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薄膜表征系统

仪器信息网薄膜表征系统专题为您提供2024年最新薄膜表征系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜表征系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜表征系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜表征系统相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜表征系统相关的最新资讯、资料,以及薄膜表征系统相关的解决方案。

薄膜表征系统相关的仪器

  • TriboLab CMP 利用其前身产品 (Bruker CP-4) 超过 20 年的 CMP 领域专业知识,为业界领先的 TriboLab 平台带来了一套完整的功能。基于本套设备产生的高精度和高可重复性使得在整个 CMP 流程中能够进行高效的鉴别、检查和连续功能测试。TriboLab CMP 是市场上唯一能够提供广泛的抛光压力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、声发射和表面温度测量的工艺开发工具,可准确、完整地描述 CMP 工艺和耗材。用于 CMP 的小型研发规模专业系统布鲁克的TriboLab CMP工艺和材料表征系统是专为晶圆抛光工艺而设计,是具有可靠、灵活和高效的台式设备。重现全尺寸晶圆抛光工艺条件,无需在生产设备上停机提供无与伦比的测量可重复性和细节检测允许在小样品上进行测试,比全晶圆测试节省大量成本板载诊断系统可以更好地了解抛光过程比市场上任何其他系统提供更多的瞬态抛光过程的参数从接触抛光盘开始直至整个测试过程都能收集数据通过更完整、更详细的数据实现早期流程开发决策具有灵活的样品类型、尺寸和安装配置抛光任何平面材料,几乎能使用任何修正盘,任何抛光液,和任何抛光垫轻松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圆可同时安装多个样品,测试更灵活
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  • 材料表征 400-801-8117
    产品包括实验室加工设备药物制剂工艺设备旋转流变仪粘度计更多信息:请访问赛默飞世尔科技材料表征的展台,展位号:SH100279。或使用简易域名登陆:http://mctc.instrument.com.cn。
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  • 闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光(探测器灵敏波段)的材料,可分为有机和无机两大类,按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁,且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时,一个X射线光子,可以产生多个光子,与紫外可见光不同,因为X射线的能量足以使物体电离,使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子,通过产生俄歇电子,康普顿散射等产生更多的电离电子(二次电子),二次电子热能化退至激发能级,通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上,闪烁体是核医学影像设备的核心部件,通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料,它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息,是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门,在辐射光源最大功率下关闭快门时,样品位置辐射剂量小于10uSv/h,辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时,分辨率可以达到20pl/mm以上。
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  • 实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发,高真空度 ,连续操作等特点,特别适用于热敏性物料,易起泡物料,高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面,一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果,优化传热和传质过程,从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中,能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低,因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短,因此,气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率:被刮成的膜始终保持高湍流的状态,增加了质量和热量的传递 停留时间短:降低了产品的热应力 一步蒸馏:无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜:无静液面高度的影响 无产品结焦:在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流,使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏:提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低:ji低的操作压力可降低物质的沸点,zui低可达 0.001mbar(0.1Pa) 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制)好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体(2 选 1)TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃,刮膜转速 100-500rpm,蒸发面积 0.04 ㎡,蒸发能力 0.1-1.5L/h,冷凝面积 0.2 ㎡,zui大物料粘度 1000cp,接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571(316Ti)不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃,刮膜转速 60-500rpm,蒸发面积 0.052 ㎡,蒸发能力 0.1-2L/h,冷凝面积 0.08 ㎡(分子蒸馏蒸气压低,效率高,无须太大冷凝面积),zui大物料粘度 5000cp,接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571(316Ti)不锈钢蒸发器加热模块(4 选 1)ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃,加热功率 1.5KW,稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃,加热功率 2KW,稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃,加热功率 2KW,稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃,加热功率 3KW,稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块(2 选 1)CS3 冷却循环器-20 到 100℃,制冷功率 300W,带加热,流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃,制冷功率 300W,噪音更低,流量 15L/min真空模块(3 选 1)SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀,低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块(2 选 1)500ml 进料器,针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时,可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块(2 选 1)三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调,出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇(BDO)精制 聚四氢呋喃醚(PTMEG)精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除(如 HDI,MDI) 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体
