mm晶圆绘图手动自动手动自动测量重现性1.3MPa晶圆输送方式手动脱附气体N2或者Ar气体(1.5L／分钟/0.3kg/cm2）------N2或者Ar气体(1.5L／分钟/0.3kg/cm2）------

薄膜瑕疵检测系统可实现检测各类薄膜产品在生产过程中表面出现的划伤、划痕、晶点、孔洞、凹坑、黑点、白点、色差、脏污、破损、起皮、褶皱等常见瑕疵进行检测。自动探测、疵点定位、缺陷分类、布边打标、质量评估等多种功能于一体，可针对多种不同的薄膜产品进行检测，其检测速度与精度达到同类产品水平，并且具有使用维护方便，性价比高的优点。　　【薄膜瑕疵检测】产品功能　　面料全幅检测、布卷信息记录、检测各种疵点、软件数据库管理、瑕疵记录、系统报警、自动贴标　　【薄膜瑕疵检测】产品优势　　1)操作便捷：操作简单，只需点击“开始”、“停止”即可完成所有操作。　　2)稳定性高：可连续工作在极端温度和厂房环境中。　　3)幅面表面检测：发现疵点时可根据设定发出报警,提示及时修复,避免大量缺陷产品的产生。　　4)完整的表面质量信息：疵点图像由计算机保存,每卷产品都有完全的疵点图像/位置和数量等信息,产品幅面边缘根据需要可以进行自动贴标。　　5)高精度检测：方案可检测出0.02 平方毫米以上的疵点缺陷,满足客户的不断提升的产品品质要求。　　6)软件数据库管理功能：可对每卷材料进行质量统计,详细的缺陷记录和统计为生产工艺及设备状态调整提供了方便。　　7)定位标识功能：每生产一卷产品，系统会自动对产品的表面缺陷进行统计，同时打印出统计标签，贴在产品上，跟随产品发放下游。　　8)系统联动：当系统检测到疵点时进行声光报警，也可在系统中加入其他连锁I/O 输出。　　9)一键导出：一键导出EXCEL缺陷明细表，便于用户做进一步的查询，分析，建档。　　【薄膜瑕疵检测】应用场景　　薄膜瑕疵检测系统可应用于塑料薄膜、医用滤膜、化工滤膜、包装膜、保护膜、涂布膜、光学级薄膜等薄膜瑕疵检测。

准确的水分、涂层重量和薄膜厚度曲线测量，用于纸张和涂布加工的过程控制。特点易于校准、操作和标准化。自动卷材边缘检测，可调整任何卷材漂移。坚固、密封的工业框架和线性移动器可承受高温和潮湿的环境。IP65等级的近红外传感器，带窗口空气吹扫。原始数据记录选项。没有像X射线或核系统那样昂贵的法规遵守或安全问题。很容易连接到闭环控制系统或本地报警。应用可以对许多基材进行水分和涂布量检测，包括纸张、薄膜、铝箔、纺织品、离型纸、标签、胶带和标签。Guardian-HD卷材扫描系统通常用于以下应用。热熔胶和薄膜厚度湿端水基涂布重量干端有机涂布重量烘干机出口和进口水分再加湿装置（LAS、蒸汽帘和加水板）。 快速和连续的产品分析对于所有的纸张、薄膜和加工过程都至关重要，用以确保一致的高质量产品。不适当的水分控制会导致边缘卷曲和平坦问题。涂布重量和薄膜厚度直接关系到最终产品的质量。 Guardian-HD能准确地在线测量水分和涂层厚度，在窄幅或宽幅的卷材上提供分区的卷材剖面，对加工生产线进行全部的实时检测。减少浪费，提高质量通过即时识别生产中的低效问题，减少启动时间和浪费。实时数据消除了耗时的实验室测试和调整的需要。 直观的图形显示提供了关键的生产洞察力，快速识别不合规格的产品。可靠的性能Guardian-HD卷材扫描系统是为在造纸和加工应用中的挑战性条件下的可靠操作而设计，具有密封的工业框架和强大的线性移动装置。它们提供非接触、非破坏性的在线测量，不受相对湿度、产品温度变化、环境光照和温度升高的影响。与核子和X射线系统不同，近红外不需要昂贵的法规遵守和安全认证。很容易与本地系统集成Guardian HD卷材扫描系统通过3个4-20mA模拟输出和可选的标准通信协议的数据总线接口，很容易集成到本地工厂的PLC中进行闭环控制。 可选的堆栈灯警报和输出继电器，确保不符合规格的生产被立即告知，以便及时调整和减少浪费。选择你的Guardian-HD所有Guardian-HD系统都包括一个工业扫描框架、一个近红外智能传感器和本地易读的触摸屏显示器，用于交叉方向的卷材扫描和输送带及机器方向的测量。精英版卷材扫描系统强大的功能，能够同时监测和控制单个或多个GUARDIAN-HD系统。精英版 Guardian-HD卷材扫描系统连接到中央控制台的本地显示器和基于Windows的19英寸电脑。更大的显示器可用于在一个中央控制台监测多条生产线的情况。预先安装了专有的ViewerSuite软件，用于滚动报告和原始数据记录，以实现完全可追溯性和审计。完整的卷材记录包括测量值、日期、时间、长度、产品名称等。卷材扫描平均和个别区域测量自动同步滚动报告到本地网络可存储多达100个产品配方代码整个卷材中可有100个独立区域指定的传送带和机器方向趋势标准版卷材扫描系统单线监测和控制的标准功能。标准版 Guardian-HD卷材扫描系统连接到一个12英寸的操作界面，用于简单的剖析显示和控制。原始数据记录功能，可导出为.csv、.xml或.txt格式。可存储多达100个产品配方代码整个网络中可有50个独立区域点此链接进入产品详情

薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µ m的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。产品特点 1、可分析单层或多层薄膜2、分辨率达0.1nm3、适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和透射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量，薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库，用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量，包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。

一、高真空互联物理气相薄膜沉积系统概述：沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业最好的软件控制系统；4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±2.5%，8英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性：≤±3.5%，测定标准以Ti靶材，溅射200——500nm厚薄膜，边缘去5mm，随机5点取样测定为准。样品托面中心到地面的高度约1360mm；镀膜材料适用于：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝，氧化钛，氧化锆，ITO，AZO，氮化钽，氮化钛等；二、PVD平台概述：既专注单一功能、又可通过拓展实现多平台联动：1、 关键部件接口都为标准接口，可以通过更换功能单元实现电子束、电阻蒸发、有机蒸发、多靶或单靶磁控溅射、离子束、多弧、样品离子清洗等功能；2、 系统平台为准无油系统，提供更优质的超洁净实验环境，保障实验结果的可靠性和重复性；3、 系统可以选择单靶单样品、多靶单样品等多层沉积方式；4、 靶基距具有腔外手动调节功能；5、 系统设置一键式操作，可以实现自动手动切换、远程控制、远程协助等功能；6、 控制软件分级权限管理，采用配方式自动工艺流程，提供开放式工艺编辑、存储与调取执行、历史数据分析等功能，可以不断更新和升级；7、 可以提供网络和手机端查询控制功能（现场要具备局域网络），实现随时查询数据记录、分析统计等功能；8、 节能环保，设备能耗优化后运行功率相比之前节能10%；；9、 可用于标准镀膜产品小批量生产。 三、互联系统技术描述 真空互联系统由物理气相沉积磁控溅射系统A、物理气相沉积磁控溅射系统B、物理气相沉积、电子束及热阻蒸发镀膜系统A、物理气相沉积电子束及热阻蒸发镀膜系统B、进样室、出样室、传输管、机械手等组成，可以实现样品在真空环境下不同工艺方法的样品薄膜制备和传递。

UV3 CMOS 紫外光谱系统， （紫外氙灯+紫外光谱仪+探头）它结合了CMOS紫外光谱仪和氙气光源，以实现经济高效的解决方案。CMOS紫外光谱仪组合氙光源来自JPN的CMOS探测器来自美国/德国的硬件1.集成的紫外光谱系统，它提供了一个完整的解决方案，将CMOS光谱仪与氙灯相结合，方便用户测量2.稳定的紫外线测量，高性能氙气闪烁灯，特别是在紫外线区域，使其测量稳定3.低成本，整个集成系统降低复杂性, 是一个完整的紫外测量方案.UVS3系列亮点CMOS探测器在UV紫外段性能良好高灵敏度在紫外线区域波长范围180-500nm，200-400nm信噪比800:1 *snr=(信号-噪声)/偏差集成氙气光源降低系统复杂度具成本效益的紫外线光谱系统支持扩展SDK，支持二次开发SMA905光接口完整的UVS3系统测量附件，如流通池USB接口用途紫外分光光度计紫外光谱测量紫外光谱仪紫外吸收光谱法紫外吸光度，吸光度测量透射率，透射系数测量水质，总氮测量吸光度计算，浓度计算使用朗伯比尔定律，可以计算液体的浓度或者含量蛋白质浓度测量定量分析测量应用举例一：膜厚测量薄膜干涉测厚是一种非接触式测量薄膜厚度的方法。它利用光的干涉原理，通过测量干涉光的波长变化来确定薄膜的厚度。薄膜干涉色测量法:薄膜受到入射光的照射后，反射光根据薄膜的厚度和折射率的不同而产生干涉色。利用干涉色的变化可以确定薄膜的厚度。测试步骤软件控制氙灯关闭，采集光谱设备电子噪声软件控制氙灯打开，用反射探头采集光谱信号，通过测量反射光的强度变化，并利用干涉公式计算薄膜的厚度薄膜干涉测厚方法具有测量快速、高精度、非接触等优点，广泛应用于半导体制造、光学材料、涂层工艺等领域.

