自动手动磨抛机

用手动磨抛具将样品磨到需要的厚度或者达到抛光要求。磨具的步进间隔为0.025mm。样品在磨抛过程中不需要粘片，方便取放，研磨厚度达80&mu m一下，单面或双面均可进行磨抛作业。

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

手动显微操纵器,手动微操纵器由中国领先的进口精密仪器和实验室仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售！孚光精仪精通光学,服务科学,欢迎垂询！手动显微操纵器是一款手动调节的三维操纵器手动微操纵器具有XYZ三轴各自的调节旋钮,同时还可配带一个机械操纵杆,以微米量级精度控制XYZ三个轴各自移动手动微操纵器配备一个粗调和微调旋钮,满足快速定位和精确定位的双重需要。手动显微操纵器使用精确而稳定的交叉滚珠轴承几乎完全无磨损，即使多年后也可集约利用，大大提高使用寿命手动显微操纵器产品特色：手动显微操纵器通过控制手柄旋钮分别控制XYZ三轴移动手动微操纵器另配带机械操纵杆用于XY轴位移,行程范围0.35--4mm手动显微操纵器Z轴具有粗调和微调功能，比率为10：1手动微操纵器刀架可支持压电转换器手动显微操纵器刀架可90度倾斜手动微操纵器具有止动螺丝,确保刀具在下降后达到集中水平手动显微操纵器Z轴停止功能可选，以避免过重负载导致手动显微操作器出现Z轴行程的降低；手动显微操纵器技术参数手动显微操纵器行程范围：X轴：37mm Y轴：20mm Z轴：25mm手动微操纵器操纵杆行程范围：0.35-4mm手动显微操纵器材料：铝手动微操纵器表面：黑色氧化镀膜手动微操纵器重量：950g手动显微操纵器可选附件或功能：基础型 磁力座，高级可旋转或倾斜型磁力座手动微操纵器可选配置：左手型，右手型手动显微操纵器和欧洲进口的手动微操纵器,是三维的,可用机械操纵杆以微米量级精度控制XYZ三个轴各自移动.

Minderheit明德赫 ES Cleaner 消泡剂浓缩液消泡剂-液体浓缩原液。防止泡沫产生。可用于低温小剂量加注。采用乳化硅胶油制成。适用范围 防止在使用全自动清洗机处理时产生泡沫 。适用于医学实验室（血 液检测和血清学实验室）、工业实验室、食品行业和化妆品行业以 及手术部件、实验室玻璃器皿。 特 性 在去除产生泡沫残留物的过程中，防止形成泡沫。基于乳化硅油， 即使在低温下也具有极好的消泡作用。用法用量 用于机械清洗：0.05-0.1ml/L 可使用合适的加液系统或手动添加。

材质 金属合金 紫色 针规 23 ga 包装 pkg of 3 × ea df 60 &mu m fiber 长L 1 cm 基质 60 &mu m coating 适用 手动手柄

UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机载样盘同时可装卡6个镶嵌样品。技术参数1、载样盘直径：Φ150mm2、载样孔直径：Φ22mm、Φ25mm、Φ30mm、Φ45mm

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏原装进口美国QMAXIS金刚石抛光膏，含有高浓度的金刚石，与水基、或酒精基、或油基的抛光冷却润滑液配合使用。广泛用于不规则样品的手动研磨抛光，尤其适合易被金刚石颗粒嵌入的和对水敏感的材料的研磨和抛光。PolyPaste 多晶金刚石抛光膏MonoPaste 单晶金刚石抛光膏订货信息：PolyPaste 多晶金刚石抛光膏颜色粒径10g/支白色0.25µmPPP-025-10灰色1µmPPP-1-10黄色3µmPPP-3-10橙色6µmPPP-6-10绿色9µmPPP-9-10蓝色15µmPPP-15-10订货信息：MonoPaste 单晶金刚石抛光膏颜色粒径5g/支20g/支白色0.25µmPMP-025-5PMP-025-20灰色1µmPMP-1-5PMP-1-20黄色3µmPMP-3-5PMP-3-20橙色6µmPMP-6-5PMP-6-20绿色9µmPMP-9-5PMP-9-20蓝色15µmPMP-15-5PMP-15-20

材料 熔融石英 红色 针规 23 ga 包装 pkg of 1 ea df 100 &mu m (键合相) fiber长度 1 cm 基质 100 &mu m coating PDMS 适用 挥发性 (MW 60-275) 手动手柄

Allied研磨抛光系统 MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。 本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。 电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

材质 熔融石英 黑色 针规 23 ga 包装 pkg of 3 ea df 75 &mu m (部分键合相) 纤维头长 1 cm 基质 75 &mu m coating Carboxen/PDMS 适用 适用于气体, 小分子, MW30-225 手动手柄

材质 熔融石英 蓝色 针规 23 ga 包装 pkg of 1 ea df 65 &mu m (部分交联) fiber长L 1 cm 基质 65 &mu m coating DVB/PDMS 适用 芳香胺类(MW 50-300) 手动手柄

材料 熔融石英 红色 针规 24 ga 包装 pkg of 1 ea df 100 &mu m (键合相) fiber长度 1 cm 基质 100 &mu m coating PDMS 适用 挥发性 (MW 60-275) 手动手柄

材质 StableFlex 亮蓝 针规 24 ga 包装 pkg of 3 ea 纤维头长 1 cm 基质 85 &mu m coating Carboxen/PDMS 适用性 气体, 小分子, MW30-225 手动手柄

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

材质 熔融石英 蓝色 针规 24 ga 包装 pkg of 3 ea df 65 &mu m (部分交联) fiber长L 1 cm 基质 65 &mu m coating DVB/PDMS 适用 芳香胺类(MW 50-300) 手动手柄