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  • FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable(便携式FR) 是一款独特设备,为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析: FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的,光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且,既可以安装在台面上,又可以转化为手持式的厚度测试仪,轻松实现便携实时操作。 性能分析:1、 USB接口供电,无需电源线。2、 真正的便携,用探头检测样品。3、 采用软塑料头,适合野外应用。4、 占地小,可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件:FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率,透射率和反射率光谱,而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度(10nm到100μm)和光学常数(n&k)的白光反射光谱法(WLRS)运算(ThetaMetrisis TM),支持(在透明或者部分透明或者全反射的衬底上)多层薄膜(10层)的测试。不需要高深的光学知识,只要有基本的电脑技巧、一台电脑,轻松实现膜厚测量! 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p
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  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
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  • FR-uProbe是涂层表征应用的解决方案,要求光斑尺寸小至极小微米,例如微图案表面,具有不规则表面的样品,其表现出高水平的散射光和许多其它。使用FR-uProbe,在UV / Vis / NIR上的局部薄膜厚度,光学常数,反射率,透射率和吸光度测量只需点击即可。白光反射光谱(WLRS)测量在一定波长范围内从薄膜或多层叠堆反射的光量,入射光垂直于(垂直于)样品表面。通过来自界面的干涉产生的测量的反射光谱用于确定自支撑和支撑(在透明或部分/全反射基板上)薄膜堆叠的厚度,光学常数(n和k)等。应用o大学和研究实验室o半导体(氧化物,氮化物,硅,抗蚀剂等)o MEMS器件(光刻胶,硅膜等)o LEDo数据存储o阳极氧化o弯曲基板上的硬/软涂层o聚合物涂料,粘合剂等o生物医学(聚对二甲苯,气球壁厚等)特征o 单击分析(无需初始猜测)o 动态测量o 集成USB摄像头o 保存视频进行演示o 350+不相同的材料o 3年免费软件更新o 在Windows 7/8/10上运行
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  • 碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展,碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而,对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前,碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法,该技术主要有以下的优点: 1、较高灵敏度,即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度,对碳纳米管的(n,m)分辨率很高3、对待测样品要求低,可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单,准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单,测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征,虽然光谱测量技术有很大的优点,但是测量过程还是有些问题,如获取数据速度太慢,测量灵敏度不是很高,手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3,使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统,可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果:碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域:1. 测量碳纳米管(n,m)分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点:1. 高度集成化,体积小巧2. 操作简单,使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面,全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头,无需使用液氮主要技术指标:荧光光谱测量:可见区发射谱探测范围: 400-900nm近红外发射谱探测范围: 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围: -2000nm吸收谱测量:紫外吸收谱探测范围: 210-450nm可见吸收谱探测范围: 400-900nm红外吸收谱探测范围: 900-1600nm可选红外发射谱探测范围: -2000nm 拉曼光谱测量:拉曼光谱探测范围: 150-3000cm-1激发光源波长: 532和/或671nm
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  • MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统 产品介绍MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统,通过五自由度磁场发生器,结合 磁控算法及软件,可实现对磁性操控介质(如微小磁珠、磁 性无缆探针)运动轨迹和力学控制,在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性● 可实现5自由度的磁场控制● 可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩● 超大球形工作空间,直径可达130毫米● 可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针,对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作软件控制界面l 开环控制模式(遥杆控制)l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示 规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度≦40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg
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  • MagnebotiX磁控微纳操纵/表征系统产品介绍磁控微纳操纵/表征系统是基于磁场控制的微纳操作系统,通过五自由度磁场发生器,结合磁控算法及软件,可实现对磁性操控介质(如微小磁珠、磁 性无缆探针)运动轨迹和力学控制,在显微医学、纳米技术 基础和应用研究领域有着广泛应用。产品特性● 可实现5自由度的磁场控制● 可在微米到毫米级大小范围的物体上同时施加力和力矩● 超大球形工作空间,直径可达130毫米● 可与主流显微镜品牌和型号高度兼容应用案例生物力学 可实现在单细胞水平进行多种非接触操作方案。 巨噬细胞开始与磁性靶体相互作用 用磁珠探测微小组织 医学微操作 采用 OctoMag型磁控系统可以操纵磁性微探针,对小动物进行体内微创靶向给药。 磁性操纵微型机器人 靶向给药 微纳机器人研究 用于各种磁控微机器人 操作及其控制方案的研 究和二次开发。 磁共振微型机器人 螺旋形微型机器 磁控微机器人进行微装配操作 软件控制界面l 开环控制模式(遥杆控制)l 闭环控制模式l 自动化操控l 软件二次开发工具包l 实时显微成像显示规格参数产品型号MFG-100系统OctoMag系统工作空间直径10mm130mm磁场强度40mT50mT磁场梯度2T/m2T/m磁场频率2000Hz at 2mT10Hz外形尺寸250x275x110mm560x560x550mm系统重量4.5Kg40Kg