物理特性薄膜表征系统，高度集成且易于使用的测量平台。 薄膜的物理性质不同于大块材料，因为由于尺寸较小和高纵横比使寄生表面效应更强！ 增强表面散射的影响（a）附加边界散射（b）超薄层的量子约束（c） LINSEIS薄膜物性分析仪是表征各种薄膜样品优异测量工具。它是一种易于使用的独立系统，使用正在申请专利的测量系统设计，可提供高质量的结果。 组件 基本设置包括一个可以轻松沉积样品的测量芯片，以及提供所需环境条件的测量室。 根据应用，该设置可与锁定放大器和/或强电磁铁一起使用。 测量通常在UHV下进行，并且在测量期间使用LN2和强力加热器将样品温度控制在-170°C和280°C之间。 预制测量芯片 该芯片将用于热导率测量的3 ω技术与用于测量电阻率和霍尔系数的4点Van-der-Pauw技术相结合。 赛贝克系数可以使用位于Van-der-Pauw电极附近的附加电阻温度计来测量。 为了便于样品制备，可以使用剥离箔掩模或金属阴影掩模。 该配置允许几乎同时表征通过PVD（例如热蒸发，溅射，MBE），CVD（例如ALD），旋涂，滴铸或喷墨打印制备的样品。 该系统的一大优点是在一次测量运行中同时确定各种物理特性。所有测量都采用相同（平面内）方向，并且具有很高的可比性。 基本测量单元 ： 测量室，真空泵，带加热器的支架，电子颊侧装置，集成锁相放大器，3w方法分析软件，计算机和应用软件。可测以下物理参数： • λ - 热传导系数 (稳态法/平面内方向) • ρ - 电阻率 • σ - 电导率 • S - 赛贝克系数 • ε – 发射率 • Cp - 比热容 磁测量单元 可根据需求选择集成式电磁铁，可测物理参数如下： • AH - 霍尔常数 • μ –迁移率 • n -载流子浓度 薄膜材料性能有别于块体材料之处 - 因小尺寸和高纵横比所导致的表面效应如：边界散射和量子限域效应 *价格范围仅供参考，实际价格与配置等若干因素有关。如有需要，请拨打电话咨询（021-50550642；010-62237791）。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。

产品简介：TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。产品型号TF200-VISTF200-EXRTF200-DUVTF200-XNIR主要特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等） 波长范围380-1050nm380-1700nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um50nm-300um1nm-30um10um-3mm准确度（取决于材料0.4%或2nm之间取较大者）2nm2nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸（可选微光斑附件。）2mm2mm2mm2mm是否能在线是是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选XY可选

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)

Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统具有许多标准的需求功能，而且是这样一个如此合理价格，这就是为什么许多世界各地的用户已经作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统的选择。特征：沉积薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。工艺气体：＜20%硅烷、氨气、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮应用：MEMS, 固态照明，失效分析，研发，试验线.客户留言：“相比较实验室的其他设备，我发现该设备（Orion III PECVD薄膜沉积系统和 Phantom RIE 刻蚀系统）是非常强大的。”–Lee M. Fischer，国家纳米技术研究所，艾伯塔大学“I’ve found both machines (Orion PECVD and Phantom RIE) to be quite robust, indestructible by comparison to some other lab equipment.” – Lee M. Fischer, National Institute for Nanotechnology, University of Alberta

