辛炔醇

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辛炔醇相关的论坛

  • 你们的乙炔纯度咋样啊

    你们的乙炔纯度咋样啊

    问题描述:以前看见乙炔气瓶上写的高纯乙炔气体,对纯度究竟有多高始终质疑,今天突然发现气瓶上有如下标签:http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/12/201212041411_409232_2352694_3.jpg乙炔纯度才98.5%。讨论:1、大家在实验过程中,乙炔纯度是多少?2、乙炔是易燃气体,您感觉仪器本身的保护措施够吗?你们还有么有其他的特殊保护措施?3、气瓶上写的是高纯乙炔气体,但是标签上的却不同,是商家的不诚信,还是其他原因?4、大家有没有注意,新买的乙炔气体,压力到了多少?有没有哪位专家知道,乙炔气瓶的理论承受最大压力究竟是多少?5、乙炔不纯,会有安全问题吗?6、原吸使用的乙炔纯度究竟多少是合适的?欢迎大家讨论!

  • 丙炔醇与氯化亚砜反应吗?

    我打算想用丙炔醇和氯化亚砜反应制取丙炔氯,有经验高手帮忙看看可行不?需要加敷酸剂吗?反应还需要注意些什么?

辛炔醇相关的方案

辛炔醇相关的资讯

  • 应用 | 有机硅表面活性剂在乙醇-水体系中的起泡机制研究
    研究背景泡沫是一种气体分散于液体中的分散体系。通常,纯的液体是不会起泡的。泡沫产生的条件有两个:需要气体和液体充分接触,并使气体分散于液体中;还需要气泡产生的速度明显大于消泡的速度,使得气泡可以聚集成泡沫,行之有效的办法是在液体中加入表面活性剂。对于表面活性剂水基泡沫人们已经做了大量的研究,然而近年来水-低碳醇体系也有着较为广泛的应用, 例如化学清洗、制备多孔材料、杀菌洗手液等。因此,本文着重对FC-7160在乙醇-水溶液和水溶液中的泡沫行为,尤其是泡沫形成后的排液行为、结构变化、表面弹性等,为其以后的实际应用提供理论指导。实验仪器DFA100动态泡沫分析仪、DSA100液滴形状分析仪,德国KRÜSS公司。DFA100动态泡沫分析仪DSA100液滴形状分析仪实验结果与讨论2.1 泡沫高度衰减曲线起泡性和稳定性是表面活性剂溶液泡沫行为中最重要的特征。为了与碳氢表面活性剂对比,本实验选择了阴离子表面活性剂AES-3、非离子表面活性剂AEO-9、两性离子表面活性剂CAB。由图1a可以看出,在水溶液体系中, 实验中所用的碳氢表面活性剂的起泡性和泡沫的稳定性都优于FC-7160,FC-7160的泡沫甚至没有经历tend这个时间段,起泡后立即伴随着泡沫的崩塌。而在50%乙醇-水溶液体系中,如图1b所示,只有FC-7160可以形成泡沫,碳氢表面活性剂的“泡沫”在停止通气后很短的时间内完全消失,不能形成有效的泡沫。 图1 1 g/L不同表面活性剂的泡沫高度随时间的变化:水溶液(a);50%乙醇-水溶液(b)2.2 泡沫的结构与尺寸分布通过动态泡沫仪的结构分析模块,对泡沫中气泡的大小分布和其随时间的变化进行了精细的测量。在图2a中,在50%乙醇-水溶液中,泡沫中的气泡大小均一且近乎圆形,而在水溶液中气泡大小不一,呈现出多边形的结构。在图2b中,在前10 min内,50%乙醇- 水溶液中的气泡面积主要集中在0~0.5 mm2,没有超过1 mm2的气泡,气泡从产生到消失面积都较小;而在水溶液中气泡面积分布较宽,在1 min时,水溶液中的气泡面积就可以达到1~2 mm2。在乙醇的存在下,FC-7160泡沫中的气体扩散过程受到了限制,聚并过程和熟化过程都较慢,气泡较小且均一。