半自动磨抛机

半自动洗板机配件是进口的洗板机，非常适合8孔或96孔微板的清洗， 是酶免实验和微板清洗的理想清洗工具，采用人体工程学平台，匹配8通道分配器，接受96孔微板，有效减少残留。 半自动洗板机配件特点 适合ELISA实验程序 是经济性洗板机 操作方便 无交叉污染 可高压灭菌 半自动洗板机配件参数 酶标板：96孔板 最大流量：500ml/min 缓冲瓶容积：2L 废液瓶容积:2L 8通道分配器体积：137x67x33mm 8通道分配器材料：PTFE 分配管材料：SUS 304 外形尺寸：200x240x130mm 净重：4.1kg孚光精仪是全球领先的进口精密科学仪器领导品牌服务商，拥有包括酶标仪，洗板机在内的齐全精密科学仪器品类，具有全球领先的制造工艺和质量控制体系。我们国外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于半自动洗板机价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

采用 MME（多模式电极）的半自动专业型伏安极谱仪884 Professional VA 订货号: 2.884.1110采用 MME（多模式电极）的半自动专业型伏安极谱仪884 Professional VA 是一台操作方便的高端常规分析仪，可采用多模式电极 pro 或 scTRACE Gold 进行伏安法和极谱法痕量测定。此项已经证实的瑞士万通电极技术与崭新设计的恒电位/恒电流仪以及外接的高性能 viva 软件联用，在重金属测定领域中展现了新的前景。带有经认证的校准器的恒电位仪在每次测量之前均自动冲洗进行校准，确保可能的最高精度。通过此仪器也可使用旋转圆盘电极进行测定，例如借助?循环伏安溶出法?（CVS）、?循环脉冲伏安溶出法?（CPVS）和计时电位法（CP）测定电镀液中的有机添加剂。借助可更换的测量头，可在使用不同电极的各种应用之间实现快速切换。随机配备的两个加液单元 800 Dosino 可在测定过程中自动添加辅助溶液，例如电解质、缓冲液或标准溶液。使用 viva 软件进行仪器控制、数据采集和评估的工作。采用 MME（多模式电极）的半自动专业型伏安极谱仪884 Professional VA 供货时带有大量附件，包括用于多模式电极 pro的测量头。电极套件和 viva 许可证则须单独订购。 技术参数：恒电位仪最大输出电压：±25 V最大输出电流：± 224 mA扫描电压范围：±5 V所测电流的分辨率（在最小的测量范围中）：6 fA电流测量技术DP（?微分脉冲?）SQW（?方波?）CVS（?循环伏安溶出法?）CPVS（?循环脉冲伏安溶出法?）CP（计时电位法，恒电流及测量开路点位） 校正技术标准加入法外部校正DT（稀释滴定法）LAT（线性逼近法）MLAT（改进的线性逼近法）RC（响应曲线）工作电极Multi-Mode-Elektrode proscTRACE Gold旋转圆盘电极（Rotating disk electrodes，RDE），材质为玻碳（Glassy Carbon）、“Ultra Trace”（超痕量）石墨、Pt（铂）、Ag（银）、Au（金）转数：100 至 3000 min-1参比电极Ag/AgCl/KCl 3 mol/L辅助电极Pt（铂）玻碳（Glassy Carbon－GC）端口 / 接口内置的 USB 接口MSB 接口，用于连接多至四台 800 Dosino 或其它附件测量输入端，用于温度测量（Pt1000） 尺寸，单位为 mm（宽/高/深） ：188/294/406

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

半自动旋光仪配件和欧洲进口的圆盘旋光仪，具有微处理器高精度控制，旋转角数字显示，方便的按钮调节视场，0指示光确认精度标定等功能。半自动旋光仪配件用于测量旋转角，样品旋光，通过计算进而得到浓度，纯度等物理量，常适合在医药，科研，制药和化妆品研发领域使用。 半自动旋光仪配件特色微处理器高精度控制； 旋转角数字显示； 方便的按钮调节视场； 指示光确认精度标定； 物质旋光测量：旋光是物质的常量之一，使用100mm玻璃管在溶液的温度20摄氏度时即可测量； 物质纯度测量：旋光仪非常适合测量样品的纯度，测量样品的旋转角，然后计算即可获得纯度； 物质浓度测量：对于已知旋光的样品，可以测量旋转角根据公式计算出浓度； 物质糖度测量：根据国际糖度标准，把26克纯糖制成溶液，旋转角是34.626度，通过测量计算就能获得糖度。 半自动旋光仪配件参数测量范围： -180度到180度； 精度： +/-0.02度； 光源：钠灯； 波长：589.44nm 管长：高达200mm 稳定时间：5分钟 电源：220V/50Hz 尺寸：L590xW255xH400mm 重量：7kg 孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有折光仪,折光计,refractometer在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于半自动旋光仪价格,半自动旋光仪参数等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，想了解更多内容，请关注孚光精仪官方网站哦！