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  • 优势特点1)样品处理开始后样品池中真空度可达到10-3 Pa;2)样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子;3)测量所需探针分子为酸性或碱性分子,高硼硅玻璃材质避免了各类气体的相互污染;4)真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组成,可满足样品测试所需的高真空度的要求,具有抽速快、体积小、噪音低、操作简单、使用方便等特点;5)低真空部分主要是抽除系统中的高浓度气体或吸附的残余气体;6)各部分节门选用高硼硅玻璃节门,满足系统高真空的要求,透明性操作,便于调试;7)真空测量仪使用数显高精密真空计;8)本系统所配透过式石英红外吸收池,可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程,可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验,对样品的加热温度可达450度;9)波纹管更换方便。10)高真空系统和原位红外吸收池可按客户要求进行更改和定制。产品应用1 吸附态研究和催化剂红外光谱表征红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究,其中有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱,如:NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等,红外光谱表征可以提供催化剂表面尤其是原位反应条件下催化剂表面存在的“活性中心”和表面吸附物种的信息,因此对于揭示催化反应机理十分重要。1.1 CO吸附态研究CO具有很高的红外消光系数,其未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用,同时许多重要的催化反应如羰基合成、水煤气合成、费托合成等均与CO密切相关,因此,研究CO在过渡金属表面的吸附态是一项十分广泛的研究课题。1.2催化剂表面组成测定合金催化剂表面组成与体相组成的差异会导致催化剂的性能显著不同,因此,测定催化剂的表面组成对理解反应的活性位相当重要。利用两种气体混合物在双组份过渡金属催化剂表面上的竞争吸附,并通过红外光谱测定其强度,可以方便地测定双金属负载催化剂的表面组成。典型的例子是CO和NO在Pt-Ru双金属催化剂上共吸附的红外光谱。1.3几何效应和电子效应研究在高分散金属催化剂中引入第二金属组元,由于金属间的几何效应和电子效应可显著改变催化剂的吸附性能从而改变催化活性。如在Pd-Ag/SiO2催化剂体系中,Ag对Pd起稀释作用,当Ag含量增加,成双存在的Pd浓度减少,因而桥式CO减少,线式CO增加,说明几何效应改变了CO在Pd-Ag/SiO2体系中的吸附性能,同时,随Ag含量的增加,CO吸附谱带红移加大,说明Pd-Ag之间存在电子效应。1.4吸附分子相互作用研究CO吸附在过渡金属表面时存在d-π反馈,nco同d-π反馈程度有有关,而d-π反馈程度与金属本身的d轨道情况有关,因此,通过CO吸附态的红外吸收光谱的化学位移,可以考察其它分子与CO共同吸附时导致的分子与金属组元之间的电子转移过程。如:当能够给出电子的Lewis碱与CO共吸附在Pt上时,根据d-π反馈原理,吸附在Pt上的CO伸缩振动向低波数位移,而当能够接受电子的受体与CO共吸附在Pt上时,根据d-π反馈原理,吸附在Pt上的CO伸缩振动向高波数位移。2 氧化物、分子筛催化剂的红外光谱表征2.1 固体表面酸性测定固体表面酸性位一般可看作是氧化物催化剂表面的活性位。在众多催化反应如催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子与表面酸性位相互作用形成正碳离子,该正碳离子是反应的中间物种。正碳离子理论可以成功解释烃类在酸性表面上的反应,也对酸性位的存在提供了有力证明。为了表征固体酸催化剂的性质,需要测定表面酸性位的类型(Lewis酸,Bronsted酸)、强度和酸量。测定表面酸性的方法很多,如碱滴定法、碱性气体吸附法、热差法等,但这些方法都不能区分L酸和B酸部位。红外光谱法则广泛用来研究固体催化剂表面酸性,它可以有效区分L酸和B酸,在该方法中,常用碱性吸附质如氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等来表征酸性位,其中应用比较广泛的是吡啶和氨。2.2 氧化物表面羟基的研究氧化物尤其是大比表面的氧化物的表面结构羟基同许多催化反应如脱水反应、甲酸分解反应等有关,而表面结构羟基的性质又同表面酸性有密切的关系,多年来,人们对氧化物表面羟基进行了大量的研究,其中大部分研究着眼于氧化物表面羟基的结构、性质以及同酸性中心的关系,进而同催化剂的反应性能相关联。研究催化剂表面结构羟基的方法很多,但卓有成效的是红外光谱法。2.3 氧化物表面氧物种研究甲烷是烃类分子中结构简单、对称、化学惰性的分子,从基础研究角度认识以甲烷为代表的低碳烃类活化机理具有极大的学术意义。但是,甲烷分子很难吸附在催化剂表面上,因此很难直接观察到它在氧化物表面的活化过程。而氧化物表面(尤其碱性氧化物表面)的氧物种研究由于表面存在一层稳定的碳酸盐使得对其研究十分困难。鉴于上述原因,氧化物表面氧物种的研究一直没有取得重大进展。近年来采用了“化学捕集”技术、同位素交换技术和低温原位红外光谱方法相结合应用于上述研究取得了一些关于表面氧物种和甲烷活化的重要信息。3 原位红外光谱应用于反应机理研究长期以来人们研究了各种分子在催化剂表面的吸附态并获得了许多重要的信息,但是这些信息都是在反应没有发生时测得的。而反应条件下的吸附物种的类型、结构、性能与吸附条件下的吸附物种的类型、结构、性能有很大差别,因此,仅利用吸附条件下分别测得的吸附物种信息无法准确阐明反应机理,为此,进行反应条件下吸附物种的研究十分必要。而在反应条件下催化剂表面吸附的物种并未都参与反应,因此如何在多种吸附物种中识别出参与反应的“中间物种”是非常重要的课题。原位红外光谱可以测量催化剂在反应状态下吸附物种的动态行为,因此可以获得催化剂表面物种的动态信息,并可据此推断反应机理。详细介绍原位红外光谱表征高真空系统是用于测定催化剂表面组成、吸附、酸性、物种、表面羟基及反应机理的专用设备,包括高真空系统和原位红外吸收池两部分,可以配合Bruker布鲁克等主要红外光谱仪进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等化合物的化学吸附测定及反应机理研究。催化剂表征对于了解催化剂结构和组成在预处理、诱导期和反应条件下以及再生过程中所发生的变化是至关重要的。催化反应机理的知识、特别是结构、动态学和沿催化反应途径中生成的反应中间物的能量学可为开发新催化剂和改良现有催化剂提供更深刻的认识。原位谱学观察又是阐明反应机理、分子与催化剂相互作用的动态学和中间物结构的有效技术。这些研究还可以提供有关催化剂和底物相互作用及有关活化势垒的热力学方面信息。反应机理和动力学的研究,特别是对催化反应中间物的原位观察,对发展催化科学是非常必要的。因为这样的研究结果提供了催化作用的全面知识,并有助于阐明催化剂结构和功能的关系。高真空系统由玻璃四级扩散泵、真空泵、精密真空表、电离规、集气瓶、球形安瓶、制备瓶、可伐、真空活塞等组成。该系统的高真空是通过一台优质低噪声的机械泵和一台玻璃四级扩散泵组成的机组而获得。原位红外吸收池由石英制成,分样品台和真空密封窗口两部分。样品台带有加热组件、热电偶、冷却系统和气体引入系统;真空密封窗口由冷却系统和CaF2窗片组成。该吸收池采用透射模式进行红外光谱表征,可对样品进行焙烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程,可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中,也可利用配备的延长管路进行原位表征实验。样品的加热采用程序升温方法控制温度,温度可达450℃。标准配置的吸收池窗口材料为CaF2,工作区间为4000—1000cm-1,也可按用户需要配置其他窗口材料。表1 红外窗口材料的性质材料使用范围cm-1反射损失*(1000cm-1)溶解度 g/100ml@20oC相对价格物理性质NaCl5000至6257.5%401.0溶于水,硬但易抛光和切割,潮解慢KBr5000至4008.5%701.2溶于水,较软但易抛光和切割,潮解慢,价格高,范围宽CsI5000至18011.5%807.8溶于水,软且易划伤,不能切割,潮解慢CaF25000至10005.5%难溶3.5难溶于水,耐酸碱,不潮解,忌用于铵盐溶液BaF25000至7507.5%不溶6.2类似于CaF2,对热和机械振动敏感SrF25000至8506%不溶5.1类似于CaF2,对热和机械振动敏感AgCl5000至45019.5%不溶6.6不溶于水但溶于酸和NH4Cl溶液,可延展,长期暴露于紫外光变暗,腐蚀金属及合金AgBr5000至28025%难溶难溶于水,软且易划伤,冷变形长期暴露于紫外光变暗KRS-55000至25028%0.19.1微溶水,溶于碱但不溶于酸, 软且易划伤,冷变形,剧毒Infrasil(SiO2)5000至2850NA不溶不溶于水,溶于HF溶液,微溶于碱难切割Poly-ethylene625至10NA不溶1.6不溶于水,耐溶剂,软易溶胀,难清洗,可压片*两个面上的反射损失, NA 不透明. 