图 2 1,5和10 min时(从上到下)1 g/L的FC-7160在50%乙醇-水溶液(左)和水溶液(右)中的泡沫结构图(a);与a相对应的气泡尺寸分布直方图(b)2.3 泡沫的排液过程泡沫的稳定性主要取决于排液快慢和液膜的强度, 排液速度越慢,液壁可以保持一定厚度,泡沫也越稳定。在50%乙醇-水混合体系中,泡沫携带有乙醇和水两种组分,所以排液行为显得更为重要。在水溶液中, FC-7160的泡沫排液过程较短且非常混乱(图3a),所以在水溶液中的泡沫稳定性也较差。在50%乙醇-水溶液中(图3b),FC-7160的排液时间有所延长,泡沫中的液体含量明显高于水溶液中。在乙醇的存在下,由于FC-7160与乙醇分子之间的作用使得液体更容易携带,不易流失,所以泡沫液体含量较大且排液时间延长。图 3 1 g/L的FC-7160在水溶液中(a)和在50%乙醇-水溶液中(b)泡沫液体含量随时间变化2.4 液膜的界面黏弹性表面活性剂在气-液界面的吸附不仅可以降低体系的表面张力,而且也可以使得界面具有黏弹性。当泡沫受到扰动表面积增加时,液膜局面会变薄,变薄处的表面活性剂分子浓度降低,表面活性剂浓度差异导致液膜中产生了表面张力梯度。没有变薄处的表面活性剂分子会迁移到局部变薄处。在这个迁移过程中,液体也会随着表面活性剂分子迁移,液膜厚度和膜的强度也得以恢复,这就是膜的弹性。液膜弹性越大,抵抗外界干扰的能力越强,泡沫也越稳定。界面扩张流变可以反映液膜弹性,界面扩张模量的大小在数学上分为弹性和黏性分量,如E*=E'+iE''所示,其中E*为复合模量,E'为弹性模量,E''为黏性模量。根据文献[19,20]中报道,E*和泡沫稳定性有密切的关系,E*值越大,泡沫越稳定;而弹性模量E'和泡沫的排液行为相关,其大小依赖于tdev的值。从图4中可以看出,这些表面活性剂的E*大小关系为:FC-7160AES-3AEO-9,这和它们在50%乙醇-水溶液中的泡沫稳定性是一致的。对于AES-3和AEO-9, 它们的界面扩张模量几乎为0 mN/m,说明它们在50% 乙醇-水溶液中形成的液膜几乎没有弹性,所以气泡在产生之后立即消失不能形成泡沫。图 4 1 g/L不同表面活性剂在50%乙醇-水溶液中的界面扩张模量E*、弹性模量E'、黏性模量E''结论对有机硅表面活性剂FC-7160和几种典型的碳氢表面活性剂在50%乙醇-水溶液中的泡沫结构、含液量和液膜的表面弹性进行了研究。泡沫稳定性和泡沫液膜之间的界面粘弹性有很大的关系,界面粘弹性可以帮助分析泡沫稳定性的机理。参考文献:牛奇奇,白艳云,台秀梅,王万绪,王国永.有机硅表面活性剂在乙醇-水体系中的起泡机制研究【J】。日用化学工业,2021.
  • 基于三维电子衍射技术解析含有序硅羟基纯硅分子筛结构
    近日,大连化物所低碳催化与工程研究部(DNL12)郭鹏研究员、刘中民院士团队与南京工业大学王磊副教授团队合作,在分子筛结构解析研究中取得新进展,利用先进的三维电子衍射技术(cRED)直接解析出含有序硅羟基的纯硅分子筛结构。分子筛是石油化工和煤化工领域重要的催化剂及吸附剂,分子筛的性能与其晶体结构密切相关。分子筛通常为亚微米甚至纳米晶体,传统的X-射线单晶衍射法无法对其结构进行表征。在前期工作中,郭鹏和刘中民团队聚焦先进的电子晶体学(包括三维电子衍射和高分辨成像技术)和X-射线粉末晶体学方法,对工业催化剂等多孔材料进行结构解析,并且在原子层面深入理解构—效关系,为高性能的工业催化剂/吸附剂的设计及合成提供理论依据。团队开展了一系列研究工作,包括针对定向合成SAPO分子筛方法的开发(J. Mater. Chem. A,2018;Small,2019)、酸性位点分布的研究(Chinese J. Catal.,2020;Chinese J. Catal.,2021)、吸附位点的确定(Chem. Sci.,2021)、利用三维电子衍射结合iDPC成像技术解析分子筛结构并观测局部缺陷(Angew. Chem. Int. Ed.,2021)等。