薄膜检测系统ST-4为紧凑桌面型系统，单独放置于实验工作台上工作。其通用性及机动性，决定了比固定于单套系统上的检测单元具有更大的灵活性和开放性。例如在石化实验室中，多套薄膜样品制备单元，例如：吹膜机、流延膜机等，都可将其产出的薄膜样品利用ST-4进行检测。 薄膜检测系统ST-4由特殊的高速数字式线扫描照相机，及一个或两个光源单元（反射或透射式）组成。一个位于铝合金箱体之中，另一个位于外部在线扫描照相机和上述光源之间。线扫描照相机连接到高性能图像处理计算机。待测薄膜样品置于可滑动的样品框架上，特殊设计的步进电机控制薄膜样品的移动以进行扫描检测。 薄膜检测系统ST-4设计用于精确的样品表面质量检测。透明材料例如薄膜（PP/PE）、片材（PC）、玻璃等，以及非透明材料例如纸张、金属和织物等都可以被检测。系统会检测凝胶、鱼眼、杂质、孔洞、擦痕及其他表面缺陷。适用于实验室及研发用途。 透射光源用于透明材料如薄膜的检测。在此模式下，将使用铝合金箱体中的光源单元，被测材料在它和线扫描照相机之间移动。金属层板在此模式下将被移除，被测材料直接置于样品框架之上并被固定。而反射光源用于非透明材料如纸张的检测。在此模式下，使用外部光源，被测材料置于金属层板之上，连接于样品框架并进行检测。 系统的软件为基于Windows的菜单式操作，非常友好，易于使用。评测区域及模式可由用户进行调整。所有检测数据立即保存并且分析评估，并可在日后重新处理。

1.产品概述：该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；电控系统；配气系统等部分组成。2.设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等域。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等3.产品配置：真空室结构:六边形侧开门真空室尺寸:φ350×370mm限真空度:≤6.6E-4Pa沉积源:1个钨舟、2个有机源样品尺寸，温度:大可放置4片20mmx25mm的基片，基片不加热，可自转，速度5～20转/分；占地面积（长x宽x高）:约1米x1米x1.9米电控描述:手动样品台：可放置基片，并可能具有旋转、加热等功能，以满足不同的工艺需求。例如，加热功能可以使样品达到一定温度，适应某些材料的沉积要求；旋转功能有助于提高薄膜的均匀性。控制系统：采用先进的控制系统，方便用户设置和调整工艺参数，如蒸发速率、沉积时间等。多种材料沉积能力：可以沉积多种不同的薄膜材料，以满足不同的应用需求。良好的稳定性和可靠性：确保系统能够长时间稳定运行，保证薄膜沉积的重复性和一致性。可视化操作界面：可能具有直观的操作界面，方便用户进行操作和监控。不同型号的 SMART 蒸发薄膜沉积系统在具体参数和功能上可能会存在差异，例如真空度的高低、蒸发源的类型和功率、样品台的尺寸和可调节范围、膜厚监测的精度等。

量产型 薄膜封装用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体（（Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生产的薄膜封装（TFE）.可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷（R2R）封装.在OLED Panel厂产线有广泛应用！主要应用：-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。应用尺寸：370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....

1. 产品概述分子束外延薄膜沉积系统MBE 是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中，将喷射炉加热。使结晶材料形成分子束，从炉中喷出后，沉积在高温的单晶基片上。如果设置几个喷射炉，就可以制取多元半导体混晶，又可以同时进行掺杂。可以精确地控制结晶生长，进行沉积系统中结晶生长过程的研究。2. 设备特点分子束外延，是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中，将喷射炉加热。使结晶材料形成分子束，从炉中喷出后，沉积在温度保持在几百度的单晶基片上。如果设置几个喷射炉，就可以制取多元半导体混晶，又可以同时进行掺杂。可以精确地控制结晶生长，进行沉积系统中结晶生长过程的研究。12个源炉：镓、铟、铝、砷、锑、磷、铋、硅、镁、掺杂等；衬底：大4inch ；高温度：1000°C 温度均匀性：≤±3°C（4inch）；超高真空下全自动样品转移；用于过程控制和分析的所有现代现场监控功能；一个集群上多7个超高真空功能单元：装载、储存、翻转、处理、排气、生长，外部腔室；可连接其他分析设备或其他：ALD、PLD、PVD、金属化、STM。

Filmetrics F20台式薄膜厚度测量系统 世界上最畅销的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮，您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows&trade 系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.选择您的F20主要取决於您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围）包含的内容：集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)SS-3 样品平台 及對應 光纤电缆参考材料厚度标准整平滤波器 (用于高反射基板)备用灯型号规格型号厚度范围*波长范围F2015nm - 70µ m380-1050nmF20-EXR15nm - 250µ m380-1700nmF20-NIR100nm - 250µ m950-1700nmF20-UV1nm - 40µ m190-1100nmF20-UVX1nm - 250µ m190-1700nmF20-XT0.2µ m - 450µ m1440-1690nmF3-sX 系列10µ m - 3mm960-1580nm取决于薄膜种类额外的好处：每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一 - 周五）网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划常见的选购配件：SampleCamStageBase-XY10-Auto-100mm多厚度硅基上的二氧化硅标准可追溯的 NIST 厚度标准接触探头携带箱