半自动压模（低浓度采样头压模）序号主要参数参数范围1适用范围0-50mg/m32采样头整体质量小于20克3采样头整体最大直径小于60mm 4低浓度烟尘采样枪1.5米1支5采样头口径分为5、6、8、10、12 五种

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

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Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

压力传感器 压力报警装置 半自动切换 汇流排河北气路工程完工

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber） 9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm

半自动固相萃取装置 固相萃取用加压送液装置 AQUA Loader ⅢAQUALOADER Ⅲ Sample Concentrator for SPE实现回收率? 重现性的提升！固相萃取法作为水质分析中有效的样品浓缩的前处理手段，很多项目都采用此法。 AQUA Loader Ⅲ，采用加压送液方式，对于大量的水系样品，能实现稳定的输液，可最大限度的发挥固相萃取小柱的性能，进一步提高分析的精密度和重现性。最多可以控制10 台送液单元！AQUA Loader Ⅲ，1 台控制器最多可对10 台※1 送液单元进行制动，可高效率的实现多个样品的同时处理。※ 使用控制器SPL798 C-10 的时候多重设定！各个送液单元可以设定各自的方法，采用了可同时开始或个别开始的多重设定方式，可灵活的使用。订货信息(100 只/ 包)品名单位货号AQUA Loader Ⅲ 控制器 (1 ～ 5 台用 )SPL798C-5台6030-79801AQUA Loader Ⅲ 制动单元 (1 ～ 10 台用 )SPL798C-10台6030-79802送液单元品名单位货号AQUA Loader Ⅲ 送液单元 SPL798P台6030-79800※ 根据需同时处理的样品数，可增加台数。订货信息(100 只/ 包)品名货号固相萃取小柱脱水组件 (Single 用 )6030-79810固相萃取小柱脱水组件 (Twin 用 )6030-79815氮气吹扫控制单元6030-69840压力调整器单元6030-69845送液部 LCD( 液晶表示 )6030-79807Twin 变换组件6030-79805SPL798 用过滤器支架6010-92070控制器升级 (5 台制动用→ 10 台制动用 )※6030-※　5 台制动用的控制器，可升级为10 台制动用控制器。送液单元送液方式双柱塞杆及单向阀连续送液方式处理流路数1 流路或 2 流路使用进样针5 mL(AQUA Loader II 专用进样针 )接液部材质PTFE、PTCFE、PVDF、全氟橡胶、玻璃、PP状态显示显示状态用 LED 安装在进样针部分( 单向阀背面 )蓝 (6 个 ) ：通常在运行时会闪烁红 (6 个 ) ：进样针驱动部异常时闪烁外部输出氮气吹扫电磁驱动阀用 DC24V 1A (1 输出 )LCD 表示器 ( 可选 )状态／设定表示用　(12 位 ×2 行 )制动部的连接专用电缆连接 ( 每个送液部都与制动部相连接 )电源供给制动部 DC24V消耗电力1 台 DC 0.8A( 峰值 2.5A)外形尺寸125 (W) x 141 (D) x341 (H) mm ( 仅外框 , 不包含突起物 )125 (W) x 201 (D) x 391 (H) mm( 包含固相支架，不包含突起物 )重量约 3.8kg※2 流路处理为客户可选项。( 需Twin 变换组件)※LCD 表示器为可选项。环境要求规格根据 IEC 规格及 RoHS 规格使用环境条件温度 ： 10-35℃ ( 性能保证 18-28℃ )湿度 ：30-80%保存环境条件温度 ： -20-60℃湿度 ：20-85%噪音程度70db 以下控制器表示 操作部LCD( 16 位 x2 行 )、状态显示 LED(10 个 )、状态及设定／表示选择 POWER 表示 LED(1 个 )操作键 (MAIN, LINE, ▲ , ▼, ENTER 共 5 键 )设定流速范围1 ～ 50 mL/min(51 ～ 60 mL/min 搭载服务范围 , 流量精度不保证 )流量精度±3% 以下送液设定条件送液量、送液时间设定送液范围1 ～ 999999 mL设定送液时间0.01 ～ 9999.9 min吹扫设定时间1 ～ 56 mL/min干燥吹扫时间0.1 ～ 9999.9 min方法文档数6 个文档送液部连接台数最大 5 台或最大 10 台送液部连接方法专用电缆连接 ( 与每个送液部都直接相连 )闹钟机能音阶、音量可变。可设定 ON/OFF。电源5 台送液单元连接用 : AC100 ～ 120V±10%,50/60Hz(AC83 ～ 132V 搭载电源）10 台送液单元连接用 : AC100 ～ 240V,±10%,50/60Hz (AC83 ～ 264V 搭载电源 )消耗电量连接 5 台送液部时 2.5A(AC100V)外形尺寸140(W)x181(D)x341(H)mm( 不包含电缆、突起物 )重量约 3.4kg (5 台送液单元连接用 )