本工作中,研究人员利用先进的三维电子衍射技术,从原子层面直接解析出一种含有序硅羟基排布的新型纯硅沸石分子筛的晶体结构,其规则分布的硅羟基与独特的椭圆形八元环孔口结构息息相关。研究人员通过调变焙烧条件,在有效去除有机结构导向剂的同时保留了分子筛中有序硅羟基结构,实现了丙烷/丙烯高效分离,并从结构角度揭示了有序硅羟基和独特的椭圆形八元环孔口对丙烷/丙烯的分离作用机制。相关研究成果以“Pure Silica with Ordered Silanols for Propylene/Propane Adsorptive Separation Unraveled by Three-Dimensional Electron Diffraction”为题,于近日发表在《美国化学会志》(Journal of the American Chemical Society)上。该工作的第一作者是我所DNL1210组博士后王静,该工作得到了国家自然科学基金、中科院前沿科学重点研究等项目的资助。
  • 岛津为高纯硅材料研究和质量控制提供解决方案
    高纯硅材料是电子工业和太阳能光伏产业的基础原料,在未来的多年内是难以替代的电子和光伏产业主要原材料。随着信息技术和太阳能产业的飞速发展,全球对高纯硅材料的需求增长迅猛,而且我国已经成为太阳能电池的最大生产国,对于高纯硅材料有着大量的需求。太阳能光伏市场也已经成为高纯硅材料的最大市场。 国内外多晶硅的生产方法主要有以下几种:改良西门子法、硅烷法、流化床法;目前除了以上方法之外,也涌现出几种由国外企业开创的专门生产太阳能级多晶硅的新工艺技术:冶金法生产太阳能级多晶硅、气液沉积法生产粒状太阳能多晶硅。目前全球范围内,改良西门子法仍然是主流,采用此方法生产的多晶硅约占全球总产量的85%以上。 石英中的众多元素影响了石英的品质。在半导体用石英玻璃和光导纤维中,微量的铝会促进光导石英玻璃纤维析晶,铝和硼结合增强石英玻璃的析晶作用。重金属和扩散系数大的钠、钙、钾等碱金属能降低半导体的使用寿命,影响石英玻璃的热学特性和光学特性,降低石英玻璃的使用温度,增大石英玻璃的介电系数和介电损失,降低石英玻璃的机械强度和光的传播速度等。因此,测定这些影响元素是为保证石英品质而不可或缺的重要工作。岛津公司以雄厚的技术力量和宽泛的产品线,为高纯硅材料研究和质量控制提供了解决方案。在此介绍其中的&ldquo ICP-AES 检测石英砂中常见金属元素的含量&rdquo 。 本实验采用ICP-AES法同时测定了石英砂中的Al、Ca、Fe、Na、Li 和K,试样用HF和H2SO4加热分解,HCI 溶解盐类。试样的处理只需一次便可做多元素的分析。测定结果准确、快速,相对偏差小,在操作上更易掌握。适用于太阳能光伏产业的质量检测。 欲知详情,请您点击&ldquo ICP-AES 检测石英砂中常见金属元素的含量&rdquo 。 关于岛津 岛津国际贸易(上海)有限公司是(株)岛津制作所为扩大中国事业的规模,于1999年100%出资,在中国设立的现地法人公司。 目前,岛津国际贸易(上海)有限公司在中国全境拥有12个分公司,事业规模正在不断扩大。其下设有北京、上海、广州分析中心;覆盖全国30个省的销售代理商网络;60多个技术服务站,构筑起为广大用户提供良好服务的完整体系。 岛津作为全球化的生产基地,已构筑起了不仅面向中国客户,同时也面向全世界的产品生产、供应体系,并力图构建起一个符合中国市场要求的产品生产体制。 以&ldquo 为了人类和地球的健康&rdquo 为目标,岛津人将始终致力于为用户提供更加先进的产品和更加满意的服务。 更多信息请关注岛津公司网站www.shimadzu.com.cn。

