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硅表硅比色计

仪器信息网硅表硅比色计专题为您提供2024年最新硅表硅比色计价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括硅表硅比色计参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的硅表硅比色计您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合硅表硅比色计相关的耗材配件、试剂标物,还有硅表硅比色计相关的最新资讯、资料,以及硅表硅比色计相关的解决方案。

硅表硅比色计相关的耗材

  • DR800 系列比色计 DR800 系列比色计 DR800 系列比色计
    DR800 系列比色计 &bull DR820 可测试多至20 种参数,该比色计适于测试基本的水质成份,如氯、铁、硬度、溶解氧及浊度 &bull DR850 可测试多至50 种参数,为综合性的水质分析仪测试仪 &bull DR890 为800 系列中最完整和多样的比色计,可测试由铅至锌的多至90 种参数
  • 富兰德 GB/T3555 赛波比色计 比色管
    适用范围富兰德 GB/T3555 赛波比色计 比色管符合 GB/T3555、ASTM D156 DIN 51411 相关规范功能特点 1、石油产品赛波特颜色测定仪配置一组匹配的样品和配有光学指示器的标准试管。 2、通过降低样品的液柱高度,直至样品明显的浅于标准色板的颜色,并且使用仪器上的图表来转换赛氏色度的高度。 3、标准色度玻璃管上的三位置色度标准管可以便利地进行色板的更换。 4、石油产品赛波特颜色测定仪配置富兰德专用灯源,三角磨砂反光镜 5、采用富兰德环保加热系统,加热温度数字显示,任意设置温度,自动升温, 技术参数1、使用电源: 220-240V, 50/60Hz2、比色板:整厚标准色板3块、半厚标准色板1块3、对照表:刻制的赛波特颜色号与试样的液柱高度对照表1块4、专用灯源:灯源角度360°可调,方便灵活5、加热系统:采用数字可视FLD温控体系,控温范围室温-200°,控温精度±0.5°
  • DR800 系列比色计
    DR800 系列比色计 &bull DR820 可测试多至20 种参数,该比色计适于测试基本的水质成份,如氯、铁、硬度、溶解氧及浊度 &bull DR850 可测试多至50 种参数,为综合性的水质分析仪测试仪 &bull DR890 为800 系列中最完整和多样的比色计,可测试由铅至锌的多至90 种参数
  • 袖珍比色计Ⅱ
    袖珍比色计Ⅱ &bull 用于测试单个参数、包括余氯、二氧化氯、臭氧等 &bull 操作容易:用两个触摸键操作。按一下ZERO键,用空白样校零,将样液倒入样品池,然后按READ 键,即可读出结果 &bull 波长精确度:± 2nm &bull 35 种参数供选择
  • 余氯比色计,余氯比色仪
    余氯比色计是测定经氯化消毒后的医院污水及饮用水中残存氯量(亦称余氯)的比色计量工具。它适合用于医院污水、城市自来水,各大工矿企业的自备井水,高层建筑中的高低位水箱水,公用游泳池水,宾馆饭店内部游泳池水以及农村简易自来水和农村井水等经氯化消毒后的余氯量。 各类水中如果余氯含量过高,超过应用水标准时,也会造成污染,而余氯量过低,则达不到消毒灭菌的目的。因此,通过测试水中余氯含量可以判断水中余氯是否符合卫生标准,使加氯量保持在适宜范围内,进而保护环境和人民身体健康。 使用说明书: 取水样10ml样品于空白试管中,用吸管加入5-10滴显色剂混匀,同标准色列比较,得出结果即为水中余氯浓度毫克/升数(mg/L)。 如测定污水样品,需先将样品稀释: 例如:去10ml污水样品,用蒸馏水或纯净水稀释至100ml,混匀后同上述步骤操作,得出结果后乘以稀释倍数10即可。
  • 便携式臭氧比色计/(0.00~2.50mg/L)臭氧浓度检测仪/臭氧检测仪
    便携式臭氧比色计/(0.00~2.50mg/L)臭氧浓度检测仪/臭氧检测仪由上海书培实验设备有限公司为您提供,水质监测试剂盒和便携式仪器,产品型号齐全,量多从优,欢迎客户来电咨询选购。 产品介绍: 臭氧检测仪是专门用于测定水样中的臭氧浓度,其浓度变化范围为0~2.50mg/L,液晶显示屏以mg/L来直接显示臭氧浓度。产品优点:体积小,便于携带,降低对使用人员的要求,并能提供可靠的检测结果。 产品技术参数:测定范围:0.00~2.50mg/L光源:硅光二极管波长:510nm精度:±0.05mg/L(测量值<1.00 mg/L )±0.10mg/L(测量值>1.00 mg/L)方法:采用国标DPD方法,臭氧与DPD试剂反应,使样品溶液呈红色。使用环境:温度0~40℃,相对湿度0~90%(无冷凝)电池寿命:1×9V,40小时以上。关机:用完比色计后,按“开/关"关机。尺寸:170×70×30mm重量:200g(含电池) 每套包括:主机一台,比色皿2个,配套试剂100次配套试剂可以单独购买,包装规格为100次/包本产品广泛应用于食品饮料加工、医疗卫生、环保等行业
  • 英国Lovibond自动比色计/色度仪专用光学玻璃比色皿
    英国Lovibond自动比色计/色度仪专用配件,各种尺寸规格的光学玻璃比色皿。
  • 多参数水质分析仪、光电比色计 NOVA 60 A Spectroquant
    多参数水质分析仪、光电比色计 NOVA 60 A Spectroquant
  • 精密仪表罗维朋比色计WSL-2
    奥淇科化致力为科研单位打造一站式采购平台。 在库品规三十余万种,含盖玻璃、试剂、仪器、耗材配件等。 店铺未上架产品请联系客服。