玻璃高真空系统部分组成及说明请参阅图1所示,本玻璃高真空实验测试系统,主要应用红外光谱催化剂原位表征、催化剂表面吸附物种和催化剂表征方面(探针分子的红外光谱)以及反应动态学方面的研究。该系统包括由机械真空泵A,真空波纹管B,可伐KF接头C,缓冲球D,组成一级真空泵,用于抽取低真空段,该部分真空可以抽取到1.0Pa;玻璃扩散泵E,用于提升真空度,提升真空度到10-2-10-3Pa,此为二级真空泵,液氮冷阱F,用于冷却系统中杂质气体,也有利于帮助提高真空度;真空规管G和精密真空表J,分别用于测量系统的高真空度及低真空度;玻璃球瓶H、I为储气瓶,用于储存备用纯化好的气体;玻璃管P为高真空部,为工作玻璃管,为该系统的核心部分;玻璃管Q为低真空部,用于连接测试样品池M,进气接口L,为工作管P服务,并实现高低真空的转换;玻璃制备瓶K,用于气体的纯化与制备;制备安瓶N,用于液体的纯化与制备;该系统全部采用玻璃真空阀门,更好的保证了气密性,02,03为三通玻璃真空阀门(详图2),01、04、05、06、07、08、09、10、11为二通玻璃真空阀门(详图3)。本实用新型中所采用的管路均为玻璃管路,所采用的阀门均为玻璃高真空阀门,真空阀门可以保证系统使用过程中不会产生漏气或缓慢渗漏的情形。图1-C中不锈钢管与玻璃管路采用可伐(Kovar)连接。
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  • ICCS 催化剂原位表征系统综合催化剂表征Micromeritics 催化剂原位表征系统(ICCS)给研究者提供一个先进的工具来研究在精确控制有代表性的工艺条件下反应结果与关键参数(如活性位点数量)的关系。ICCS 是一套独立的配件,可附加在微型反应器这类动态实验室设备上。为其增加两类动态化学吸附分析功能: 程序升温分析(TPx)和脉冲化学吸附。反应前可在新鲜催化剂上进行化学吸附分析。反应后,无需从反应管中取出样品即可对催化剂再次进行化学吸附分析。通过这种对同一个样品原位的分析,消除空气中气体及水分等对样品的污染,可详细对比使用前和使用后的催化剂活性位点的变化,可轻松获得程序升温分析和脉冲化学吸附数据,确保数据的完整性。 ICCS 包括:高精度、高灵敏度的热导检测仪(TCD)监测流经反应管气体浓度的变化内置 Peltier 冷阱控温准确可在 -20°C 至 65°C 内工作以去除可冷凝的液体(例如,在还原氧化物过程中产生的水)两个用于精确控制气体的质量流量控制器(通过反应器系统进行压力控制)交互式报告和控制系统,具有功能丰富且直观的图形用户界面,轻松进行实验设计和结果分析支持:在具有代表性的工艺条件下对样品进行安全、高效和全面的表征,最高压力可达 20 bar表征功能包括脉冲化学吸附、程序升温还原(TPR)、脱附(TPD)和氧化(TPO)以及物理吸附(可选)在反应前后以及再生后对同一催化剂样品进行多次表征,以研究反应、失活和再生机制
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  • OROBOROS O2k高精度线粒体氧化磷酸化功能表征系统 OROBOROS O2k高精度线粒体氧化磷酸化功能表征系统的特点:1. 双通道系统/四通道系统/多通道系统2. 样本仓体积0.5ml-3.5ml3. 温度范围:4-47℃,可进行低温试验4. 具有可变速的磁力混匀功能5. 极谱氧电极传感器,检测氧流量分辨率为1 pmol/(sml)6. 氧电极测量参数:耗氧率、呼吸速率、呼吸控制比率7. 荧光检测参数包括:线粒体膜电位、ATP、Ca2+、ROS。8. 独立外接电极单元,测量参数包括:PH、H2O2、TPP+、H2S、NO9. 样品仓为杜兰玻璃、钛金属等极低活性的材质,降低背景氧干扰。10. 不限次数的加药系统,手动加药结合自动加药,实现准确定时、定量的试剂添加11. 专用组织匀浆工具,采用匀浆管技术对样本进行研磨,样本需求量少至几毫克。12. 引导性软件:实时记录实验过程中的所有数据变化,自动校准,引导标准实验步骤13. 几十种成熟的Protocol,支持代谢领域所有实验设计14. 无实验耗材、无专用试剂、开放性实验空间,节省实验成本的同时打开更广阔的实验领域
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  • TELSTAR 冻干工艺实验室拥有TELSTAR 中试工艺摸索型冻干机 LB 4PS 、 LB MINI;配置热电偶温度探头、自动参气、电容真空计、符合21CFR PART 11的工艺摸索软件;配置:升华界面温度软件、介入成核 等配置提供:冻干样品关键温度测试、冻干工艺摸索、优化、表征、放大等系列服务;设备:拥有TELSTAR 中试工艺摸索型冻干机 LB 4PS 、 LB MINI;配置热电偶温度探头、自动参气、电容真空计、符合21CFR PART 11的工艺摸索软件;配置:升华界面温度软件、介入成核 等配置Linkam 冻干显微镜;梅特勒 DSC;水分仪;灌装机;轧盖机;生物安全柜;超低温冰箱;等系列冻干工艺开发辅助设备。服务:冻干前后样品分析:冻干样品关键温度测试:塌陷温度(Tc)、玻璃态转变温度(Tg'、Tg)、共晶点温度(Teu)、初始融化温度;冻干工艺摸索:初始冻干工艺设计;冻干工艺优化;冻干工艺表征;冻干工艺放大;冻干样品缺陷问题解决;冻干工艺咨询:单小时咨询服务;8小时咨询服务包;16小时咨询服务包;长期顾问服务。冻干工艺培训:8小时线下冻干会议;16小时线下冻干会议;企业定制内训;
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  • 薄膜分析系统 400-860-5168转1729
    仪器简介:高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件,是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱,入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言,这是一项前所未有的新功能,使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数:光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注:宽光谱型提供两个检测器,可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e),但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟,这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟,取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm (可选) 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层,两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um,取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 <1% <3% 折射率 <0.1% <1% 消光系数 <1% <3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 <1% <3% 折射率 <1% <3% 消光系数 <1% <3% 重现性 透射率 <0.01% <0.1% 反射率 <0.01% <1% 折射系数 <0.01% <0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° (标准单元)或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变(可变角版本)或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统),250um(选件) 电源 220V,50Hz,2A 或110V,60Hz,3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度,可变角度,X-Y样品扫描台,多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件(s-、p-或非偏振)。