辛炔醇相关的仪器

  • 梅特勒托利多 Thornton 2800Si 硅分析仪是一种可靠的在线仪器,专门用于纯水处理与电厂循环化学。该分析仪为水的纯度提供保障,从而优化纯水生产的离子交换,最大限度减少硅在涡轮机内的沉积。在尽量减少操作人员巡检工作量的同时,及早地发现痕量级污染。应用在 ppb 级硅的超纯水监测。可在 ppb 级非常低时检测到抛光阴离子树脂的漏硅,受污染的水可在到达重点区域前引走转移。监测纯水处理中的阴离子交换过程,可以第一时间发现硅离子的泄漏,从而在污染物到达下级处理单元之前启动再生操作过程。电力蒸汽质量监测避免硅沉积在涡轮机中和引发的不平衡,以及功能和效率的损失。补给水被大量污染前,电厂凝结水精处理监测就能够在低 ppb 级检测到再生操作需求。产品特性 &mdash 优势自动化、无人值守自动校准 - 提供出色的重复性并节省操作人员时间每次测量时自动零点校正 - 确保测量稳定性便捷的样离线去样测量功能 &mdash 可以对工厂的其它区域进行额外的样品和质量控制检查同步显示硅含量和测量时间 - 提供一目了然的方便分析状态,节省操作时间提供反应室温度测量,确保可靠操作全部封闭 - 安全保护试剂容器和工厂环境中的组件,无需面板开大试剂容器可实现长时间服务间隔 &mdash 减少维护时间规格 - 2800Si硅分析仪(又名硅离子分析仪、在线硅表、全自动硅表)Range0-5000ppbDetection limit0.8ppbТочность读数的 ± 5%,± 1 ppbMeasurement parameter周期时间可调,通常为 20 分钟Pressure range (bar/psi) 7 bar (100 psig)如需了解更多信息,请访问或拨打梅特勒托利多官方客服热线
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  • 产品简介Master 系列以城市自来水为水源,可方便快速的制造RO反渗透水、DI去离子水和UP超纯水,以中国实验室纯水系统的知名产品、2017、2018年科学仪器行业受关注仪器、连续2届国产好仪器- Master为基础,集成触摸屏控制系统,增加双路定量取水功能,并进行了全面的系统优化和技术升级。现有Master touch-Q/S/R/D 4个子产品系列,系统产水量:15、30升/小时,超纯水电阻率达到18.2MΩ.cm,完全符合GB/T 6682-2008、GB/T33087-2016、ASTM、CAP、CLSI、EP和USP制定的Ⅰ级水质标准。性能特点全新5.0寸彩色触摸屏动画式菜单,系统信息一览无遗,实现指尖触控的操作新体验3路水质和2路流量监控源水、RO反渗透水、DI去离子水/UP超纯水3路水质实时监控,无需取水即可查看水质2路高精度定量(10-999999ml)、定质(0~18.25MΩ.cm)取水功能全面的耗材管理功能PP、KDF、AC、RO、DI、UP、UV、UF、TF耗材寿命可设定,显示已使用时间及用量,到期自动提醒更换.系统报警功能缺水报警、水箱水满报警、源水、RO反渗透水、DI去离子水/UP超纯水水质超标报警等自动检测报警功能,提供安全保证USB接口及存储卡自动记录一年的运行数据,可设定时间范围通过USB接口进行完整的数据导出,整机符合 GLP高强度全工程塑料机箱人体工程学设计,外形美观,杜绝腐蚀和生锈,确保机体清洁,符合GLP规范便于更换的耗材组件独立的预处理单元设计,使用快速插拔的接头,易于更换全新可拆解的一体化4柱式超纯化柱组,采用美国陶氏DOW原装进口树脂,时刻保证纯水品质超纯水循环功能循环系统间断运行,既保持系统的低细菌污染水平,又降低能耗超纯水全管路消毒程序可手动执行“循环消毒”、“取水口消毒”、“水箱补水”、“手动排污”、 “停止消毒”全自动RO膜防垢冲洗可设定冲洗间隔时间和持续时间,及手动强制冲洗程序,延长RO膜使用寿命全面耗材管理功能PP、KDF、AC、RO、DI、UP、UV、UF、TF耗材寿命可设定,显示已使用时间及用量,到期自动提醒更换系统报警功能缺水、水满报警,原水、RO反渗透水、UP超纯水水质超标报警工厂、客户二级密码系统设置均由密码保护,防止未经授权的更改系统时间设定年/月/日/时/分、定时待机(0~60min)、定时关机(0~24hour)功能完善的信息查询及数据管理功能取水记录-水质水量、耗材用量及更换记录、即时报警、历史报警等信息高强度全工程塑料机箱人体工程学设计,外形美观,杜绝腐蚀和生锈,确保机体清洁,符合GLP规范管路、接头均获NSF认证降低系统的TOC析出,确保超纯水品质强劲的预处理组件透明外壳的5μm PP深层滤芯使滤芯是否阻塞及何时更换一目了然.美国进口KDF复合滤芯,长达1年的使用寿命,延长耗材更换周期,降低运行成本.椰壳精密活性炭滤芯,吸附容量大,炭粉颗粒释放极少,延长耗材更换周期且有效保护RO膜.陶氏DOW 原装进口RO反渗透膜片RO膜组件设计,实现了RO 膜的长寿命、稳定性和高脱盐率的结合全新的4柱式超纯化柱组可拆解成单个超纯化柱逐一更换,也可一体化4柱式超纯化柱模块整体更换,降低运行成本;采用美国陶氏DOW原装进口核子级树脂,时刻保证水质.双波长UV紫外灯组件进口(185nm&254nm)灯管,结合医用级316L过流罩,有效杀菌,降低TOC,增强系统适用范围.原装进口UF超滤组件截留分子量:MWCO5000D,有效去除热源/内毒素,可用于精密的细胞培养和IVF标配-终端除菌过滤器进口PES聚醚砜复合滤膜, 过滤精度:(0.45+0.1)μm,保证终端出水无菌技术参数型号产水量电阻率总有机碳(TOC)热源核糖核酸酶脱氧核糖核酸酶细菌颗粒物(内毒素)(RNases)(DNases)(0.1μm)Master -Q去离子纯水机Master -Q1515升/小时16-18.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/AN/AN/AMaster -Q15UT15升/小时16-18.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -Q3030升/小时16-18.