  • 罗维朋/罗威邦 比色计色度仪专用 比色皿
    选购比色皿605940光学玻璃比色皿,W600/OG/2.5 mm605950光学玻璃比色皿,W600/OG/5 mm605960光学玻璃比色皿,W600/OG/10 mm605970光学玻璃比色皿,W600/OG/15 mm605980光学玻璃比色皿,W600/OG/20 mm605990光学玻璃比色皿,W600/OG/25 mm606010光学玻璃比色皿,W600/OG/33 mm606020光学玻璃比色皿,W600/OG/40 mm 606200光学玻璃比色皿,W600/OG/50 mm606030光学玻璃比色皿,W600/OG/100 mm606040光学玻璃比色皿,W600/OG/ 1/16英寸606050光学玻璃比色皿,W600/OG/ 1/8英寸606060光学玻璃比色皿,W600/OG/ 1/4英寸606070光学玻璃比色皿,W600/OG/ 1/2英寸606080光学玻璃比色皿,W600/OG/ 1英寸606090光学玻璃比色皿,W600/OG/ 2英寸606104光学玻璃比色皿,W600/OG/ 3英寸,5个/组606114光学玻璃比色皿,W600/OG/ 4英寸,5个/组606124光学玻璃比色皿,W600/OG/ 5英寸,5个/组606130光学玻璃比色皿,W600/OG/ 51/4英寸606150光学玻璃比色皿,W600/OG/ 6英寸606200光学玻璃比色皿,W600/OG/50 mm655960硼硅酸盐比色皿,W600/B/10 mm655990硼硅酸盐比色皿,W600/B/25 mm656010硼硅酸盐比色皿,W600/B/33 mm656020硼硅酸盐比色皿,W600/B/40 mm656030 硼硅酸盐比色皿,W600/B/100mm656044硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 1/16英寸,10个/组656054硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 1/8英寸,10个/组656064硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 1/4英寸,10个/组656074硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 1/2英寸,10个/组656080硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 1英寸656090硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 2英寸656104硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 3英寸,5个/组656114硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 4英寸,5个/组656124硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 5英寸,5个/组656130硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 51/4英寸656150硼硅酸盐比色皿,W600/B/ 6英寸656200硼硅酸盐比色皿,W600/B/50 mm
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-D 单晶硅标样,含样品座D
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为5%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-K 单晶硅标样,含样品座K
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为9%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-D 单晶硅标样,含样品座D
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为5%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-K 单晶硅标样,含样品座K
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为9%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-E 单晶硅标样,含样品座E
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为6%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-B 单晶硅标样,含样品座B
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为3%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-F 单晶硅标样,含样品座F
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为7%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-E 单晶硅标样,含样品座E