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点:主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n),吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处,同时对透过光谱和发射光谱进行测定,保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱,全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能,而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库,它允许对材料进行预先定义,以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统,它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置,它提供完全马达驱动的,可由PC机控制入射光的角度,入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描,样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm,同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选,它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度,那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ,用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台:可控制样品温度至150度,测定变温下的T和R,对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机:对样品进行显微分析。 微光斑附件:将入射光斑聚焦至200微米,特别适合表征微小样品和局部区域。
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  • 材料表征 400-801-8117
    产品包括实验室加工设备药物制剂工艺设备旋转流变仪粘度计更多信息:请访问赛默飞世尔科技材料表征的展台,展位号:SH100279。或使用简易域名登陆:http://mctc.instrument.com.cn。
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  • 蒸发薄膜沉积系统 400-860-5168转5919
    1.产品概述:该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;电控系统;配气系统等部分组成。2.设备用途:热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等3.产品配置:真空室结构:六边形侧开门真空室尺寸:φ350×370mm限真空度:≤6.6E-4Pa沉积源:1个钨舟、2个有机源样品尺寸,温度:大可放置4片20mmx25mm的基片,基片不加热,可自转,速度5~20转/分;占地面积(长x宽x高):约1米x1米x1.9米电控描述:手动样品台:可放置基片,并可能具有旋转、加热等功能,以满足不同的工艺需求。例如,加热功能可以使样品达到一定温度,适应某些材料的沉积要求;旋转功能有助于提高薄膜的均匀性。控制系统:采用先进的控制系统,方便用户设置和调整工艺参数,如蒸发速率、沉积时间等。多种材料沉积能力:可以沉积多种不同的薄膜材料,以满足不同的应用需求。良好的稳定性和可靠性:确保系统能够长时间稳定运行,保证薄膜沉积的重复性和一致性。可视化操作界面:可能具有直观的操作界面,方便用户进行操作和监控。不同型号的 SMART 蒸发薄膜沉积系统在具体参数和功能上可能会存在差异,例如真空度的高低、蒸发源的类型和功率、样品台的尺寸和可调节范围、膜厚监测的精度等。
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  • 闪烁体是一类吸收高能粒子或射线后能够发光(探测器灵敏波段)的材料,可分为有机和无机两大类,按其形态又可分为固体、液体和气体三种。 当闪烁体受到高能粒子或射线照射后能够发生能级跃迁,且产生的紫外可见光强度可被光电探测器探测到。当X射线与闪烁体作用时,一个X射线光子,可以产生多个光子,与紫外可见光不同,因为X射线的能量足以使物体电离,使电子脱离能级的束缚。能量越高的X射线光子,通过产生俄歇电子,康普顿散射等产生更多的电离电子(二次电子),二次电子热能化退至激发能级,通过荧光或磷光的方式发光。因此闪烁体对辐射具有能量分辨率。在医学上,闪烁体是核医学影像设备的核心部件,通过它可以快速诊断出人体各器官的病变大小和位置。闪烁体在行李安检、集装箱检查、大型工业设备无损探伤、石油测井、放射性探测、环境监测等领域也都发挥着不可替代的作用。闪烁体还是制造各类对撞机中电磁量能器的重要材料,它可捕捉核反应后产生的各种粒子的信息,是人类探索微观世界及宇宙演变的重要工具。稳态瞬态荧光-闪烁体综合性能表征系统可综合测试稳态瞬态光致发光以及X射线辐射发光。X射线辐射样品仓安装可控屏蔽快门,在辐射光源最大功率下关闭快门时,样品位置辐射剂量小于10uSv/h,辐射防护满足国标GBZ115-2023《低能射线装置放射防护标准》的要求。 该系统可根据用户需要搭建以下功能● 稳态荧光/瞬态荧光● 稳态X射线荧光/瞬态X射线荧光● X射线荧光成像● 显微荧光/显微荧光寿命成像● 温度相关光谱 X射线荧光成像瞬态X射线荧光寿命测试技术参数X射线荧光成像TYP 39分辨率卡的X射线图像。测试1mm厚的YAG(Ce)时,分辨率可以达到20pl/mm以上。
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  • 中图仪器VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜基于光学共轭共焦原理,以转盘共聚焦光学系统为基础,结合精密纵向扫描,以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像,一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测,可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能1)3D测量功能:设备具备表征微观3D形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;2)影像测量功能:设备具备二维平面轮廓尺寸的影像测量功能,可进行长度、角度、半径等尺寸测量;3)自动拼接功能:设备具备自动拼接功能,能够实现大区域的拼接缝合测量;4)数据处理功能:设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能;5)分析工具功能:设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能;6)批量分析功能:设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能,可实现批量数据文件的快速分析功能;7)便捷操作功能:设备配备操纵杆,支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等;8)光源安全功能:光源设置无人值守下的自动熄灯功能,当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源,防止光源高亮过热损坏,并有效延长光源使用寿命;9)镜头安全功能:设备配备压力传感器,并在镜头处进行了弹簧结构设计,确保当镜头碰撞后弹性回缩,进入急停状态,大幅减小碰撞冲击力,有效保护镜头和扫描轴,消除人为操作的安全风险。自设计之初,VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜便定下了“简单好用"四字方针的目标。1)结构简单:仪器整体由一台轻量化的设备主机和电脑构成,控制单元集成在设备主机之内,亦可采用笔记本电脑驱动,实现了“拎着走"的便携式设计;2)真彩图像:配备了真彩相机并提供还原的3D真彩图像,对细节的展现纤毫毕现;3)操作便捷:采用全电动化设计,并可无缝衔接位移轴与扫描轴的切换,图像视窗和分析视窗同界面的设计风格,实现了所见即所得的快速检测效果;4)采用自研的电动鼻轮塔台,并对软件防撞设置与硬件传感器防撞设置功能进行了优化,确保共聚焦显微镜在使用高倍物镜仅不到1mm的工作距离时也能应对。VT6000材料性能表征共聚焦测量显微镜可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。不同应用场景下的3D形貌主要应用于半导体、光学膜材、显示行业、超精密加工等诸多领域中的微观形貌和轮廓尺寸检测中,其次是对表面粗糙度、面积、体积等参数的检测中。3D形貌图片:影像测量功能界面部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 双向拉伸材料表征试验机 该系统是Coesfeld与德国达姆施塔特工业大学联合开发的,由德累斯顿莱布尼兹聚合物研究所用来表征橡胶材料的裂纹增长及其评价。该系统有静态测试和动态测试2个机型。系统特点: 1. 包含4台电机驱动装置;2. 每台驱动装置配备了一套位移和力传感器;3. 应变和力的测量;4. 通过移动的样品夹具实现力的良好分布。23-500-000双向拉伸静态实验机型号:Biax S5, Biax S10, Biax S20主要应用:通过双向拉伸、蠕变、应力松弛测量来表征塑料和弹性体的。主要参数:最大力值分别是5kN/ 10kN/ 20kN力值精度:0.2力值采样频率:1000Hz行程:200mm精度:0.25μm拉伸速度:60mm/min(120mm/min手动设置)采样精度:1000Hz 61-490双向拉伸动态实验机型号:Biax 800, Biax 1800, Biax 6000主要应用:用于弹性体疲劳和裂纹增长的测试和表征。主要参数:最大力值分别是800kN/ 1800kN/ 6000kN力值精度:0.2力值采样频率:1000Hz行程:50mm精度:0.25μm拉伸速度:1mm/s采样精度:1000Hz