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/AN/AN/AMaster -Q30UT30升/小时16-18.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster touch-S超纯水机Master -S1515升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -S15UF15升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster -S15UV15升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -S15UVF15升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster -S3030升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -S30UF30升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster -S30UV30升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -S30UVF30升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster touch-R双级反渗透纯水/超纯水机Master -RRO15-20升/小时0.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/AN/AN/AMaster -RQ15-20升/小时16-18.2MΩ.cmN/AN/AN/AN/AN/AN/AMaster -R15-20升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -RUF15-20升/小时18.2MΩ.cm@25℃10 ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster -RUV15-20升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -RUVF15-20升/小时18.2MΩ.cm@25℃3ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster touch-D超纯水机(纯水为水源)Master -D最多2.0升/分钟18.2MΩ.cm@25℃10 ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster -DUF最多2.0升/分钟18.2MΩ.cm@25℃10 ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/mlMaster -DUV最多2.0升/分钟18.2MΩ.cm@25℃3ppbN/AN/AN/A0.01 cfu/ml1/mlMaster t -DUVF最多2.0升/分钟18.2MΩ.cm@25℃3ppb0.001 Eu/ml1pg/ml5pg/ml0.01 cfu/ml1/ml
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  • 硅芯炉 400-860-5168转5919
    SR110硅芯炉的工作方式与区熔系统类似。该系统使用一个在高频感应线圈下直径为100毫米的多晶硅棒(源棒)。根据硅棒的长度,在多个拉动工艺中可以产生特定数量的硅芯;然后这些硅芯被用作西门子下游工艺中的原棒。通过隔离阀将接收炉体与工艺炉体分开,可以将完成的硅芯取出,并立即开始下一个工艺。通过引入扩散到熔体中的工艺气体可以对细杆进行掺杂处理。改良后的硅芯炉设计采用两个直径约为50毫米的源杆,并可以从每个源杆上拉出硅芯。产品数据概览:材料:硅细杆长度: 最长3200毫米直径: 大约8毫米 源杆长度: 最长 1,000 mm直径: 100 mm (4")极限真空度: 5 x 10-2 mbar最大过压: 0.35 bar(g)发电机输出电压: 30 kW频率: 2.8 MHz 上拉式进料拉动速度: 最高60毫米/分钟下拉式进料拉动速度: 最高 10 mm/min转速: 高达 20 rpm尺寸规格高度: 7,300 mm宽度: 1,820 mm深度: 1,250 mm占地面积(总计): 2,500 mm x 2,800 mm重量(总计): 约6,000 kg区熔(FZ)技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性,该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入,这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此,几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量(无坩埚工艺),FZ晶体同样也适用于光伏行业。区熔(FZ)技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比,FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化,无需使用石英坩埚(每炉次耗用一个),可实现高拉速,因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外,无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体,可以通过多次处理,显著地提高纯度。
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辛炔醇相关的耗材