薄膜检测设备透氧分析仪_包材透氧性检测仪C206H厂商：济南兰光机电技术有限公司品牌：Labthink/兰光C206H氧气透过率测试系统基于库仑氧气分析传感器和等压法测试原理，参照ASTM D3985等标准设计制造，为高、中气体阻隔性材料提供高精度和高效率的氧气透过率测试。适用于食品、药品、医疗器械、日用化学、光伏、电子等领域的薄膜、片材及相关材料的氧气透过性能测试。薄膜检测设备透氧分析仪_包材透氧性检测仪C206H产品特点：搭载Labthink新型科技成果的ppb级库仑氧传感器，可获取更低的测试下限。参照ASTM D3985标准设计，绝对值，无需校准。超长使用寿命，是传统库仑氧传感器的三倍。具有超限报警，自动保护功能。全新彩虹桥式测试腔，采用360°气流循环恒温技术，温度稳定性更佳。测试腔内搭载高精度湿度传感器，实时监测并记录湿度变化。测试过程中，实现流量、温度和相对湿度自动化控制，精度更高。高效六腔设计，独立六套50cm2标准面积测试腔，是传统透氧检测仪器测试腔数量的三倍。支持同一条件下6个试样同时测试，数据相互独立。同一测试周期，完成的样品量从2个提升至6个。自动夹紧试样，省时省力，夹紧力度一致，密封更佳。采用Windows系统的12寸触控平板操控，操控更便捷。自动模式，输入试验温湿度，一键开启，全自动测试。智能仓盖自动开闭，声光提醒。内嵌Labthink独有的高端工业计算机，杜绝由计算机病毒等引起的系统故障，保证运行可靠性与数据存储安全性。测试原理：将预先处理好的试样夹紧于测试腔之间，氧气或空气在薄膜的一侧流动，高纯氮气在薄膜的另一侧流动，氧分子穿过薄膜扩散到另一侧中的高纯氮气中，被流动的氮气携带至传感器，通过对传感器测量到的氧气浓度进行分析，计算出氧气透过率等结果。薄膜检测设备透氧分析仪_包材透氧性检测仪C206H参照标准：ASTM D3985、ASTM F1307、GB/T 19789、GB/T 31354、DIN 53380-3、JIS K7126-2-B、YBB 00082003-2015测试应用：薄膜——各种塑料薄膜、纸塑复合膜、共挤膜、镀铝膜、铝箔复合膜、玻纤铝箔纸复合膜等膜状材料的氧气透过率测试。片材——PP片、PVC片、PVDC片、金属箔片、橡胶片、硅片等片状材料的氧气透过率测试。技术参数：仪器型号：C206H测试范围：0.02～200 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)；0.02～400000 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)（定制）；0.2～2000 cc/(m2&bull day)(MASK面积5cm2)（选配）；1～10000 cc/(m2&bull day)(MASK面积1cm2)（选配）分辨率：0.0001 cc/(m2&bull day)重复性：0.02或1%，取大者温度范围：15～50℃ ；5～60℃（选配）温度波动：±0.15 ℃ 湿度范围：0%，5～90%±2% %RH（标准温度范围内）薄膜检测设备透氧分析仪_包材透氧性检测仪C206H技术规格：测试腔：6套样品尺寸：4.4” x 4.4”（11.2cm×11.2cm）样品厚度：≤120 Mil（3mm）标准测试面积：50cm2气体规格：99.999%氮气、99.5%氧气（气源自备）气源压力：≥ 40.6 PSI / 280 kPa接口尺寸：1/8” 金属管外形尺寸：600mm× 490mm× 660mm电源：120VAC±10% 60Hz / 220VAC±10% 50Hz（二选一）净重：220Lbs（100kg）产品配置：标准配置：主机、平板电脑、取样器、真空油脂、Φ6 mm聚氨酯管选购件：GP-01气体净化装置、空压机、CFR21Part11、GMP计算机系统要求、DataShieldTM数据盾备注：本机压缩空气进口为Φ6 mm聚氨酯管（压力≥ 79.7 PSI / 550 kPa）；气源自备

薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪W301B水蒸气透过率测试仪又叫透湿性测试仪。基于杯式法测试原理，是一款专业用于薄膜试样的水蒸气透过率测试仪，适用于塑料薄膜、复合膜等膜、片状材料与医疗、建材领域等多种材料的水蒸气透过率的测定。通过水蒸气透过率的测定，达到控制与调节材料的技术指标的目的，满足产品应用的不同需求。产品特点◎ 称重法测试原理，符合标准要求的间歇式称量，每次测量前系统自动清零，保证数据的统一性和准确性◎ 高清液晶触摸屏，内容更直观，操作更简便◎ 单次试验测试1个试样，过程全自动化，透湿杯升降称量由气缸控制，数据准确可靠◎ 创新循环除湿系统，内置真空泵，有效防止透湿杯上方湿度梯度的形成，保证测试的准确性◎ 宽范围、高精度、自动化温湿度控制，满足各种试验条件下的测试◎ 试验结果支持多格式存储和数据输出，包括实验报告 Excel、云端共享◎ 提供标准砝码快速校准模式，称量系统保证检测数据的准确性◎ 产品符合GMP用户三级权限◎ 可进行试验结果的单次、成组的统计分析◎ 具备 ISP 在线控制、升级功能，可按照要求远程更改试验功能◎ 专门的计算机通信软件，可进行试验的实时显示及数据的分析处理 、数据保存 测试原理W301B水蒸气透过率测试仪采用透湿杯称重法测试原理，在一定的温度下，使试样的两侧形成一特定的湿度差，水蒸气透过透湿杯中的试样进入干燥的一侧，通过测定透湿杯重量随时间的变化量，从而求出试样的水蒸气透过率等参数。 应用领域薄膜：适用于各种塑料薄膜、塑料复合薄膜、纸塑复合膜、土工膜、共挤膜、防水透气膜、 镀铝膜、铝箔、铝箔复合膜等膜状材料的水蒸气透过率测试片材：适用于各种工程塑料、橡胶、建材（建筑用防水材料）、保温材料等片状材料的 水蒸气透过率测试。如PP片材PVC片材、PVDC片材、尼龙片材等纸张、纸板：适用于纸张、纸板的水蒸气透过率测试纺织品、非纺织布：适用于纺织品、非纺织布等材料的水蒸气透过率测试薄膜透湿仪_薄膜透湿性测试仪技术指标测试范围：0.01 ~ 100 g/m224h0.1MPa（常规）测试精度：0.01 g/m224h0.1MPa系统分辨率：0.001 g/m224h0.1MPa试样数量：1 ~ 3件（数据各自独立）试验温度：室温 ~ 55°C（常规）控温精度：±0.5°C试验湿度：10%RH ~ 98%RH（标准90%RH）控湿精度：±2%RH测试面积：50 cm2试样厚度：≤ 3 mm （其他厚度要求可定做）载气流量：0 ~ 200 ml/min试验压力：≥0.20 MPa接口尺寸：1/8英寸金属管外形尺寸：440 mm (L) × 450 mm (W) × 450 mm (H)电 源：AC 220V 50Hz净 重：42 kg测试标准该仪器符合多项国家和国际标准：ISO 15106-2、ASTM F1249、GB/T 26253-2010、TAPPI T557、JIS K7129、YBB 00092003-2015 产品配置标准配置：主机、专业软件、通信电缆、取样器、手套选购件：标准膜、空压机备注：本机气源进口为1/8英寸金属管；气源、蒸馏水用户自备