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

FT640索氏提取自动脂肪仪主要应用于食品、饲料、油料、清洁剂、聚合物、药品、石化产品、土壤、污泥等样品中粗脂肪含量的测定。主要特点&bull 自动实现萃取、淋洗、试剂回收&bull 收集瓶与萃取室双加热，萃取速度更快&bull 真正的国标索氏提取法，数据真实&bull 支持经典索氏萃取、索氏热萃取热萃取连续萃取等多种方法，多功能&bull 基于杠杆原理的收集室压紧机构，高防泄漏&bull 进口聚四氟乙烯管材，耐有机溶剂性能指标&bull 测定范围：0.1%~100%（与样品有关）&bull 萃取时间：缩短20%~80%&bull 重复性：≤1%（脂肪含量5%~100%）&bull 控温范围：室温5℃~300℃&bull 控温精度：±1℃仪器参数&bull 加热功率：1200W&bull 输入电压：AC220V±10% 50HZ&bull 冷却水压：0.1Mpa&bull 冷却水温：26℃&bull 环境温度：10℃~28℃&bull 通道数：4通道（8通道可选）仪器详细介绍 &bull 自动实现萃取、淋洗、溶剂回收等核心功能，轻松做实验&bull 实现全程热浸泡萃取，收集瓶与萃取室双加热，萃取速度快，比传统索氏提取法缩短20%~80%提取时间&bull 真正国标索氏提取法，实验数据真实可靠（市面上的半自动脂肪仪不是索氏提取法，只是热浸泡和淋洗）&bull 支持索氏热萃取法、经典索氏萃取法、热萃取法、连续萃取法等多种萃取方法，功能齐全，有机化学实验好帮手&bull 基于杠杆原理的收集室压紧机构，可靠性高防泄漏，安全有保障（针对市面自动脂肪仪电机压紧易出问题）&bull 聚四氟乙烯管路，非一般氟橡胶管和硅胶管可比&bull 萃取过程随时可暂停和恢复，灵活操作&bull 加热方式：金属浴加热方式，加热更快，温度更稳定&bull 防腐设计：采用聚四氟乙烯阀芯阀门，进口耐有机溶剂管材，关键部位防腐蚀处理&bull 安全特性：具备冷凝水监控、乙醚泄露监控和温度异常监控等功能&bull 操作方式：外接控制器，大屏幕显示&bull 萃取程序：全自动程序控制，可保存10个萃取程序&bull 批处理量：4个/批（8个/批可选）&bull 样品量：0.5g～15g&bull 测定范围：0.1%～100%（0.1%与样品有关）&bull 重复性：±1%（脂肪含量5%～100%）&bull 溶剂回收率：85%（自动回收）&bull 萃取时间：缩短20%～80%&bull 萃取室容积：120ml&bull 接收瓶容积：160ml&bull 控温范围：室温+5℃～300℃&bull 控温精度：±1℃&bull 加热功率：1200W