  • 色谱固定液:Silicone OV-1 (Dimethylsilicone Gum) | 二甲基聚硅氧烷
    产品特点:Silicone OV-1 (Dimethylsilicone Gum), 10 gramsSKU: 1041 Categories: GC Stationary Phases, OV-Stationary Phases, Standard OV-Stationary Phases Tag: OV Silicone Phases描述:● 二甲基聚硅氧烷● OV-1 的推荐溶剂: toluene, dichloromethane, pentane● 粘度: Gum● 比重 25/25℃: 0.980● RI, 25℃: 1.4040● 平均分子量: 106● 最高使用温度: 350℃● 麦克雷诺常数:苯:16;丁醇:55;2-戊酮:44;硝基丙烷:65;吡啶:42;2-甲基-2-戊醇:32;2-辛炔:23
  • 硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂
    硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂锡粒,纯铁,硅钼粉的用途电弧燃烧炉是我国钢铁行业在高速分析中使用普遍和实用的一种燃烧炉,因其操作简单,节约能源耗材,稳定耐用,价格低,无需升温。随时来样随时检测,而受到广大理化工作者的欢迎。钢的熔点约为1515℃,铁的熔点约在1535℃。这么高的熔点电弧燃烧炉要在短时间内将其熔化并释放出CO2和SO2,是添加剂起了至关重要的作用。1.添加剂在氧气流中氧化燃烧,输出大量的热能.可以提高炉温.有显著的发热作用;2.添加剂由于液化密度小于铁的氧化物或受热后生成气体物质,在炉体内部向上飘浮的过程中,可加快碳、硫离子的扩散,有利于与氧气接触,使氧化反应加快起到良好的搅拌作用;硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂3.氧化燃烧生成的CO2,和SO2都属于酸性氧化物,碱性介质不利于CO2和SO2的释放,而选取适量的偏酸性添加剂加入燃烧体系可使介质变成中性或弱酸性.有利于CO2和SO2的逸出;4.燃烧后生成的Fe2O3、SnO2,等粉尘对SO2有吸 附作用,导致测试结果偏低。加入有关的添加剂可阻止吸附消除千扰;硅钼粉 锡粒 锌粒 锡箔 化学试剂 玻璃器皿各种化学分析用添加剂,电弧燃烧炉用优良硅钼粉,锡粒,锌粒,锡箔等材料。各种化学分析用一般和特殊的化学试剂,显色剂,特殊元素分析需要的显色剂的使用方法和操作请,我们将竭力帮助用户解决各种技术问题。水准瓶,储气瓶,量气筒,碳杯,硫杯,滴定管,各种规格加液器,比色皿,比色杯,各种一般和特殊的玻璃器皿电弧燃烧炉中常用的添加剂有纯锡粒和硅钼粉。硅主要起发热作用.燃烧产生热量,另外硅氧化后的产物是SiO2属酸性氧化物,它的密度比铁及其氧化物都小,在液体中有漂浮作用,有利于CO2和SO2的释放。MoO3是酸性氧化物,它的加入有利于SO2的释放。它在1155℃生成气体, 从液相中逸出时.起到良好的搅拌作用,有利于硫离子的扩散和SO2的生成。它能破坏Fe2O3的催化作用,防止管道吸附。锡的熔点是231℃,可以降低整个燃烧体系的熔点,主要作用是助熔并兼有发热稳燃的作用。由于锡氧化生成SnO2属碱性氧化物,加入过多,会引起硫测定值降低,因此,锡应适量加入。5.分析检测铁或铁合金时,要加入适量纯铁助溶剂,其主要作用是帮助燃烧,有利于在瞬间提高炉体内的温度,保证试样中碳硫的释放。由于添加剂所起的重要作用,因此对添加剂的要求也很高,要求杂质成份含量少,碳、硫含量更要低,它的几何形状,粒度、空隙度也有一定的要求。目前市场上销售的一些添加剂中碳硫含量偏高、粒度大,有些硅钼粉中的SiO2、直接采用石英砂。或者为了降低材料成本,随意改变MoO3和SiO2的配比。使用这些添加剂会对测量的结果产生很大的误差而影响产品质量,建议用户选择正规企业所生产的、有质量保证的添加剂。 硅钼粉,锡粒,纯铁助熔剂仪器试剂
