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[url=http://www.f-lab.cn/hybridization/hybmix-s4.html][b]多阵列杂交工作站[/b][/url]是[b]微阵列玻片杂交[/b]和[b]多阵列玻片杂交[/b]的理想高效[b]杂交仪[/b],具有高效的杂交振荡系统和精确的杂交温度控制系统,是微阵列玻片和多个子阵列(多阵列玻片)杂交成功的有力[b]杂交工作站[/b]。集成了轨道振荡器,提供从300至900rmp的可调转速控制,有效提高杂交和结合反应成功率。[b]多阵列杂交工作站[/b]采用国际一流的用户友好界面,操作方便 用户可以设置温度,杂交持续时间和振荡速度。温度,时间和振荡速度显示于仪器前方的宽屏显示屏上,用户可以在任何时间调整参数。[img=多阵列杂交工作站]http://www.f-lab.cn/Upload/hybmix_.jpg[/img][b]多阵列杂交工作站特色[/b]Peltier温度控制技术精确控制温度精确温度调节集成了轨道振荡系统前部具有显示和控制面板用户友好的操作界面[b]多阵列杂交工作站参数[/b]温度范围:室温到105摄氏度加热/制冷系统:温控Peltier技术,温度分辨率 0.1 °C振荡系统:轨道振荡器速度300-1500RPM可调用户界面:高级荧光显示屏VFD, 8个编程控制操作键尺寸(LxDxH): 29.5 x 26.5 x 17.0 cm电力要求: 220 V, 50/60 Hz, 125 W重量:8.5kg更多分子杂交仪请浏览官网:[url]http://www.f-lab.cn/hybridization.html[/url]
[url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/waly.html][b]微阵列清洗干燥工作站[/b][/url]专业为[b]微阵列清洗干燥[/b]和[b]荧光原位杂交FISH玻片清洗干燥[/b]而设计的[b]微阵列干燥清洗[/b]仪器,是分子杂交领域的理想自动[b]玻片清洗干燥仪[/b]器。[b]微阵列清洗干燥工作站[/b]可以处理市面上任何商用或定制的微阵列和玻片或芯片,用于任何类型的微阵列实验,如基因表达,微阵列比较基因组杂交 CGH array,ChIP-on-chip, miRNA。[b]微阵列清洗干燥工作站特色[/b]自动清洗干燥站大大提高了杂交的微阵列的的质量,具有更高信号强度,更低的背景噪音和更为均匀干净的玻片,直接可用于扫描使用。从而避免这些步骤常出现的负面影响。[img=微阵列清洗干燥工作站]http://www.f-lab.cn/Upload/microarray-wash-dry.png[/img]微阵列清洗干燥工作站:[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/waly.html[/url]
[b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/nanoprint.html]蛋白质微阵列芯片制作打印机[/url]特色[/b]具有高精度湿度和温度控制系统,具有方便用户操作的软件,可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片具有除湿功能可供用户选择配备,除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。可打印高达384个微孔的微孔板,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板,位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。[img=蛋白质微阵列芯片制作打印机]http://www.f-lab.cn/Upload/nanoprint-arrayit.jpg[/img][b][/b]蛋白质微阵列芯片制作打印机:[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/nanoprint.html[/url][b][/b]