OTR氧气透过率测定仪 库仑法薄膜透氧率测试仪 氧气透过量分析仪基于库仑氧气分析传感器和等压法测试原理，参照ASTM D3985等标准设计制造，为高、中气体阻隔性材料提供高精度和高效率的氧气透过率测试。适用于食品、药品、医疗器械、日用化学、光伏、电子等领域的薄膜、片材及相关材料的氧气透过性能测试。OTR氧气透过率测定仪 库仑法薄膜透氧率测试仪 氧气透过量分析仪产品特点：搭载Labthink新型科技成果的ppb级库仑氧传感器，可获取更低的测试下限。参照ASTM D3985标准设计，绝对值，无需校准。超长使用寿命，是传统库仑氧传感器的三倍。具有超限报警，自动保护功能。采用360°气流循环恒温技术，温度稳定性更佳。搭载高精度温湿度传感器，实时监测并记录温湿度变化。测试过程中，实现流量、温度和相对湿度自动化控制，精度更高。可实现更高的测试重复性0.01 cc/(m2&bull day)。高效率独立三套50cm2标准面积测试腔，符合标准要求的平行样检测。支持同一条件3个试样同时测试，数据相互独立。同一测试周期，完成的样品量从2个提升至3个。自动夹紧试样，省时省力，夹紧力度一致，密封更佳。采用Windows系统的12寸触控平板操控，操控更便捷。自动模式，输入试验温湿度，一键开启，全自动测试。全新屉式测试腔，一键自动进出，声光提醒。内嵌Labthink独有的高端工业计算机，杜绝由计算机病毒等引起的系统故障，保证运行可靠性与数据存储安全性。测试原理：将预先处理好的试样夹紧于测试腔之间，氧气或空气在薄膜的一侧流动，高纯氮气在薄膜的另一侧流动，氧分子穿过薄膜扩散到另一侧中的高纯氮气中，被流动的氮气携带至传感器，通过对传感器测量到的氧气浓度进行分析，计算出氧气透过率等结果。OTR氧气透过率测定仪 库仑法薄膜透氧率测试仪 氧气透过量分析仪参照标准：ASTM D3985、ASTM F1307、ASTM F1927（选配）、GB/T 19789、GB/T 31354、DIN 53380-3、JIS K7126-2-B、YBB 00082003-2015测试应用：薄膜——各种塑料薄膜、纸塑复合膜、共挤膜、镀铝膜、铝箔复合膜、玻纤铝箔纸复合膜等膜状材料的氧气透过率测试。片材——PP片、PVC片、PVDC片、金属箔片、橡胶片、硅片等片状材料的氧气透过率测试。OTR氧气透过率测定仪 库仑法薄膜透氧率测试仪 氧气透过量分析仪技术参数：仪器型号：C203H测试范围：0.01～200 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)；0.01～400000 cc/(m2&bull day)(标准面积50cm2)（定制）；0.1～2000 cc/(m2&bull day)(MASK面积5cm2)（选配）；0.5～10000 cc/(m2&bull day)(MASK面积1cm2)（选配）分辨率：0.0001 cc/(m2&bull day)重复性：0.01或1%，取大者温度范围：15～50℃；5～60℃（定制）温度波动：±0.05 ℃湿度范围：氧气0%，5～90%±1%；载气0%，5～90%±2%（选配）技术规格：测试腔：3套样品尺寸：4.4” x 4.4”（11.2cm×11.2cm）样品厚度：≤120 Mil（3mm）标准测试面积：50cm2气体规格：99.999%氮气、99.5%氧气（气源自备）气源压力：≥ 40.6 PSI / 280 kPa接口尺寸：1/8” 金属管外形尺寸：600mm× 500mm× 700nm电源：120VAC±10% 60Hz / 220VAC±10% 50Hz（二选一）净重：220Lbs（100kg）产品配置：标准配置：主机、平板电脑、取样器、真空油脂、Φ6 mm聚氨酯管选购件：GP-01气体净化装置、空压机、CFR21Part11、GMP计算机系统要求、DataShieldTM数据盾备注：本机压缩空气进口为Φ6 mm聚氨酯管（压力≥ 79.7 PSI / 550 kPa）；气源自备

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。 性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！ 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

原位薄膜应力测量系统，又名原位薄膜应力计或原位薄膜应力仪！MOS美国技术（US 7,391,523 B1）！曾荣获2008 Innovation of the Year Awardee！ 采用非接触激光MOS技术；不但可以准确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计可以保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高测试分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析； 该设备已经广泛被各个学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等）、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用； 相关产品： 薄膜应力仪（薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用先进的MOS技术，详细信息请与我们联系。设备名称：薄膜应力测量系统，薄膜应力测试仪，薄膜应力计，薄膜应力仪，Film Stress Tester, Film Stress Measurement System 主要特点： 1.自主专用技术：MOS 多光束传感器技术； 2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计； 3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等； 4.薄膜应力各向异性测试和分析功能； 5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件） 6.光学常数n&k 测量；（选件） 7.多基片测量功能；（选件） 8.基片旋转追踪测量功能；（选件） 9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点； 10.专业设计免除了测量受真空系统振动影响；测试功能： 1. 实时原位薄膜应力测量 2.实时原位薄膜曲率测量 3.实时原位应力薄膜厚度曲线测量 4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等 实时原位测量功能实例：曲率、曲率半径、薄膜应力、应力—薄膜厚度曲线、多层薄膜应力测量分析等；