  • 纯硅窗口
    硅窗口纯Pure Silicon Windows纯硅膜的厚度有5nm, 9nm, 15nm, 35nm,利用溅射沉积纯硅,允许对含氮和/或碳的样品进行元素分析。单晶纯硅具有1-0-0取向,制作35 nm的薄膜,用于衍射研究和其它需要从单晶薄膜中获得均匀的背景应用。无孔硅薄膜轻微起皱,大约100微米间距有5微米或更少的偏转,这对于高分辨率成像来说通常是没有问题的。纳米多孔硅Nanoporous采用P30膜使多孔窗口更加多孔,孔径一般在10-60纳米范围。 l 纳米级别的厚度-成像窗口的厚度为5到35 nm,降低背景的干扰,以更高的对比度成像。5nm厚的无孔纯硅窗口比市面上最薄的非晶碳膜更薄。l 可等离子清洗-可以强力等离子清洗,去除有机污染,不像传统的碳膜l 场到场的均匀性-非多孔纯硅窗口比碳膜更薄,减少了场到场的可变性.(注:多孔窗口确实具有固有的结晶特征,但具有无背景纳米尺度的孔隙)。l 降低色彩模糊-与市面上最薄的无定形碳膜相比,5nm无孔纯硅窗口的色彩模糊减少一半。这种巨大的差异是由于电子通过硅窗口的薄膜的非弹性散射减少了两倍。反过来,减少的色彩模糊提供了一个潜在的成像分辨率的两倍提高。l 纳米尺寸孔-纯硅窗口可作为孔径为5~50 nm的多孔薄膜。孔隙允许简单和稳定的悬浮纳米材料进行成像,而不干涉背景。l 硅成分优点- 纯硅窗口的元素硅组分在高束流和高退火温度下显著提高了稳定性。纯硅成分还引入了最小的背景信号,使含有氮和/或碳的样品的元素分析可以通过EDX和EELS进行。l 孤立的多晶体硅-多孔纯硅窗口的多晶特性为x射线衍射研究提供了内部校准标准。孤立的晶体特征也为高分辨率尺寸测量提供了一个方便可靠的尺度,硅的晶格特征也很好。 l 亲水性-无孔和多孔纯硅窗口的亲水性可通过等离子体和/或臭氧处理来调节,从而使样品的制备变得更加容易,特别是在水溶液中的样品。l 高稳定性能-在高束流和高退火温度下(无孔600°C,纳米孔1000°C) 货号产品描述窗口尺寸膜厚度规格76042-70Single Crystal Pure Si TEM Window(8) 100μm, (1) 100x350μm35nm10/pk76042-71Non-Porous Pure Si TEM Window25μm sq.5nm10/pk76042-72Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 50μm sq., (1) 50x100μm5nm10/pk76042-73Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-74Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm9nm10/pk76042-75Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm9nm10/pk76042-76Non-Porous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm15nm10/pk76042-77Non-Porous Pure Si TEM Window(2) 100x1500μm15nm10/pk76042-78Nanoporous Pure Si TEM Window500μm sq.-10/pk76042-79Nanoporous Pure Si TEM Window(8) 100 sq., (1) 100x350μm-10/pk

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