数据输出旋光仪

连接外部输出装置--高性能的数据记录器，适用于BL-R、BLh-R、Te、FT系列： 小型简洁的机体与最多可测定10种的外部输出装置--高性能数据记录器GL220结为一体，重新增加了BL-R、BLh-R、Te、FT系列的测定包，其特点如下： * 43英寸TFT彩色液晶屏增强搅拌试验更显见易懂； * 最大安装了10个波道，也可同时测定温度（热点偶是选配）等； * 配置专用的测定电缆使测定更为简单，而且已经安装完毕可立即进行测试； * 内存为2GB的大容量，一秒内读取数据的同时最多可保存971天的记录； * 通过USB与电脑连接，也可直接传送到Excel软件。 搅拌机Three-One Motor &ldquo 保证安全&rdquo 、&ldquo 保证客户满意&rdquo 、&ldquo 保证售后服务&rdquo

2012年10月中旬ATAGO(爱拓)正式推出POL-1/2旋光仪新产品。ATAGO(爱拓)作为物理光学检测仪器行业的领导者，70余年一直专注于旋光及折光等光电产品的研发和生产。 继2006年在中国上市的AP-300全自动旋光仪产品之后，这次全新推出的POL-1/2自动旋光仪将测量精度提高到0.0001°，采用帕尔贴自动控温系统，多种旋光管可满足不同样品量用户的需求,并且优化了数据存储及输出功能。为制药、药检、化工、科研等行业的用户提供更高精度产品，协助行业用户获取更准确测量的测量结果、更稳定可靠的数据。 据悉，新型自动旋光仪其技术指标在同类产品中达到了较高水平，在国内外居领先地位。此外，其采用LCD彩色触摸屏全自动测量，协助用户提高检测效率。全自动旋光仪被广泛的应用于高等院校、制药、药检、精细化工（精油，香精香料）的研发和检测实验室如欲了解新产品测量方案，我们将热情提供完整、快速的现场分析试用，请点击这里。 关于爱拓中国(ATAGO CHINA Ltd.)2011年ATAGO（爱拓）中国分公司的成立和正式运行（全称广州市爱宕科学仪器有限公司），将使广大国内用户能够快速地购买产品，获得使用指导和维修服务。要了解ATAGO(爱拓)科技的信息，请访问：http://www.atago-china.com

北海道大学（北大）2月6日宣布，在先进半导体制造所需的“EUV曝光技术”中，揭示了光源等离子体的复杂流动结构，该结构在高功率化中起着重要作用。这一成果来自一个国际联合研究小组，包括北大工程学院副教授富田健太郎、大阪大学激光科学研究所的西原正树博士（大阪大学名誉教授）和普渡大学的Sawahara博士以及千兆光子的研究人员。 EUV曝光技术由半导体制造商采用，这些制造商生产台积电和三星电子等先进逻辑半导体。 其波长为13.5nm，而不是结合以前在ArF和KrF曝光中使用的透镜，通过结合高度抛光的反射镜，从光源将光输送到晶圆。 然而，由于反射镜的反射率不高，由于每次反射的输出都会衰减，为了向晶圆提供足够的光量，需要光源的高输出，同时增加所需的功率，为了实现高吞吐量以及低功耗，其研发仍在继续。然而，EUV发光的原理还有待澄清，为了阐明这一点，有必要测量光源等离子体的温度和密度，以及等离子体流动等基本物理量，它们对于等离子体的控制也很重要。 然而，EUV光源等离子体的寿命约为20纳秒，直径为0.5mm，密度约为0.2kg/m3，由于其移动速度超过10公里/秒，因此很难测量，到目前为止，EUV光源的开发一直处于未知状态。因此，研究人员决定在这项研究中尝试测量它们。作为测量EUV光源等离子体的一种可能方法，有激光汤姆森散射（LTS）方法。 该方法从外部入射激光，通过测量等离子体和激光相互作用产生的散射光，但获得非接触式高空间和时间分辨率，产生的散射光非常弱，EUV光源等离子体的LTS测量在技术上是不可能的。 因此，这次他决定规划和制作一个“差分分散衍射光栅光谱仪”，由六个“反射衍射光栅”组成。实际使用同光谱仪进行测量时，在等离子体的中心位置（在等离子体生成激光的轴上），发现形成比外围低密度的空心状结构。 在各种条件下测量后，发现空心结构在提高效率方面起着重要作用的可能性很大。 然而，当这种空心结构被表达时，为什么适合EUV辐射的高温和高密度等离子体被维持相对较长的时间，据说是不清楚的。因此，研究人员认为等离子体的温度、密度和流动很重要，因此决定关注汤姆森散射光谱的多普勒移位。 等离子体流动的速度约为光速的万分之一，等离子体的流动信息清楚地出现在接收的散射光的移位中。 对移位进行了高级分析，在±约20μm的微小区域内，等离子体流的方向反转180度，如流量大小也发生各种变化，存在精细的速度场结构，它被确认为速度的绝对值（每秒10公里左右的高速流动）。此外，朝向等离子体的中轴，也观察到了特征等离子体的流动。 该流并不总是存在的，因为它依赖于等离子体生成条件，除了发现可以在相同条件下控制流动外，根据等离子体内部温度、密度和流场的时间和空间变化，可以澄清EUV辐射的效率。等离子体（EUV光源）由从左到右照射的激光加热，具有集中在中心的流动，特别是发现EUV光从图中的明亮区域有效发射。 流向中心可以降低等离子体在周围扩散的速度，并有效减少周围镜子的污染（资料来源：北大新闻稿PDF）这是通过中空结构表现时产生朝向中心轴上的流动，发现适合于EUV发光的等离子体具有在中心部长时间停留的效果的结果，该一系列的等离子体速度测量技术在成为EUV光源的进一步高输出化的关键的同时，控制等离子体的流动来提高光的输出， 研究人员解释说，一个全新的概念已经显示出的可能性。• （A） 等离子体生成前 Sn 目标的阴影图像。 （b） 等离子体的电子密度（上）和电子温度（下侧）的轮廓。 激光从图中的左到右照射。 激光轴上的温度为 30-40eV（1eV 约为 10，000 度），最适合 EUV 辐射，并确认其密度高于外围部分另外，通过本次研究，表明EUV的高输出化需要等离子体的温度和密度的最优化，为了实现其最佳温度密度，等离子体的流动的控制很重要，特别是，诱导向中心方向的流动，由于有效地将发光的等离子体长时间封闭，或者等离子体具有保温效果，因此，在研究小组中， 该流还有望对等离子体的动能产生抑制作用。• （a） 一般等离子体流动说明 （b） 解释在这项研究中观察到的等离子体流向中心方向。 通过等离子体对激光能量的非线性吸收过程，在激光强度低的外围形成高压区域，形成流向等离子体中心的流动。 一些高温和高密度等离子体可以留在中心此外，等离子体速度测量技术，以非接触方式可视化速度场，即流场，有望在所有激光过程中实现“现场观测”，从飞秒到纳秒，并有望在未来不仅应用于EUV光源开发，而且在广泛的领域应用。