显微镜载玻片, 病理级血涂片, 抛光边, 45°角, 适配Sysmex、Beckman Coulter等全自动血液推片染色机

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

Erichsen 519 自动潮湿试验箱 为了检测材料与保护性涂层按照国际标准在冷凝水环境或含 SO２ 空气环境下的耐腐蚀能力，德国厂家 ERICHSEN GMBH & CO KG 推出了 300 升体积的使用方便的试验箱， HYGROTHERM 519 。该型号现有半自动与全自动两种款式，其给操作者更多的独立性，有助于减少时间与成本。 HYGROTHERM 519SA 与 519FA 独立执行一个测试循环中所需要的各个操作。半自动控制系统（ 519SA ）可以进行排酸、排气、通气、加热调节。全自动型（ 519FA ）除以上操作还可控制加水，底部水槽排水，与水箱加水，也可在 PLC 中通过单独通道独立编程。 另外，特殊的通气系统可防止 SO２ 泄漏，避免了使用上的不便。 ERICHSEN 对于大型样件的冷凝水测试也有解决方案，如符合 DIN 50 017 标准， HYGROTHERM 529 可提供 1000 升或 2000 升容量的试验箱。

优于一级ATI提供了最高质量，行业标准的油基试剂使用与油基气溶胶发生器。我们的试剂用于高效空气过滤器的现场泄漏检测和生产质量控制效率检测。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4产品适用于政府，核设施，和FDA规定的测试应用。PAO-4 试剂美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4，四厘沲PAO(化学文摘系统ID 68037-01-4)。该试剂提供了美国食品和药物管理局批准的替代DOP在FDA监管的过滤器泄漏检测应用。PAO得到了美国陆军军医总局的批准，并被美国军方用作过滤器和口罩测试过程中DOP的替代品。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4可在1加仑和5加仑容器。可根据要求提供更大的容量。产品规格沸点 : 316℃(600℉)比重 : 0.819 @ 15.5摄氏度(60华氏度)在20°C时，蒸气压0.013 kPa (0.1 mm Hg)蒸汽密度 : N/A溶水性 : 不溶于水外观/气味 : 无色、无味液体凝固点 : N/ApH在5%时 : N/A闪点 : 222摄氏度(432华氏度)使用方法 : 克利夫兰开杯空气中可燃性限值 : N/A - UEL: N/A | LEL: N/A自动点火温度 : 343 ̊C (649 ̊F)粘度 : 40℃时18 cSt / 100℃时4 cSt

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。 技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节 研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨 研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？ 基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

产品及型号：编号型号容量（mℓ ）PE瓶容量（mℓ ）RMB（含税）2-364-01IMK-1010500¥ 2110.002-364-02IMK-20201000¥ 2380.00※附带瓶。 ※由于采用树脂（PP）制，因此根据温度环境的变化可能会产生0.5%左右的误差。 特点1. 操作容易，可单手准确地自动注入。规格1. 刻度单位：0.2mℓ 2. 材质：PP（聚丙烯）、旋塞部／HDPE（高密度聚乙烯）、瓶／PE（聚乙烯）

高效金刚石喷雾抛光剂金刚石是金相制样的最佳磨料，本产品广泛应用于宝石、玻璃、陶瓷、光学玻璃、硬质合金及淬火钢材的高光亮度研磨抛光。用于金相抛光时，更显其独特的优越性，经研磨抛光后的试样更真实地显示其金相组织。不同的材料研磨抛光可选用不同粒度的产品。用于抛磨金相试样中铸铁中石墨，钢铁中夹杂，钢铁中氧化层、渗碳层、涂层时能更真实地显示其金相组织 使用方法:使用前摇动喷雾剂罐，使其磨料充分均匀。然后开启喷雾罐瓶盖，手持喷雾剂罐、倒置轻压喷射至抛光织物上，连喷3-5秒即可进行抛光。粒度：w0.25,w0.5,w1,w1.5,w2.5,w3.5,w5,w7,w10,w14,w20,w28,w40(每罐280克,350毫升)

Minderheit明德赫 ES Cleaner 消泡剂浓缩液消泡剂-液体浓缩原液。防止泡沫产生。可用于低温小剂量加注。采用乳化硅胶油制成。适用范围 防止在使用全自动清洗机处理时产生泡沫 。适用于医学实验室（血 液检测和血清学实验室）、工业实验室、食品行业和化妆品行业以 及手术部件、实验室玻璃器皿。 特 性 在去除产生泡沫残留物的过程中，防止形成泡沫。基于乳化硅油， 即使在低温下也具有极好的消泡作用。用法用量 用于机械清洗：0.05-0.1ml/L 可使用合适的加液系统或手动添加。

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