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  • 该系统是Coesfeld与德国达姆施塔特工业大学联合开发的,由德累斯顿莱布尼兹聚合物研究所用来表征橡胶材料的裂纹增长及其评价。 该系统有静态测试和动态测试2个机型。系统特点: 1. 包含4台电机驱动装置;2. 每台驱动装置配备了一套位移和力传感器;3. 应变和力的测量;4. 通过移动的样品夹具实现力的最佳分布。 23-500-000双向拉伸静态实验机型号:Biax S5, Biax S10, Biax S20主要应用:通过双向拉伸、蠕变、应力松弛测量来表征塑料和弹性体的。主要参数:最大力值分别是5kN/ 10kN/ 20kN力值精度:0.2力值采样频率:1000Hz行程:200mm精度:0.25μm拉伸速度:60mm/min(120mm/min手动设置)采样精度:1000Hz 61-490双向拉伸动态实验机型号:Biax 800, Biax 1800, Biax 6000主要应用:通过双向拉伸的实验方法测量并表征弹性体的疲劳和裂纹增长。主要参数:最大力值分别是800kN/ 1800kN/ 6000kN力值精度:0.2力值采样频率:1000Hz行程:50mm精度:0.25μm拉伸速度:1mm/s采样精度:1000Hz
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  • 在材料生产检测领域中,纳米材料表征共聚焦显微镜用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量。它基于光学共轭共焦原理,结合精密纵向扫描,以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;(2)设备具备自动拼接功能,能够快速实现大区域的拼接缝合测量;(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件,预先设置好配置参数再进行测量,软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能,即可快速实现批量测量功能;(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能;(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能;(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能,可实现批量数据文件的快速分析功能;VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中具有广泛的应用。应用领域 对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例:性能特色1、高精度、高重复性1)以转盘共聚焦光学系统为基础,结合高稳定性结构设计和3D重建算法,共同组成测量系统,保证仪器的高测量精度;2)隔震设计能够消减底面振动噪声,仪器在嘈杂的环境中稳定可靠,具有良好的测量重复性。2、一体化操作的测量分析软件1)测量与分析同界面操作,无须切换,测量数据自动统计,实现了快速批量测量的功能;2)可视化窗口,便于用户实时观察扫描过程;3)结合自定义分析模板的自动化测量功能,可自动完成多区域的测量与分析过程;4)几何分析、粗糙度分析、结构分析、频率分析、功能分析五大功能模块齐全;5)一键分析、多文件分析,自由组合分析项保存为分析模板,批量样品一键分析,并提供数据分析与统计图表功能; 6)可测依据ISO/ASME/EUR/GBT等标准的多达300余种2D、3D参数。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄,可快速完成载物台平移、Z向聚焦等测量前工作。4、双重防撞保护措施除软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外,另在Z轴上设计有机械电子传感器,当镜头触碰到样品表面时,仪器自动进入紧急停止状态,保护仪器,降低人为操作风险。VT6000纳米材料表征共聚焦显微镜显微成像主要采用3D捕获的成像技术,使其具有较高的三维图像分辨率。横向分辨率更高,所展示的图像形态细节更清晰更微细,能够提供色彩斑斓的真彩图像便于观察。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度:半导体后道制造中,在将晶圆分割成一片片的小芯片前,需要对晶圆进行横纵方向的切割,为确保减少切割引发的崩边损失,会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽,在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中,栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力,直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外,太阳能电池制作过程中,制绒作为关键核心工艺,金字塔结构的质量影像减反射焰光效果,是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力,能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 中图仪器VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜基于光学共轭共焦原理,结合精密纵向扫描,通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析,可以获取反映器件表面质量的2D、3D参数,从而实现器件表面形貌3D测量。VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜在半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中,可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能;(2)设备具备自动拼接功能,能够快速实现大区域的拼接缝合测量;(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件,预先设置好配置参数再进行测量,软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能,即可快速实现批量测量功能;(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能;(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能; (6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能,可实现批量数据文件的快速分析功能;功能特点1、测量模式多样单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择,适应多种现场应用环境;2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能,双重保护;3、分析功能丰富3D:表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析;2D:剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。应用领域VT6000材料表征3d共聚焦形貌显微镜对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。 