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为6%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-G 单晶硅标样,含样品座G
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为8%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-C 单晶硅标样,含样品座C
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样, 随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为4%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-A 单晶硅标样,含样品座A
    单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为2%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂
    硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂锡粒,纯铁,硅钼粉的用途电弧燃烧炉是我国钢铁行业在高速分析中使用普遍和实用的一种燃烧炉,因其操作简单,节约能源耗材,稳定耐用,价格低,无需升温。随时来样随时检测,而受到广大理化工作者的欢迎。钢的熔点约为1515℃,铁的熔点约在1535℃。这么高的熔点电弧燃烧炉要在短时间内将其熔化并释放出CO2和SO2,是添加剂起了至关重要的作用。1.添加剂在氧气流中氧化燃烧,输出大量的热能.可以提高炉温.有显著的发热作用;2.添加剂由于液化密度小于铁的氧化物或受热后生成气体物质,在炉体内部向上飘浮的过程中,可加快碳、硫离子的扩散,有利于与氧气接触,使氧化反应加快起到良好的搅拌作用;硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂3.氧化燃烧生成的CO2,和SO2都属于酸性氧化物,碱性介质不利于CO2和SO2的释放,而选取适量的偏酸性添加剂加入燃烧体系可使介质变成中性或弱酸性.有利于CO2和SO2的逸出;4.燃烧后生成的Fe2O3、SnO2,等粉尘对SO2有吸 附作用,导致测试结果偏低。加入有关的添加剂可阻止吸附消除千扰;硅钼粉 锡粒 锌粒 锡箔 化学试剂 玻璃器皿各种化学分析用添加剂,电弧燃烧炉用优良硅钼粉,锡粒,锌粒,锡箔等材料。各种化学分析用一般和特殊的化学试剂,显色剂,特殊元素分析需要的显色剂的使用方法和操作请,我们将竭力帮助用户解决各种技术问题。水准瓶,储气瓶,量气筒,碳杯,硫杯,滴定管,各种规格加液器,比色皿,比色杯,各种一般和特殊的玻璃器皿电弧燃烧炉中常用的添加剂有纯锡粒和硅钼粉。硅主要起发热作用.燃烧产生热量,另外硅氧化后的产物是SiO2属酸性氧化物,它的密度比铁及其氧化物都小,在液体中有漂浮作用,有利于CO2和SO2的释放。MoO3是酸性氧化物,它的加入有利于SO2的释放。它在1155℃生成气体, 从液相中逸出时.起到良好的搅拌作用,有利于硫离子的扩散和SO2的生成。它能破坏Fe2O3的催化作用,防止管道吸附。锡的熔点是231℃,可以降低整个燃烧体系的熔点,主要作用是助熔并兼有发热稳燃的作用。由于锡氧化生成SnO2属碱性氧化物,加入过多,会引起硫测定值降低,因此,锡应适量加入。5.分析检测铁或铁合金时,要加入适量纯铁助溶剂,其主要作用是帮助燃烧,有利于在瞬间提高炉体内的温度,保证试样中碳硫的释放。由于添加剂所起的重要作用,因此对添加剂的要求也很高,要求杂质成份含量少,碳、硫含量更要低,它的几何形状,粒度、空隙度也有一定的要求。目前市场上销售的一些添加剂中碳硫含量偏高、粒度大,有些硅钼粉中的SiO2、直接采用石英砂。或者为了降低材料成本,随意改变MoO3和SiO2的配比。使用这些添加剂会对测量的结果产生很大的误差而影响产品质量,建议用户选择正规企业所生产的、有质量保证的添加剂。 硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂
  • 罗维朋/罗威邦 比色计专用比色管 353080
    一对 Nessler 比色管含盖,光程113mm (AF306/P比色管 + DB420塞)用于 Nessleriser 2150 比色器
  • 单晶硅标样 615-P 单晶硅标样,含样品座P
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为13%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
  • 单晶硅标样 615-M 单晶硅标样,含样品座M
    单晶硅标样, 用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm,方格间距10μm,线宽1.9μm,通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线,用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成,深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。随标样提供校准证书,但需支付额外费用。保证的准确度为11%。标样由英国NPL实验室(National Physical Laboratory)用激光干涉测量法测定。
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