适用范围：薄膜 纸张 非金属 材料薄片 可选A或B型接头：A接头 轴外径20mm长度30mm（配锁 紧母）B接头 内孔20mm深30mm,插销孔径10mm，插销孔中心到接头端面距离14.5mm。不配接头时夹具体M12内牙。夹片规格：可夹持试样 宽度55mm,高度30mm，可夹持试样厚度8mm,气管接头内孔=6mm

自动洗板机配件是进口的全自动酶标洗板机，是酶免实验和微板清洗的理想清洗工具。 自动洗板机配件特点 全自动工作 超大LCD屏显示，Windows操作系统 可清洗各种类型的酶标板,包括U型底，V型底和平底板 12排,8排孔可手动或自动定位 超大内存，可编程50个清洗程序命令 自动监测真空,压力，自动漂洗循环 清洗压力和时间可调 液体水位探测和报警功能 对清洗屏没有气密性要求 自动洗板机配件参数 酶标板：96孔或48孔板或条 消散精度： CV2% 残留量：1μL 清洗量：50～3000μL@8排孔 清洗循环：最大99次循环 长条清洗： 1-12个长条编程清洗 浸泡时间：0-24小时 摇晃时间：0-24小时 显示：5' ' LCD屏 清洗通道: 3通道瓶，1个用于清洗，1个用于清水，1个用于废水 清洗瓶容积：2L/屏 内存：50个清洗程序 接口：RS232接口 电源：AC110/220V， 50-60Hz 重量：8Kg 尺寸：L390x W340xH180mm 孚光精仪是全球领先的进口精密科学仪器领导品牌服务商，拥有包括酶标仪，洗板机在内的齐全精密科学仪器品类，具有全球领先的制造工艺和质量控制体系。 我们国外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。 更多关于自动洗板机价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30µmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15µmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9µmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6µmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3µmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1µmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5µmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1µmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm 氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30µmGFA-04-30GFA-08-30黄色12µmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9µmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3µmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1µmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3µmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm 碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30µmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012µmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129µmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93µmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31µmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

全自动洗板机配件是进口的自动酶标洗板机，内置孵化器，具有5通道，是酶免实验和微板清洗的理想清洗工具。 全自动洗板机配件特点 全自动工作 超大LCD屏显示，操作界面用户友好 可清洗各种类型的酶标板,包括U型底，V型底和平底板已经长条 12排,8排孔可手动或自动定位 超大内存，可编程100个清洗程序命令 微板摇晃功能，时间和速度可调 多个通道 可选配双96孔板孵化位 液体水位探测和报警功能 对清洗屏没有气密性要求 全自动洗板机配件参数 酶标板：96孔或48孔板或长条 残留量：1μL 清洗量：10～3000μL/well 清洗循环：最大99次循环 长条清洗： 1-12个长条编程清洗 浸泡时间：0-24小时 摇晃时间：0-24小时 显示：大LCD屏 清洗通道: 5通道瓶，1个或3个（可选）用于清洗，1个用于清水，1个用于废水 清洗瓶容积：2L/屏 内存：100个清洗程序 接口：RS232接口 电源：AC110/220V， 50-60Hz 重量：13Kg 尺寸：L450x W390xH190mm 孚光精仪是全球领先的进口精密科学仪器领导品牌服务商，拥有包括酶标仪，洗板机在内的齐全精密科学仪器品类，具有全球领先的制造工艺和质量控制体系。 我们国外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。 更多关于全自动洗板机价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

显微镜载玻片, 病理级血涂片, 抛光边, 45°角, 适配Sysmex、Beckman Coulter等全自动血液推片染色机

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

QZC001DDF系列进样阀为盛瀚自主研发的电磁进样阀，利用步进电机控制阀位置切换，密封性好、结构紧凑、性能优越，自动手动都可实现，针对不同溶剂可分为peek和不锈钢阀头，强酸强碱有机溶剂耐受性好，保证10万次循环寿命。

优于一级ATI提供了最高质量，行业标准的油基试剂使用与油基气溶胶发生器。我们的试剂用于高效空气过滤器的现场泄漏检测和生产质量控制效率检测。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4产品适用于政府，核设施，和FDA规定的测试应用。PAO-4 试剂美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4，四厘沲PAO(化学文摘系统ID 68037-01-4)。该试剂提供了美国食品和药物管理局批准的替代DOP在FDA监管的过滤器泄漏检测应用。PAO得到了美国陆军军医总局的批准，并被美国军方用作过滤器和口罩测试过程中DOP的替代品。美国ATI油基气溶胶试剂PAO-4可在1加仑和5加仑容器。可根据要求提供更大的容量。产品规格沸点 : 316℃(600℉)比重 : 0.819 @ 15.5摄氏度(60华氏度)在20°C时，蒸气压0.013 kPa (0.1 mm Hg)蒸汽密度 : N/A溶水性 : 不溶于水外观/气味 : 无色、无味液体凝固点 : N/ApH在5%时 : N/A闪点 : 222摄氏度(432华氏度)使用方法 : 克利夫兰开杯空气中可燃性限值 : N/A - UEL: N/A | LEL: N/A自动点火温度 : 343 ̊C (649 ̊F)粘度 : 40℃时18 cSt / 100℃时4 cSt

QZC001DDF系列进样阀为盛瀚自主研发的电磁进样阀，利用步进电机控制阀位置切换，密封性好、结构紧凑、性能优越，自动手动都可实现，针对不同溶剂可分为peek和不锈钢阀头，强酸强碱有机溶剂耐受性好，保证10万次循环寿命。