应用范例:应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度:半导体后道制造中,在将晶圆分割成一片片的小芯片前,需要对晶圆进行横纵方向的切割,为确保减少切割引发的崩边损失,会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽,在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中,栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力,直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外,太阳能电池制作过程中,制绒作为关键核心工艺,金字塔结构的质量影像减反射焰光效果,是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力,能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他VT6000共聚焦显微镜能够清晰地展示微小物体的图像形态细节,显示出精细的细节图像。它具有直观测量的特点,能够有效提高工作效率,更加快捷准确地完成日常任务。借助共聚焦显微镜,能有效提高工作效率,实现更准确的操作。部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • CFC 多功能聚烯烃分析表征仪产品介绍 多功能聚烯烃综合表征分析仪CFC是应用升温淋洗分级技术(TREF)和凝胶渗透色谱技术(GPC)的一台全自动联用分析仪,可同时实现对分子量及其分布(MWD)和化学组分及其分布(CCD)的表征。CFC可在较短时间内完成复杂的共聚单体的化学组分和分子量及其分布表征(过去通常需要耗费几天时间)以及复杂聚烯烃共混产品的详细分析。 一、CFC功能: 1、可得到温度、分子量和化学组分分布数据的三维谱图,像超级显微镜一样把样品的微观结构进行全面剖析;即可以看到每个温度下各个化学组分的分子量及其分布和千碳甲基数,也可以详细了解每个分子量组分的化学组分构成。2、配置42位自动进样器,可一次性运行42个样品;3、选配组分检测器可直接获得CH3/1000C信息;4、选配低温附件,对于低结晶度的样品,可控温低至-20oC;5、具备远程控制、诊断功能; 二、CFC特点 1、台式、全自动分析; 2、分析过程无需人工接触溶剂,符合HSE要求,溶剂消耗少; 3、仪器软件设计非常友好,方便操作; 4、仪器易于使用、维护;5、选配氮气附件,可以降低氧化降解;6、样品采用温和振荡模式,可降低样品剪切降解; 三、应用实例 对于既有聚丙烯,又有聚乙烯还有乙丙共聚物,附带掺杂各种小分子聚合物以及石蜡等这类复杂样品的表征,如果采用传统分析方法,根本无法了解此聚合物的情况,更不用说知道其详细组成情况了。但采用多功能聚烯烃表征分析仪CFC,不但能够了解其组成情况,还能够详细地知道每个组分的分子量及支链分布情况,就像用一个超级显微镜一样看得清清楚楚。图1是某个牌号树脂的CFC分析结果3D图,我们可以根据温度、分子量及支化度信息等判断其具体组成,同时也能看到每个温度下的化学组成结构和同一分子量下的化学组成结构。 图1 某牌号树脂CFC分析结果
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  • 1. 产品概述:高真空电子束蒸发薄膜沉积系统是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术设备,主要用于在超高真空环境下,通过电子束加热蒸发源材料,使其蒸发并在基片表面沉积形成薄膜。该系统广泛应用于物理学、材料科学、动力与电气工程等域,特别适用于纳米材料、太阳能光伏电池、半导体器件等高精度薄膜的制备。2 设备用途/原理:1. 薄膜制备:该系统能够制备各种金属、半导体、氧化物等材料的薄膜,满足不同材料和器件的制备需求。2. 科学研究:在材料科学研究中,用于探索新材料、新结构的物理和化学性质。3. 工业生产:在半导体、光电子、太阳能电池等行业中,用于大规模生产高精度、高质量的薄膜产品。3 设备特点CMP抛光机具有以下几个显著特点:1 高真空度:系统能够达到高的真空度(≤6.0E-5Pa),有助于减少薄膜制备过程中的杂质和气体干扰,提高薄膜质量。2 电子束加热:采用电子束加热技术,具有热效率高、束流密度大、蒸发速度快等优点,能够蒸发高熔点材料,制备高纯薄膜。3 多源蒸发:系统配备多个蒸发源(如6个40cc坩埚),可同时或分别蒸发多种不同材料,实现多层膜的均匀沉积。4 精确控制:配备高精度的膜厚监控仪和控制系统,能够实现对薄膜厚度、成分和结构的精确控制,确保薄膜的均匀性和一致性。5 灵活定制:样品尺寸及数量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架等多种选择,可根据用户基片尺寸设计工件架。6 稳定可靠:系统整体设计合理,结构紧凑,具有良好的设备稳定性和可靠性,以及完善的售后及质保服务。综上所述,高真空电子束蒸发薄膜沉积系统以其高真空度、高精度、多源蒸发和灵活定制等特点,在薄膜制备域具有广泛的应用景和重要的科学价值。4 特色参数:本系统配有一套电子枪及电源,可满足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多种金属和介质膜基片上均匀沉积多层膜的需要。真空室结构:U形开门真空室尺寸:700x700x900mm限真空度:≤6.6E-5Pa沉积源:6个40cc坩埚样品尺寸,温度:φ4英寸,26片,高300℃占地面积(长x宽x高):约3.2米x3.9米x2.1米电控描述:全自动控制系统:通过工控机和 PLC 实现对整个系统的控制,具有自动和手动控制两种功能,操作过程可在触摸屏上进行,提供配方设置、真空系统、电子枪系统、工艺系统、充气系统、冷却系统等人机操作界面;在工控机上可通过配方式参数设置方式实现对程序工艺过程和设备参数的设置。工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%特色参数 :工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根据用户基片尺寸设计工件架
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  • 1.产品概述:该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。2.设备用途:热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。3.真空室:真空室结构:方形开门真空室尺寸:400×400×450mm限真空度:≤6.0E-5Pa沉积源:3个钨舟、2个有机源样品尺寸,温度:4寸,1片,高800℃占地面积(长x宽x高):约2.5米×1.2米×1.8米电控描述:全自动工艺:片内膜厚均匀性:≤±5%
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  • AMI-300 系列全自动程序升温化学吸附仪AMI-300化学吸附分析仪是新一代全自动程序升温化学吸附仪,可执行动态程序升温催化剂表征实验(TPR,TPO,TPD,脉冲化学吸附等);测定金属分散度、相对活性、吸附强度,测试时间仅为传统容积法的1/3。根据您的需要,可使用标配TCD检测器进行气体分析,或者与质谱仪或其他检测器 ( FID, FTIR, GC 等) 。产品特点:多路进气 可选配四个高精度质量流量控制器(MFC), 扩展至12个进气口。温度范围 实验温度可至1200℃,全范围升温速率均可达1-50℃/min,可选低温组件温度可低至-130℃峰扩散小 1/16英寸316不锈钢管线,保证较小的死体积,有利千提高信号 响应速率, 减少峰的扩散。内置饱和蒸汽发生器 用于产生带有饱和液体蒸汽的气体,饱和蒸蒸汽发生器的温度可控。样品装卸方便 灵活可移动的贝壳式加热炉多种规格的样品管,适用于不同样品尺寸、剂量满足用户的测试需求分析时间短 自动控制的空气冷却组件使得降温更迅速,有效缩短实验时间多路控温 可自由切换加热炉或样品床层的温度来控制仪器测试时的升温速率,并实时记录加热炉和样品床层的温度用于数据分析安全系数高 提供多方位温度检测,超温保护系统,TCD流量监控防干烧系统,前置应急开关等选项都提供更优的安全选择。 测量精确 配置4灯丝高精度热导池检测器(TCD ) , 以及不同量程的定量环(Loop)。定量可选择自动或者手动脉,以最大限度的满足灵敏性和兼容性灵活的用户操作界面 基于Windows操作系统软件,程序设置实验过程,控制仪器功能和数据处理。操作自有、全自动测试 全自动运行实验,电脑自 动采集和储存数据。高级用户模式下仪器设置窗口完全开放,实现用户高度自由化操作。可连接质谱(MS)或气体检测器 支持外接多种检测器,提供串联&并联连接方式,可将质谱(MS)数据采集嵌入AMI软件中,实现同一文件导出TCD&MS数据无蒸汽凝结和吸附滞留 仪器内所有管线和阀均可控温,以防止蒸汽的凝结和吸附滞留现象无需另购气体混合器 内置气体混合器,可提供忍任意、均一混合气体。该气体混合器也适用于全自动多点BET比表面积分析化学通用性和高灵敏性 可根据不同实验需求选择合适的密封材料和TCD灯丝性能参数:型号AMI-300典型样品0.1-1.0克温度范围室温°C——1200°C低温选件-130°C——1200°C升温速率1°C/min——50°C/min标准操作压力(TPX units)大气压 可选压力范围(高压)30bar/100bar气体输入口(低压)4路载气,4路处理气,2路混气气体流速5——50cm3/min(标准模式)样品管类型(低压)石英U型管,泡形管,直壁管样品管类型(高压)316不锈钢反应管TCD检测器两种材料可选(钨;金/钨)管路材质316不锈钢,1/6英寸密封圈可选Viton,Buna-N,Kalrez等尺寸宽56cm 高60cm 深61cm重量55Kg电源220—240V,50/60Hz典型应用:研究催化剂的表面活性位及数量、强度 、活性 、稳定性 、选择性和失活对于工业反应过程非常重要。在催化、化学品和石化行业、比如精细化学品、燃料、肥料、尾气排放控制器、电池、燃料电池和储能材料的研制过程中,表面活性 对材料起着至关重要的作用。多相催化剂也广泛应用于催化裂解和重整反应,加氢反应(加氢脱硫,加氢脱氮,加氢脱氧,加氢脱金属),选择性氧化和还原反应,汽车尾气污染治理、烃的异构化、费托工艺、水煤气变换以及其他许多重要的工业反应。