XLW(PC)薄膜拉力机 薄膜拉伸强度试验仪 包装薄膜电子拉力机用于塑料薄膜、复合材料、软质包装材料、塑料软管、胶粘剂、胶粘带、不干胶、医用贴剂、离型纸、保护膜、组合盖、金属箔、隔膜、背板材料、无纺布、橡胶、纸张纤维等产品的拉伸、剥离、变形、撕裂、热封、粘合、穿刺力、开启力、低速解卷力、拨开力等性能测试。了解详细信息，敬请致电济南兰光0531-85068566技术特征：XLW(PC)是一款专业用于测试各种软包装材料拉伸性能等力学特性的电子拉力试验机；其超高的精度（0.5级）保证了测试的准确性；七种独立试验程序、多种规格力值传感器、以及七档试验速度选择，可以满足用户的各种试验条件；智能的操作软件不仅方便用户操控设备，还提供了多种数据分析和比对等实用功能。 √ 0.5级的测试精度，有效的保证了试验结果的准确性√一台试验机集成拉伸、剥离、撕裂等七种独立的测试程序，为用户提供了多种试验项目选择√ 1000mm的超长行程可以满足超大变形率材料的测试√ 多种规格的力值传感器以及七档试验速度选择，为用户不同试验条件的测试提供了便利√ 微电脑控制、菜单式界面、PVC操作面板、以及大液晶屏显示，方便用户快速操作√ 限位保护、过载保护、自动回位、以及掉电记忆等智能配置，保证用户的操作安全√ 专业的操控软件提供了成组试样统计分析、试验曲线叠加分析、以及历史数据比对等多种实用功能√ 支持LystemTM实验室数据共享系统，统一管理试验结果和试验报告测试原理：将试样装夹在夹具的两个夹头之间，两夹头做相对运动，通过位于动夹头上的力值传感器和机器内置的位移传感器，采集到试验过程中的力值变化和位移变化，从而计算出试样的拉伸、撕裂、变形率等性能指标。执行标准：ISO 37、GB 8808、GB/T 1040.1-2006、GB/T 1040.2-2006、GB/T 1040.3-2006、GB/T 1040.4-2006、GB/T 1040.5-2008、GB/T 4850-2002、GB/T 12914-2008、GB/T 17200、 GB/T 16578.1-2008、 GB/T 7122、 GB/T 2790、GB/T 2791、GB/T 2792、GB/T 17590、ASTM E4、 ASTM D882、 ASTM D1938、ASTM D3330、ASTM F88、 ASTM F904、JIS P8113、QB/T 2358、QB/T 1130XLW(PC)薄膜拉力机 薄膜拉伸强度试验仪 包装薄膜电子拉力机技术指标：规格：500N（标配）；50N、100N、250N（可选）；750N、1000N（可定制）精度：0.5级试验速度：50 100 150 200 250 300 500mm/min试样数量：1件试样宽度：30mm（标配夹具）；50mm（可选夹具）行程：1000 mm外形尺寸：450mm(L)×450mm(W)×1410mm(H)电源：220VAC 50Hz / 120VAC 60Hz净重：68kg仪器配置：标准配置：主机、通用夹具、专业软件、通信电缆选购件：计算机、标准压辊、试验板、取样刀、浮辊式夹具、非标夹具

优势特点1）大功率连续光源，输出光谱平缓无尖峰，保证测量重复性；2）配备偏置光源和偏置滤光片；3）专利分光系统，保证良好的波长准确度和重复性，消除多级谱的影响，杂散光小；4）相关检测法处理弱信号，有效提高信噪比，保证测量精度；5）独特样品夹具设计，适合各种规格的薄膜电池，夹持方便，电极接触好，对弱信号测试干扰小；6）完整的全自动化专用系统软件。产品应用对于多结电池，在测量其中一节电池时，需要对其它节电池进行偏置光照射，使其处于完全导通的状态，一般来讲，需要根据电池光谱响应的范围来选择偏置光的波段，在哪个波段电池有响应，就选哪个波段的光来导通电池，这样被测节电池所产生的电流才可以顺利输出。标准配置只含一个偏置光源，用户可以根据需要选配两个偏置光源，每个偏置光源可以独立工作，对于三结以上的太阳能电池可以采用分别偏置的方法来测量，解决了免某些波段的滤光片很难配套的问题，这在目前市场上的太阳能测试系统中属于比较独特的设计。详细介绍太阳能电池的光谱响应和量子效率对分析太阳能电池的工艺问题以及研究电池片的性能有重要的参考价值。CEL-QPCE2030多结薄膜太阳能电池光谱性能测试系统可以将多结薄膜太阳能电池各节的绝对光谱响应（Spectral Response）和量子效率(Quantum Efficiency)分别测出来，并计算得到整个电池片的绝对光谱响应和量子效率。同时还可以分别计算顶电池和底电池的电流密度，以及电池总的电流密度（AM1.5G 条件下）。规格参数指标参数适用电池单结、双结、三结, 多结薄膜太阳能电池控制模式软件控制、全自动扫描、自动消除误差、自动扣除背景光谱范围200-1700nm扫描间隔≥1nm连续可调光谱扫描全自动、连续测试结果重复性0.3%（短路电流）工作模式直流模式DC、交流模式AC斩波频率5-1000Hz温控台：温控范围5-40℃（±0.5℃），选配偏置光源可选配2路,氙灯/卤素灯单色仪焦距300mm、150mm可选偏置电压±3V，设置精度：±1mV偏置滤光片短波通 3 片（进口），长波通 4 片