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  • 超高分子量聚烯烃材料分子量及其分布的表征超高分子量聚烯烃分子量及其分布的表征一直是超高分子量聚烯烃材料开发和加工应用的障碍,因为没有很好的方法来得到分布的数据,只能采用传统的黏度法来获得粗略的黏均分子量的数据,而采用我公司配置了专用IR5检测器和超高分子量色谱柱的高温凝胶色谱仪可以轻松方便地获得超高分子量聚烯烃的分子量及其分布的数据,如果需要也可以得到支化度的信息,成为超高分子量聚烯烃材料研发和加工应用的强有力的手段。
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  • 实验室型薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统优莱博薄膜蒸发系统及分子蒸馏系统是针对于常规蒸馏效果不佳的分离浓缩应用特别设计推出的。因其成膜蒸发,高真空度 ,连续操作等特点,特别适用于热敏性物料,易起泡物料,高粘度物料等的蒸馏和浓缩操作。 工作原理薄膜蒸发在被加热的蒸发器圆筒形内表面,一个旋转的刮膜系统将原料刮成均匀的薄膜。刮膜系统能够使液膜形成良好的湍流效果,优化传热和传质过程,从而能大大地提高蒸发效率。 原料中的低沸点组分在短时间内从液膜中蒸发出来。 物料在蒸发器内的停留时间非常短。蒸发出轻组分气体在外置冷凝器中冷凝。重相的浓缩物由蒸发器底部持续排出。在薄膜蒸发器中,能够处理高粘度的物料以及易于结晶的物料。薄膜蒸发器内操作压力可以低至 1mbar。薄膜蒸发的优点 连续的蒸馏过程 物料停留时间短 高蒸发率 由于操作压力低,因而所需的加 热温度低 可以处理高沸点、高粘度物料 薄膜蒸发器可以连接带有一定理论塔板数的精馏柱 蒸发器内壁不易结垢短程蒸馏 短程蒸发器是将薄膜蒸发器和冷凝器集成在一体的设备。轻组分的蒸汽在短程蒸发器内置冷凝器上冷凝。 蒸发面和冷凝面之间的路径非常短,因此,气相的压力降非常低。短程蒸馏的优点 连续的蒸馏过程 高湍流、高蒸发率:被刮成的膜始终保持高湍流的状态,增加了质量和热量的传递 停留时间短:降低了产品的热应力 一步蒸馏:无需循环 在蒸发器内壁上形成很薄的液膜:无静液面高度的影响 无产品结焦:在加热的蒸发器上由于薄膜的高湍流,使产品不会滞留在蒸发器表面 可进行高粘度产品的蒸馏:提供te殊设计的刮膜系统 操作压力低:ji低的操作压力可降低物质的沸点,zui低可达 0.001mbar(0.1Pa) 装置设计非常紧凑不同蒸馏方法的对比表不同蒸馏方法的对普通蒸馏薄膜蒸发短程 / 分子蒸馏物料被加热的时间非常长 ( 按小时计 )非常短 ( 数十秒 )非常短 ( 数十秒 )真空度一般 ( 几个到几十 mbar)很高 (1mbar)非常高 (0.001mbar)所需要的蒸发温度高比较低非常低热敏性物料的分离不适宜适宜非常适宜对于易于起泡的物料分离不适宜非常适宜适宜是否能够连续化蒸馏不能能能高粘度样品的浓缩或分离不适宜非常适宜适宜溶剂脱除效率一般非常好 ( 外冷凝器面积不受限制)好 TF40 薄膜蒸发或 MD52 分子蒸馏系统蒸馏主体(2 选 1)TF40 薄膜蒸发器主体zui高耐温 350℃,刮膜转速 100-500rpm,蒸发面积 0.04 ㎡,蒸发能力 0.1-1.5L/h,冷凝面积 0.2 ㎡,zui大物料粘度 1000cp,接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571(316Ti)不锈钢MD52 分子蒸馏仪主体zui高耐温 350℃,刮膜转速 60-500rpm,蒸发面积 0.052 ㎡,蒸发能力 0.1-2L/h,冷凝面积 0.08 ㎡(分子蒸馏蒸气压低,效率高,无须太大冷凝面积),zui大物料粘度 5000cp,接触物料材质为 3.3 高硼硅玻璃 &1.4571(316Ti)不锈钢蒸发器加热模块(4 选 1)ITHERM-B1 循环水浴zui高温度 100℃,加热功率 1.5KW,稳定性 ±0.05℃DD-BC4 循环油浴zui高温度 200℃,加热功率 2KW,稳定性 ±0.01℃MS-BC4 循环油浴zui高温度 300℃,加热功率 2KW,稳定性 ±0.01℃MX-BC4 循环油浴zui高温度 300℃,加热功率 3KW,稳定性 ±0.01℃冷凝器冷却模块(2 选 1)CS3 冷却循环器-20 到 100℃,制冷功率 300W,带加热,流量 10L/minFL300 冷却循环器-20 到 40℃,制冷功率 300W,噪音更低,流量 15L/min真空模块(3 选 1)SXD.4 防腐蚀隔膜泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 20mbar耐腐蚀,低噪音冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.05mbar冷肼模块 +R-8D 旋片真空泵 + 油扩散泵 + 真空计 + 真空调节阀系统zui低真空度可到 0.001mbar进料模块(2 选 1)500ml 进料器,针型阀控制流量针型阀S型回路结构在确保连续蒸馏情况下的系统真空同时,可以实现随时加料1000ml 进料罐 + 高精密齿轮泵 + 单向进料阀连续进料套件-出料模块(2 选 1)三分出料器 +250ml 收集瓶 2 个 +4000ml 收集瓶 1 个在不放散真空的条件下可收集两个条件的清晰馏份重组分及轻组分高精密齿轮泵连续出料套件出料速度连续可调,出料精度 0.1Hz 的 产品应用领域油脂及食品 从食用油和鱼油中分离游离脂肪酸 从食用油和鱼油中脱除杀虫剂 甾醇的精制 浓缩单甘酯 浓缩鱼油酯中的 EPA 和 DHA 浓缩生育酚 浓缩胡萝卜素 干燥卵磷脂 从羊毛脂中脱除杀虫剂 羊毛脂颜色改进石化产品 从原油的减压渣油中分离微晶蜡 精制人工合成的以及石化产品的蜡 煤化工 费托合成蜡不同牌号蜡的切割聚合物 纯化和浓缩聚合物的单体 纯化和浓缩聚合物 脱除聚合物中的溶剂和单体化学、农化、医药产品 1, 4 丁二醇(BDO)精制 聚四氢呋喃醚(PTMEG)精制 多聚甲醛的精制 乳酸的纯化与精制 己内酰胺的提纯与蒸馏 浓缩和提纯二聚脂肪酸 从有机硅和有机硅树脂中脱除挥发组分 浓缩杀虫剂、除菌剂、除草剂 浓缩和提纯甘油 分馏和脱除天然蜡中的低沸点组分 异氰酸酯预聚体中游离的脱除(如 HDI,MDI) 脱除溶剂 除臭和去除农药残留 羊毛脂颜色改进 丙烯酸及丙烯酸酯的精制 医药中间体的蒸馏与精制 中药提取物有效成分的提纯 da麻二酚 (CBD) 的提纯香精和香料 提纯烟草提取物 烟用精油的提纯 脱除萜烯和浓缩精油 纯化香精香料中的芳香物质 浓缩柠檬香料 浓缩胡椒和辣椒提取物回收再循环 回收与精制废润滑油、刹车油、甘油和变压器油 回收和处理制药过程母液 回收有机中间体
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  • FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable(便携式FR) 是一款独特设备,为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析: FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的,光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且,既可以安装在台面上,又可以转化为手持式的厚度测试仪,轻松实现便携实时操作。 性能分析:1、 USB接口供电,无需电源线。2、 真正的便携,用探头检测样品。3、 采用软塑料头,适合野外应用。4、 占地小,可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件:FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率,透射率和反射率光谱,而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度(10nm到100μm)和光学常数(n&k)的白光反射光谱法(WLRS)运算(ThetaMetrisis TM),支持(在透明或者部分透明或者全反射的衬底上)多层薄膜(10层)的测试。不需要高深的光学知识,只要有基本的电脑技巧、一台电脑,轻松实现膜厚测量! 用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p
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